JP2009253223A - 光半導体素子封止用シート - Google Patents
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Abstract
【解決手段】官能基を有するアクリル系ポリマーと、エポキシ樹脂又は酸無水物からなる架橋剤とを含有してなる光半導体素子封止用シート。
【選択図】なし
Description
〔1〕官能基を有するアクリル系ポリマーと、エポキシ樹脂又は酸無水物からなる架橋剤とを含有してなる光半導体素子封止用シート、及び
〔2〕前記〔1〕記載の光半導体素子封止用シートを用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置
に関する。
溶媒としての酢酸エチル200重量部にメタクリル酸メチル(MMA)50重量部、メタクリル酸ブチル(BMA)45重量部、メタクリル酸(MAA)5重量部およびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1重量部を添加し、80℃窒素雰囲気下で2時間重合して、カルボキシル基を有するアクリル系ポリマー溶液を得た。この溶液に用いた全モノマー100重量部に対して、架橋剤としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、EP828)5重量部と、架橋用触媒としての2,4,6−トリメトキシボロキシン(TMB)(東京化成工業社製)1重量部をさらに混合して、光半導体素子封止用組成物溶液を得た。この溶液をポリエステルフィルムの上に塗布し、130℃で2分間乾燥して、厚み100μmのシートを得た。このシートを3枚を130℃にてラミネートし厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
溶媒としての酢酸エチル200重量部にメタクリル酸メチル(MMA)70重量部、メタクリル酸ブチル(BMA)25重量部、メタクリル酸(MAA)5重量部およびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1重量部を添加し80℃窒素雰囲気下で2時間重合して、カルボキシル基を有するアクリル系ポリマー溶液を得た。この溶液に用いた全モノマー100重量部に対して、架橋剤としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、EP828)5重量部と、架橋用触媒としての2,4,6−トリメトキシボロキシン(TMB)(東京化成工業社製)1重量部をさらに混合して、光半導体素子封止用組成物溶液を得た。この溶液を用いて、実施例1と同様にして厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
溶媒としての酢酸エチル200重量部にメタクリル酸メチル(MMA)95重量部、メタクリル酸(MAA)5重量部およびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1重量部を添加し80℃窒素雰囲気下で2時間重合して、カルボキシル基を有するアクリル系ポリマー溶液を得た。この溶液に用いた全モノマー100重量部に対して、架橋剤としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、EP828)5重量部と、架橋用触媒としての2,4,6−トリメトキシボロキシン(TMB)(東京化成工業社製)1重量部をさらに混合して、光半導体素子封止用組成物溶液を得た。この溶液を用いて、実施例1と同様にして厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
溶媒としての酢酸エチル200重量部にメタクリル酸メチル(MMA)48重量部、メタクリル酸ブチル(BMA)43重量部、メタクリル酸(MAA)9重量部およびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1重量部を添加し80℃窒素雰囲気下で2時間重合して、カルボキシル基を有するアクリル系ポリマー溶液を得た。この溶液に用いた全モノマー100重量部に対して、架橋剤としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、EP828)5重量部と、架橋用触媒としての2,4,6−トリメトキシボロキシン(TMB)(東京化成工業社製)1重量部をさらに混合して、光半導体素子封止用組成物溶液を得た。この溶液を用いて、実施例1と同様にして厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
溶媒としての酢酸エチル200重量部にメタクリル酸メチル(MMA)50重量部、メタクリル酸ブチル(BMA)45重量部、メタクリル酸(MAA)5重量部およびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1重量部を添加し80℃窒素雰囲気下で2時間重合して、カルボキシル基を有するアクリル系ポリマー溶液を得た。この溶液に用いた全モノマー100重量部に対して、架橋剤としての脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業社製、EHPE3150)5重量部と、架橋用触媒としての2,4,6−トリメトキシボロキシン(TMB)(東京化成工業社製)1重量部をさらに混合して、光半導体素子封止用組成物溶液を得た。この溶液を用いて、実施例1と同様にして厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
溶媒としての酢酸エチル200重量部にメタクリル酸メチル(MMA)50重量部、メタクリル酸ブチル(BMA)45重量部、メタクリル酸グリシジル(GMA)5重量部およびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1重量部を添加し80℃窒素雰囲気下で2時間重合して、エポキシ基を有するアクリル系ポリマー溶液を得た。この溶液に用いた全モノマー100重量部に対して、架橋剤としての4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化社製、MH700)5重量部と、架橋用触媒としての2,4,6−トリメトキシボロキシン(TMB)(東京化成工業社製)1重量部をさらに混合して、光半導体素子封止用組成物溶液を得た。この溶液を用いて、実施例1と同様にして厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
溶媒としての酢酸エチル200重量部にメタクリル酸メチル(MMA)50重量部、メタクリル酸ブチル(BMA)45重量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)5重量部およびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1重量部を添加し、80℃窒素雰囲気下で2時間重合して、水酸基を有するアクリル系ポリマー溶液を得た。この溶液に用いた全モノマー100重量部に対して、架橋剤としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、EP828)5重量部と、架橋用触媒としての2,4,6−トリメトキシボロキシン(TMB)(東京化成工業社製)1重量部をさらに混合して、光半導体素子封止用組成物溶液を得た。この溶液を用いて、実施例1と同様にして厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
溶媒としての酢酸エチル200重量部にアクリル酸メチル(MA)80重量部、アクリル酸ブチル(BA)15重量部、アクリル酸(AA)5重量部およびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1重量部を添加し80℃窒素雰囲気下で2時間重合して、カルボキシル基を有するアクリル系ポリマー溶液を得た。この溶液に用いた全モノマー100重量部に対して、架橋剤としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、EP828)5重量部と、架橋用触媒としての2,4,6−トリメトキシボロキシン(TMB)(東京化成工業社製)1重量部をさらに混合して、光半導体素子封止用組成物溶液を得た。この溶液を用いて、実施例1と同様にして厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
溶媒としての酢酸エチル200重量部にメタクリル酸メチル(MMA)100重量部およびアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1重量部を添加し80℃窒素雰囲気下で2時間重合して、官能基を有さないアクリル系ポリマー(ポリメタクリル酸メチル)の溶液を得た。この溶液を用いて、実施例1と同様にして厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
エポキシ当量7500のビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、EP1256)45重量部、エポキシ当量260の脂環式エポキシ樹脂(ダイセル化学工業社製、EHPE3150)33重量部、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化社製、MH700)22重量部、2−メチルイミダゾール(四国化成社製、2MZ)1.2重量部をメチルエチルケトン110重量部に溶解して、光半導体素子封止用組成物溶液を得た。この溶液を用いて、実施例1と同様にして厚み300μmの光半導体素子封止用シートを得た。
実施例1〜8および比較例1〜2のシートを用いて、基板上に実装された1mm角の青色発光ダイオードを、100〜250℃の範囲内で、圧力0.5MPaにて封止し、150℃2時間のポストキュアを行い光半導体装置を得た(比較例1はポストキュアはなし)。これらの光半導体装置は以下の輝度保持率について評価された。その結果を表1に示す。
(輝度保持率)
各光半導体装置に600mAの電流を流し初期の輝度と96時間経過後の輝度をMCPD(瞬間マルチ測光システムMCPD−3000、大塚電子社製)を用いて測定し、以下の式で示される輝度保持率を算出した。
輝度保持率(%)=(96時間経過後の輝度÷初期の輝度)×100
なお、輝度保持率が50%以上であれば、良好と判断した。
各光半導体素子封止用シートを用いて100〜250℃の範囲内で10℃きざみの温度で、上記のように、光半導体装置を作製し、ワイヤーが切れずに封止できた最も高い温度を封止可能温度とした。なお、封止可能温度が100℃から
200℃の範囲であれば、低い封止可能温度であると判断した。
実装した場合に実施されることを想定した耐リフロー性として260℃でのシート伸び率を評価した。光半導体素子封止用シートを150℃2時間ポストキュアして、シート(比較例1はポストキュアはなし)をよこ1cm×たて5cm(厚み300μm)の短冊状に切り、重さ2gの荷重をたて方向にかけ、260℃1分でのシート伸び率を測定し、これを耐リフロー性の指標とした。
260℃でのシート伸び率(%)=[(試験後の長さ−初期の長さ)÷初期の長さ]×100
なお、260℃でのシート伸び率が50%以下であれば、耐リフロー性が良好であると判断した。
Claims (4)
- 官能基を有するアクリル系ポリマーと、エポキシ樹脂又は酸無水物からなる架橋剤とを含有してなる光半導体素子封止用シート。
- 前記官能基がカルボキシル基、エポキシ基及び水酸基からなる群より選択される1種以上である、請求項1記載の光半導体素子封止用シート。
- 前記官能基がカルボキシル基であり、前記架橋剤がエポキシ樹脂である、請求項1又は2記載の光半導体素子封止用シート。
- 請求項1〜3いずれかに記載の光半導体素子封止用シートを用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008102779A JP5123031B2 (ja) | 2008-04-10 | 2008-04-10 | 光半導体素子封止用シート |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2008102779A JP5123031B2 (ja) | 2008-04-10 | 2008-04-10 | 光半導体素子封止用シート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009253223A true JP2009253223A (ja) | 2009-10-29 |
JP5123031B2 JP5123031B2 (ja) | 2013-01-16 |
Family
ID=41313591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008102779A Expired - Fee Related JP5123031B2 (ja) | 2008-04-10 | 2008-04-10 | 光半導体素子封止用シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5123031B2 (ja) |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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