JP2009266858A - 有機エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置は、基板54と、基板54に形成された有機平坦化層52と、有機平坦化層52に形成された複数の画素電極26と、少なくとも1つの開口部48を有し、開口部48内に画素電極26の一部が配置され、画素電極26の周縁部を覆うように、画素電極26と有機平坦化層52とに形成された複数の絶縁膜46と、を含み、隣り合う2つの絶縁膜46の間の領域には、画素電極26の下層の有機平坦化層52が露出している。
【選択図】図4
Description
図1は、本実施形態に係る有機EL発光装置2を構成するマトリクス状に形成された複数の画素領域の回路構成図であり、図2は、同装置の画素10の平面構造を示す図であって、主にTFT(薄膜トランジスタ)等の画素駆動部分を示す。図3は、同装置の画素10の平面構造を示す図であって、画素間を区画する絶縁膜等を示す。図4は、図3のIV−IV線に沿う断面構成図である。尚、図3では図面を見易くするために対向基板の図示を省略している。
図5は、本実施形態に係る有機EL装置の製造方法の処理工程を示すフローチャートであり、図7〜図9は、本実施形態に係る有機EL装置の製造方法の工程を示す図であり、有機EL装置が製造されていく過程の断面図が示されている。
このインクジェットプロセスによって吐出されるインク化された組成物の液滴が、基板に到達する時の位置精度は±5〜15μmの範囲である。インクジェットヘッド78から吐出されるインク化された組成物の液滴80が、画素形成領域76から外れて有機平坦化層52側にずれてしまった場合でも、上述した工程によって、有機平坦化層52の表面は撥液性処理がなされ、画素電極26と絶縁膜46とは上述した工程によって親液性処理がなされているので、組成物の液滴80は有機平坦化層52と接触している部分では有機平坦化層52の表面からはじかれ、最終的に画素形成領域76内におさまるように移動する。この状態で、組成物の液滴80を乾燥させると、所定の画素形成領域76内に正孔注入輸送層74が形成される。このとき、表面が撥液性処理された有機平坦化層52が存在するので、画素形成領域76から組成物の流出を防止することができる。このように、インクジェットヘッド78から吐出される組成物の液滴80の位置精度が多少ずれても、画素形成領域76内に組成物の液滴80を高精度に入れることができる。尚、1つの画素形成領域76には、組成物を乾燥させたときに所定の厚さとなるように、複数滴の組成物を滴下してもよい。
次に、第2の実施形態について図面を参照して説明する。
図10は、本実施形態に係る有機EL発光装置4の平面構成図(図10(A))及び断面構成図(図10(B))であり、図10(B)は、図10(A)のX−X線に沿う断面構成図である。有機EL発光装置4の基本構成は第1の実施形態の有機EL発光装置2と同じである。異なるのは、有機平坦化層52の露出面が凸形状である。従って、第1の実施形態と共通の構成要素については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
次に、他の実施形態として、有機EL発光装置を用いた光書き込みヘッドについて図11及び図12を参照して説明する。
図11は、本実施形態に係る光書き込みヘッド用途に好適な構成を具備した有機EL発光装置6の平面構成図である。
図13は、本実施形態に係る電子機器の一例を示す斜視図である。図13に示す携帯電話200は、上記実施形態の有機EL発光装置を小サイズの表示部202として備え、複数の操作ボタン204、受話口206、及び送話口208を備えて構成されている。
上記実施形態に係る有機EL発光装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、有機ELテレビ、ビューファインダ型或いはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、及びタッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、高輝度、高コントラスト、広視野角の透過表示が可能である。
Claims (10)
- 基板と、
前記基板の表面に形成された有機平坦化層と、
前記有機平坦化層の表面に形成された複数の画素電極と、
少なくとも1つの開口部を有し、前記開口部内に前記画素電極の一部が配置され、前記画素電極の周縁部を覆うように、前記画素電極と前記有機平坦化層との表面に形成された複数の絶縁膜と、
を含み、
隣り合う2つの前記絶縁膜の間の領域には、前記画素電極の下層の前記有機平坦化層が露出していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記有機平坦化層の前記領域の表面は、撥液性を有しており、
前記領域に囲まれた、前記絶縁膜及び前記開口部内の前記画素電極の表面は、前記有機平坦化層の前記領域の表面よりも弱い撥液性を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 請求項1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記絶縁膜及び前記開口部内の前記画素電極の表面に形成された有機発光層を含み、
前記有機発光層は、インクジェット塗布により形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記有機平坦化層の前記領域の形状は、凸形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記絶縁膜は、複数の前記開口部を有していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 - 画素電極と共通電極との間に有機発光層が形成されてなる有機エレクトロルミネッセンス素子を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、
有機平坦化層を形成する工程と、
前記有機平坦化層の表面の所定の位置に前記画素電極を形成する工程と、
前記画素電極の表面の所定の位置に絶縁膜を形成する工程と、
少なくとも前記有機平坦化層の表面に第1の表面処理を行う工程と、
前記有機平坦化層によって囲まれた領域に前記有機発光層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 請求項6に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記第1の表面処理を行う工程の前に、少なくとも前記画素電極と前記絶縁膜との表面に第2の表面処理を行う工程を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 請求項6又は7に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記第1の表面処理する工程は、前記有機平坦化層の表面に対してCF4プラズマ処理を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 請求項6〜8のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記第2の表面処理する工程は、前記画素電極と前記絶縁膜との表面に対して酸素プラズマ処理、UV照射処理、オゾン含有ガスへの暴露処理のうちいずれか1つ以上の処理を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。 - 請求項6〜9のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記有機発光層は、インクジェット法により形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
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