JP2009240058A - 動作装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】電極と、電極と対向するように配置される電界または磁界を発生させる電極との相対的な移動が小さな場合でも、十分に動作を行うことが可能な動作装置を提供する。
【解決手段】この動作装置(静電誘導型発電装置100)は、集電電極22とエレクトレット膜12とが初期状態において、電極部分221のX方向に対する中心と、エレクトレット膜12の表面の電界が発生する領域121のX方向に対する中心とがずれている。
【選択図】図1
【解決手段】この動作装置(静電誘導型発電装置100)は、集電電極22とエレクトレット膜12とが初期状態において、電極部分221のX方向に対する中心と、エレクトレット膜12の表面の電界が発生する領域121のX方向に対する中心とがずれている。
【選択図】図1
Description
本発明は、動作装置に関し、特に、第1電極と、第1電極と対向するように配置される電界または磁界を発生させる第2電極とを備える動作装置に関する。
従来、第1電極と、第1電極と対向するように配置される電界または磁界を発生させる第2電極(エレクトレット膜)とを備える動作装置が知られている(たとえば、特許文献1参照)。
上記特許文献1に記載の動作装置(静電誘導型変換素子)では、2つの基板が対向するように配置されており、それぞれの基板の対向面上には、短冊状または正方形状に形成された複数のエレクトレット膜(第2電極)と導体(第1電極)とが形成されている。この静電誘導型変換素子では、エレクトレット膜(第2電極)と導体(第1電極)とが対向している状態から、エレクトレット膜と導体とが相対的に移動することにより、静電誘導によって導体に蓄積される電荷量が変化する。この電荷の変化量を取り出すことによって、発電が行われる。
しかしながら、上記特許文献1に記載の動作装置では、エレクトレット膜と導体とが対向している状態から、エレクトレット膜または導体の幅よりも小さな移動量でエレクトレット膜(第2電極)と導体(第1電極)とが相対的に移動した場合、静電誘導によって導体に発生する電荷の変化量が小さいので、動作装置の発電量が小さくなるという不都合がある。その結果、動作装置の動作が不十分になるという問題点がある。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、電極と、電極と対向するように配置される電界または磁界を発生させる電極との相対的な移動が小さな場合でも、十分に動作を行うことが可能な動作装置を提供することである。
この発明の一の局面による動作装置は、第1電極と、第1電極に対向するように配置され、第1電極に対して相対的に移動可能であるとともに、電界または磁界を発生させる領域を含む第2電極とを備え、第1電極と第2電極とが初期状態において、第1電極の移動方向に対する中心と、第2電極の電界または磁界を発生させる領域の移動方向に対する中心とがずれている。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図2は、図1の200−200線に沿った断面図である。図3は、図1の210−210線に沿った断面図である。図1〜図3を参照して、本発明の第1実施形態による静電誘導型発電装置100の構造について説明する。なお、本実施形態では、動作装置の一例である静電誘導型発電装置100に本発明を適用した場合について説明する。
図1は、本発明の第1実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図2は、図1の200−200線に沿った断面図である。図3は、図1の210−210線に沿った断面図である。図1〜図3を参照して、本発明の第1実施形態による静電誘導型発電装置100の構造について説明する。なお、本実施形態では、動作装置の一例である静電誘導型発電装置100に本発明を適用した場合について説明する。
この第1実施形態による静電誘導型発電装置100は、図1に示すように、固定子1と可動子2とが対向するように所定の間隔を隔てて配置されている。以下詳細に説明する。
図1に示すように、固定子1では、固定基板11の表面上にエレクトレット膜12が形成されている。なお、エレクトレット膜12は、本発明の「第2電極」の一例である。エレクトレット膜12にはコロナ放電により、負電荷が注入されている。また、エレクトレット膜12の表面上には、図1および図2に示すように、導電性の部材からなるガード電極13が形成されている。ガード電極13は、複数の電極部分131から構成されており、それぞれの電極部分131は、短冊状に形成されている。なお、電極部分131は、本発明の「第3電極」の一例である。また、複数の電極部分131は、等間隔に配置される。そして、エレクトレット膜12の表面上にガード電極13を形成することにより、エレクトレット膜12の表面上のガード電極13が形成されない領域121からは、可動子2に向かって、負電荷による電界が発生するとともに、エレクトレット膜12の表面上のガード電極13が形成される領域122からは、電界が発生しない。なお、領域121は、本発明の「電界または磁界を発生させる領域」の一例である。そして、エレクトレット膜12と可動子2との間に、電界の強い領域と弱い領域とが形成される。
また、図1に示すように、可動子2では、可動基板21の表面上に集電電極22および集電電極23が形成されている。集電電極22および集電電極23は、図3に示すように、それぞれ、複数の電極部分221および電極部分231からなる櫛歯状に形成されている。なお、電極部分221は、本発明の「第1電極」の一例である。そして、櫛歯状の集電電極22の2つの電極部分221の間に、櫛歯状の集電電極23の電極部分231が挟まるように、集電電極22と集電電極23とが配置されている。また、図1に示すように、集電電極22と集電電極23とは、回路3を介して電気的に接続されている。
また、図2および図3に示すように、集電電極22の電極部分221、集電電極23の電極部分231、および、ガード電極13の電極部分131は、それぞれ、Y方向に延びるように形成されている。また、電極部分221および電極部分231のY方向に延びる辺221Aおよび231Aと、電極部分131のY方向に延びる辺131Aとが平行になるように、電極部分221、電極部分231、および、電極部分131が形成されている。
また、図1に示すように、集電電極22の電極部分221のX方向の幅W1、集電電極23の電極部分231のX方向の幅W2、および、ガード電極13の電極部分131のX方向の幅W3は、略等しくなるように構成されている。なお、X方向は、本発明の「移動方向」の一例である。また、エレクトレット膜12の表面上のガード電極13が形成されない領域121の幅W4は、集電電極22の電極部分221のX方向の幅W1、集電電極23の電極部分231のX方向の幅W2、および、ガード電極13の電極部分131のX方向の幅W3よりも大きくなるように構成されている。
ここで、第1実施形態では、図1に示すように、集電電極22の電極部分221のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の表面の電界が発生する領域121の端部121Aとが、平面的に見て、一致するように、エレクトレット膜12と集電電極22とがずらして配置される。なお、平面的に見て、一致するとは、略一致している範囲も含む。また、複数の電極部分221のX方向のピッチLは、それぞれの電極部分221のX方向の中心Aが、複数のエレクトレット膜12の領域121の端部121Aと、平面的に見て一致するように調整される。
(シミュレーション)
図4は、エレクトレット膜に蓄積された電荷によって発生する電界の強さ(ポテンシャル)のシミュレーションを説明するための図である。図5は、エレクトレット膜に蓄積された電荷よって発生する電界の強さ(ポテンシャル)を示す図である。図6は、集電電極が10μm移動する前後の集電電極に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量を示す図である。図4〜図6を参照して、集電電極の位置と集電電極に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量との関係を説明するために行ったシミュレーションについて説明する。
図4は、エレクトレット膜に蓄積された電荷によって発生する電界の強さ(ポテンシャル)のシミュレーションを説明するための図である。図5は、エレクトレット膜に蓄積された電荷よって発生する電界の強さ(ポテンシャル)を示す図である。図6は、集電電極が10μm移動する前後の集電電極に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量を示す図である。図4〜図6を参照して、集電電極の位置と集電電極に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量との関係を説明するために行ったシミュレーションについて説明する。
図4に示すように、1μmの厚みと100μmの幅とを有する3つのエレクトレット膜41の間に、2μmの厚みと100μmの幅とを有するガード電極42が配置されている。なお、エレクトレット膜41には、300Vの電荷が蓄積されている。また、ガード電極42の電位は、0Vに調整されている。そして、3つのエレクトレット膜41のうち、中央に配置されるエレクトレット膜41と9μmの距離を隔てて対向するように、100μmの幅を有する集電電極43が配置されている。
次に、エレクトレット膜41と9μmの距離を隔てた地点におけるポテンシャルの大きさについて説明する。図5に示すように、ガード電極42と対向している領域(x=−150μm〜―50μm、および、x=50μm〜150μm)では、ポテンシャルは、約25V〜約90Vであった。一方、エレクトレット膜41と対向している領域(x=−50μm〜50μm)では、ポテンシャルは、約90V〜約273Vであった。そして、エレクトレット膜41とガード電極42との境界(x=―150μm、−50μm、50μmおよび150μm)の近傍では、ポテンシャルの変化が大きくなることが判明した。
次に、図4に示す3つのエレクトレット膜41のうち、エレクトレット膜41に対向するように配置される集電電極43が、X方向に10μm移動した際の、移動の前後における集電電極43に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量について説明する。図6に示すように、集電電極43のX方向の中心C(図4参照)と、エレクトレット膜41のX方向の中心D(図4参照)とが一致している場合(x=0μm)、集電電極43に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量の絶対値は、最小となり、ほぼ0Vであった。また、集電電極43のX方向の中心Cと、ガード電極42のX方向の中心E(図4参照)とが一致している場合(x=−100μmおよび100μm)、集電電極43に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量の絶対値は、最小となり、ほぼ0Vであった。一方、集電電極43のX方向の中心Cと、エレクトレット膜41の端部41A(図4参照)とが一致している場合(x=−150μm、−50μm、50μmおよび150μm)、集電電極43に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量の絶対値は、最大となり、約248Vであった。つまり、図5に示すエレクトレット膜41から発生する電界の強さのX方向の変化量が大きい領域(x=−150μm、−50μm、50μmおよび150μm)近傍に集電電極43のX方向の中心Cがある場合、集電電極43がX方向に10μm移動した前後の集電電極43に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量は大きくなり、エレクトレット膜41から発生する電界の強さのX方向の変化量が小さい領域(x=−100μm、0μm、および100μm)近傍に集電電極43のX方向の中心Cがある場合、集電電極43がX方向に10μm移動した前後の集電電極43に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量は小さくなることが確認された。
次に、図1を参照して、本発明の第1実施形態による静電誘導型発電装置100の発電動作について説明する。
図1に示すように、静電誘導型発電装置100が初期状態では、集電電極22のX方向の中心Aとエレクトレット膜12の領域121の端部121Aとが、平面的に見て、一致するように配置されている。この状態において、集電電極22および集電電極23には、略同じ量の正電荷が静電誘導により蓄積される。なお、初期状態とは、可動基板21が静電誘導型発電装置100のX1方向またはX2方向の端部側に寄っている状態、または、可動基板21がバネなどの弾性体によって支えられている状態で、可動基板21にかかる重力等がつりあって可動基板21が静止している状態を意味する。
次に、可動子2がX方向(たとえばX1方向)に移動し、集電電極22とガード電極13とが対向するとともに、集電電極23とエレクトレット膜12の領域121とが対向する。これにより、集電電極23に蓄積される正電荷の量は、増加するとともに、集電電極22に蓄積される正電荷の量は、減少する。また、可動子2がX2方向に移動し、集電電極23とガード電極13とが対向するとともに、集電電極22とエレクトレット膜12の領域121とが対向する。これにより、集電電極23に蓄積される正電荷の量は、減少するとともに、集電電極22に蓄積される正電荷の量は、増加する。この集電電極22および集電電極23に蓄積される正電荷の変化量を回路3により取り出すことによって発電が行われる。
第1実施形態では、上記のように、集電電極22とエレクトレット膜12とが初期状態において、集電電極22の電極部分221のX方向に対する中心Aと、エレクトレット膜12の領域121の端部121Aとが平面的に見て略一致するように集電電極22とエレクトレット膜12とをずらして配置することによって、エレクトレット膜12の領域121の端部121Aの表面上では、電界の強さ(ポテンシャル)の変化が図5に示すように大きいので、集電電極22と、エレクトレット膜12との相対的な移動が小さな場合でも、十分に発電を行うことができる。
(第2実施形態)
図7は、本発明の第2実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図7を参照して、この第2実施形態では、上記第1実施形態と異なり、集電電極22のX方向の中心Aと、ガード電極13の中心Fとがずれるように集電電極22とガード電極13とが配置される静電誘導型発電装置101について説明する。
図7は、本発明の第2実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図7を参照して、この第2実施形態では、上記第1実施形態と異なり、集電電極22のX方向の中心Aと、ガード電極13の中心Fとがずれるように集電電極22とガード電極13とが配置される静電誘導型発電装置101について説明する。
この第2実施形態による静電誘導型発電装置101では、図7に示すように、集電電極22とガード電極13とが初期状態において、集電電極22のX方向の中心Aと、ガード電極13の中心Fとがずれるように集電電極22とガード電極13とが配置されている。この状態は、図4では、集電電極43のX方向の中心Cと、ガード電極42の中心Eとが一致(x=−100μmおよび100μm)しない状態を意味する。
第2実施形態では、上記のように、集電電極22のX方向の中心Aと、ガード電極13の中心Fとがずれるように集電電極22とガード電極13とを配置することによって、集電電極22のX方向の中心Aと、ガード電極13の中心Fとが一致する場合(図6に示すx=100μmまたは−100μmの場合)と異なり、集電電極22に静電誘導を発生させるポテンシャルの変化量が略0になることはない。これにより、集電電極22とエレクトレット膜12との相対的な移動が小さくても、静電誘導型発電装置101が発電を行うことができる。
(第3実施形態)
図8は、本発明の第3実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図8を参照して、この第3実施形態では、上記第1実施形態と異なり、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121の中心Bとが、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5以上ずれている静電誘導型発電装置102について説明する。
図8は、本発明の第3実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図8を参照して、この第3実施形態では、上記第1実施形態と異なり、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121の中心Bとが、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5以上ずれている静電誘導型発電装置102について説明する。
この第3実施形態による静電誘導型発電装置102では、図8に示すように、集電電極22とエレクトレット膜12とが初期状態において、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121の中心Bとが、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1幅W5以上ずれるように、集電電極22とエレクトレット膜12とが配置されている。なお、集電電極22は、集電電極22とエレクトレット膜12の領域121とが平面的に見て重なるように配置される。この状態は、図4では、集電電極43のX方向の中心Cの位置が、25μm以上で、かつ、100μmよりも小さい(25μm≦x<100μm)の位置にある場合を意味する。
第3実施形態では、上記のように、集電電極22とエレクトレット膜12とが初期状態において、集電電極22の電極部分221のX方向に対する中心Aと、エレクトレット膜12の電界を発生させる領域121のX方向に対する中心Bとが、領域121の、X方向の幅W4の4分の1の幅W5以上ずれるように、かつ、集電電極22とエレクトレット膜12の領域121とが平面的に見て重なるように、集電電極22とエレクトレット膜12とを配置する。これにより、集電電極22の中心Aとエレクトレット膜12の領域121の中心Bとが重なることがないので、集電電極22の中心Aとエレクトレット膜12の領域121の中心Bとが重なる場合と異なり、集電電極22とエレクトレット膜12との相対的な移動が小さくても、静電誘導型発電装置102の発電量が略0になるのを抑制することができる。
(第4実施形態)
図9は、本発明の第4実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図9を参照して、この第4実施形態では、上記第1実施形態と異なり、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121のX方向の中心Bとのずれが、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5よりも小さい静電誘導型発電装置103について説明する。
図9は、本発明の第4実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図9を参照して、この第4実施形態では、上記第1実施形態と異なり、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121のX方向の中心Bとのずれが、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5よりも小さい静電誘導型発電装置103について説明する。
この第4実施形態による静電誘導型発電装置103では、図9に示すように、集電電極22とエレクトレット膜12とが初期状態において、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121のX方向の中心Bとのずれは、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5よりも小さくなるように、集電電極22とエレクトレット膜12とが配置されている。また、集電電極22のX方向の中心Aは、エレクトレット膜12の領域121のX方向の中心Bに対してX1方向にずれている。この状態は、図4では、集電電極43のX方向の中心Cの位置が、0μmよりも大きく25μmよりも小さい(0μm<x<25μm)の位置にある場合を意味する。
第4実施形態では、上記のように、集電電極22とエレクトレット膜12とが初期状態において、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121のX方向の中心Bとのずれは、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5よりも小さい。これにより、集電電極22の中心Aとエレクトレット膜12の領域121の中心Bとが重なることがないので、集電電極22の中心Aとエレクトレット膜12の領域121の中心Bとが重なる場合と異なり、集電電極22とエレクトレット膜12との相対的な移動が小さくても、静電誘導型発電装置103の発電量が略0になるのを抑制することができる。また、集電電極22のX方向の中心Aが、エレクトレット膜12の領域121のX方向の中心Bに対してX1方向にずれていることによって、X1方向の相対的な移動(図6に示す、xが25μmよりも大きくなる方向に移動)に対して発電量を大きくすることができる。
(第5実施形態)
図10は、本発明の第5実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図10を参照して、この第5実施形態では、上記第1実施形態と異なり、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121の中心Bとのずれが、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5よりも小さい静電誘導型発電装置104について説明する。
図10は、本発明の第5実施形態による静電誘導型発電装置の断面図である。図10を参照して、この第5実施形態では、上記第1実施形態と異なり、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121の中心Bとのずれが、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5よりも小さい静電誘導型発電装置104について説明する。
この第5実施形態による静電誘導型発電装置104では、図10に示すように、集電電極22とエレクトレット膜12とが初期状態において、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121の中心Bとのずれが、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5よりも小さくなるように、集電電極22とエレクトレット膜12とが配置されている。また、集電電極22のX方向の中心Aは、エレクトレット膜12の領域121のX方向の中心Bに対してX2方向にずれている。この状態は、図4では、集電電極43のX方向の中心Cの位置が、−25μmよりも大きく、0μmよりも小さい(−25μm<x<0μm)位置にある場合を意味する。
第5実施形態では、上記のように、集電電極22とエレクトレット膜12とが初期状態において、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12の領域121のX方向の中心Bとのずれは、エレクトレット膜12の領域121の幅W4の4分の1の幅W5よりも小さい。これにより、集電電極22の中心Aとエレクトレット膜12の領域121の中心Bとが重なることがないので、集電電極22の中心Aとエレクトレット膜12の領域121の中心Bとが重なる場合と異なり、集電電極22とエレクトレット膜12との相対的な移動が小さくても、静電誘導型発電装置103の発電量が略0になるのを抑制することができる。また、集電電極22のX方向の中心Aが、エレクトレット膜12の領域121のX方向の中心Bに対してX2方向にずれていることにより、X2方向の相対的な移動(図6に示す、xが−25μmよりも小さくなる方向に移動)に対して発電量を大きくすることができる。
(第6実施形態)
図11は、本発明の第6実施形態による電磁アクチュエータの断面図である。図12は、本発明の第6実施形態による電磁アクチュエータの平面図である。図11および図12を参照して、この第6実施形態では、上記第1〜第5実施形態と異なり、動作装置の一例である電磁アクチュエータ105に本発明を適用した場合について説明する。
図11は、本発明の第6実施形態による電磁アクチュエータの断面図である。図12は、本発明の第6実施形態による電磁アクチュエータの平面図である。図11および図12を参照して、この第6実施形態では、上記第1〜第5実施形態と異なり、動作装置の一例である電磁アクチュエータ105に本発明を適用した場合について説明する。
この第6実施形態による電磁アクチュエータ105では、図11に示すように、固定子1Bと可動子2Bとが対向するように所定の間隔を隔てて配置されている。以下詳細に説明する。
図11に示すように、固定子1Bでは、固定基板11の表面上に磁石14が形成されている。なお、磁石14は、本発明の「第2電極」の一例である。また、磁石14の表面は、本発明の「電界または磁界を発生させる領域」の一例である。また、図11および図12に示すように、可動子2Bでは、可動基板21の表面上にスパイラルコイル24が形成されている。なお、スパイラルコイル24は、本発明の「第1電極」の一例である。ここで、第6実施形態では、初期状態において、スパイラルコイル24のX方向の中心Iと、磁石14のX方向の中心Jとが所定の間隔を隔ててずれるように、スパイラルコイル24と磁石14とが配置される。
次に、図11および図12を参照して、本発明の第6実施形態による電磁アクチュエータ105の動作について説明する。
図11および図12に示すスパイラルコイル24に電流を流すことにより、スパイラルコイル24にN極またはS極の磁界が発生させられる。なお、複数のスパイラルコイル24に流される電流の向きは、磁石14が移動可能なようにそれぞれ調整される。そして、磁石14とスパイラルコイル24との間の斥力または引力により、固定子1Bと可動子2Bとが相対的に移動する。
なお、第6実施形態の効果は、上記第1実施形態と同様である。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
たとえば、上記第1実施形態では、可動基板21の表面上に、集電電極22および集電電極23を形成する例を示したが、本発明はこれに限らず、図13に示すように、可動基板21の表面上に、集電電極22のみを形成してもよい。なお、この場合、集電電極22と固定基板11とが回路3を介して接続される。また、固定基板11は、導電性の部材から形成される。
また、上記第1〜第5実施形態では、固定基板11の表面上に、エレクトレット膜12が形成される例を示したが、本発明はこれに限らず、図14〜図18に示すように、固定基板11の表面上に、短冊状のガード電極13Aを形成するとともに、ガード電極13Aの表面上に、短冊状のエレクトレット膜12Aを形成してもよい。また、可動基板21の表面上には、集電電極22が形成されており、集電電極22とガード電極13Aとが、回路3を介して電気的に接続されている。なお、図14〜図18に示される集電電極22とガード電極13Aとの位置関係は、ぞれぞれ、上記第1〜第5実施形態に対応している。具体的には、図14では、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12Aの端部123Aとが、平面的に見て、略一致している。図15では、集電電極22のX方向の中心Aと、ガード電極13Aの中心Gとが一致しないように、集電電極22とエレクトレット膜12Aとが配置されている。図16では、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12AのX方向の中心Hとが、エレクトレット膜12AのX方向の幅W6の4分の1の幅W7以上ずれている。図17では、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12AのX方向の中心Hとのずれが、エレクトレット膜12AのX方向の幅W6の4分の1の幅W7よりも小さく、かつ、X1方向にずれている。図18では、集電電極22のX方向の中心Aと、エレクトレット膜12AのX方向の中心Hとのずれが、エレクトレット膜12AのX方向の幅W6の4分の1の幅W7よりも小さく、かつ、X2方向にずれている。
また、上記第1〜第5実施形態では、集電電極を櫛歯状に形成する例を示したが、本発明はこれに限らず、集電電極を短冊状に形成してもよい。
また、上記第1〜第5実施形態では、複数の集電電極と、エレクトレット膜の複数の電界を発生させる領域とから静電誘導型発電装置を構成する例を示したが、本発明はこれに限らず、1つの集電電極と、1つのエレクトレット膜とから静電誘導型発電装置を構成してもよい。
また、上記第1〜第5実施形態では、エレクトレット膜に負電荷を注入する例を示したが、本発明はこれに限らず、エレクトレット膜に正電荷を注入してもよい。
また、上記第1〜第5実施形態では、2つの電極部分により集電電極を構成するとともに、2つの電極部分によりガード電極を構成する例を示したが、本発明はこれに限らず、3つ以上の電極部分により集電電極を構成するとともに、3つ以上の電極部分によりガード電極を構成してもよい。
また、上記第1〜第5実施形態では、集電電極22の複数の電極部分221の中心Aと、複数のエレクトレット膜12の領域121との中心Bとが、それぞれ、同じ幅づつ、ずれる例を示したが、本発明はこれに限らず、集電電極23の複数の電極部分221のうちの一部の電極部分221の中心Aと、この一部の電極部分221と対向するエレクトレット膜12の複数の領域121の中心Bとが、それぞれ、同じ幅づつ、ずれるように構成してもよい。
また、上記第1〜第6実施形態では、動作装置の一例として、静電誘導型発電装置および電磁アクチュエータに本発明を適用する例を示したが、本発明はこれに限らず、対向する電極を有する動作装置であれば、静電アクチュエータなどに本発明を適用してもよい。
12、12A エレクトレット膜(第2電極)
14 磁石(第2電極)
24 スパイラルコイル(第1電極)
121 領域
121A 端部
131 電極部分(第3電極)
221 電極部分(第1電極)
14 磁石(第2電極)
24 スパイラルコイル(第1電極)
121 領域
121A 端部
131 電極部分(第3電極)
221 電極部分(第1電極)
Claims (6)
- 第1電極と、
前記第1電極に対向するように配置され、前記第1電極に対して相対的に移動可能であるとともに、電界または磁界を発生させる領域を含む第2電極とを備え、
前記第1電極と前記第2電極とが初期状態において、前記第1電極の移動方向に対する中心と、前記第2電極の前記電界または磁界を発生させる領域の前記移動方向に対する中心とがずれている、動作装置。 - 前記第1電極と前記第2電極の前記電界または磁界を発生させる領域とは、それぞれ、複数設けられ、前記複数の第1電極の移動方向に対するそれぞれの中心と前記複数の電界または磁界を発生させる領域の前記移動方向に対するそれぞれの中心とがずれている、請求項1に記載の動作装置。
- 前記第1電極と前記第2電極とが初期状態において、前記第1電極の前記移動方向に対する中心と、前記第2電極の前記電界または磁界を発生させる領域の端部とが平面的に見て一致するようにずらして配置されている、請求項1に記載の動作装置。
- 前記第1電極と前記第2電極とが初期状態において、前記第1電極の前記移動方向に対する中心と、前記移動方向に対する前記第2電極の前記電界または磁界を発生させる領域の中心とが、前記電界または磁界を発生させる領域の、前記移動方向の幅の4分の1の長さ分以上ずれるように配置されている、請求項1に記載の動作装置。
- 前記第1電極と前記第2電極とが初期状態において、前記第1電極の前記移動方向に対する中心と、前記移動方向に対する前記第2電極の前記電界または磁界を発生させる領域の中心とのずれが、前記電界または磁界を発生させる領域の、前記移動方向の幅の4分の1の長さよりも小さくなるように配置されている、請求項1に記載の動作装置。
- 前記第2電極の前記電界または磁界を発生させる領域に隣接するように設けられる第3電極をさらに備え、
前記第1電極と前記第2電極とが初期状態において、前記移動方向に対する前記第1電極の中心と、前記移動方向に対する前記第3電極の中心とがずれるように、前記第1電極と前記第3電極とが配置されている、請求項1に記載の動作装置。
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