JP2009235896A - 人体洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 人体の洗浄を多様かつ好適に行なうことができるとともに、節水効率を高めることができる人体洗浄装置を提供する。
【解決手段】 便座と、便座に着座した人体を検知する着座センサと、吐水孔を有するノズルと、吐水孔から人体に向けて吐出される洗浄水の吐水態様を時間的に変動させつつ、その吐水態様を５Ｈｚ以上の周期で時間的に変動させて、吐水態様の時間的な変動を人体が認識しないように吐出する吐水手段と、ノズルを殺菌洗浄するための機能水を生成する機能水生成ユニットと、吐水手段および機能水生成ユニットに洗浄水を供給する電磁弁と、吐水手段、機能水生成ユニットおよび電磁弁の動作を制御する吐水制御手段と、を備え、吐水制御手段は、人体局部の洗浄を開始させる操作が行われる前において着座センサが人体を検知すると、電磁弁を開弁させ、機能水生成ユニットからノズルに機能水を吐水させて、ノズルを殺菌洗浄する。
【選択図】 図４

Description

本発明は、吐水孔から洗浄水を吐出して人体を洗浄する人体洗浄装置に関する。

従来、この種の人体洗浄装置のうち、たとえば、便器に装着される衛生洗浄装置では、洗浄範囲を広くしたり、ソフトな洗浄や強い刺激によって排便作用を促すような洗浄形態が検討されている。こうした技術の一つとして、特開昭６１−５３９２９号公報の技術が知られている。この技術は、流体素子機構を利用したものであり、洗浄水が所定軌跡を描き、洗浄範囲を広くするように吐水するために、洗浄水を揺動させながら吐水して、流れの方向を切り換えている。

特開昭６１−５３９２９号公報

しかし、従来の流体素子機構により吐出される洗浄水は、所定軌跡の移動速度（発振周波数）および所定軌跡の振幅（洗浄面積）が、瞬間吐出水量の増減に応じて増減する。このため、広い範囲を洗浄する場合は、瞬間吐出水量を上げる必要があり、一方、狭い範囲を洗浄する場合は、瞬間吐出水量を下げる必要がある。

また、広い範囲の洗浄と狭い範囲の洗浄を可変に行う場合、流体素子の特性上、所定軌跡の振幅（洗浄面積）を大きく変更できないので、洗浄面積の変更範囲が小さい。また、広い範囲を洗浄する場合は、所定軌跡の移動速度（発振周波数）が高速（高周波数）であり、一方、狭い範囲を洗浄する場合は、所定軌跡の移動速度（発振周波数）が低速（低周波数）になり、洗浄面に合わせた移動速度で洗浄できない。さらに、人体洗浄において洗浄感が問題になる場合、瞬間吐出水量を変えることなく所定軌跡の移動速度や洗浄面積を変えるという効果的な対処を行うことができない。

また、近年、温水を人体に向けて吐出する衛生洗浄装置において、洗浄水を加熱するヒータの電力供給量を低減する目的で節水化が検討されている。

本発明は、上記従来の技術の問題点を解決するためになされたものであり、人体の洗浄を多様かつ好適に行なうことができるとともに、節水効率を高めることができる人体洗浄装置を提供することを目的とする。

本発明は、便座と、前記便座に着座した人体を検知する着座センサと、吐水孔を有するノズルと、前記吐水孔から人体に向けて吐出される洗浄水の吐水態様を時間的に変動させつつ、前記吐水態様を５Ｈｚ以上の周期で時間的に変動させて、前記吐水態様の時間的な変動を人体が認識しないように吐出する吐水手段と、前記ノズルを殺菌洗浄するための機能水を生成する機能水生成ユニットと、前記吐水手段および機能水生成ユニットに洗浄水を供給する電磁弁と、前記吐水手段、機能水生成ユニットおよび電磁弁の動作を制御する吐水制御手段と、を備え、前記吐水制御手段は、人体局部の洗浄を開始させる操作が行われる前において前記着座センサが人体を検知すると、前記電磁弁を開弁させ、前記機能水生成ユニットから前記ノズルに前記機能水を吐水させて、前記ノズルを殺菌洗浄することを特徴とする人体洗浄装置である。

また、前記機能水生成ユニットは、塩素イオンを含んだ洗浄水が供給される機能水生成タンクと、前記機能水生成タンク内に配置されて陽極及び陰極からなる一対の電極と、を有し、前記一対の電極に電圧を印加することによって塩素イオンを含んだ洗浄水から遊離塩素を生成させて機能水を生成することができる。

そして、前記吐水制御手段は、前記着座センサが人体を検知すると前記一対の電極への通電を開始させるのが好ましい。

さらに、前記機能水生成タンクは、前記一対の電極が平板状とされてなり、平板状とされた前記一対の電極を対向配置させて通水路を挟みこんだ構成とし、前記通水路に通水した状態で前記一対の電極に通電させるように構成することができる。

ここで、吐水態様とは、人体の洗浄面に当たるときの洗浄水の様子または状態をいい、吐水態様が時間的に変動するとは、洗浄水が当たる面積、位置、水圧、流量、流速などが変わることをいう。また、吐水態様の時間的変動を人体が認識しないとは、洗浄水の態様の変動の速度が大きかったり、微小であるために、人体の洗浄面が刺激変化を認識できないことをいう。

人体の洗浄面が水圧の変動を認識しないための手段として、洗浄水が人体に当たる周期を変動させる手段をとることができる。洗浄水の変動周期は、約３Ｈｚ以下であると、人体が刺激変化を明確に認識することができるから、５Ｈｚ以上とすることが好ましい。

こうした吐水態様が時間的に変動する好適な例として、揺動吐水や、間欠・脈動吐水などの吐水形態をとることができ、それらの吐水形態における洗浄面積、周波数（回転数、脈動周波数）、デューティ比、脈動の強弱を変更することにより実現できる。
例えば、本発明の好適な態様は、吐水孔より吐出される洗浄水を、上記吐水孔より広い面積で吐水するように洗浄面に対して走査するとともに、該洗浄水による圧力変化を人体が認識しないように吐出する吐水手段と、上記洗浄水の流量と独立して、洗浄面の面積を変更するように上記吐水手段による走査範囲を制御可能である洗浄範囲制御手段と、を備えたことを特徴とする。

すなわち、吐水手段の１態様として、揺動吐水、つまり、吐水孔から吐出される洗浄水の範囲を回転、往復動またはこれを組み合わせて走査することにより、吐水孔の面積よりも広い面積で洗浄する手段などがある。この場合において、洗浄水が走査される軌跡は、予め定められた軌跡をとるほか、ランダムであるが洗浄面でほぼ均一な洗浄感が得られるように定めることができる。

また、吐水手段の他の態様として、間欠・脈動吐水、つまり、吐水孔から吐出される洗浄水の流量を完全になくして断続させる間欠吐水や、最小流速を０としないで流量を時間的に変動させる脈動吐水などの形態をとることができる。ここで、間欠・脈動吐水における流速は、平均流速は同じであってもよいし、平均流速自体を脈動させてもよい。

脈動吐水の場合には、間欠吐水に比べて水量の変動が少ないのみならず、最低水圧においても水圧が零もしくは負圧にならないために、ウォータハンマ（水撃）、つまり圧力変化に伴って他の装置に与える衝撃を低減でき、また、連続的な吐水に近いので人体に対する刺激が緩和され、洗浄感に優れている。また、吐水が逆流・停滞することがないため、洗浄水を加熱する加熱手段である熱交換器の制御も比較的簡単にすることができる。

また、本発明の好適な態様として、吐水手段による人体で認識されない吐水を指令する洗浄動作指令手段を備え、上記吐水制御手段は、上記洗浄動作指令手段からの吐水指令に同期して、上記吐水態様の変動を制御する構成をとることができる。
すなわち、この態様によれば、洗浄動作指令手段による洗浄動作指令に同期して、吐水態様を変動させる吐水を行なうので、洗浄途中で付加的な洗浄を行わせる場合に比べ余計な制御が入らず、洗浄初期から大きな節水効果が得られる。しかも、間欠的な刺激による洗浄、例えば、マッサージなどの特殊な洗浄でなく、通常の使用による洗浄であるので、使用頻度が高く、節水効果が一層大きい。

また、間欠・脈動手段による周波数の上限値は、間欠・脈動手段に対応して種々の値をとることができ、たとえば、間欠・脈動手段として間欠・脈動弁を用いた場合には、商用電源の周波数である５０Ｈｚまたは６０〜７０Ｈｚとすることにより、その制御を容易にすることができる。また、上記周波数は、その値を不変に設定するほか、洗浄形態に応じて変更したり、または流量などの値に応じて変更する態様としてもよい。たとえば、お尻洗浄では５０Ｈｚ、柔らか洗浄で６０Ｈｚ、ビデ洗浄では７０Ｈｚのように周波数を変更するというように、各種の洗浄形態の特性に合わせて周波数を設定してもよい。

また、態様の一例として、人体を洗浄しない期間、たとえば洗浄開始の初期や洗浄終了後における洗浄ノズルの吐水孔の周辺を洗浄するノズル洗浄の期間や、洗浄ノズルを掃除する際に間欠・脈動流としないで、被洗浄面に着水するときだけに間欠・脈動流の不感帯周波数になる構成をとることができる。また、人体洗浄の開始前にノズル洗浄を行なう場合において、このノズル洗浄のときに間欠・脈動流の周波数を不感帯周波数より小さくして間欠・脈動流を作成してから、被洗浄面への着水時に不感帯となる周波数まで上昇させる構成をとることにより、間欠・脈動流による快適な洗浄を確実に行なうことができる。

脈動吐水の場合には、間欠吐水に比べて水量の変動が少ないのみならず、最低水圧においても水圧が零もしくは負圧にならないために、ウォータハンマ（水撃）、つまり圧力変化に伴って他の装置に与える衝撃を低減でき、また、連続的な吐水に近いので人体に対する刺激が緩和され、洗浄感に優れている。また、吐水が逆流・停滞することがないため、洗浄水を加熱する加熱手段である熱交換器の制御も比較的簡単にすることができる。

本発明によれば、人体の洗浄感の多様化を図ることができるとともに、節水の実効性を高めることができ、さらには、ノズルに衛生感・清浄感を与えることができる。

便器に装着した状態の第１実施例の局部洗浄装置ＫＳ１−１を表す概略斜視図である。 この局部洗浄装置が有する遠隔操作装置ＲＣ１−１を説明するための説明図である。 局部洗浄装置の補助操作部ＫＳ１−９を説明するための袖部周辺の概略斜視図である。 局部洗浄装置の概略構成を水路系を中心に表したブロック図である。 制御系の概略構成を表すブロック図である。 ノズル装置ＮＳ１−１を表す概略斜視図である。 洗浄ノズルＷＮ１−１の進退の様子を説明するための説明図である。 局部洗浄装置本体部内の待機位置にある洗浄ノズル先端部の周辺を表す説明図である。 機能水ユニットＷＰ１−４を一部破断して表す概略斜視図である。 図８の１０−１０線概略断面図である。 図８の１１−１１線概略断面図である。 洗浄ノズル先端のノズルヘッドＮＨ１−１の拡大概略斜視図である。 図１２の１３−１３線概略断面図である。 ノズルヘッドベースＮＨ１−２の平面図である。 ビデ洗浄に用いるビデ用可動体ＮＨ１−１１の平面図である。 ビデ用可動体とその関連部材を説明するための平面模式図である。 ビデ用可動体と関連部材を説明するための概略斜視図である。 磁力生成体ＮＨ１−２６を説明するための概略分解斜視図である。 磁力発生体の有する電磁コイル設置基板ＮＨ１−２８の平面図である。 この基板上面に形成した回路構成を説明する説明図である。 ビデ用可動体ＮＨ１−１１を駆動させる際の電磁コイルＮＨ１−３３ａ〜３３ｃの励磁の様子を説明する説明図である。 ビデ吐水孔ＮＨ１−１０からの洗浄水吐水の様子を模式的に説明する説明図である。 洗浄水吐水の瞬間的な様子を模式的に説明する説明図である。 電磁コイルＮＨ１−３３ａ〜３３ｃの励磁の様子を説明するための他の説明図である。 電子制御装置ＣＴ１−１により実行されるお尻やビデの洗浄と乾燥動作ルーチンを示すフローチャートである。 洗浄・乾燥動作ルーチンにおけるノズル前洗浄処理の詳細を表すノズル前洗浄ルーチンのフローチャートである。 局部洗浄の際の洗浄水吐水に先立つノズル前洗浄における洗浄水吐水の様子を模式的に表した説明図である。 洗浄・乾燥動作ルーチンにおける本洗浄動作処理の詳細を表す本洗浄ルーチンのフローチャートである。 この本洗浄ルーチンの処理内容と動作停止ルーチンの処理内容を説明するための説明図である。 動作停止ルーチンを示すフローチャートである。 第２実施例の局部洗浄装置の概略構成を水路系を中心に表したブロック図である。 この水路系に配設されたアキュムレータＷＰ２−７の概略構成を示す断面図である。 同じく水路系に配設された波動発生機器ＷＰ２−８の構成を表す断面図である。 この波動発生機器ＷＰ２−８による洗浄水の流れの様子を説明する説明図である。 波動発生機器ＷＰ２−８の設置の様子を模式的に表した模式図である。 制御系の概略構成を表すブロック図である。 ノズル装置ＮＳ２−１を表す概略斜視図である。 図３７における６７−６７線概略断面図である。 洗浄ノズルが有する流路切換弁ＷＮ２−２の構成を説明するための要部概略断面図である。 この流路切換弁の要部の分解斜視図である。 ノズルヘッドＮＨ２−１を平面視すると共にヘッド周辺を一部破断して示す平面図である。 このノズルヘッドの変形例を示す平面図である。 洗浄水吐水に際して脈動を発生させる波動発生機器ＷＰ２−８の脈動発生コイルＷＰ２−１５の励磁の様子を説明する説明図である。 波動発生機器ＷＰ２−８から流出する洗浄水の水量及び流速を示すタイミングチャートである。 ノズルヘッドＮＨ２−１のお尻吐水孔ＮＨ２−２からの洗浄水吐水の様子を模式的に説明する説明図である。 脈動流の洗浄水を吐水孔から吐水した場合、その吐水された洗浄水が脈動流に増幅される過程を説明する説明図である。 洗浄水流が壁面に衝突する状態を説明する説明図である。 お尻吐水孔ＮＨ２−２に対向して所定距離Ｌａだけ隔てて圧力センサ板Ｐｓを設置した状態を説明する説明図である。 圧力センサ板Ｐｓ上の位置と圧力のピーク値とを３次元的に表現した説明図である。 検出部の１つから検出される検出信号を表わすタイミングチャートである。 平均吐水量と洗浄量との関係を示すグラフである。 周波数の増減により洗浄強度が異なる理由を説明する説明図である。 脈動流の脈動周波数および洗浄強度と人体局部の刺激に伴う不快感との関係を示すグラフである。 洗浄水の脈動流における脈動周波数をお尻洗浄とビデ洗浄で異なるようにした制御例を説明する説明図である。 脈動周波数ｆｔｍとデューティ比Ｄｔｍの制御例を説明する説明図である。 第２実施例の局部洗浄装置の洗浄動作を表すタイムチャートである。 脈動発生コイルＷＰ２−１５についてのボトム検知回路ＣＴ２−２の一例を表す回路図である。 脈動発生コイルＷＰ２−１５の通電励磁の際の電流波形の様子を説明するための説明図である。 アキュムレータＷＰ２−７により得られる効果を説明するための説明図である。

本発明に係る人体洗浄装置を人体の局部洗浄装置に適用した実施の形態を実施例に基づき説明する。図１は、便器に装着した状態の第１実施例の局部洗浄装置ＫＳ１−１を表す概略斜視図、図２は、この局部洗浄装置が有する遠隔操作装置ＲＣ１−１を説明するための説明図、図３は、局部洗浄装置の補助操作部ＫＳ１−９を説明するための袖部周辺の概略斜視図である。図４は、局部洗浄装置の概略構成を水路系を中心に表したブロック図、図５は、制御系の概略構成を表すブロック図である。

Ａ１／全体構成；
図示するように、局部洗浄装置ＫＳ１−１は、便器ＢＴの後部上面に固定される本体部ＫＳ１−２と、洗浄動作や乾燥動作等を遠隔操作するための遠隔操作装置ＲＣ１−１とを有する。本体部ＫＳ１−２は、便器開口部側に、便座ＫＳ１−３並びに便蓋ＫＳ１−４を開閉自在に備える。また、この本体部は、便器の側方に袖部ＫＳ１−５を有すると共に、洗浄水を洗浄局部に吐水する洗浄ノズルＷＮ１−１を有するノズル装置ＮＳ１−１（図６参照）の他、後述の種々の機能部品を収納している。

遠隔操作装置ＲＣ１−１は、図２に示すように、排便時に常用される種々の操作ボタンを有する。即ち、この遠隔操作装置は、その前面最上段に、本局部洗浄装置の洗浄・乾燥等の動作を停止する際に操作される停止ボタンＳＷａと、通常の肛門洗浄が所望される際に操作されるお尻洗浄ボタンＳＷｂと、通常の肛門洗浄時より柔らかな吐水による肛門洗浄が所望される際に操作されるやわらか洗浄ボタンＳＷｃと、ビデ洗浄が所望される際に操作されるビデ洗浄ボタンＳＷｄと、温風による局部乾燥が所望される際に操作される乾燥ボタンＳＷｚとを有する。なお、やわらか洗浄ボタンＳＷｃによる肛門洗浄は、痔疾病を有する人や肛門周辺表皮が過敏な人にできるだけ刺激を与えないように洗浄モードであり、通常の肛門洗浄より水量を多くしたり流速を落とすなどして洗浄水を柔らかく吐水して肛門を洗浄するものである。

遠隔操作装置は、この最上段ボタン群の下方に、上記の両お尻洗浄の際の吐水の様子を変更するためのボタン群と、ビデ洗浄の際の吐水の様子を変更するためのボタン群を有する。即ち、この遠隔操作装置は、両お尻洗浄ボタンに対応するようその下方に、洗浄ノズルＷＮ１−１を前後に往復動させながら洗浄水を吐水して広範囲な洗浄感を与えるためのムーブ設定ボタンＳＷｆａと、洗浄水が当たる面積（洗浄面積）を吐水期間に亘って規則的に変化させて排便感を促すためのマッサージ設定ボタンＳＷｅａと、洗浄面積を吐水期間に亘って不規則的に変化させて安らぎ感や心地よさなどを与えるためのゆらぎ設定ボタンＳＷｔａと、洗浄面積を狭くするためのスポット設定ボタンＳＷｕａと、洗浄面積を広くするためのワイド設定ボタンＳＷｖａを有する。また、ビデ洗浄ボタンに対応するようその下方に、お尻洗浄と同様のムーブ設定ボタンＳＷｆｖとゆらぎ設定ボタンＳＷｔｖとスポット設定ボタンＳＷｕｖとワイド設定ボタンＳＷｖｖを有する。更に、光信号発信部ＲＣ１−２の下方には、便器ボール内の脱臭の入り切りを設定する脱臭設定ボタンＳＷｙと、低室温時に室内暖房を自動的に行うモードの入り切りを設定して冷え込み防止を図る室暖設定ボタンＳＷｗを有する。また、これら設定ボタン下方に、洗浄水水勢とノズル位置を表示する表示部ＲＣ１−３を挟んで、水勢強設定ボタンＳＷｈｕと水勢弱設定ボタンＳＷｈｄ、ノズル位置前進設定ボタンＳＷｘｆとノズル位置後退設定ボタンＳＷｘｂを有する。なお、これらボタンが操作されたときの吐水の様子については後述する。

袖部ＫＳ１−５は、その上面に、本局部洗浄装置の動作状況等を表示する表示部ＫＳ１−６と、後述の補助操作部を覆う開閉自在なカバーＫＳ１−７とを有する。なお、この表示部には、上記の光信号発信部ＲＣ１−２から発せられた光信号を受光する受光部が組み込まれている。また、このカバーの一部は、着座人体を検出するための着座センサＳＳ１０（図３参照）からの光を選択的に透過させるよう着色された光透過窓ＫＳ１−８とされている。

この袖部は、図３に示すように、カバー下方に補助操作部ＫＳ１−９を有する。この補助操作部は、操作頻度が低いためにカバーにて覆われており、着座センサＳＳ１０の周りに、複数の操作ボタンや操作ツマミを備える。これらボタンのうち着座センサ前方のボタンは、本局部洗浄装置全体の電源を入り切りするメイン電源ボタンＳＷｐと、洗浄ノズルＷＮ１−１の清掃・保守等のために洗浄ノズルＷＮ１−１を進退出させるノズル洗浄ボタンＳＷｋと、お尻洗浄を入り切りするお尻洗浄ボタンＳＷｂと、ビデ洗浄を入り切りするビデ洗浄ボタンＳＷｄとされている。この両洗浄ボタンにより、遠隔操作装置が電池切れ等で操作不能なときでも局部洗浄を行うことができる。着座センサ側方のボタンは、遠隔操作装置と同様の脱臭設定ボタンＳＷｙと室暖設定ボタンＳＷｗとされている。また、着座センサ後方の各ツマミは、温水ヒータの入り切りと温水温度を設定する温水ツマミと、暖房便座の入り切りと便座温度を設定する便座ツマミと、乾燥温度を設定する乾燥ツマミと、室内暖房温度を設定する室暖ツマミとされている。

Ｂ１／水路系・制御系構成；
第１実施例の局部洗浄装置は、上記のボタンに応じた洗浄動作・乾燥動作等を行うため、下の水路系構成並びに制御系構成を有する。図４に示すように、本局部洗浄装置の水路系は、図示しない外部の給水源側から、入水側弁ユニットＷＰ１−１と熱交換ユニットＴＨ１−１と出水側弁ユニットＷＰ１−３とを備える。そして、この出水側弁ユニットからノズル装置ＮＳ１−１の洗浄ノズルＷＮ１−１に洗浄水が導かれ、当該ノズルから後述のように洗浄水が吐水される。また、出水側弁ユニットからは、機能水ユニットＷＰ１−４にも洗浄水の導水が行われ、当該ユニットから洗浄ノズルＷＮ１−１に向けて機能水が吐水される。これら各ユニットは、熱交換ユニットを挟んだ上流側・下流側給水管路で接続されている。即ち、入水側弁ユニットと熱交換ユニットは、上流側給水管路ＷＰ１−５で接続され、熱交換ユニット下流の各ユニット並びにノズル装置は、下流側給水管路ＷＰ１−６で接続されている。この場合、出水側弁ユニットＷＰ１−３からは４本の給水管路が分岐しており、その３本がノズル装置ＮＳ１−１に、残りが機能水ユニットＷＰ１−４に接続されている。なお、これら分岐管路も下流側管路の一部をなす。

上流側給水管路ＷＰ１−５は、本局部洗浄装置に給水源（水道管）から洗浄水（水道水）を直接給水すべく入水側弁ユニットＷＰ１−１に配管されている。この上流側給水管路に導かれた洗浄水は、入水側弁ユニットのストレーナＷＰ１−７でのごみ等の捕捉を経て、逆止弁ＷＰ１−８、定流量弁ＷＰ１−９に流れ込む。そして、定流量弁下流の電磁弁ＷＰ１−１０にて管路が開かれると、洗浄水は、定流量弁で所定流量とされた状態で、瞬間加熱方式の熱交換ユニットＴＨ１−１に流入する。第１実施例では、定流量弁により約５００〜１０００ｃｃ／ｍｉｎ程度に洗浄水流量が定められている。なお、上流側給水管路ＷＰ１−５を、便器洗浄用の洗浄水を貯留する洗浄水タンク（図示省略）から分岐して入水側弁ユニットＷＰ１−１に配管することもできる。

この入水側弁ユニットから熱交換ユニットに至る間の上流側給水管路には、リリーフ弁ＷＰ１−１１を介在させた第１洗浄水導出管路ＷＰ１−１２と、上流側給水管路から直接分岐した第２洗浄水導出管路ＷＰ１−１３が配設されている。この第１洗浄水導出管路は、リリーフ弁上流側の管路圧力が何らかの原因で上昇してリリーフ弁により管路が開かれると、上流側給水管路内の洗浄水を外部に導出する。これにより、上流側給水管路、延いては熱交換ユニットにおけるタンク内圧の上昇を回避できるので、タンクの変形や収縮・膨張による疲労を回避でき好ましいばかりか、必要以上に高い耐圧性能を有するタンクとする必要がない。また、第２洗浄水導出管路は、定流量弁での設定流量と、下流側給水管路ＷＰ１−６における後述の流調ポンプＷＰ１−１４での調整流量との差分の流量の洗浄水を外部に導出する。これにより、熱交換ユニットでの無駄な洗浄水温水化を省くことができ、電力消費を低減できる。

上記の第１、第２洗浄水導出管路は、その末端が脱臭用吸気口や局部乾燥用排気口に向くよう配設されている。よって、両導出管路から導出された洗浄水は、これら吸気口や排気口に吐水される。この吸気口や排気口は、便器ボール部に臨んでいることから、ボール部に配設された汚物の飛散水を浴びて汚れることがある。しかし、吸気口や排気口は上記の両導出管路からの洗浄水により洗浄されるので、衛生面や清潔感の観点から好ましい。なお、導出管から吐水された洗浄水は、便器ボール部に流れ落ちるので、便器周辺を汚すようなことがない。

上記した入水側弁ユニット下流の熱交換ユニットＴＨ１−１は、ヒータＴＨ１−２を内蔵するタンクＴＨ１−３を備える。このヒータは、熱応答性が良好なニクロム線を螺旋状に巻いて構成されている。よって、タンクはこのヒータによる洗浄水の瞬間加熱が可能な容量であればよいので、タンク、延いては熱交換ユニット全体の小型化が可能である。また、熱交換ユニットの構造が簡略となるので、組み付け工数の低減、低コスト化といった製造上の利点がある。なお、ヒータまたはその近傍に、その異常加熱を機械的に遮断する図示しないバイメタルや温度ヒューズが装着されている。

そして、この熱交換ユニットは、タンクへ流入する洗浄水の温度とタンクから流出する洗浄水の温度を入水温センサＳＳ１６ａと出水温センサＳＳ１６ｂで検出しつつ、ヒータで洗浄水を設定温度の洗浄水に温水化する。この場合、熱交換ユニットを発泡材等の断熱材で被覆すれば、断熱材による洗浄水保温効果と相俟って、洗浄水温水化のヒータの消費電力を削減できる。つまり、省エネ効果が高まる。

また、この熱交換ユニットは、タンク内水位を検出するフロートスイッチＳＳ１８を有する。このフロートスイッチは、ヒータが水没する所定の水位以上になるとその旨の信号を出力するよう構成されている。そして、電子制御装置ＣＴ１−１はこの信号を入力している状況下でヒータを通電制御するので、水没していないヒータに通電してしまうとういような事態、いわゆるヒータの空焚きを回避する。なお、熱交換器ユニットのヒータは、後述する電子制御装置によってフィード・フォワード制御とフィードバック制御を組合わせながら最適に制御される。

更に、この熱交換ユニットは、タンクからの洗浄水出口、即ち、下流側給水管路ＷＰ１−６のタンク接続箇所に、バキュームブレーカＴＨ１−４を備える。このバキュームブレーカは、管路内に大気を導入して下流側給水管路内の洗浄水を断ち切り、下流側給水管路下流側からの洗浄水逆流を防止する。

上記の熱交換ユニット下流の出水側弁ユニットＷＰ１−３は、ギヤポンプ等で構成される流調ポンプＷＰ１−１４と、５方弁構造の切換弁ＷＰ１−１５を有する。この切換弁は、洗浄水の給水先を、洗浄ノズルＷＮ１−１に至るお尻洗浄用流路、やわらか洗浄用流路、ビデ洗浄用流路、機能水ユニットＷＰ１−４への流路（機能水用流路）のいずれかに切り換える。よって、熱交換ユニットでの温水化と流調ポンプによる流量調整を受けた洗浄水は、切換弁で切り換えられた給水先から吐水される。この際の流量調整の様子や給水先切換の様子は、後述する。

第１実施例の局部洗浄装置の制御系は、図５に示すように、マイクロコンピュータを主要機器とする電子制御装置ＣＴ１−１を中心に構成されている。この電子制御装置は、上記した着座センサ、入水出水温センサ等の各種センサやフロートスイッチ、後述の揺動検知回路ＮＨ１−３９、４０、転倒検知センサＳＳ３０、洗浄水量センサＳＳ１４からの信号の他、遠隔操作装置における上記種々の操作ボタンや本体側の補助操作部における上記種々の操作ボタン並びにツマミの操作状況を、入力回路を介して有線もしくは無線（光信号）で入力する。この場合、洗浄水量センサは、下流側給水管路における洗浄水量を検出し、その検出結果を電子制御装置に出力する。転倒検知センサは、本局部洗浄装置の傾き状態を検知してその結果を電子制御装置に出力する。この電子制御装置は、入力した上記信号に基づいて、入水側弁ユニットＷＰ１−１の電磁弁開閉弁制御、熱交換ユニットＴＨ１−１のヒータ通電制御、出水側弁ユニットＷＰ１−３の流調ポンプ制御、切換弁切換制御、本体袖部表示部の表示制御、局部乾燥用の乾燥ヒータやファンモータ等を含む乾燥部ＫＫ１−１の通電制御、臭気除去用のオゾナイザーや吸引ファンモータ等を含む脱臭部ＤＳ１−１の通電制御、室内暖房用のヒータやファンモータ等を含む暖房部ＤＢ１−１の通電制御を実行する他、上記信号に基づいて、後述の機能水ユニットＷＰ１−４の塩素発生用電極通電制御、ノズル装置ＮＳ１−１のノズル駆動モータ制御、ノズルヘッドＮＨ１−１の揺動コイル群通電制御を実行する。なお、局部乾燥用の乾燥ヒータを室内暖房用のヒータと共用したり、局部乾燥用のファンモータを臭気除去用や室内暖房用のファンモータと共用したりすることもできる。

例えば、局部洗浄装置が掃除等のために便器から取り外されて便器に立て掛けられた場合、フロートスイッチの信号が正常であることがある。このような場合には、ヒータの露出が起き得るが、フロートスイッチの信号が正常であるため、ヒータの空焚きを起こす虞がある。しかし、便器への立て掛けにより、転倒検知センサではこの傾きが検知されるので、その信号を受けて電子制御装置は、ヒータへの通電を停止して空焚きを防止する。また、電磁弁等を閉弁制御して止水状態としたり、乾燥・脱臭等の各機能を停止する。つまり、転倒検知センサにより、便器への局部洗浄装置の正常装着状態を検知でき、この結果により局部洗浄装置の機能（洗浄・乾燥・脱臭・室暖）を一時的に停止できる。その他の機器制御については後述する。なお、サーミスタや感温リードスイッチ等からなるリミットセンサを洗浄ノズル先端に設けて電子制御装置に接続し、その検出結果（ノズル先端洗浄水温度）に応じて電磁弁等を閉弁制御して止水状態とすることもできる。こうすれば、不用意な温度の洗浄水を局部に吐水することをより有効に回避でき好ましい。

Ｃ１／ノズル装置ＮＳ１−１；
次に、第１実施例の局部洗浄装置が有するノズル装置ＮＳ１−１について説明する。図６は、ノズル装置ＮＳ１−１を表す概略斜視図、図７は、洗浄ノズルＷＮ１−１の進退の様子を説明するための説明図、図８は、局部洗浄装置本体部内の待機位置にある洗浄ノズル先端部の周辺を表す説明図である。

図示するように、ノズル装置ＮＳ１−１は、局部洗浄装置の本体部ＫＳ１−２（図１参照）に収納設置される。このノズル装置は、上記本体部に固定設置されるベースＮＳ１−２と、このベース上面の架台ＮＳ１−３に組み込み配設されたノズル駆動モータＮＳ１−４と、このモータの正逆回転を前後動に変換して洗浄ノズルＷＮ１−１に伝達する伝達機構ＮＳ１−５と、ベース上面に立設され洗浄ノズルを便器ボール部側で摺動自在に保持するノズル保持部ＮＳ１−６と、洗浄ノズルを後述のノズル進退軌道に沿って案内する案内レール部ＮＳ１−７とを有する。

伝達機構ＮＳ１−５は、ノズル駆動モータＮＳ１−４の回転軸に固定された駆動プーリＮＳ１−８と、上記のノズル進退軌道に沿った前後の従動プーリＮＳ１−９と、これらプーリに掛け渡されたタイミングベルトＮＳ１−１０と、当該ベルトにテンションを与えるテンションローラＮＳ１−１１とを有する。タイミングベルトは、洗浄ノズルＷＮ１−１の筒状部ＷＮ１−４から延びたベルト把持体ＷＮ１−２を介して、当該ノズルと係合・固定されている。よって、この洗浄ノズルは、タイミングベルトの正逆回転に応じて前後に進退駆動する。

案内レール部ＮＳ１−７は、図７に示す円弧状のノズル進退軌道ＮＳ１−１２と一致するよう湾曲形成されており、上記の筒状部から延びた軌道把持体ＷＮ１−３を介して当該ノズルと係合されている。この軌道把持体は上記のノズル進退軌道と同じ曲率半径の軌道把持面を備え、この軌道把持面は案内レール部に対して摺動自在とされている。また、上記のノズル保持部ＮＳ１−６は、洗浄ノズルを摺動自在に保持する。よって、洗浄ノズルＷＮ１−１は、タイミングベルトにより前後に進退駆動する際、案内レール部ＮＳ１−７に沿って前後に進退駆動し、その移動軌跡は円弧状のノズル進退軌道ＮＳ１−１２と一致する。この場合、洗浄ノズルにあっても、その筒状部ＷＮ１−４は、このノズル進退軌道と同じ曲率半径で軸方向に沿って湾曲形成されている。このため、洗浄ノズルは、円弧状のノズル進退軌道と一致して、本体部内の待機位置ＨＰと便器ボール部内の洗浄位置（お尻洗浄位置ＡＷＰ、ビデ洗浄位置ＶＷＰ）との間を前後に進退駆動する。なお、ノズル保持部ＮＳ１−６は、洗浄ノズルの摺動抵抗を低減するため、ノズル外壁と一部しか接触しないようにされている。

この結果、図７に示すように、待機位置ＨＰの洗浄ノズルＷＮ１−１を、その軸方向に亘って便器上面に近づくよう、ノズル装置ＮＳ１−１に装着できる。よって、便器上面からの洗浄ノズル後端高さ（ノズル高さ）を、円柱状の洗浄ノズルを傾斜した直線軌道に沿って進退させる場合より低くできる。従って、このノズル高さの低減の分だけ本体部ＫＳ１−２（図１参照）を低くでき、局部洗浄装置自体を小型化することができる。また、ノズルの進出によってノズルヘッド上面の角度が変わって当該ヘッドからの洗浄水吐水角度が変わるので、少ないノズル移動で洗浄範囲を大きく移動することができる。具体的には、後述のムーブ洗浄の際のノズル往復動範囲を狭くしても、ムーブ洗浄に求められる洗浄範囲に亘って洗浄水を吐水できる。或いは、お尻洗浄位置ＡＷＰからビデ洗浄位置ＶＷＰまでのノズル移動距離が短くても、洗浄水による洗浄箇所をお尻からビデに変更できる。

Ｄ１／機能水ユニットＷＰ１−４；
次に、洗浄ノズルＷＮ１−１の説明に先立ち機能水ユニットＷＰ１−４について説明する。図９は、機能水ユニットＷＰ１−４を一部破断して表す概略斜視図、図１０は、図８の１０−１０線概略断面図である。

図示するように機能水ユニットＷＰ１−４は、ノズル装置ＮＳ１−１に固定設置（図６参照）される機能水生成タンクＷＰ１−１６と、当該タンク内に対向配置された一対の平板状の塩素発生用電極ＷＰ１−１７とを有する。この機能水生成タンクは、耐薬品性（耐遊離塩素性）を有する樹脂製のタンクであり、イン側管路ＷＰ１−１８からタンク内に流入した洗浄水をアウト側管路ＷＰ１−１９に流す。このアウト側管路は、図６、図８並びに図１０に示すように、ノズル保持部ＮＳ１−６の先端部のチャンバＮＳ１−１４に固定されている。なお、イン側管路とアウト側管路を対向配置して、タンク内で洗浄水が効率よく流れるようにしてもよい。

ここで塩素発生用電極とは、塩素生成反応を惹起しうる電極であり、その構造としては、導電性基材で電極形状を形成しの表面に塩素発生用触媒を担持した電極構造や、塩素発生用触媒からなる導電性材料を用いて電極を形成した構造等がある。この後者の構造の塩素発生用電極は、塩素発生用触媒の種類により種々別称され、例えば、フェライト等の鉄系電極、パラジウム系電極、ルテニウム系電極、イリジウム系電極、白金系電極、ルテニウム−スズ系電極、パラジウム−白金系電極、イリジウム−白金系電極、ルテニウム−白金系電極、イリジウム−白金−タンタル系電極等がある。導電性基材に塩素発生用触媒を担持したものは、構造を担う基材部を安価なチタン、ステンレス等の材料で構成できるので、製造コスト上有利である。また、特に、塩素イオン含有水中の塩素イオン含有量が３〜４０ｐｐｍ程度しかない水道水を利用する場合は、遊離塩素の発生効率を向上させるためにイリジウムを担持したイリジウム系電極、イリジウム−白金合金を担持したイリジウム−白金系電極、イリジウム−白金−タンタル合金を担持したイリジウム−白金−タンタル系電極等が好適である。また、このように導電性基材に塩素発生用触媒を担持したものを利用する場合、白金を含む合金触媒の担持を行うと、基材への固定強度が高まって脱離を起こし難く、電極寿命を向上させることができ好ましい。

塩素発生用電極には、一方が陽極、他方が陰極となるように直流電圧が印加される。この機能水ユニットに給水される洗浄水は、遊離塩素生成の元となる塩素イオンを含有した水道水である。よって、機能水ユニットのタンク内に洗浄水が貯留された状態で直流電圧を印可することにより、陽極側において遊離塩素が生成される。遊離塩素は、洗浄ノズルに付着する大腸菌等の細菌に対して殺菌効果があるため、機能水ユニットで遊離塩素リッチとされた洗浄水（以下機能水とする）をノズル保持部において、洗浄ノズルに向けて吐水することにより、細菌の繁殖を防ぐことができ衛生的である。なお、機能水吐水の様子については後述する。

上記した機能水ユニットでは、タンク内には約５０ｃｃの水道水が貯留され、ＤＣ２４Ｖの電圧を塩素発生用電極に約１分間印加すると約１．５ｐｐｍの遊離塩素濃度の機能水が生成できるよう、電極面積、電極間距離が定められており、電子制御装置にて塩素発生用電極への通電制御（定電圧制御）がなされている。この場合、洗浄水の電気伝導率が高くて電極間において電流が流れ過ぎるような場合は、印加電圧は低い値とされ、電極の長寿命化や通電部の発熱防止が図られている。また、洗浄水の電気伝導度に応じて随時印加電圧を変更し、塩素発生用電極への通電制御を定電流制御や定電力制御とすることもできる。電子制御装置は、これら通電制御を行うに当たり、通電開始から一定時間（約１分間）を経過すると通電を停止するようにする。これにより、遊離塩素の過生成やこれに伴う不用意な遊離塩素濃度の上昇、電極寿命の低下、電極加熱過多による気泡発生等の不都合を回避できる。

この機能水ユニットにより生成した機能水は、後述するノズル前洗浄・ノズル後洗浄（図２５、図２６、図３０参照）にてノズル洗浄のためにノズルヘッドＮＨ１−１に吐水される他、殺菌機能を果たすべく、以下のタイミングで吐水される。即ち、使用者の使用状態検知（例えば着座センサや洗浄動作の検知）に基づくタイミングと、所定時間ごとの定期的なタイミングと、例えば朝６時と昼１２時と夜１１時といったようなタイマー的なタイミングにおいて、上記の機能水はアウト側管路ＷＰ１−１９からノズルヘッドＮＨ１−１に吐水される。これら各タイミングで実施される機能水吐水にあっても、機能水をあらかじめ生成した後で使用する貯留式の場合には、機能水を生成するタイミングは上記したようなタイミングと同じになり、また機能水を生成するための通電は通電開始から一定時間を経過すると通電を停止するようにする。この場合、上記の定期タイミングで行う機能水の定期的な吐水にあっては、その実施タイミングは２時間おき、４時間おきと言った具合に任意に設定できる。なお、これらタイミングで機能水吐水が実施される際には、機能水吐水に適した流調ポンプＷＰ１−１４による流量調整並びに切換弁ＷＰ１−１５による機能水用流路への流路切り換えがなされる。また、上記したように機能水生成ユニットのタンクを、貯留タイプ（５０ｃｃ貯留）のものではなく、通水路が塩素発生用電極に挟まれたタイプとすることもできる。このタイプのものでは、上記のような電極の通電制御が上記各タイミングで実行され、その都度、流路切換を経て機能水が吐水される。

Ｅ１／洗浄ノズルＷＮ１−１とノズルヘッドＮＨ１−１；
次に、洗浄ノズルＷＮ１−１について説明する。図１１は、図８の１１−１１線概略断面図、図１２は、洗浄ノズル先端のノズルヘッドＮＨ１−１の拡大概略斜視図、図１３は、図１２の１３−１３線概略断面図、図１４は、ノズルヘッドベースＮＨ１−２の平面図である。

図６ないし図８に示すように、洗浄ノズルＷＮ１−１は、湾曲した筒状部ＷＮ１−４とその先端のノズルヘッドＮＨ１−１を有する。この筒状部は、図１１に示すように、上下に分割された収納室ＷＮ１−５をノズル長手方向に亘って有する。上下の収納室は、中央壁により互いに遮断（分離）されていると共に筒状部外周壁の適宜箇所のカバー部ＷＮ１−６で塞がれて密閉状とされている。上側の収納室には、後述のフラットケーブルＮＨ１−４２が収納されており、このフラットケーブルは、洗浄ノズルの末端から外部に取り出されて、既述した電子制御装置に接続される。なお、このフラットケーブル並びに後述のフレキシブルチューブは、上記カバー部を取り外した状態で収納室に支障なく収納・組み付けされる。

下側の収納室には、３本のフレキシブルチューブが収納されており、各フレキシブルチューブは、お尻洗浄用ノズル流路となる第１ノズル流路ＷＮ１−７、やわらか洗浄用ノズル流路となる第２ノズル流路ＷＮ１−８、ビデ洗浄用ノズル流路となる第３ノズル流路ＷＮ１−９とされている。これらフレキシブルチューブは、ノズル末端の図示しないチューブ接続部を経て、図４の切換弁ＷＰ１−１５の下流のお尻洗浄用流路、やわらか洗浄用流路、ビデ洗浄用流路にそれぞれ接続される。また、各フレキシブルチューブは、図１３、図１４に示すように、筒状部先端から突出したノズルヘッドベースＮＨ１−２のお尻洗浄用ベース流路となる第１ベース流路ＮＨ１−３、やわらか洗浄用ベース流路となる第２ベース流路ＮＨ１−４、ビデ洗浄用ベース流路となる第３ベース流路ＮＨ１−５にそれぞれ接続される。よって、切換弁ＷＰ１−１５（図４参照）が洗浄水の給水先をその下流のお尻洗浄用流路、やわらか洗浄用流路、ビデ洗浄用流路のいずれかに切り換えると、洗浄水は、その切り換えられた流路を経てノズル流路・ベース流路に流れ込み、ノズルヘッドの後述の各吐水孔から吐水される。なお、第１〜第３ノズル流路ＷＮ１−７〜９を、筒状部ＷＮ１−４にその成型時に区画形成してもよい。

ノズルヘッドＮＨ１−１は、ノズル流路・ベース流路に流れ込んだ洗浄水を局部に向けて吐水すべく、以下の構成を備える。このノズルヘッドは、ノズルヘッドベースＮＨ１−２にヘッドカバーＮＨ１−６を装着して構成される。このヘッドカバーは、通常のお尻洗浄に用いるお尻吐水孔ＮＨ１−７とお尻のやわらか洗浄に用いるやわらか吐水孔ＮＨ１−８を有するお尻用可動体ＮＨ１−９と、ビデ洗浄に用いるビデ吐水孔ＮＨ１−１０を有するビデ用可動体ＮＨ１−１１とを、カバー上面に前後に備える。また、このヘッドカバーは、図１３に示すように、ノズルヘッドベース上端周縁の係合爪部ＮＨ１−１２に係合するカバー側係合爪部ＮＨ１−１３と、後方周壁から突出した係合突起ＮＨ１−１４を有する。このカバー側係合爪部は、後方周壁を除く前方側方の周壁に亘って形成されている。また、この係合突起の先端部には十字にすり割りが形成されているので、係合突起は、その先端部の収縮・拡張により、筒状部ＷＮ１−４の前端壁貫通孔に挿入・取り外し可能である。よって、ヘッドカバーＮＨ１−６は、図１２の白抜き矢印に沿ったスライドを経て、ノズルヘッドベースＮＨ１−２に着脱される。つまり、このヘッドカバーは交換可能である。

ここで、上記の可動体について説明する。図１５は、ビデ洗浄に用いるビデ用可動体ＮＨ１−１１の平面図、図１６は、このビデ用可動体とその関連部材を説明するための平面模式図、図１７は、ビデ用可動体と関連部材を説明するための概略斜視図である。

図１２、図１３および図１５に示すように、ビデ用可動体ＮＨ１−１１は、ヘッドカバーＮＨ１−６の上面に固定されるフランジ部ＮＨ１−１５とその中央の円筒部ＮＨ１−１６と、この円筒部の中央貫通孔に位置し中央にビデ吐水孔ＮＨ１−１０が空けられた吐水駒ＮＨ１−１７と、この吐水駒下端の磁気駆動体ＮＨ１−１８とを有する。フランジ部ＮＨ１−１５並びに円筒部ＮＨ１−１６は、ゴム、エラストマー等の変形復元性を発揮する弾性材料から形成されている。尚、弾性体材料への汚水付着を防止のため、あるいは機能水吐水による弾性体材料の劣化を防止するために、弾性体材料の表面にはっ水処理（例えばフッ素コーティング処理等）や親水処理（例えば酸化チタンのコーティング等）を施すことが好ましい。吐水駒ＮＨ１−１７は、樹脂成型品であり、この吐水駒のビデ吐水孔下端側は、大径の吐水案内孔ＮＨ１−１９とされている。磁気駆動体ＮＨ１−１８は、耐水性・防錆性を有する磁性材料、例えば電磁ステンレス鋼鈑のプレス成型品であり、インサート成型法等により吐水駒ＮＨ１−１７と一体成型される。この磁気駆動体の材料は、一般に、高透磁率材料である軟質磁性材料であれば良く、ケイ素鋼、フェライト、純鉄等を例示でき、無電解Ｎｉメッキ等の表面処理を施して防錆を図ると好ましい。この吐水駒は上記の円筒部の中央貫通孔に嵌合固定されることから、ビデ用可動体ＮＨ１−１１は上記各部材からなるサブアッシー品である。そして、このビデ用可動体は、フランジ部の周縁部にて、接着剤、溶着、ネジ止め等の適宜手法によりヘッドカバーに固定される。このため、ビデ用可動体ＮＨ１−１１は、フランジ部で支持されて釣り下げられた状態のまま、このフランジ部と円筒部との繋ぎ部分の変形・復元により、各方向に首振り可能である。

磁気駆動体ＮＨ１−１８は、その周縁に磁気作用部ＮＨ１−１８ａ〜１８ｃを有する。よって、各磁気作用部に磁力による吸引力が作用すれば、該当する磁気作用部が下方に移動し、ビデ吐水孔はこの磁気作用部の下方移動に応じて傾斜する。そして、各磁気作用部に対応して円周状に所定の間隔で配設した後述の電磁コイルを左回りあるいは右回りに順次通電して励磁すれば、通電状態の電磁コイルに吸引された磁気作用部が順次移動するので、それに応じてビデ吐水孔も傾斜したまま順次左回り、右回りに３次元的に移動する。このビデ吐水孔の振れ角（吐水孔振れ角α：図１６参照）は、上記の吸引力の強さを調整すること、即ち、電磁コイルの通電電圧の電圧値（即ち電流値）を調整すること、通電電圧のデューティー比を調整すること等により、変更可能である。また、上記のフランジ繋ぎ部分に変形を起こすだけの吸引力を作用させればよいので、ビデ用可動体ＮＨ１−１１は容易に揺動する。

お尻用可動体ＮＨ１−９は、上記の二つの吐水孔を有するためにその形状において上記のビデ用可動体と相違するものの、このビデ用可動体と同一の機能を果たす部材を有する。よって、その説明は省略し、図には符号を付するに止めることとする。

なお、上記の磁気駆動体を硬質磁性材料とすれば、この磁気駆動体に及ぼす磁力の磁性により当該磁気駆動体に吸引力だけでなく反発力も作用させることができる。その一方、本第１実施例のように軟質磁性材料の場合は、磁力により磁気駆動体に吸引力を作用させることができる。

次に、上記したように可動体を揺動させる磁力生成体ＮＨ１−２６について説明する。図１８は、この磁力生成体ＮＨ１−２６を説明するための概略分解斜視図、図１９は、この磁力発生体の有する電磁コイル設置基板ＮＨ１−２８の平面図、図２０は、この基板上面に形成した回路構成を説明する説明図である。

磁力生成体ＮＨ１−２６は、図１２および図１３に示すように、上記の両可動体とは非接触の状態で、即ち、可動体下端との間に間隙を確保した状態で、また、ノズルヘッドベースの前方および左右の側壁との間に間隙を残した状態で、ノズルヘッドベースＮＨ１−２の上面に固定設置される。そして、このベース前方および左右の側壁には、当該側壁と磁力生成体との間の間隙をノズルヘッド外部と連通する外気吸引孔ＮＨ１−２７が空けられている。この場合、各外気吸引孔の開口面積は、次のように定められている。お尻、やわらか、ビデの各吐水孔から洗浄水が吐水されると、図１３に示すように、可動体下端の間隙上下の流路径に広狭があることから、この間隙を洗浄水が通過する際にエジェクタ作用が起きる。よって、洗浄水には空気が巻き込まれて泡沫状に混入する。この際の空気混入率が約５０〜１００％となるよう、外気吸引孔の開口面積は、空隙前後の流路径を考慮して定められている。ノズルヘッドベースの側壁における各外気吸引孔の開口位置は、磁力生成体下面より下方とされ、ベース前方壁にあっては先端傾斜面とされている。よって、洗浄動作中にこのノズルヘッドに洗浄水が跳ね返っても、この跳ね返り洗浄水が外気吸引孔を通ってノズルヘッド内部に進入することを回避できる。更に、ブラシ等にてヘッド洗浄を行っている最中の汚濁洗浄水をもノズルヘッド内部に進入しないようにできる。また、上記の両可動体の吐水孔から吐水を行っている最中に可動体下端の間隙から漏れ出た洗浄水は、磁力生成体の上面および側面に伝わり、各外気吸引孔から排出される。このため、この排出洗浄水により磁力生成体、延いてはその内部の後述の電磁コイルを冷却できるので、発熱によるコイル特性の変化を抑制できる。しかも、この外気吸引孔は各可動体に対応して設けられているので、排出洗浄水の滞留が無くなり冷却効果を高めることができる。なお、外気吸引孔は、ベース前方壁にのみ設けてもよい。

図１８に示すように、磁力生成体ＮＨ１−２６は、後述の種々の部材が設置された電磁コイル設置基板ＮＨ１−２８と枠体ＮＨ１−２９とを有する。そして、この基板は、枠体の枠内への熱硬化樹脂の流し込みにより樹脂モールドされ、枠体と一体となったサブアッシー品とされている。この場合、基板に設置された後述の各コイル鉄心の先端と給水口ＮＨ１−４６〜４８が、外部に露出している。よって、基板上に設置される後述のコイル、回路等の漏水による不都合はない。

電磁コイル設置基板ＮＨ１−２８は、お尻用可動体ＮＨ１−９を揺動させるためのお尻用揺動コイル群ＮＨ１−３０と、ビデ用可動体ＮＨ１−１１を揺動させるためのビデ用揺動コイル群ＮＨ１−３１とを有する。各揺動コイル群は、それぞれの可動体における磁気駆動体ＮＨ１−１８、２３の磁気作用部ＮＨ１−１８ａ〜１８ｃ、２３ａ〜２３ｃに対応して３個の電磁コイルＮＨ１−３２ａ〜３２ｃ、３３ａ〜３３ｃを有する。この各電磁コイルは、磁気駆動体の各磁気作用部に対向するように基板に配設固定されている。

各電磁コイルは、同一の構成を有し、プレートＮＨ１−３４に２本のコイル鉄心ＮＨ１−３５を立設して備え、一方のコイル鉄心にコイルを有する。よって、コイルに通電されると、電磁コイルは励磁して、プレートと２本のコイル鉄心をループする磁束（図１７参照）を形成する。この場合、ノズルヘッド完成時には、２本のコイル鉄心と対応する磁気作用部とは対向することから、上記の磁束は、磁気駆動体の磁気作用部を磁路としてループする。そして、この電磁コイルは、コイル通電に応じた磁力に基づく吸引力を、対向する磁気作用部に及ぼす。つまり、電磁コイルが励磁されると、対向する磁気作用部内を通る磁束が形成されて磁気作用部には各コイル鉄心に対応して逆の極、つまりＮ極の鉄心には磁気作用部にＳ極が、またＳ極の鉄心には磁気作用部にＮ極が形成されるので、作用部はそれぞれのコイル鉄心に吸引される。流す電流の方向を変えても、極性がＮとＳに逆転するだけで吸引力は、同じように作用する。しかも、この磁力による吸引力の強さは、コイルへの通電制御を通して制御可能である。このプレート並びに２本のコイル鉄心は共に強磁性体材料とされているので、上記の磁極形成が顕著となり、強力な磁力に基づく吸引力を磁気作用部に及ぼすことができる。このような電磁コイルの磁力の作用により、上記の両可動体並びにその吐水孔は既述したように揺動し、その際の吐水孔振れ角α（図１６参照）は、コイルへの通電制御を通して後述のように制御される。なお、以下の説明に当たっては、便宜上、図１９に示すように、お尻用揺動コイル群ＮＨ１−３０の各電磁コイルにおけるコイルをＮＨ１−３０ａ〜３０ｃと表し、ビデ用揺動コイル群ＮＨ１−３１の各コイルをＮＨ１−３１ａ〜３１ｃと表す。

上記のお尻用・ビデ用の揺動コイル群における各電磁コイルを励磁するため、電磁コイル設置基板ＮＨ１−２８には、プリント印刷手法により、図２０に示す回路が形成されている。即ち、この基板は、所定の直流電圧の電源ラインとアースラインの他、お尻用揺動コイル群ＮＨ１−３０のコイルＮＨ１−３０ａ〜３０ｃ並びにビデ用可動体ＮＨ１−１１のコイルＮＨ１−３１ａ〜３１ｃに接続され各コイルへの通電を入り切りするトランジスタＴｒ１〜Ｔｒ６と、抵抗Ｒ１〜Ｒ６を介してベース電圧を調整し各トランジスタＴｒ１〜Ｔｒ６をＯＮ・ＯＦＦするためのベースラインと、各コイルへの通電の様子を電圧調整用の抵抗Ｒ７、Ｒ８を介して出力するための出力ラインＮＨ１−３６、３７とを有する。この抵抗Ｒ７、Ｒ８と出力ラインＮＨ１−３６、３７で図５に示す揺動検知回路ＮＨ１−３９、４０が構成され、後述のようにコイル通電異常発生の様子、即ち可動体の揺動異常発生の様子が検知される。この回路における各ラインは、基板端部のターミナルにてフラットケーブルＮＨ１−４２に接続され、当該ケーブルを経て電子制御装置ＣＴ１−１に接続されている。この場合、トランジスタＴｒ１〜６や抵抗Ｒ１〜Ｒ８を電子制御装置における図示しないコイル制御回路として設置することもでき、こうすれば、磁力生成体延いてはノズルヘッドを小型化できる。また、抵抗Ｒ７、Ｒ８と出力ラインＮＨ１−３６、３７で構成される揺動検知回路ＮＨ１−３９、４０は、コイル通電異常発生を検知するものであることから、次のように構成することもできる。即ち、上記両抵抗に替わりホールＩＣや光センサ等の位置検出デバイスを用い、電磁コイルによる駆動対象物（磁気作用部等）の動きをこの位置検出デバイスで検知するようにする。そして、この位置検出デバイスの検知結果により、コイル通電異常発生を検知するよう揺動検知回路を構成する。なお、ノズルヘッドベースＮＨ１−２への基板設置に際しては、図１３に示すように、ゴムブッシュＮＨ１−４３を介在させてフラットケーブルが組み付けられる。

また、電磁コイル設置基板ＮＨ１−２８は、可動体揺動のための上記揺動コイル群の他、可動体への洗浄水給水を図るため以下の構成を有する。即ち、この基板は、図１３や図１８に示すように、お尻用揺動コイル群ＮＨ１−３０に囲まれた第１突出部ＮＨ１−４４と、ビデ用揺動コイル群ＮＨ１−３１に囲まれた第２突出部ＮＨ１−４５を有する。第１突出部は、ノズルヘッドベースＮＨ１−２の第１ベース流路ＮＨ１−３に連通するヘッド内お尻吐水孔ＮＨ１−４６と、第２ベース流路ＮＨ１−４に連通するヘッド内やわらか吐水孔ＮＨ１−４７とを有する。第２突出部は、第３ベース流路ＮＨ１−５に連通するヘッド内ビデ吐水孔ＮＨ１−４８を有する。これら各ヘッド内吐水孔は、お尻用可動体ＮＨ１−９やビデ用可動体ＮＨ１−１１のお尻吐水孔ＮＨ１−７、やわらか吐水孔ＮＨ１−８、ビデ吐水孔ＮＨ１−１０に既述した空隙を空けて対向する。よって、切換弁ＷＰ１−１５（図４参照）が洗浄水の給水先をその下流のお尻洗浄用流路、やわらか洗浄用流路、ビデ洗浄用流路のいずれかに切り換えると、洗浄水は、その切り換えられた流路を経てノズル流路・ベース流路並びに上記の各ヘッド内吐水孔を通過して可動体に給水され、各可動体の上記各吐水孔から吐水される。しかも、このような各吐水孔からの洗浄水吐水の際には、ベース流路と吐水孔間の空隙通過時の既述した空気巻き込みが起き、洗浄水は空気を泡沫状に混入した状態で吐水される。

この場合、ヘッド内の上記各吐水孔ＮＨ１−４６〜４８は、対応する各可動体のお尻吐水孔、やわらか吐水孔もしくはビデ吐水孔の孔径以下（本実施例では対向する吐水孔と同径）とされている。よって、局部に吐水される洗浄水の吐水速度は、各可動体のお尻吐水孔、やわらか吐水孔もしくはビデ吐水孔の孔径で定まる。そして、各可動体のこれら各吐水孔は、お尻吐水孔が最もその孔径が小さく、ビデ吐水孔とやわらか吐水孔はこのお尻吐水孔より孔径が大きくされている。このため、遠隔操作装置ＲＣ１−１（図２参照）の水勢強弱設定ボタンＳＷｈｕ、ＳＷｈｄにより水勢が一定に設定されている状況下であれば、各可動体の各吐水孔からの洗浄水の吐水速度は、お尻吐水孔が最も速く、ビデ吐水孔とやわらか吐水孔ではお尻吐水孔より遅くなる。このように吐水速度が遅いやわらか吐水孔を用いるやわらか洗浄は、お尻吐水孔での通常のお尻洗浄の場合より、吐水から受ける洗浄感を吐水速度が遅い分だけ少なくとも柔らかなものとする。なお、ビデ吐水孔ややわらか吐水孔は、本第１実施例のように単一の孔に限られるものではなく、小径の細孔を複数配置してその全体でビデ吐水孔ややわらか吐水孔と形成することもできる。この場合には、複数の細孔面積の総和である吐水孔総面積をお尻吐水孔面積以上とすれば、細孔全体として吐水は、お尻洗浄の場合より柔らかくなる。

次に、ビデ用可動体ＮＨ１−１１を例に採り、この可動体のビデ吐水孔ＮＨ１−１０からの洗浄水吐水の様子について説明する。図２１は、ビデ用可動体ＮＨ１−１１を駆動させる際の電磁コイルＮＨ１−３３ａ〜３３ｃの励磁の様子を説明する説明図、図２２は、ビデ吐水孔ＮＨ１−１０からの洗浄水吐水の様子を模式的に説明する説明図、図２３は、この洗浄水吐水の瞬間的な様子を模式的に説明する説明図、図２４は、電磁コイルＮＨ１−３３ａ〜３３ｃの励磁の様子を説明するための他の説明図である。

電子制御装置ＣＴ１−１は、パルス状に信号（トランジスタＯＮ信号）を生成して、このパルス信号を、電磁コイルＮＨ１−３３ａ〜３３ｃに対応する各トランジスタＴｒ４〜６のベースに順次印加する。よって、電磁コイルＮＨ１−３３ａ〜３３ｃは、パルス信号に従った各トランジスタのＯＮ・ＯＦＦにより、図２１に示すように、繰り返し順次励磁する。このような各電磁コイルの繰り返し励磁により、ビデ用可動体ＮＨ１−１１の磁気作用部ＮＨ１−１８ａ〜１８ｃは、コイル励磁による吸引力（以下、この力をコイル作用力という）を繰り返し順次受ける。よって、この可動体は、図２２に示すように、コイル作用力を受けた磁気作用部に応じて傾斜し、その傾斜箇所を電磁コイルの励磁順方向に沿って推移させる。この結果、ビデ吐水孔ＮＨ１−１０は、この可動体と共に吐水孔振れ角α（図１６参照）で傾斜し、この傾斜姿勢のまま、可動体の傾斜位置推移に伴って揺動回転する。これにより、上記したように洗浄水が可動体まで給水されると、この洗浄水は、次のような吐水形態を採って吐水される。

洗浄水の吐水孔が吐水孔振れ角αで傾斜していることから、吐水孔からの吐水を水柱として模式的に表すと、図２２に示すように、この模式吐水水柱ＲＴは、上記の吐水孔振れ角αで傾斜する。しかも、吐水孔は揺動回転しているので、模式吐水水柱ＲＴは、吐水孔振れ角αのまま吐水孔の揺動回転に併せて移動し、次々にこの模式吐水柱が連続する。よって、洗浄水は、模式吐水水柱ＲＴが並んだ図示するような円錐形状のような吐水形態（以下、この吐水形態を擬似円錐状吐水形態という）を採って吐水される。また、この様子を瞬間的に捕らえると、図２３に示すように、それぞれの吐水孔振れ角αで規定された円錐の側壁において螺旋状に洗浄水が吐水していると擬態できる。このような形態で洗浄水吐水が行われている際、可動体は、フランジ周縁で固定されているので、自転することはない。つまり、可動体の自転を起こすことなく、吐水孔のみが吐水孔振れ角αで揺動回転していることになる。なお、可動体は、揺動回転を起こさず傾斜位置推移を起こすに過ぎないが、吐水孔の揺動回転に付随した可動体の傾斜位置推移動作を、説明の便宜上、可動体の擬似揺動回転という。

このように吐水孔振れ角αで揺動回転するお尻吐水孔ＮＨ１−７は、その下方のヘッド内お尻吐水孔ＮＨ１−４６に対して傾斜する。そして、このような位置関係でヘッド内お尻吐水孔から可動体のお尻吐水孔ＮＨ１−７に洗浄水が給水される。この場合、可動体のお尻吐水孔下端は大径の吐水案内孔ＮＨ１−２４とされているので、ヘッド内お尻吐水孔からの洗浄水は、吐水案内孔に案内されて支障なく可動体のお尻吐水孔から吐水される。

第１実施例では、各電磁コイルを励磁するに当たり、上記のパルス信号の発生周期（パルス周期）をＴ、パルス信号のＯＮ時間をｔと表したときのデューティ比（ｔ／Ｔ）を可変制御する。このデューティ比制御により、可動体の磁気作用部ＮＨ１−１８ａ〜１８ｃの受けるコイル作用力、即ち吐水孔振れ角αを以下のように増減制御できる。例えば、図２１（ａ）に示すように、各電磁コイルの励磁周期Ｔｃ（＝Ｔｃ１）とパルス周期Ｔ（＝Ｔ１）を一定としパルスＯＮ時間ｔをｔ１（デューティ比：ｔ１／Ｔ１）とした制御期間Ａと、パルスＯＮ時間ｔをｔ２（ｔ２＜ｔ１，デューティ比：ｔ２／Ｔ１）とした制御期間Ｂとでは、デューティ比の大小に応じて、吐水孔振れ角αを制御期間Ａで大きく制御期間Ｂでは小さくできる。このため、上記した擬似円錐状吐水形態で吐水された洗浄水が吐水する範囲、換言すれば洗浄面積を、図２２に示すように、制御期間Ａでは大きな吐水孔振れ角αに基づいて広範な洗浄面積ＡＳとできる。制御期間Ｂでは、これより狭い洗浄面積ＢＳとできる。つまり、第１実施例では、デューティ比の可変制御を通して、吐水孔振れ角α即ち洗浄面積を広狭制御できる。この場合、電磁コイルの励磁順を、電磁コイルＮＨ１−３３ａ→３３ｂ→３３ｃ→３３ａ・・・の順序から、電磁コイルＮＨ１−３３ａ→３３ｃ→３３ｂ→３３ａ・・・の順序に反転させることもできる。

第１実施例では、各電磁コイルの励磁周期Ｔｃを可変制御する。例えば、図２１（ｂ）に示すように、制御期間Ｃ、Ｄにおいてデューティ比を一定とし（（ｔ３／Ｔ２）＝（ｔ４／Ｔ３），ｔ３≠ｔ４，Ｔ２≠Ｔ３）、各制御期間で各電磁コイルの励磁周期Ｔｃを変更することもできる（Ｔｃ１＞Ｔｃ２）。この励磁周期Ｔｃは、図２２に示す模式的な個々の模式吐水水柱ＲＴが被洗浄部（人体局部）に当たって人体に刺激を与える間隔を定める。

一般に、人体表皮の同一箇所に感知可能な刺激（本実施例では模式吐水水柱ＲＴによる刺激）を繰り返し加えた場合、この繰り返し間隔が長く繰り返し周波数が低いと、人は、この繰り返された刺激を振動刺激としてその都度感知する。その一方、繰り返し間隔が短く繰り返し周波数が高いと、人は、この意図的に繰り返された刺激を振動刺激とは感知できず、連続的な刺激として感知する。つまり、人体表皮への繰り返し刺激に対しては、振動刺激としては感知できない不感帯周波数がある。ここで、局部及びその周辺の洗浄において、刺激を受ける人体表皮から見て洗浄水の流量または流速の大小を繰り返し吐水（以下、繰り返し吐水という）したと仮定すると、吐水からの刺激の大小が繰り返されることになるので、この繰り返し吐水は洗浄箇所表皮に振動刺激として現れる。これが約５Ｈｚ以上の繰り返し周波数であると、この意図的な繰り返し吐水に基づく振動に知覚が追従できなくなる。このため、意図的な繰り返し吐水であるという吐水態様を意識できなくなり、無用な振動による不快感が減少される。繰り返し吐水の繰り返し周波数が高まるほど、意図的な繰り返し吐水に基づく振動に対しての知覚の追従が困難となるので、この繰り返し周波数が約１０Ｈｚ以上の繰り返し周波数になると、通常の知覚を有する大多数の人では意図的な繰り返し吐水に基づく振動に対して知覚がほとんど追従できなくなる。よって、意図的な繰り返し吐水であるという吐水態様の認識が困難となり、無用な振動による不快感もより減少される。また、約１５Ｈｚ以上の繰り返し周波数では、人体表皮の平均的な部位であっても振動認識周波数を超えるので、通常の知覚を有する大多数の人において不快感が感じられなくなる。さらに、約２０Ｈｚ以上の繰り返し周波数では、人体表皮の敏感な部位であっても振動認識周波数を超えるので、通常の知覚を有する大多数の人において連続的で良好な洗浄感を確実に感じることができる。その上、約３０Ｈｚ以上の繰り返し周波数では、人体表皮の神経が特に集中した敏感な部位であっても、振動認識周波数を超えるので、通常の知覚を有する大多数の人においてソフトな洗浄感を得ることができる。そして、繰り返し周波数を商用周波数と一致させる（商用周波数５０Ｈｚ地域では５０Ｈｚ、商用周波数６０Ｈｚ地域では６０Ｈｚ）と、駆動が容易となるという効果も加わる。このように周波数を高くするほど、連続的な洗浄感をより確実に感じながら洗浄を行うことができ、よりソフトな洗浄感を求める使用者に十分対応させることができる。

この不感帯周波数の観点から、第１実施例では、各電磁コイルの励磁周期Ｔｃをその励磁周波数ｆ（＝１／Ｔｃ）が約５Ｈｚ以上の範囲となるよう可変制御することとし、模式吐水水柱ＲＴによる人体局部への刺激が連続的な刺激として感知されるようにした。つまり、人体局部のある点（例えば、図２２に示す洗浄ポイントＳＰ１）に、洗浄水を励磁周期Ｔｃで間欠的にしか吐水させないが、使用者には、この洗浄ポイントＳＰ１に連続的な洗浄水の吐水を受けていると感じさせる。このことがそれぞれの洗浄水吐水箇所で起きるので、使用者には、上記した洗浄面積に亘って一律で連続的な洗浄水の吐水を受けているような洗浄感を与えることができる。このことは、次のようなことを意味する。

ある範囲の洗浄面積に亘って上記の連続的な洗浄感を与えるためには、洗浄水吐水孔が固定状態の既存の洗浄ノズルでは、吐水された洗浄水自体の円錐状の広がりを必要とする。よって、相当量の洗浄水を常時給水する必要があり、既存洗浄ノズルでは、約１０００ｃｃ／ｍｉｎ程度の洗浄水流量で洗浄水が吐水されていた。このような吐水では、総ての洗浄水吐水箇所に洗浄水が常時吐水されていることになる。しかしながら、第１実施例の局部洗浄装置では、その洗浄ノズルＷＮ１−１からの上記した擬似円錐状吐水形態により、既存のものと同様に連続的な洗浄感を与えるに際し、実際には、上記励磁周波数ｆでの間欠的な吐水が行われているに過ぎない。つまり、洗浄水吐水箇所のそれぞれにおいて、第１実施例では洗浄水の吐水を間欠的にして間引いているので、洗浄水水量を低減することができる。よって、第１実施例では、洗浄水流量を既述したように定流量弁により約５００ｃｃ／ｍｉｎ程度に定め、最大この流量の洗浄水を吐水するだけでよい。

既述したように間欠的な吐水として感知されないようにするためには、励磁周波数を約５Ｈｚ以上とすればよいが、第１実施例では、励磁周波数を約１０〜６０Ｈｚとして、連続的な洗浄水の吐水感をより確実に得られるようにした。

励磁周波数ｆを上記の不感帯周波数に設定しても、洗浄水の連続的な吐水から受ける吐水連続感は、励磁周波数ｆが低いほど薄れがちであるといえる。よって、励磁周波数ｆを上記範囲内で低くして使用者の洗浄感に良好な刺激感を持たせたり、励磁周波数ｆを高くして洗浄感にソフト或いはマイルドな刺激感を与えることができる。

また、上記したように洗浄面積に亘る一律な洗浄水の吐水連続感を与えた状況下で、上記のように洗浄面積を広狭制御できる。よって、洗浄面積を狭くして使用者に洗浄水の吐水を狭い洗浄面積で受けさせて洗浄水の吐水箇所集中を図った場合と洗浄面積を広くして洗浄水の吐水箇所拡散を図った場合とでは、洗浄水の吐水を受けた使用者に異なる洗浄感を与えることができる。例えば、肛門中央よりその周囲の方が痛点分布が密であるため、お尻洗浄では、吐水箇所集中を図った場合にはソフトな洗浄感を与え、吐水箇所拡散を図った場合にはハードな洗浄感を与えることができる。なお、このように洗浄面積を広狭制御すれば洗浄感を変えることができるが、デューティ比の可変制御を通して洗浄面積を意図的に可変制御する場合については、後述する。

図２１では、デューティ比と励磁周波数を、一方を固定して他方を制御する場合について説明した。しかし、本実施例では、図２４に示すように、デューティ比に応じて励磁周波数ｆを増減制御することもできる。図２４（ａ）では、デューティ比を大きくして洗浄面積を広くしつつ、励磁周波数ｆを高めることによりソフト或いはマイルドな刺激感を付与することができる。つまり、広い洗浄面積をより連続的な洗浄感で洗浄したいときに良い。また逆に、デューティ比を小さくして洗浄面積を狭くしつつ、励磁周波数ｆを低くして吐水連続感を薄れさせて良好な刺激感を付与することもできる。

その一方、図２４（ｂ）では、デューティ比を大きくして洗浄面積を広くしつつ、励磁周波数ｆを低くしている。よって、お尻洗浄の場合には、広い洗浄面積によるハードな洗浄感を与えつつ励磁周波数ｆを低くして吐水連続感を薄れさせるので、ハードな洗浄感に良好な刺激感を付与するようなことができる。また、狭い洗浄面積によるソフトな洗浄感を与えつつ高い励磁周波数ｆにより間欠的な刺激感を与えないようにするので、ソフトな洗浄感をより連続的なものとできる。つまり、図２４のように制御することで、洗浄感のより一層の多様化を図ることができる。なお、図２４に示すように励磁周波数ｆを直線的に増減するのではなく、段階的に増減することもできる。

また、図２１（ｂ）に示したようにデューティ比を一定のまま各電磁コイルの励磁周期Ｔｃを変更しても、次のようにして吐水孔振れ角α（洗浄面積）を種々設定できる。励磁周期Ｔｃを短くすれば、上記のコイル作用力が磁気作用部に作用する時間が短くなるので、吐水孔振れ角αは小さくなり洗浄面積は狭くなる。また、励磁周期Ｔｃを長くすれば、コイル作用力の作用時間も長くなるので、吐水孔振れ角αは大きくなり洗浄面積は広くなる。そして、励磁周期Ｔｃが小さいまま固定された状況下でも、デューティ比Ｄｔを大きくすれば、既述したとおり吐水孔振れ角αを大きくして洗浄面積を広くできる。同様に、励磁周期Ｔｃが大きいまま固定された状況下では、デューティ比Ｄｔを小さくして吐水孔振れ角α並びに洗浄面積の狭小化を図ることができる。つまり、上記した不感帯周波数になるよう励磁周期Ｔｃがとの値で固定されても、デューティ比の可変制御により洗浄面積を広狭設定できる。

また、第１実施例では、洗浄水吐水の継続状況下で、総ての電磁コイルを非励磁としたまま或いは総ての電磁コイルを同時に励磁させたままとするようなコイル励磁制御を行うこともできる。この場合、総ての電磁コイルを非励磁とした場合は、洗浄水は、フリー状態の可動体の吐水孔から、空気混入を伴って一点に集中して吐水される。その一方、総ての電磁コイルを同時に励磁させた場合は、洗浄水は、磁力生成体に吸着された可動体の吐水孔から、空気混入を伴わず一点に集中して吐水される。このような一点集中吐水を起こすコイル励磁制御は、継続的に行われるのではなく、上記したデューティ比制御を通した洗浄面積の広狭制御に組み合わされて行われる。つまり、ある洗浄面積となるデューティ比で各電磁コイルを順次励磁制御している際に、全電磁コイルの同時励磁を間欠的に組み込み実行しつつ、この全電磁コイルの同時励磁の実行周期を上記の励磁周波数ｆを満たす周期とする。こうすれば、洗浄面積で定まる人体局部範囲とその範囲内の一点を、洗浄水の吐水連続感を使用者に抱かせたまま洗浄できる。

Ｆ１／洗浄・乾燥動作ルーチン；
次に、上記構成を有する第１実施例の局部洗浄装置が実行する洗浄・乾燥動作について説明する。図２５は、電子制御装置ＣＴ１−１により実行されるお尻やビデの洗浄と乾燥動作ルーチンを示すフローチャート、図２６は、洗浄・乾燥動作ルーチンにおけるノズル前洗浄処理の詳細を表すノズル前洗浄ルーチンのフローチャートである。図２７は、局部洗浄の際の洗浄水吐水に先立つノズル前洗浄における洗浄水吐水の様子を模式的に表した説明図、図２８は、洗浄・乾燥動作ルーチンにおける本洗浄動作処理の詳細を表す本洗浄ルーチンのフローチャート、図２９は、この本洗浄ルーチンの処理内容と動作停止ルーチンの処理内容を説明するための説明図である。

図２５の洗浄・乾燥動作ルーチンは、洗浄ボタン（お尻、やわらか、ビデの各ボタン）或いは乾燥ボタンのいずれかが操作されると割込実行されるものである。そして、この洗浄・乾燥動作ルーチンでは、図２５のフローチャートに示すように、まず、着座センサＳＳ１０をスキャンして便座への使用者の着座の有無を判断する（ステップＳ１００）。着座状態にないと判断すれば、本局部洗浄装置は未使用であるから、それ以降の処理は不要であるとして何の処理を行うことなく本ルーチンを終了する。着座状態であれば、本局部洗浄装置の使用中であることから、洗浄動作或いは乾燥動作を実施すべく、洗浄ボタン（お尻、やわらか、ビデの各ボタン）か乾燥ボタンのいずれのボタンが本ルーチン実行時に操作されたかを判断する（ステップＳ１０５）。なお、以下の説明に当たっては、遠隔操作装置ＲＣ１−１の各ボタンが操作されたことを想定して説明する。

上記のステップＳ１０５で乾燥ボタンＳＷｚが操作されたと判断すれば、バックアップＲＡＭの所定アドレスに記憶された乾燥動作禁止フラグＦＫｓｔｏｐの状態を読み込みＦＫｓｔｏｐ＝１であるか否かを判断する（ステップＳ１１０）。この乾燥動作禁止フラグＦＫｓｔｏｐは、局部乾燥用の乾燥ヒータやファンモータ等の乾燥部ＫＫ１−１（図５参照）に通電異常が起きたことを示す。また、ＦＳｓｔｏｐ＝１であればコイル異常（乾燥は関係しない）につき洗浄等を実行すべきでないことを表す。そして、この乾燥動作禁止フラグＦＫｓｔｏｐは、図示しない乾燥不良検知ルーチンと復旧ルーチンにて値１或いは値０「ゼロ」がセットされる。よって、ステップＳ１１０で肯定判断すれば、何の処理を行うことなく本ルーチンを終了する。そして、ステップＳ１１０で否定判断すれば、後述するような洗浄動作の禁止状態に拘わらず上記の乾燥部ＫＫ１−１への通電制御（ステップＳ１１５）を実行し、本ルーチンを終了する。このステップＳ１１５により、局部に向けて温風が吹き付けられ、局部乾燥が行われる。この際の乾燥部への通電は、温風温度が補助操作部ＫＳ１−９（図３参照）の乾燥ツマミで設定された乾燥温度となるように制御される。なお、この乾燥部への通電の停止は、後述の動作停止ルーチンにて行われる。

一方、ステップＳ１０５でお尻、やわらか、ビデのいずれかの洗浄ボタンが操作されたと判断した場合は、バックアップＲＡＭの所定アドレスに記憶された洗浄動作禁止フラグＦＳｓｔｏｐの状態を読み込みＦＳｓｔｏｐ＝１であるか否かを判断する（ステップＳ１２０）。この洗浄動作禁止フラグＦＳｓｔｏｐは、お尻用・ビデ用の各揺動コイル群における電磁コイルの各コイルＮＨ１−３０ａ〜３０ｃ、３１ａ〜３１ｃ（図１９、図２０参照）に断線や接点不良等のコイル通電異常が起きたことを示す。つまり、ＦＳｓｔｏｐ＝１であることは、コイル異常につき洗浄動作を実行すべきではなく、洗浄動作を禁止状態とすべきことを意味する。そして、この洗浄動作禁止フラグＦＳｓｔｏｐは、後述の揺動検知ルーチンにて値１がセットされ異常復旧ルーチンにて値０「ゼロ」がセットされる。よって、ステップＳ１２０で肯定判断すれば、何の処理を行うことなく本ルーチンを終了する。

ステップＳ１２０で否定判断した場合は、局部洗浄のための洗浄水吐水に先立って、ノズルヘッドＮＨ１−１（図５、図６、図１２参照）を洗浄するノズル前洗浄を実行する（ステップＳ１３０）。

図２６のフローチャートに示すように、ノズル前洗浄ルーチンでは、図４に示す入水側弁ユニットＷＰ１−１の電磁弁ＷＰ１−１０を開弁制御する（ステップＳ１３１）。次いで、切換弁ＷＰ１−１５を機能水用流路に切換制御すると共に、流調ポンプＷＰ１−１４の機能水吐水用流量への駆動制御を行う（ステップＳ１３２）。これにより、図８に示す待機位置ＨＰにあるノズルヘッドに向けて機能水（遊離塩素溶液）が吐水され、当該ヘッドが殺菌洗浄される。なお、既述したように機能水ユニットでは上記の各タイミングでタンク内にて機能水が生成済みであるので、この生成済みの機能水がタンク貯留量（約５０ｃｃ）だけ吐水される。

次に、機能水吐水を停止すべく、機能水用流路からお尻洗浄用流路への切換弁ＷＰ１−１５の切換制御と、流調ポンプＷＰ１−１４のノズル洗浄用流量への駆動制御とを行う（ステップＳ１３３）。これにより、ノズルヘッドが図８に示す待機位置ＨＰにある状態で、ノズルヘッドのお尻吐水孔ＮＨ１−７からチャンバＮＳ１−１４に向けて洗浄水が吐水される。この際、上記したコイル励磁を行わないことからお尻用可動体ＮＨ１−９は揺動回転を起こさずフリー状態である。よって、図２７（ａ）に示すように、ノズル前洗浄時には、洗浄水は一点に集中して吐水される。しかも、お尻吐水孔ＮＨ１−７は小径であることから、吐水速度は大きい。このため、チャンバでは勢いよく洗浄水が跳ね返って、この跳ね返り洗浄水でノズルヘッドが洗浄される。これにより、ノズルヘッド、詳しくはノズルヘッドの各吐水孔およびその周辺を好適に洗浄できる。しかも、ステップＳ１３２でノズルヘッドにかけられた機能水（遊離塩素溶液）を洗い流すこともできる。なお、機能水生成ユニットが通水路を塩素発生用電極で挟みこんだタイプものである場合は、ステップＳ１３２で機能水生成のための塩素発生用電極ＷＰ１−１７（図９参照）への通電制御を実行し、続くステップＳ１３３で塩素発生用電極への通電停止を実行すればよい。

このノズル前洗浄ルーチンにおけるステップＳ１３２、１３３の実行時に、お尻用可動体ＮＨ１−９、ビデ用可動体ＮＨ１−１１についての総ての電磁コイルを同時に継続励磁させることもできる。こうすれば、磁力生成体ＮＨ１−２６にお尻用可動体ＮＨ１−９およびビデ用可動体ＮＨ１−１１が吸着し、両可動体下端と磁力生成体ＮＨ１―２６との空隙が塞がれるため、機能水飛散による磁気駆動体ＮＨ１―１８、並びにコイル鉄心ＮＨ１―３５の腐食促進を抑制することができる。

また、上記のステップＳ１３３の実行時に、お尻用可動体ＮＨ１−９についての前方側の電磁コイルＮＨ１−３２ａのみを継続励磁させることもできる。こうすれば、お尻用可動体（お尻吐水孔）がビデ用可動体ＮＨ１−１１の側に傾いた状態で洗浄水を一点に集中して吐水できる。よって、お尻吐水孔からの吐水でありながらその前方のやわらか吐水孔やビデ吐水孔およびその周辺に確実に跳ね返り洗浄水をかけることができる。このため、各吐水孔とその周辺を確実に洗浄できる。しかも、ビデ洗浄という目的から使用者に清潔感を求められるビデ吐水孔とその周辺を、高い洗浄能力で洗浄でき、清潔感を高めることができる。

なお、上記のノズル前洗浄時の洗浄水吐水を、お尻用可動体ＮＨ１−９のやわらか吐水孔ＮＨ１−８やビデ用可動体ＮＨ１−１１のビデ吐水孔ＮＨ１−１０から行うようにしてもよい。この際、やわらか吐水孔ＮＨ１−８から洗浄水吐水を行う場合には、前方側の電磁コイルＮＨ１−３２ａの励磁と、後方側の二つの電磁コイルＮＨ１−３２ｂ、３２ｃの同時励磁とを繰り返し、お尻用可動体（やわらか吐水孔）を前後方向に揺動させながら洗浄水を吐水するようにしてもよい。こうすれば、やわらか吐水孔前後の各吐水孔および周辺に跳ね返り洗浄水を確実にかけてこれらを確実に洗浄できる。ビデ吐水孔ＮＨ１−１０でノズル前洗浄時の洗浄水吐水を行う場合は、お尻吐水孔と同様である。

更に、上記のステップＳ１３３の実行時に、お尻用可動体ＮＨ１−９を所定の吐水孔振れ角αで擬似揺動回転させることもできる。つまり、当該吐水孔振れ角αを定めるデューティ比Ｄｔと各電磁コイルの励磁周期Ｔｃとに基づいて、各電磁コイルを順次励磁するパルス信号を出力する（図２１参照）。これにより、お尻用可動体ＮＨ１−９は、吐水孔振れ角α並びに励磁周波数ｆ（＝１／Ｔｃ）で擬似揺動回転し、お尻吐水孔ＮＨ１−７もこれに伴い揺動回転する。よって、図２７（ｂ）に示すように、お尻吐水孔ＮＨ１−７からは、図２２および図２３で示した擬似円錐状吐水形態で洗浄水が吐水される。こうすれば、チャンバＮＳ１−１４における洗浄水の吐水範囲が広がるので、お尻吐水孔のみならずやわらか吐水孔、ビデ吐水孔とこれらの周辺に跳ね返り洗浄水を確実にかけて確実に洗浄できる。なお、この際の洗浄水吐水対象は、チャンバであり人体表皮ではないので、励磁周波数ｆ（＝１／Ｔｃ）を上記の不感帯周波数とする必要はなく、適宜定めればよい。

このステップＳ１３３の処理を所定時間、例えば約１秒間継続した後は、流調ポンプの停止制御（流量ゼロ）と電磁弁の閉弁制御を順次行い（ステップＳ１３４−１３５）、図２５のステップＳ１４０に移行する。

上記したノズル前洗浄に続いては、ノズル駆動モータＮＳ１−４を正転駆動制御して、洗浄ノズルＷＮ１−１を、洗浄ボタン（お尻、やわらか、ビデ）に応じた洗浄位置に本体部内の待機位置ＨＰから進出させる（ステップＳ１４０；図７参照）。なお、洗浄ノズルＷＮ１−１は、お尻とやわらかの洗浄ボタンであればお尻洗浄位置ＡＷＰに、ビデ洗浄ボタンではビデ洗浄位置ＶＷＰに進出する。

こうして洗浄位置への洗浄ノズルの進出が完了すると、洗浄ボタン（お尻、やわらか、ビデ）に応じた以下の本洗浄動作を実行し（ステップＳ１５０）、本ルーチンを終了する。なお、この本洗浄動作は、後述の動作停止ルーチンにて停止される。

この本洗浄動作では洗浄ボタンによって用いる可動体が異なるので、以下の説明に際しては、お尻洗浄を例にとって説明し、やわらか洗浄とビデ洗浄については、異なる点についての説明に止めることとする。

図２８のフローチャートに示すように、本洗浄ルーチンでは、お尻洗浄位置ＡＷＰまでのノズル進出の間に一旦停止した洗浄水給水を開始すべく、電磁弁ＷＰ１−１０を開弁制御する（ステップＳ１５１）。次いで、切換弁ＷＰ１−１５をお尻洗浄用流路に切換制御すると共に、流調ポンプＷＰ１−１４を予め定められた弱吐水流量（例えば流量レベル１）となるように駆動する（ステップＳ１５２）。これにより、ノズルヘッドのお尻吐水孔ＮＨ１−７からお尻に向けて上記の弱吐水流量の洗浄水が吐水される。なお、やわらか洗浄とビデ洗浄の場合のステップＳ１５２における処理は、切換弁による流路切換がやわらか洗浄用流路かビデ洗浄用流路となる他は、上記の通りである。

このように当初吐水する際の弱吐水流量は、次のように定めた。今、流調ポンプによる調整可能範囲（例えば５００ｃｃ／ｍｉｎ）において、流量を他段階、例えばレベル１〜７に各レベルに調整可能であるとする。上記のステップＳ１５２では、お尻用可動体ＮＨ１−９が未可動（未揺動回転）の状態での洗浄水吐水となる。この洗浄水吐水は、揺動回転による上記した励磁周波数ｆでの吐水が起きないことから一点集中の吐水形態となると共に、お尻吐水孔ＮＨ１−７が小径であることからその吐水速度も大きい。このため、ステップＳ１５２での弱吐水流量を、例えば上記範囲の最低レベル１の流量とすれば、速度が大きく一点集中の吐水であっても、使用者に特段の違和感や不快感を与えないで済む。なお、このステップＳ１５２による洗浄水吐水は、本洗浄開始当初の僅かな期間（約０．５秒以下）にしか過ぎない。このことからも、使用者に特段の違和感や不快感を与えないで済む。以下では当初吐水する弱吐水流量を流量レベル１とした場合を述べる。

上記のステップＳ１４２による弱吐水流量（流量レベル１）での洗浄水吐水（図２９参照）に続いては、お尻用可動体ＮＨ１−９を上記した擬似揺動回転するに際しての慣らし運転や揺動異常検知のために、このお尻用可動体ＮＨ１−９を初期駆動する（ステップＳ１４３）。なお、揺動異常検知については後に詳述する。

この初期駆動処理では、まず、吐水孔振れ角αを定めるデューティ比Ｄｔを、吐水孔振れ角αが可動体の慣らし運転や揺動異常検知が可能な初期値α０となるような初期デューティ比Ｄｔ０とする。この初期デューティ比Ｄｔ０は、バックアップＲＡＭに記憶されているので、その値を読み込むことで設定される。次いで、この初期デューティ比Ｄｔ０と各電磁コイルの励磁周期Ｔｃとに基づいて、各電磁コイルを順次励磁するパルス信号を出力する（図２１参照）。これにより、お尻用可動体ＮＨ１−９は、吐水孔振れ角α０並びに励磁周波数ｆ（＝１／Ｔｃ）で擬似揺動回転し、お尻吐水孔ＮＨ１−７もこれに伴い揺動回転する。よって、図２９に示すように、ステップＳ１４２で設定した弱吐水流量（流量レベル１）の洗浄水が、図２２および図２３で示した擬似円錐状吐水形態を採って吐水される。なお、この初期駆動にあっても、次のステップの本洗浄駆動前の僅かな期間（約０．５秒以下）にしか過ぎないので、水量不足（弱吐水流量：流量レベル１）に伴う特段の違和感や不快感を使用者に与えないで済む。

この初期駆動処理における吐水孔振れ角α０は、揺動異常検知等が可能であればよく、この際の吐水流量も弱吐水流量（流量レベル１）であることから、不用意に大きくする必要がない。よって、本実施例で調整可能な吐水孔振れ角αの範囲のうちの低い値（例えば、αｍａｘの約１０％の値や最低吐水孔振れ角αｍｉｎ）とした。また、励磁周波数ｆ（＝１／Ｔｃ）にあっては、上記の不感帯周波数の所定の値とした。以下では当初吐水する吐水振れ角α０をαｍｉｎとした場合を述べる。

次いで、上記の初期駆動処理に続いては、可動体の本洗浄駆動を行う（ステップＳ１５４）。この本洗浄駆動処理は、お尻用可動体ＮＨ１−９を介して実用範囲でお尻吐水孔ＮＨ１−７を揺動回転させて洗浄水吐水を行い、図２２および図２３に示した擬似円錐状吐水形態で実際に局部洗浄を行うためのものである。この本洗浄駆動処理では、まず、吐水孔振れ角αを定めるデューティ比Ｄｔを、調整可能な吐水孔振れ角αの所定値に対応した適正デューティ比Ｄｔ１に設定変更する。この適正デューティ比Ｄｔ１は、バックアップＲＡＭに記憶されているので、その値を読み込むことで設定される。この適正デューティ比Ｄｔ１は、本洗浄駆動処理による実際の局部洗浄に当たっての最初のデューティ比Ｄｔであることから、本実施例で調整可能な吐水孔振れ角αの範囲のうちの所定値（例えば中間値αｍｉｄ）に対応した値とした（図２９参照）。以下では本洗浄開始時の所定吐水振れ角αをαｍｉｄとした場合を述べる。

こうして読み込まれた適正デューティ比Ｄｔ１は、後述するスポット・ワイド洗浄ルーチンでの更新・設定に対処するため、ＲＡＭに書き込み記憶される。そして、スポット・ワイド洗浄ルーチンでデューティ比Ｄｔが更新・設定されなければ、適正デューティ比Ｄｔ１はＲＡＭに記憶されたままであり、スポット・ワイド洗浄ルーチンでデューティ比Ｄｔが新たに更新・設定されれば、ＲＡＭの適正デューティ比Ｄｔ１はこの新たな更新・設定値に書き換えられる。よって、洗浄継続中におけるデューティ比Ｄｔの更新・設定後は、書き換え後のデューティ比Ｄｔに基づいて可動体並びにお尻吐水孔が揺動回転される。

また、このように書き換え済みのデューティ比Ｄｔや、書き換えがなされずに記憶保持された適正デューティ比Ｄｔ１は、使用者の便座からの立上がりに伴う着座センサのＯＦＦ信号により、リセットされる。これにより、使用者が着座中に洗浄動作を繰り返した場合には、２回目以降のステップＳ１５４の本洗浄駆動処理において、更新・設定済みのデューティ比Ｄｔを上記の適正デューティ比Ｄｔ１に替えて用いることができる。よって、繰り返し使用の際は、デューティ比Ｄｔ（即ち、吐水孔振れ角α）が前回と同じであるため、繰り返し使用時の違和感をなくすことができる。また、使用者が便座から離れた後に再度実施された洗浄動作では、上記した通り適正デューティ比Ｄｔ１が用いられる。

このようにして適正デューティ比Ｄｔ１が設定されると、この適正デューティ比Ｄｔ１と各電磁コイルの励磁周期Ｔｃとに基づいて、各電磁コイルを順次励磁する新たなパルス信号を生成して出力する（図２１参照）。これにより、弱吐水流量（流量レベル１）の洗浄水給水下で、お尻用可動体ＮＨ１−９は、吐水孔振れ角αｍｉｄ並びに励磁周波数ｆ（＝１／Ｔｃ）で擬似揺動回転し、お尻吐水孔ＮＨ１−７もこれに伴い揺動回転する。

そして、このパルス信号出力に引き続き、流調ポンプＷＰ１−１４を図２９に示す調整可能範囲の適正吐水流量（例えば流量レベル４）となるように駆動する（ステップＳ１５５）。この適正吐水流量は、上記の適正デューティ比Ｄｔ１と同様に、設定・記憶される。以下では本洗浄開始時の適正吐水流量を流量レベル４とした場合を述べる。

こうしたパルス信号出力と適正吐水流量の給水により、洗浄開始時には、適正吐水流量（流量レベル４）の洗浄水が、適正な状態（吐水孔振れ角αｍｉｄ、励磁周波数ｆ（＝１／Ｔｃ））で揺動回転するお尻吐水孔ＮＨ１−７から吐水される。その後に使用者が水勢変更やスポット・ワイドボタンによる吐水孔振れ角α（洗浄面積）の変更を行えば、変更後の水勢の洗浄水が変更後の吐水孔振れ角αで揺動回転するお尻吐水孔ＮＨ１−７から吐水される。この際の洗浄水は、図２２および図２３で示した擬似円錐状吐水形態を採って人体局部に向けて吐水され、この吐水をもたらす励磁周波数ｆは上記の不感帯周波数に含まれる。従って、使用者には、洗浄水の連続的な洗浄感を与えて違和感や不快感を与えることがないという従来にない優れた効果を奏することができる。また、既述したように、洗浄水を励磁周期Ｔｃで揺動吐水させることで、節水の実効性を高めることができる。

更に、節水の実効性向上により洗浄水の使用流量を低減でき、場合によっては従来の半分程度の流量にできる。よって、熱交換ユニットＴＨ１−１のタンク容量の低減を図ることができる。加えて、小流量並びに小容量のタンク内でのヒータによる洗浄水温水化を図ればよいことから、ヒータＴＨ１−２の省力化や小型化をより一層推進することができる。

また、洗浄駆動処理においてお尻用可動体ＮＨ１−９を擬似揺動回転させるに当たり、その直前の初期駆動処理で予め弱吐水流量（流量レベル１）で洗浄水を給水するようにした。よって、可動体の擬似揺動回転は、弱吐水流量（流量レベル１）の給水洗浄水の圧力を受けた状態で開始される。このため、無負荷状態での可動体の擬似揺動回転を招かないので、不用意な力を、ゴムやエラストマー等の弾性材のフランジ部ＮＨ１−２０にかけることがない。この結果、フランジ部の不用意な損傷を回避できると共に、可動体を当初から適正に擬似揺動回転させることができ、好ましい。

また、図２９に示すように、吐水孔振れ角αが初期値α０から中間値αｍｉｄに漸増するようデューティ比Ｄｔを初期設定値Ｄｔ０から適正値Ｄｔ１に変更設定すると共に、吐水流量が初期値（流量レベル１）から適正吐水流量（流量レベル４）に漸増するよう吐水流量を変更設定する。よって、以下の利点がある。まず第１に、洗浄水吐水を最初に受ける洗浄開始当初において、意図しない多流量の洗浄水を意図しない広範な洗浄面積で受けることがないので、違和感を回避できる。また、大きな吐水孔振れ角αで可動体を急激に擬似揺動回転させることがないので、可動体の支持部（フランジ繋ぎ部）やコイルに過不可をかけることがなく、ステップＳ１５３の可動体初期駆動と相俟って、慣らし運転による不用意な損傷回避を確実に図ることができる。

やわらか洗浄の場合のステップＳ１５３〜１５４における処理はお尻洗浄と変わるものではない。ビデ洗浄の場合は可動体がビデ用可動体ＮＨ１−１１となる他は、上記の通りの機器制御を行うが、ステップＳ１５４における適正デューティ比Ｄｔ１をお尻洗浄と異なるものとできる。つまり、ビデ洗浄の際は、その適正デューティ比Ｄｔ１を、お尻洗浄の際の吐水孔振れ角α（＝αｍｉｄ）を定める適正デューティ比Ｄｔ１より大きくし、ビデ洗浄の際の吐水孔振れ角αをお尻洗浄の吐水孔振れ角α（＝αｍｉｄ）より大きくした。これにより、お尻洗浄時とビデ洗浄時で、ステップＳ１５４−１５５による洗浄水吐水の洗浄面積に広狭の差を持たせることができる。具体的には、お尻洗浄時の洗浄面積を図２２に示す洗浄面積ＢＳとし、ビデ洗浄時の洗浄面積をこれより広い洗浄面積ＡＳとできる。これにより、お尻・ビデのそれぞれの洗浄時において、上記した節水の実効性を共に確保しつつ、ビデ洗浄時には、広い洗浄面積への洗浄水吐水により、たっぷりな洗浄水で局部洗浄を受ける充足感を与えることができる。

なお、適正デューティ比Ｄｔ１や適正吐水流量（流量レベル４）での上記したステップＳ１５４−１５５の実行後は、水勢強弱設定ボタンＳＷｈｕ、ＳＷｈｄやスポット・ワイドの各設定ボタン（図２参照）の操作に応じて、吐水流量（流量レベル）や洗浄面積（吐水孔振れ角α、デューティ比Ｄｔ）が種々変更される。そして、この変更された流量・洗浄面積（吐水孔振れ角α）で、上記の擬似円錐状吐水形態の洗浄水吐水が実施される（図２９参照）。なお、こうして設定された吐水流量（流量レベル）やデューティ比Ｄｔは、既述したように、ＲＡＭに記憶され着座センサのＯＦＦ信号を経てリセットされる。

Ｇ１／動作停止ルーチン；
次に、第１実施例の局部洗浄装置が実行する動作停止ルーチンについて説明する。図３０は、この動作停止ルーチンを示すフローチャートである。

図３０のフローチャートに示す動作停止ルーチンは、上記した洗浄・乾燥動作ルーチンにより行われた洗浄動作や乾燥動作を停止させるためのものであることから、次のタイミングで割込実行される。第１の割込タイミングは、本局部洗浄装置の種々の動作を停止させる停止ボタンＳＷａの操作時である。第２の割込タイミングは、使用者が便座から離れればその後の洗浄・乾燥の動作は不要であるので、使用者が便座から離れたことと等価な着座センサオンからオフへの切り替わり時である。第３の割込タイミングは、洗浄動作から乾燥動作への或いは乾燥動作から洗浄動作への動作切り替わり時であり、洗浄動作中の乾燥ボタン操作時と、乾燥動作中の洗浄ボタン操作時である。これらの割込タイミングで動作停止ルーチンが実行されると、図３０に示すように、まず、今の装置動作状況が洗浄動作中であるか乾燥動作中であるかを判断する（ステップＳ１６０）。ここで、乾燥動作中であると判断した場合は、乾燥部への通電を停止して（ステップＳ１６２）、本ルーチンを終了する。なお、装置動作状況は、本ルーチン開始前の洗浄或いは乾燥ボタンの操作状況に基づいて判断される。

その一方、洗浄動作中であると判断した場合は、流調ポンプＷＰ１−１４を流量ゼロに駆動制御し（ステップＳ１６４）、その後、電磁弁ＷＰ１−１０を閉弁制御する（ステップＳ１６５）。これにより、洗浄水の給水が絶たれるので、それまで行われていた洗浄水吐水が停止する。なお、この電磁弁閉弁と共に、切換弁ＷＰ１−１５を原点位置（例えば、お尻用流路切換位置）に復帰制御することもできる。

上記の洗浄水吐水の停止に続いては、洗浄水吐水を擬似円錐状吐水形態（図２２、図２３参照）とするためのパルス信号（図２１参照）の出力を停止し（ステップＳ１６６）、可動体を停止させる。このように、吐水の停止後に揺動回転を停止するので、洗浄動作停止時において、可動体が停止した状態で人体局部に向けて洗浄水を吐水することがない。よって、図２７（ａ）に示したような一点集中の洗浄水を局部に当てないので、違和感や不快感を与えることがない。

洗浄水吐水が停止すると可動体は停止するが、それ以外にもタイマーに基づいて可動体を停止するなどの制御を加えてもよい。洗浄に同期した、あるいは洗浄とは独立したタイマーを設けることで、可動体や各コイルの安全動作など行うこともできる。

こうした吐水停止・揺動停止に続いては、ノズル駆動モータＮＳ１−４を逆転駆動制御して、洗浄ノズルＷＮ１−１を、各洗浄位置から本体部内の待機位置ＨＰに後退復帰させる（ステップＳ１６８；図７参照）。待機位置ＨＰへのノズル復帰後は、それまで局部洗浄に用いられていた各吐水孔とその周辺、延いてはノズルヘッドを洗浄すべく、ノズル後洗浄を実行する（ステップＳ１６９）。このノズル後洗浄は、既述したノズル前洗浄と同じ処理、即ち、機能水による洗浄、吐水孔から吐水した洗浄水の跳ね返り水での洗浄を行う。なお、ノズル前洗浄とノズル後洗浄を、その処理内容において異なるようにすることもできる。例えば、ノズル前洗浄では、これから局部洗浄を行うので、局部洗浄直前においてノズルヘッドを機能水吐水により殺菌洗浄して、使用者にノズルヘッドの衛生感・清浄感を与えるようにし、ノズル後洗浄では、機能水吐水を省略してもよい。ノズル前洗浄とノズル後洗浄をこの逆としてもよい。ノズルヘッドへの菌付着直後に殺菌洗浄すれば殺菌効果が高まるので、菌付着が起き得る洗浄動作後のノズル後洗浄では機能水吐水を行い、ノズル前洗浄ではこの機能水吐水を省略することもできる。また、この両洗浄時において、図２７（ａ）に示す一点集中吐水と図２７（ｂ）に示す円錐状吐水とを併用することもできる。ノズル前洗浄では一点集中吐水を行い、ノズル後洗浄では円錐状吐水を行うようにすることもできる。また、ノズル前洗浄とノズル後洗浄をこの逆とすることもできる。

Ｍ１／ノズル掃除ルーチン；
次に、第１実施例の局部洗浄装置が行うノズル掃除ルーチンについて説明する。図４４は、このノズル掃除ルーチンを示すフローチャートである。このノズル掃除ルーチンは、本体の袖部ＫＳ１−５（図３参照）におけるノズル洗浄ボタンＳＷｋの操作に伴い実行される。

図４４のフローチャートに示すノズル掃除ルーチンが実行されると、まず、ノズル前洗浄を実行する（ステップＳ４００）。つまり、既述したステップＳ１２０（図２５、図２６参照）と同様に、機能水によるノズルヘッド洗浄と、チャンバでの跳ね返り洗浄水によるノズルヘッド洗浄とを実施する。次いで、ブラシ等を用いた使用者によるノズルヘッド洗浄に備えるべく、洗浄ノズルＷＮ１−１をお尻洗浄位置ＡＷＰに進出させ（ステップＳ４０５）、使用者によるノズル掃除終了の信号入力があるまで待機する（ステップＳ４１０）。使用者は、この間にブラシ等で実際にノズルヘッドを掃除する。そして、掃除完了後に、その使用者は、ノズル洗浄ボタンＳＷｋを再度操作したり停止ボタンＳＷａを操作することで、上記のノズル掃除終了信号を入力する。或いは、ノズル洗浄ボタンＳＷｋの操作後からの経過時間をタイマで計時し、経過時間が５分程度となるとズル掃除終了の信号が入力されるようにしてもよい。なお、ステップＳ４０５で洗浄ノズルをお尻洗浄位置に進出させてからノズル掃除終了までの間において、お尻吐水孔から僅かに洗浄水を流すようにしてもよい。そして、この際の洗浄水吐水程度は、ノズルヘッドから便器ボール部に洗浄水が垂れ落ちる程度であれば十分である。

こうしてノズル洗浄が終了すると、洗浄ノズルを本体部の待機位置に後退復帰させた後（ステップＳ４１５）、既述したステップＳ１６０（図３０参照）と同様にノズル後洗浄を行い（ステップＳ４２０）、本ルーチンを終了する。

このノズル掃除ルーチンを実行することで、使用者によるブラシ等でのノズル掃除に加え、その前後に、機能水による２度のノズル掃除、チャンバでの跳ね返り洗浄水による２度のノズルヘッド掃除が行われる。よって、ノズルヘッド、延いては洗浄水の各吐水孔並びにその周囲を清潔にすることができる。

次に、上記した局部洗浄装置ＫＳ１−１の変形例について説明する。なお、同一の機能を果たす部材にあっては、上記の第１実施例で用いた部材名と符号をそのまま用い、その説明については省略することとする。

Ａ１−１／全体構成の変形；
遠隔操作装置ＲＣ１−１において、スポット設定ボタンとワイド設定ボタンをお尻洗浄とビデ洗浄のそれぞれについて設けたが、この両設定ボタンを一対としお尻洗浄とビデ洗浄で兼用するようにすることもできる。こうすれば、ボタン配設数が少なくなり、組み付け工数の低減や低コスト化といった製造上の利点がある。

Ｂ１−１／水路系構成の変形；
図４５は、変形例の水路系構成を表すブロック図である。

（１）水路系において、第２洗浄水導出管路ＷＰ１−１３を熱交換ユニットＴＨ１−１の上流側に配設したが、当該管路を熱交換ユニットの下流に配設することもできる。こうすれば、熱交換ユニットに流入する洗浄水の流量が安定するので、洗浄水の定温化のためのヒータ制御が容易となり好ましい。しかも、熱交換ユニットでの温水化を経た洗浄水を、第２洗浄水導出管路から脱臭用吸気口や局部乾燥用排気口に吐水して当該吸気口や排気口を洗浄することもできる。こうすれば、吸気口や排気口の汚れを温水にてより効果的に洗い流すことができ好ましい。

（２）また、水路系において、熱交換ユニットＴＨ１−１下流の出水側弁ユニットＷＰ１−３は流調ポンプＷＰ１−１４と切換弁ＷＰ１−１５から構成したが、当該弁ユニットを５方弁構造でなおかつ流調が可能な図示しない流調切換弁とすることもできる。こうすれば、より小型で安価な構造とすることができ、またポンプを使わないので振動、騒音の問題を解消することができる。

（３）また、水路系において、出水側弁ユニットＷＰ１−３に流調ポンプを用いたり、或いは流調切換弁を用いることにより流調する構造としたが、図４５に示す水路系構成を採ることもできる。即ち、図示するように、第２洗浄水導出管路ＷＰ１−１３の途中に通水路面積を可変とすることのできるバイパス路流調弁ＷＰ１−２０を配設する。よって、このバイパス路流調弁ＷＰ１−２０で調整された流量と定流量弁ＷＰ１−９での設定流量との差分の流量が、出水側弁ユニットＷＰ１−３を経てノズルから吐水される。こうすれば、ポンプを使わないので振動、騒音の問題がなく、また流調切換弁のような複雑な構造としなくても良い。

（４）熱交換ユニットＴＨ１−１を、螺旋状のニクロム線からなるヒータを小容量のタンクに内蔵したものとしたが、次のようにすることもできる。即ち、ヒータを積層円筒セラミックヒータとすれば、漏電検知回路や過熱防止回路を焼成前生シートにペースト印刷して、各回路を焼成によりヒータ表面に形成できる。よって、外部に漏電検知・漏電保護回路が不要となると共に、バイメタル等の過熱防止機器も不要となる。そして、積層化と機器省略により、熱交換ユニットの小型化を図ることができる。また、ヒータを、高周波電流に連動した磁束変化により抵抗体に電磁誘導を起こしてこの抵抗体をジュール熱で発生させる電磁誘導加熱ヒータとすることもできる。こうすれば、タンク内でヒータを水没配置する必要がないので、漏電保護回路が不要となり、その分、小型化ができる。更に、ヒータ形状の自由度が高いので、ヒータを蛇行水路に沿った形状等とすることができ、効率よく洗浄水を温水化できる。

（５）熱交換ユニットＴＨ１−１を、瞬間式ではなく貯湯式とすることもできる。こうすれば、所定温度の洗浄水の連続吐水時間を長くすることができる。また、タンク内洗浄水の温水化を深夜等の便器未使用時に実施でき、その際には低消費電力のヒータを用いることができる。こうすれば、局部洗浄装置全体としての最大消費電力を低減できるので、既設のトイレに局部洗浄装置を設置するような場合に、屋内配線容量不足を招いたり容量契約の変更を来すようなことが少なくなる。

（６）機能水ユニットＷＰ１−４を、タンク内に洗浄水を貯留した状態で直流電圧を印可し、遊離塩素を生成する構造としたが、通水路を塩素発生用電極で挟みこんだ構成とし、また塩素発生用電極の表面積を広くする等して十分な遊離塩素発生能力が得られるようにした場合には、通水状態で直流電圧を印可することもできる。こうすれば、機能水を長時間連続的に吐水させることができ、洗浄ノズルをより衛生的に保つことができる。

次に、他の実施例について説明する。図３１は、第２実施例の局部洗浄装置の概略構成を水路系を中心に表したブロック図、図３２は、この水路系に配設されたアキュムレータＷＰ２−７の概略構成を示す断面図、図３３は、同じく水路系に配設された波動発生機器ＷＰ２−８の構成を表す断面図である。また、図３４は、この波動発生機器ＷＰ２−８による洗浄水の流れの様子を説明する説明図、図３５は、波動発生機器ＷＰ２−８の設置の様子を模式的に表した模式図、図３６は、制御系の概略構成を表すブロック図である。なお、上記した実施例或いはその変形例と同一の部材については同一の部材名とその符号をそのままを用い、同一の機能を果たす部材については同一の部材名を用いることとする。

Ａ２／全体構成；
第２実施例の局部洗浄装置ＫＳ２−１にあっても、上記の局部洗浄装置ＫＳ１−１と同様の外観を有し、本体部ＫＳ１−２や遠隔操作装置ＲＣ１−１を有する（図１参照）。また、本体部に、ノズル装置等を有する点についても局部洗浄装置ＫＳ１−１と同様である。

Ｂ２／水路系・制御系構成；
局部洗浄装置ＫＳ２−１の水路系は、図３１に示すように、外部の給水源側から、入水側弁ユニットＷＰ２−１と熱交換ユニットＴＨ１−１と流調切換弁ＷＰ２−２と波動発生ユニットＷＰ２−３とを備える。そして、この波動発生ユニットから洗浄ノズルＷＮ２−１の流路切換弁ＷＮ２−２を経て洗浄ノズルＷＮ２−１に洗浄水が導かれ、当該ノズルから後述のように洗浄水が吐水される。これら各ユニットは、波動発生ユニットを挟んだ上流側・下流側給水管路で接続されている。即ち、入水側弁ユニットと熱交換ユニットは、上流側給水管路ＷＰ２−５で接続され、波動発生ユニット下流のノズル装置は、下流側給水管路ＷＰ２−６で接続されている。

入水側弁ユニットＷＰ２−１は、定流量弁ＷＰ１−９（図４参照）に替えて調圧弁ＷＰ２−４を有する点で図４の入水側弁ユニットＷＰ１−１と異なる。このため、洗浄水は、調圧弁ＷＰ２−４で所定の圧力（１次圧：約１．０ｋｇｆ／ｃｍ^２）に調圧された後に、電磁弁の開弁を経て入水側弁ユニットＷＰ２−１から熱交換ユニットＴＨ１−１に流入する。そして、熱交換ユニットで既述したように入水・出水側の温度に基づいて設定温度に温水化された洗浄水は、流調切換弁ＷＰ２−２により流量調整を受けた上で、波動発生ユニットと機能水ユニットＷＰ１−４に流入する。この機能水ユニットによる機能水生成は上記した実施例と同一なので、その説明は省略する。なお、流調切換弁ＷＰ２−２を、波動発生ユニットに至る管路と機能水ユニットに至る管路の開度比を変更することで、波動発生ユニットへの流量（洗浄水吐水流量）を調整するように構成してもよい。この場合には、流調切換弁に至った洗浄水流量とこの洗浄水吐水流量の差分の洗浄水が機能水ユニットに送られて、既述したようにチャンバからノズルに吐水され便器ボール部に流れ落ちる。つまり、ノズル以外への洗浄水導出を介して、洗浄水吐水流量を調整する。

波動発生ユニットＷＰ２−３は、その上流側からアキュムレータＷＰ２−７と、波動発生機器ＷＰ２−８とを有する。このアキュムレータは、図３２に示すように、波動発生機器より上流の上流側給水管路ＷＰ２−５に接続されたハウジングＷＰ２−９と、ハウジング内のダンパ室ＷＰ２−１０に配置されたダンパＷＰ２−１１と、このダンパに付勢力を及ぼすスプリングＷＰ２−１２とを有する。よって、アキュムレータは、波動発生機器の上流において、上流側給水管路ＷＰ２−５の水撃を低減する。このため、タンクＴＨ１−３の洗浄水温度分布に及ぼす水撃の影響を緩和でき、吐水洗浄水の温度を安定化することができる。この場合、アキュムレータＷＰ２−７は、波動発生機器ＷＰ２−８に近接配置したり当該機器と一体的に配置することが、後述するようにこの波動発生機器で発生された脈動を上流側に伝播することを速やかにかつ効果的に回避できる観点から好ましい。この場合、アキュムレータは、ダンパとこれを付勢するスプリングの無い単なる空気室としてのダンパ室を有するだけの構成や、上流側給水管路を一部上方に意図的に膨張させたようなエアー溜まりとして形成することもできる。

波動発生機器ＷＰ２−８は、図３３に示すように、上流・下流側給水管路に接続されるシリンダＷＰ２−１３にプランジャＷＰ２−１４を摺動自在に備える。そして、このプランジャを電磁コイル（脈動発生コイル）ＷＰ２−１５の励磁制御により上流側・下流側に進退させる。プランジャＷＰ２−１４は、脈動発生コイルＷＰ２−１５の励磁により図示する原位置から下流側に移動するが、コイル励磁が消えると、上流側・下流側スプリングＷＰ２−１６、１７の付勢力を受けて原位置に復帰する。プランジャＷＰ２−１４は、その内部に鋼球とスプリングからなる逆止弁ＷＰ２−１８を有するので、原位置から下流側への移動の際には、シリンダ内の洗浄水を加圧して下流側給水管路に押し流す。この際、プランジャ原位置は一定であることから、一定量の洗浄水が下流側給水管路に送られることになる。その後、原位置に復帰する際には、逆止弁を経てシリンダ内に洗浄水が流れ込むので、次回のプランジャの下流側移動により、改めて一定量の洗浄水が下流側給水管路に送られることになる。しかも、プランジャの原位置復帰の際には、プランジャ下流側、即ち下流側給水管路の洗浄水の引き込みが起きるので、この波動発生機器ＷＰ２−８は、プランジャの往復動に伴って圧力が周期的に上下変動する脈動を引き起こし、洗浄水を脈動流の状態で下流側給水管路に流す。

この場合、波動発生機器ＷＰ２−８には上流側給水管路を経て上記の１次圧の洗浄水が給水されている。よって、上記したようにプランジャＷＰ２−１４の原位置復帰の間に逆止弁を経てシリンダ内に流れ込んだ洗浄水は、逆止弁による圧力損失や下流側の洗浄水の引き込みの影響を受けて１次圧のままではないものの、下流側給水管路に送られる。この様子を図でもって表すと、図３４に示すように、洗浄水は、１次圧を中心に脈動した圧力で波動発生機器ＷＰ２−８から下流側給水管路、延いては洗浄ノズルＷＮ２−１に送られて後述するように局部に吐水される。しかも、波動発生機器ＷＰ２−８からその下流に送られる洗浄水圧は、上記のようにプランジャの原位置復帰の際の逆止弁を経たシリンダ内への洗浄水流れ込みにより、ゼロとなることはない。この洗浄水圧の脈動推移は、洗浄水流量の推移に反映する。

この図３４に見られる脈動周期ＭＴは、脈動発生コイルＷＰ２−１５の励磁周期に同期し、この励磁周期の変更制御を通して後述のように種々設定可能である。しかも、洗浄水の脈動流発生にプランジャ往復動のためのコイル励磁だけで済むので、波動発生機器の構成を簡単にすることができる。

また、第２実施例では、図３１に示すように、波動発生機器ＷＰ２−８を熱交換ユニットのタンクＴＨ１−３の下流に配置したので、脈動流とされた洗浄水は、給水管路より大径であるために脈動減衰を起こし易いタンクを通過することが無い。よって、下流側給水管路、延いては洗浄ノズルＷＮ２−１には、タンクによる脈動減衰の影響を受けることがない状態で、脈動流の洗浄水を送り込むことができる。

更に、この波動発生機器ＷＰ２−８の設置に際しては、いわゆる防振ゴムを介在させた。よって、この防振ゴムによる制振作用により、脈動発生に伴う振動を抑制できると共に、振動による異音発生も抑制できる。この場合、脈動発生機器を、金属等の高比重の粉体物や粒状物を混合することで高比重可されたされた樹脂プレート（図示省略）に設置し、この樹脂プレートを防振ゴムを介在させて本体部の底面プレートに配置することもできる。こうすれば、振動源質量を脈動発生機器と樹脂プレートの和として大きくしたこと自体で、脈動発生に伴う振動を起きにくくできることに加えて、防振ゴムによる制振作用により制振を図ることができる。このように振動源質量を大きくするに当たって、上記したような高比重の樹脂プレートに脈動発生機器を設置することに替えて、本局部洗浄装置が有する質量の大きな部材やユニットにこの振動発生機器を設置することもできる。こうすれば、樹脂プレートを必要としないので、部材数低減によるコスト低下といった製造上の利点があり、装置の小型化も図ることができる。また、波動発生機器と樹脂プレートとの間にも防振ゴムを配設すれば、この防振ゴムと樹脂プレート下面の防振ゴムとで、図３５に示すような２自由度系の振動絶縁のダンパ機構を構成できる。このため、振動緩和に効果的なバネ常数ｋ１、ｋ２や減衰係数ｃ１、ｃ２とできるように防振ゴムを選定することで、高い制振効果を発揮することができ、便座等への振動伝播を効果的に回避できる。なお、このような制振により、振動に伴う異音の発生も効果的に抑制できる。

また、波動発生機器ＷＰ２−８とタンクＴＨ１−３との間にアキュムレータを配置していることと相俟って、タンクに不要な脈動圧を与えることが無い。このため、タンク内圧の不用意な上昇を回避できるので、タンクの変形や収縮・膨張による疲労を回避でき好ましいばかりか、必要以上に高い耐圧性能を有するタンクとする必要がない。

第２実施例では、上記の水路系を構成するに当たり、次のようにした。即ち、上流側・下流側給水管路の両給水管路を高硬度の可撓性配管とすると共に、上記の下流側給水管路の硬度を上流側管路をより大きくした。また、これら管路と上記各ユニットの配管接続部にカプラ方式の継手を用いた。更に、各ユニットを近接配置して、ユニット間の給水管路長を短くした。これらの結果、給水管路自体の伸縮、膨張・収縮が起き難くなり、この伸縮に伴う脈動減衰の影響を抑制できるので、脈動減衰を低減した状態で、脈動流の洗浄水を洗浄ノズルＷＮ２−１に送り込むことができる。特に、波動発生機器ＷＰ２−８と流路切換弁ＷＮ２−２の近接配置を図ったので、この間の下流側給水管路を洗浄水が通過する際の脈動減衰は、下流側給水管路が高硬度の可撓性配管であることと相俟って、より効果的に抑制できる。

第２実施例の局部洗浄装置の制御系は、図３６に示すように電子制御装置ＣＴ２−１を中心に構成されている。そして、この電子制御装置は、上記の実施例と同様、種々のボタンやセンサの入力等に基づいて、入水側弁ユニットの電磁弁開閉弁制御、熱交換ユニットのヒータ通電制御等の他、脈動発生コイルＷＰ２−１５の励磁制御を通して上記の脈動周波数制御を実行する。この脈動周波数制御については後に詳述する。

Ｃ２／ノズル装置ＮＳ２−１；
次に、第２実施例の局部洗浄装置が有するノズル装置ＮＳ２−１について説明する。図３７は、ノズル装置ＮＳ２−１を表す概略斜視図、図３８は、図３７における６７−６７線概略断面図である。

図示するように、この第２実施例のノズル装置ＮＳ２−１は、上記した第１実施例の変形例のノズル装置ＮＳ１−２０とほぼ同一の構成を有する。即ち、このノズル装置ＮＳ２−１は、変形例のノズル装置ＮＳ１−２０と同様に、ノズル進退軌道ＮＳ１−１２（図７参照）と一致する湾曲形状の案内レール部ＮＳ１−２１の上に、同じく湾曲した洗浄ノズルＷＮ２−１を配設して備える。そして、ノズル後端側下方の軌道把持体ＷＮ１−２１は、案内レール部ＮＳ１−２１のレール部左右を上下に把持してこの案内レール部に沿って摺動するので、洗浄ノズルＷＮ２−１は、円弧状のノズル進退軌道ＮＳ１−１２に沿って伝達機構ＮＳ１−５により進退する。この洗浄ノズルは、便器ボール部側にあっては、ノズル保持部ＮＳ１−６により洗浄ノズルは摺動自在に保持されているので（図８参照）、ノズル保持部と軌道把持体の離間した二カ所で摺動自在に保持されることになる。なお、洗浄ノズルを直線管路形状とすることもできる。

この軌道把持体ＷＮ１−２１の案内レール部把持箇所には、レール部に対しての摺動性と振動吸収機能を有する把持部ＷＮ２−３が配設されている。このような性質を把持部は、含油、ＷＡＸ配合等の材料配合処理を経たゴム系材料、或いは、ハロゲン処理、梨地処理等の表面処理を経たゴム系材料を用いて製造されている。よって、後述するように波動発生機器ＷＰ２−８から脈動流の洗浄水が洗浄ノズルに流れ込み、この洗浄ノズルに脈動流に起因する振動が起きても、その振動の他の部材への伝播を防止できる。このため、振動に伴う異音の発生も抑制できる。この場合、便器ボール部側のノズル保持部におけるノズル保持孔内壁に、上記配合処理や表面処理を受けて摺動性と振動吸収機能を発揮するゴム系材料の部材を配置すれば、上記した振動伝播の防止効果と異音発生の回避効果を高めることができる。

この第２実施例のノズル装置ＮＳ２−１では、既述した洗浄ノズルと案内レール部との位置関係から、幅方向についてコンパクト化できる。よって、このノズル装置と波動発生機器ＷＰ２−８とのより一層の近接配置が可能となるので、下流側給水管路における脈動減衰の抑制効果を高めることができる。また、このノズル装置の設置に際しては、ベースＮＳ１−２（図３７参照）を防振ゴムを介在させて本体部の底面プレートに配置した。よって、このノズル装置に脈動に伴う振動が伝播しても、防振ゴムによる制振作用によりこの振動を効果的に抑制できると共に、振動による異音発生も抑制できる。

Ｅ２／洗浄ノズルＷＮ２−１；
次に、洗浄ノズルＷＮ２−１について説明する。図３９は、この洗浄ノズルが有する流路切換弁ＷＮ２−２の構成を説明するための要部概略断面図、図６９は、この流路切換弁の要部の分解斜視図である。図４１は、ノズルヘッドＮＨ２−１を平面視すると共にヘッド周辺を一部破断して示す平面図、図４２は、このノズルヘッドの変形例を示す平面図である。

図３７ないし図３９に示すように、流路切換弁ＷＮ２−２は、洗浄ノズルＷＮ２−１の後端に位置し、波動発生機器ＷＰ２−８から送られた脈動流の洗浄水の給水先を洗浄ノズルのお尻洗浄用、やわらか洗浄用およびビデ洗浄用の各ノズル流路に切り換えるべく以下の構成を有する。

流路切換弁ＷＮ２−２は、後述の切換機構を内蔵したケーシングＷＮ２−４を備える。そして、この流路切換弁は、ケーシングを洗浄ノズルＷＮ２−１の筒状部ＷＮ２−５の後端端面に溶着することで、洗浄ノズルと一体とされている。よって、洗浄ノズルと共に上記したように軌道に沿って進退する。

ケーシングには、ノズル側から、ノズル内の各流路と連通した連通孔を有するステータＷＮ２−６と、流路切換のために回転しステータの各連通孔を択一的に開放するロータＷＮ２−７と、このロータに回転を伝達するためのカップリングＷＮ２−８と、このカップリングを回転自在に収納するハウジングＷＮ２−９と、ロータをステータに向けて付勢するスプリングＷＮ２−１０とを有する。図６９に示すように、ステータの各連通孔ＷＮ２−１１〜１３は、ロータに面する側では等分に開口され、ノズル側では、図３８に示すノズル内流路、即ち、お尻洗浄用ノズル流路の第１ノズル流路ＷＮ１−７、やわらか洗浄用ノズル流路の第２ノズル流路ＷＮ１−８、ビデ洗浄用ノズル流路の第３ノズル流路ＷＮ１−９の各流路に連通するよう空けられている。つまり、ステータ内で連通孔が湾曲形成されている。この各連通孔は、洗浄ノズル後端における上記の各ノズル流路の開口部の並びに併せて配置してもよく、この場合には、上記の各連通孔は、ストレートな孔でよい。なお、上記の第１ないし第３のノズル流路ＷＮ１−７〜９は、ノズル先端のノズルヘッドＮＨ２−１まで、筒状部ＷＮ２−５の長手方向に亘って区画形成されている。

ロータＷＮ２−７は、ステータ上面に等分に開口した上記各連通孔の一つを開放できる切欠ＷＮ２−１４を有し、この切欠を連通孔開口と重ねることでその連通孔を開放する。この場合、ロータは、切欠を隣り合う連通孔間に位置させることで、各連通孔を遮蔽できるようにされている。つまり、切欠が隣り合う連通孔開口間にある位置からロータが僅かに回転すれば、連通孔を介して上記の各ノズル内流路に洗浄水を送り込める。なお、ノズル内に残存した水の排出（水抜き）の便のため、このローターを総ての連通孔開口と重なることもできる切欠を有するようにして、水抜き時には、この切欠により総ての連通孔を開口させることもできる。

カップリングＷＮ２−８は、流路切換弁ＷＮ２−２の有する駆動モータＷＮ２−１５の回転軸に装着され、スリットＷＮ２−１６に回転軸ピンＷＮ２−１７を位置させる。また、このカップリングは、回転キーＷＮ２−１８をロータＷＮ２−７のスリットＷＮ２−１９に位置させている。よって、駆動モータが正逆回転すると、その回転は、回転軸ピンにてカップリングに、回転キーにてロータに伝達される。そして、ロータの回転により切欠が上記したように各連通孔のうちの一つを選択的に開放するので、選択された連通孔に対応するノズル流路に、波動発生機器ＷＰ２−８からの脈動流の洗浄水が給水される。

この場合、波動発生機器ＷＰ２−８からの洗浄水は、下流側給水管路ＷＰ２−６（図３１参照）並びに流路切換弁ＷＮ２−２のケーシングに設けた接続継手ＷＮ２−２０を経てこの流路切換弁に流れ込む。この接続継手に波動発生機器から下流側給水管路を接続するに当たっては、波動発生機器を接続継手より下方側に配置する等の処置を採って、下流側給水管路途中にエアー溜まりができないようにした。このため、波動発生機器から流路切換弁まで脈動流の洗浄水が達する間においては、エアー溜まりが無いことと上記したように管路が高硬度のものであることから、脈動の減衰をより効果的に抑制できる。また、波動発生機器で脈動流とされた洗浄水がノズル装置に至るまでの管路は、この波動発生機器と流路切換弁までの下流側給水管路だけである。そして、この下流側給水管路が周囲の部材と接触を起こし得る場所には、防振ゴム等の緩衝材を配置した。具体的には、周囲の部材側に防振ゴムを装着したし、給水管路に防振ゴムを巻き付けたりした。よって、下流側給水管路が上記したように高硬度のものであることと相俟って、脈動の減衰をより効果的に抑制できる。

この流路切換弁ＷＮ２−２のケーシング等の各部材は、ポリフェニレンサルファイド（略称ＰＰＳ）、ポリアセタール（略称ＰＯＭ）、ポリブチレンテレフタレート（略称ＰＢＴ）、ガラス繊維強化ポリブチレンテレフタレート（略称ＧＦ・ＰＢＴ）等の耐久性・耐熱性に富むエンジニアリングプラスチックを用いて形成されている。よって、流路切換弁内の洗浄水流路は、高強度の管路として機能するので、管路伸縮による脈動減衰を招かない。そして、波動発生機器ＷＰ２−８からの脈動流洗浄水をノズル流路に給水するに際しては、流路切換弁が洗浄ノズルと一体とされその間に配管が無いことも相俟って、脈動の減衰をほとんど起こすことがない。また、上記したように給水先を切り換えるに際しては、ロータＷＮ２−７の回転を利用しているので、ダイアフラム等の弾性体の弾発を利用した流路切換弁に比べて、脈動の減衰をより効果的に抑制できる。

この流路切換弁ＷＮ２−２によれば、次のような利点がある。流路切換弁は、波動発生機器ＷＰ２−８ではなくその下流の洗浄ノズルＷＮ２−１に一体とされ、脈動流の発生に伴って振動源となりうる波動発生機器から切り離されている。よって、振動源をこの波動発生源だけとすることができる。また、流路切換弁は、洗浄ノズルと一体に進退するが、駆動モータＷＮ２−１５はそのコイル巻線部分が樹脂モールドされているので、洗浄位置への進出時に洗浄水が駆動モータに飛散してもモータ駆動に支障はない。更に、ノズル装置に至る下流側給水管路を１本にできるので、管路がノズル進退時の負荷となる程度を低減できる。よって、ノズル駆動用モーターに対する負荷トルクを低減できる。

洗浄ノズルＷＮ２−１のノズルヘッドＮＨ２−１にあっても、通常のお尻洗浄用のお尻吐水孔ＮＨ２−２と、お尻のやわらか洗浄用のやわらか吐水孔ＮＨ２−３と、ビデ洗浄用のビデ吐水孔ＮＨ２−４を有する。このノズルヘッドは、洗浄ノズルの筒状部ＷＮ２−５の先端に水密に固定され、ノズルヘッド内部に形成された第１ヘッド流路ＮＨ２−５、第２ヘッド流路ＮＨ２−６、第３ヘッド流路ＮＨ２−７を、それぞれ、洗浄ノズルの第１ノズル流路ＷＮ１−７、第２ノズル流路ＷＮ１−８、第３ノズル流路ＷＮ１−９に接続する。図示するように、これらノズル流路は、ノズルヘッド上面にて上記の各吐水孔に至っている。よって、流路切換弁ＷＮ２−２（図３７参照）が洗浄水の給水先を、ノズル後端にて、第１ないし第３ノズル流路ＷＮ１−７〜９のいずれかに切り換えると、洗浄水は、その切り換えられたノズル流路並びにヘッド流路を経て、上記各吐水孔から吐水される。この場合、波動発生機器ＷＰ２−８から脈動流の洗浄水が給水されるので、各吐水孔からは、脈動の性質を持った洗浄水吐水がなされる。

この場合、ノズルヘッドＮＨ２−１の上記各吐水孔ＮＨ２−２〜４は、お尻吐水孔が最もその孔径が小さく、ビデ吐水孔とやわらか吐水孔はこのお尻吐水孔より孔径が大きくされている。このため、遠隔操作装置ＲＣ１−１（図２参照）の水勢強弱設定ボタンＳＷｈｕ、ＳＷｈｄにより水勢が一定に設定されている状況下であれば、第１実施例で説明したように、各吐水孔からの洗浄水の吐水速度は、お尻吐水孔が最も速く、ビデ吐水孔とやわらか吐水孔ではお尻吐水孔より遅くなる。そして、吐水速度が遅いやわらか洗浄は、通常のお尻洗浄の場合より、吐水から受ける洗浄感を吐水速度が遅い分だけ少なくとも柔らかなものとする。なお、ビデ吐水孔ややわらか吐水孔は、図示するように単一の孔に限られるものではなく、図４２に示すように、小径の細孔を複数配置してその全体でビデ吐水孔ややわらか吐水孔と形成することもできる。この場合には、複数の細孔面積の総和である吐水孔総面積をお尻吐水孔面積以上とすれば、細孔全体として吐水は、お尻洗浄の場合より柔らかくなる。

次に、お尻洗浄を例に採り、この第２実施例の局部洗浄装置による洗浄水吐水の様子について説明する。図４３は、洗浄水吐水に際して脈動を発生させる波動発生機器ＷＰ２−８の脈動発生コイルＷＰ２−１５の励磁の様子を説明する説明図、図４４は、波動発生機器ＷＰ２−８から流出する洗浄水の水量及び流速を示すタイミングチャート、図４５は、ノズルヘッドＮＨ２−１のお尻吐水孔ＮＨ２−２からの洗浄水吐水の様子を模式的に説明する説明図である。

電子制御装置ＣＴ２−１は、脈動発生コイルＷＰ２−１５を励磁して波動発生機器ＷＰ２−８にて脈動を発生させるに当たり、パルス状の信号する。そして、このパルス信号を、脈動発生コイルに接続されこれをオンさせるためのスイッチングトランジスタ（図示省略）に出力する。よって、脈動発生コイルは、パルス信号に従ったスイッチングトランジスタのＯＮ・ＯＦＦにより繰り返し励磁し、上記したようにプランジャＷＰ２−１４を周期的に往復動させる。これにより、波動発生機器ＷＰ２−８からノズルヘッドの各吐水孔には、圧力が周期的に上下変動する脈動流の状態で洗浄水が給水され、この脈動流の洗浄水が各吐水孔から吐出される。この際、電子制御装置は、所定の周波数範囲において、上記のパルス信号の周波数を可変制御すると共に、コイル励磁パルスのオンオフをデューティ比制御する。これにより、種々の脈動を引き起こすことができる。この場合、波動発生機器で引き起こされた脈動の圧力を検出する圧力センサをこの波動発生機器の直後の下流側に設け、このセンサの検出値によりデューティ比制御にフィードバックをかけることもできる。なお、このセンサの設置位置は、脈動圧力を反映できる位置であればその位置は限定されない。たとえば、洗浄ノズル近傍に設けたり、波動発生機器の機構を流用してこの近傍もしくは略一体となって設けてもよい。

図４３に示すように、図３４で示した脈動周期ＭＴを周期Ｔ１とし、パルス信号のオン時間をｔ１とすると、デューティ比は（ｔ１／Ｔ１）×１００（％）で表わされる。図３４で示したような圧力の脈動を起こすと、洗浄水水量は、連続流と比べてデューティ比で表わされる値まで少なくなる。こうした脈動流の水量は、図４４に示すように、最大流量Ｑｍａｘから最小流量Ｑｍｉｎの範囲で増減し、流速についても最大流速Ｖｍａｘから最小流速Ｖｍｉｎの範囲で増減することになる。なお、この図４４において、最小流量Ｑｍｉｎおよび最小流速Ｖｍｉｎがゼロとなっていないのは、波動発生機器ＷＰ２−８による脈動圧がその最小でも既述したようにゼロとなっていないことによる。

従来のように連続流の洗浄水が吐水孔（例えばお尻吐水孔ＮＨ２−２）から吐水されると、吐水孔からの洗浄水は、図４５（Ａ）に示すように連続流としての吐水形態を採るのに対し、上記のような脈動流の洗浄水が吐水されると、図４５（Ｂ）に示すように離散的または水塊状態の吐水形態を採って洗浄水が吐水される。このように、波動発生機器ＷＰ２−８で脈動流とされた洗浄水が、洗浄ノズルの吐水孔から噴出されると、離散的または水塊状態となる理由について、図４４および図４６を用いて説明する。

図４６は、脈動流の洗浄水を吐水孔から吐水した場合、その吐水された洗浄水が脈動流に増幅される過程を説明する説明図である。図４４（Ａ）に示すように、波動発生機器ＷＰ２−８により洗浄水量が脈動となると、流速Ｖも同様に変動して脈動になる。すなわち、吐水される洗浄水は、その水量が最大流量Ｑｍａｘになると、流速も最大速度Ｖｍａｘになり、瞬間の流速および流量が時間とともに変動する。また、図４４の脈動流の洗浄水の各部位をＷｐ１，Ｗｐ２，Ｗｐ３，Ｗｐ４，Ｗｐ５とすると、この各部位の量はＷｐ１（＝Ｗｐ５）＜Ｗｐ２（＝Ｗｐ４）＜Ｗｐ３となり、それぞれの流速も、Ｖ１（＝Ｖ５）＜Ｖ２（＝Ｖ４）＜Ｖ３となる。よって、吐水直後から図４６の（Ａ）〜（Ｃ）へと移行するにつれて、Ｗｐ３はＷｐ２より速度が大きいから、Ｗｐ３はＷｐ２と合体し、さらにＷｐ１と合体して大きな水塊となる。このように最大流速のＷｐ３がその前のＷｐ２，Ｗｐ１と順次合体することにより、大きな塊となって、人体局部（洗浄面）に着水することになる。このように、洗浄水は、人体局部に当たるときには、衝突エネルギ（洗浄強度）が大きい水塊状態となっている。この流速Ｖ３は、図４４に示す最大流速Ｖｍａｘであることから、脈動流で吐水された洗浄水は、合体した水塊の状態が脈動周期ＭＴごとに現れるような吐水形態で、吐水孔から吐水されていることになる。しかも、脈動周期でこのような現象が起きることから、上記のように最大流速のＷｐ３の合体を経た水塊は繰り返し現れ、ある吐水タイミングでの水塊とその次の吐水タイミングでのＷｐ３の合体を経た水塊とはほぼ同じ速度（最大速度）で移動（吐水）されることになる。

次に、洗浄水をお尻吐水孔ＮＨ２−２から連続流として噴出する場合と脈動流として噴出する場合との洗浄強度の相違について説明する。脈動流は、従来の連続流と比較して、同一水量で２倍以上の洗浄強度を有する。これは、以下の理由と考えられる。質量ｍの洗浄水が速度Ｖで壁面に衝突したときのエネルギＥは、式（１）により表わされる。
Ｅ＝（１／２）ｍＶ^２ …（１）
また、そのとき壁面に衝突したときの力をｆとし、速度Ｖの洗浄水流が０まで減速して消滅するまでの時間をΔｔとすると、エネルギＥは、力積により式（２）により表わされ、さらにそのときの力は、減速度をαとすると、式（３）により表わされる。
Ｅ＝ｆΔｔ …（２）
ｆ＝ｍα …（３）
図４７は、洗浄水流が壁面に衝突する状態を説明する説明図である。図４７において、水塊がＷ１、Ｗ２、Ｗ３の３つの形態となっている場合を想定し、これらの各々の形態の洗浄水流の洗浄強度について検討する。ここで、水塊Ｗ１は断面積Ｓ１で長い形態であり、水塊Ｗ２は断面積Ｓ２がＳ１の２倍であって短い形態であり、水塊Ｗ３は断面積がＳ１で長さが水塊Ｗ１の１／２の形態である。これらの形態において、水塊Ｗ１が連続流に相当し、水塊Ｗ３が脈動流に相当する。このとき、水塊Ｗ１と水塊Ｗ２とが壁面に衝突して消滅するまでの時間Δｔ１とΔｔ２は、Δｔ１＞Δｔ２となる。このことは、式（３）から減速度αが大きく、短時間で大きな力で水塊が消滅していることを意味し、水塊Ｗ１の力ｆ１と水塊Ｗ２の力ｆ２は、ｆ１＜ｆ２となる。したがって、連続している水塊Ｗ１より、短時間で消滅する水塊Ｗ２の方が人体局部に加わる力ｆ２が大きいことが分かる。このことから、脈動流に相当する水塊Ｗ３は、水塊Ｗ１と比べて質量がｍ／２であるが、力ｆ３がｆ１と比べてさほど減少しない。したがって、脈動流として噴出した場合に、連続流より水量を少なくすることができるうえに、人体局部に衝突するときの力はさほど減少することがなく、人体局部に付着している汚れを強い力で除去することができる。

次に、人体局部の洗浄感を表わす指標である洗浄強度と量感との関係を説明する。図４８は、お尻吐水孔ＮＨ２−２に対向して所定距離Ｌａだけ隔てて圧力センサ板Ｐｓを設置した状態を説明する説明図である。上記所定距離Ｌａは、人体局部が洗浄される位置に設定する。圧力センサ板Ｐｓは、２次元のマトリックス状に検出部を備え、各検出部の検出値をそれぞれ独立に出力するセンサである。このような装置を用いて、洗浄ノズルＷＮ２−１のお尻吐水孔ＮＨ２−２から洗浄水を吐水させたときの各検出部から出力される圧力のピーク値を測定した。その結果を図４９に示す。図４９は、圧力センサ板Ｐｓ上の位置と圧力のピーク値とを３次元的に表現した説明図であり、Ｘ−Ｙ平面は圧力センサ板Ｐｓの位置、つまり被検出体の位置を表しており、Ｚ軸は各位置での圧力のピーク値を表している。図４９（Ａ）は、吐水孔に至る洗浄水が流量１．１Ｌ／ｍｉｎ．の連続流の時の測定結果であり、図４９（Ｂ）は吐水孔に至る洗浄水が流量０．５Ｌ／ｍｉｎ．の脈動流の時の測定結果を表す。図４９において、洗浄感を左右する要素である洗浄強度は圧力のピーク値にて表され、一方量感は全体的な圧力分布である山の体積で示される。

これらを比較すると、図４９（Ｂ）の脈動流は、図１２（Ａ）の連続流に比べて洗浄水量が半減しているにもかかわらず、圧力のピーク値は大幅に増大している。これは被水体への洗浄圧力が大きいことを示しており、すなわち洗浄強度が大きいことを示している。図５０は、検出部の１つから検出される検出信号を表わすタイミングチャートであり、図５０（Ａ）が連続流、図５０（Ｂ）が脈動流を示す。脈動流は、連続流に比べてピーク値が高く強度が大きいことが分かる。また全体的な圧力分布である山の体積も図４９（Ａ）の連続流に比べて図４９（Ｂ）の脈動流の方がはるかに大きい。このように、脈動流の方が連続流と比較して極めて量感が大きく、洗浄感という官能的な要素を数値に具現化すれば、脈動流による洗浄力が優れていることが分かる。

このような脈動流による実際の洗浄量を連続流と比較して調べた結果を図５１に示す。図５１は、平均吐水量と洗浄量との関係を示すグラフであり、つまり人体局部に付着している汚れを洗浄水で落とす際に、必要とする平均吐水量を示している。図５１から分かるように、人体局部に付着した洗浄量Ｄ１の汚れを落とすのに、脈動流は、連続流の洗浄水吐水しかできない従来品に比べ約１／４の水量でよいことが分かった。このように、脈動流の洗浄水を吐水孔から吐水させる方法により、洗浄強度と使用者の洗浄感を飛躍的に高めることができる。

また、脈動流の洗浄水を吐水すると洗浄強度が増して人体局部への刺激が大きくなるが、これは上記した第１実施例と同様に、次のように説明できる。人体表皮の同一箇所に感知可能な刺激（本第２実施例では図４７に示す水塊Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３の衝突による刺激）が意図的に繰り返し加えされた場合、この繰り返し間隔（本実施例では脈動周期ＭＴ）が長く繰り返し周波数が低いと、人は、この繰り返された刺激を振動刺激としてその都度感知する。その一方、繰り返し間隔が短く繰り返し周波数が高いと、人は、この意図的に繰り返された刺激を振動刺激とは感知できず、連続的な刺激として感知する。つまり、人体表皮への繰り返し刺激に対しては、振動刺激としては感知できない不感帯周波数があり、第１実施例の場合と同様に、この不感帯周波数は約５Ｈｚ以上の繰り返し周波数である。よって、上記の脈動流の洗浄水吐水という意図的な繰り返し吐水を行うに当たり、繰り返し周波数が高まるほど、意図的な繰り返し吐水に基づく振動に対しての知覚の追従が困難となる。そして、この繰り返し周波数が約１０Ｈｚ以上の繰り返し周波数になると、通常の知覚を有する大多数の人では意図的な繰り返し吐水に基づく振動に対して知覚がほとんど追従できなくなる。よって、意図的な繰り返し吐水であるという吐水態様（脈動流の洗浄水吐水）の認識が困難となり、本実施例では、図４７に示す水塊の衝突を受ける使用者、即ち通常の知覚を有する大多数の人は、この水塊の衝突が間欠的であると感知できず、あたかも連続流の洗浄水であるかのように感じさせることができるのである。

図を用いて説明すると次のようになる。図５２は、周波数の増減により洗浄強度が異なる理由を説明する説明図であり、図５２（Ａ）は、図５２（Ｂ）より同じ洗浄水量でも、脈動周期ＭＴが大きいためにこの周期で定まる脈動周波数ｆｍｔ（＝１／ＭＴ）が小さい状態を示している。図５２（Ａ）と図５２（Ｂ）とでは、周期の長短により上記の水塊の合体程度に大小ができる。よって、脈動周期ＭＴが大きく脈動周波数の小さい図５２（Ａ）の場合が、１回の衝突時における水塊の質量が大きくなって、衝突エネルギが大きくなり、人体への刺激が強い。すなわち、図５２（Ａ）の場合には、人体は、大きな刺激を１度に受けて強い刺激を感じる。また、図５２（Ａ）のように脈動周波数ｆｍｔが上記の不感帯周波数を下回る或いはこの周波数に近い周波数となると、人体は、強い刺激感をその都度感知しながら繰り返し受けるので、より強い刺激感を感じる。その一方、図５２（Ｂ）のように、脈動周波数ｆｍｔが大きく上記の不感帯周波数内の周波数であれば、小さい刺激を上記したように連続的な刺激として受けるので、刺激をあまり感じない。このことから、同じ水量であっても、周波数が大きくなり、水塊が大きくなるほど人体への刺激（洗浄強度）を強く感じることになる。図５３は、脈動流の脈動周波数および洗浄強度と人体局部の刺激に伴う不快感との関係を示すグラフである。人体皮膚は、周波数が５Ｈｚを越えると連続流に近づいて柔らかな洗浄と感じることができ、約３０Ｈｚを越えると、ほとんど連続流との区別がつかなくなる。したがって、脈動流の周波数は、５Ｈｚ以上であることが好ましく、さらに波動発生機器ＷＰ２−８の脈動発生コイルＷＰ２−１５の励磁制御に商用電源の周波数をそのまま利用することを考慮すると、５０〜６０Ｈｚを上限とすれば、制御のための構成を簡単にすることができる。

この不感帯周波数の観点から、第２実施例にあっても、脈動発生コイルＷＰ２−１５の励磁周期、即ち脈動周期ＭＴをその脈動周波数ｆｔｍ（＝１／ＭＴ）が約５Ｈｚ以上の範囲となるよう可変制御することとし、上記の水塊による人体局部への刺激が連続的な刺激として感知されるようにした。つまり、洗浄水水塊を人体局部の洗浄箇所に脈動周期ＭＴで間欠的にしか吐水しないようにして洗浄水水量を低減しているにも拘わらず、使用者には、この洗浄箇所に連続的な洗浄水の吐水を受けているような洗浄感を与えることができる。よって、この第２実施例であっても、洗浄水流量を流調切換弁ＷＰ２−２により約５００ｃｃ／ｍｉｎ程度にまで低減しても、洗浄能力並びに洗浄感を高めることができるので、最大この流量の洗浄水を吐水するだけでよい。つまり、節水の実効性を高めつつ、使用者には連続した吐水を受けているような感じを与えることができる。

脈動周波数ｆｔｍを上記の不感帯周波数に設定しても、洗浄水の連続的な吐水から受ける吐水連続感は、脈動周波数ｆｔｍが低いほど薄れがちであるといえる。よって、脈動周波数ｆｔｍを上記範囲内で意図的に低くして、使用者の洗浄感（刺激感）に僅かな間欠的な感じを持たせることもできる。

また、次のように脈動周波数制御とコイル励磁のデューティ比制御とを行うこともできる。図５４は、洗浄水の脈動流における脈動周波数をお尻洗浄とビデ洗浄で異なるようにした制御例を説明する説明図、図５５は、脈動周波数ｆｔｍとデューティ比Ｄｔｍの制御例を説明する説明図である。

図５４に示すように、お尻洗浄の際とやわらか・ビデ洗浄の際の脈動周期ＭＴＡ、ＭＴＶに大小を設け、それぞれの脈動周波数ｆｔｍを異なるものとできる。しかも、お尻洗浄の際の脈動周波数ｆｔｍＡをやわらか・ビデ洗浄の際の脈動周波数ｆｔｍＶより低くした。この場合、両周波数とも上記した不感帯周波数の範囲である。例えば、お尻洗浄では５０Ｈｚ、柔らか洗浄で６０Ｈｚ、ビデ洗浄では７０Ｈｚのように周波数を変更することにより、以下に説明するように、ビデ洗浄などがお尻洗浄より水勢の小さい洗浄形態となるように周波数を設定してもよい。

この図５４に示すような洗浄対象に応じた周波数制御により、図５２で説明したように、お尻洗浄時には、図５２（Ａ）に近い吐水形態となることから、充分な刺激感を連続して受けているような洗浄となり、ハードな洗浄感を得ることができる。また、やわらか・ビデ洗浄時には、図５２（Ｂ）の吐水形態となることから、比較的弱い刺激感を連続して受けているような洗浄となり、ソフトな洗浄感を得ることができる。特に、やわらか・ビデ洗浄では、脈動周波数ｆｔｍを高くすることで間欠的な刺激感を与えないようにするので、ソフトな洗浄感をより連続的なものとできる。しかも、このような多様な洗浄感を達成するに当たって、既述したように流量低減を図ることができる。

また、図中に点線或いは一点鎖線で示すように、脈動周波数ｆｔｍをそれぞれの洗浄で同一としておいて、各洗浄で、デューティ比Ｄｔｍを変更制御することができる。デューティ比Ｄｔｍはコイル励磁力、即ち波動発生機器ＷＰ２−８におけるプランジャＷＰ２−１４の移動速度並びに移動量を定めるので、脈動の振幅を増減制御できる。よって、図４４に示した洗浄水量と流速をデューティ比Ｄｔｍに応じて制御できる。この結果、各洗浄で、図５２に示した水塊質量を変更制御でき、ハード・ソフトの洗浄感でありながら、刺激感の強弱調整と洗浄力調整を行うことができる。しかも、流速変更に基づいて、水勢の強弱をも調整できる。換言すれば、使用者の所望する洗浄感や水勢を脈動流のデューティ比制御や周波数制御で確保できることから、既述したように洗浄水水量の大幅な低減を図ることができる。しかも、このデューティ比制御と周波数制御の両制御は、流調弁による流量調整とは無関係なため、流調弁での流量調整では調整できないような水勢調整を、上記両制御を通して実現できる。つまり、デューティ比制御と周波数制御により、流調弁の流量調整を補完できる。そして、流調弁による流量調整を通した水勢等の調整と上記両制御を通した水勢等の調整の併用により、きめ細かな水勢等の調整を行うことができる。

図５５に示すように、脈動周波数ｆｔｍを制御したり、脈動周波数ｆｔｍとデューティ比Ｄｔｍを同時に制御することもできる。即ち、図５５（ａ）に示すように、洗浄継続中の各洗浄期間ＴＡ、ＴＢ、ＴＣ・・・において、デューティ比Ｄｔｍを値ＤｔｍＬとしておき、それぞれの洗浄期間で脈動周波数ｆｔｍを増減制御する。例えば、図示するように、脈動周波数ｆｔｍをｆｔｍＳ、ｆｔｍＭ、ｆｔｍＬ（ｆｔｍＳ＜ｆｔｍＭ＜ｆｔｍＬ）のいずれかの値に可変制御する。或いは、２段階や４段階以上、もしくは無段階に増減制御してもよい。こうすれば、ハード・ソフトの洗浄感の洗浄期間ごとの推移や刺激感の強弱推移を図ることができ、洗浄感の多様化を図ることができる。また、周波数が相違すれば、上記の水塊の衝突の連続間隔が異なることから、水塊の衝突で得られる水勢の強弱も周波数制御で調整できる。しかも、この周波数制御は、流調弁による流量調整とは無関係なため、流調弁での流量調整では調整できないような水勢調整を、周波数制御を通して実現できる。つまり、周波数制御により、流調弁の流量調整を補完できる。そして、流調弁による流量調整を通した水勢等の調整と周波数制御を通した水勢等の調整の併用により、きめ細かな水勢等の調整を行うことができる。

この場合、各洗浄期間は同じ時間間隔であってもよく、洗浄期間ごとに異なる時間間隔であってもよい。しかも、異なる時間間隔とする場合には、時間間隔が規則的に変わってもよく、不規則的に変わってもよい。例えば、時間間隔とｔＳ、ｔＭ、ｔＬ（ｔＳ＜ｔＭ＜ｔＬ）とした場合、ｔＳ→ｔＭ→ｔＬ→ｔＳ→ｔＭ・・・のように規則的に変化してもよく、ｔＬ→ｔＳ→ｔＳ→ｔＭ→ｔＬ→ｔＭ・・・のように不規則的に変化してもよい。なお、このような不規則的な時間間隔変化は、乱数発生プログラムをロードして、その発生した乱数に応じて各時間間隔を定めるようにすればよい。

また、図５５（ｂ）に示すように、洗浄継続中の各洗浄期間ＴＡ、ＴＢ、ＴＣ・・・において、デューティ比Ｄｔｍを増減制御する。例えば、図示するように、デューティ比ＤｔｍをＤｔｍＳ、ＤｔｍＭ、ＤｔｍＬ（ＤｔｍＳ＜ＤｔｍＭ＜ＤｔｍＬ）のいずれかの値に可変制御する。或いは、２段階や４段階以上、もしくは無段階に増減制御してもよい。加えて、脈動周波数ｆｔｍを上記したように各洗浄期間ごとに増減制御する。こうすれば、洗浄感をより一層多様化することができる。この場合であっても、各洗浄期間を同じ時間間隔としたり、規則的或いは不規則的に変更してもよい。

Ｆ２／洗浄動作；
次に、上記構成を有する第２実施例の局部洗浄装置が実行する洗浄動作について説明する。図５６は、この第２実施例の局部洗浄装置の洗浄動作を表すタイムチャートである。

図示するように、本局部洗浄装置は、便座ＫＳ１−３（図１参照）に使用者が着座して着座センサＳＳ１０（図３６参照）がオンすると、このオン信号を受けて、まず、入水側弁ユニットＷＰ１−１の電磁弁ＷＰ１−１０（図３１参照）を開弁制御する。これにより、装置内への洗浄水の給水が開始されるので、洗浄に先立つ洗浄水の予備的昇温のためにヒータＴＨ１−２をフル通電すると共に、洗浄水の給水先を流調切換弁ＷＰ２−２で機能水ユニットＷＰ１−４に切り換える。よって、機能水ユニットからの機能水（遊離塩素溶液）がノズルヘッドＮＨ２−１に吐水され（図８参照）、ノズルヘッドは殺菌洗浄される。こうして着座直後になされた給水・温水化・機能水吐水は、センサオンから所定時間経過後、或いは、出水温センサＳＳ１６ｂが所定温度（例えば、洗浄時の温水温度より２〜３度程度低い温度）を検出した時点で停止される。つまり、電磁弁の閉弁、流調切換弁の止水切換、ヒータの通電低減（例えば、フル通電の３０％程度）を行い、その後の洗浄ボタンの操作を待機する。このように着座後の短時間のヒータフル通電その後の通電低減を行って、洗浄水を予備的に温水化しその温度を維持するので、その後の洗浄時にはヒータの急速な通電制御を必要としない。また、既述したように本実施例では洗浄水流量の低減効果が高いことから、ヒータ通電に際して省電力化を図ることができる。

その後、洗浄ボタン、例えばお尻洗浄ボタンＳＷｂ（図２参照）がオンされると、電磁弁ＷＰ１−１０を開弁制御してお尻洗浄のための洗浄水給水を行うと共に、ヒータＴＨ１−２をフル通電する。ヒータは、停止ボタンＳＷａが操作されるまで継続してフル通電とされる。電磁弁の閉弁については後述する。

この電磁弁の開弁により、局部洗浄に先立って、ノズルヘッドを自己洗浄するノズル前洗浄を行う。つまり、電磁弁の開弁に続いて、洗浄ノズルＷＮ２−１での洗浄水給水先を流路切換弁ＷＮ２−２をお尻流路に切り換え、次いで流調切換弁ＷＰ２−２により洗浄水給水先を洗浄ノズル側とすると共に、その際の流量を設定する。これにより、調整された流量の洗浄水が待機位置にある洗浄ノズルに送られてお尻吐水孔ＮＨ２−２から吐水されるので、チャンバＮＳ１−１４での跳ね返り水によりノズルヘッドが洗浄される（図８、図１０参照）。このノズル前洗浄における通水により、ヒータのフル通電によって既に適正な温度に温水化済みの洗浄水が、ノズルヘッドに至る間の管路に行き渡る。このため、後述する本洗浄開始当初から、適正温度の洗浄水を局部に吐水でき、低温洗浄水の吐水による不快感を与えることがない。また、流調切換弁より下流側の流路切換弁の流路切換に続いて、流調切換弁の給水先切換並びに流量設定を行う。よって、流路切換弁を洗浄水の水圧がほとんどかかっていない無負荷状態に近い状態で駆動できるので、その駆動モータに過負荷をかけることが無く好ましい。なお、このノズル前洗浄時にあっても、波動発生機器ＷＰ２−８を駆動して脈動流の洗浄水でノズルヘッドを自己洗浄するようにすることもできる。この場合、コイルの脈動周波数ｆｔｍは、不感帯領域内であっても不感帯領域外であってもよい。

このノズル前洗浄は、所定時間経過して時点で停止される。つまり、図示するように、まず、上流側の流調切換弁を機能水ユニット側に切り換えて洗浄ノズルの側に洗浄水が流れないようにする。その後に、流路切換弁を止水して、ノズル前洗浄を停止する。このように、ノズル前洗浄の停止時にあっても、流路切換弁を無負荷状態に近い状態で駆動できるので、その駆動モータに過負荷をかけることが無く好ましい。

このノズル前洗浄に続いては、ノズル駆動モータＮＳ１−４を正転駆動制御して、洗浄ノズルＷＮ２−１をお尻洗浄位置に待機位置から進出させる。このノズル進出の間にも、電磁弁は開弁状態にあり、流調切換弁は給水先を機能水ユニットとしているので、機能水はチャンバから吐水されている。よって、この機能水により、洗浄ノズルの筒状部を殺菌洗浄することができる。なお、このノズル進出までの動作においては、操作された洗浄ボタンに応じて流路切換弁の切換先、洗浄ノズルの進出先（ビデであればビデ洗浄位置）が異なるだけであり、やわらか洗浄ボタンやビデ洗浄ボタンについても同様である。

こうして洗浄位置への洗浄ノズルの進出が完了すると、局部の本洗浄（お尻洗浄、やわらか洗浄、ビデ洗浄）を操作ボタンに応じて実行する。図示するようにお尻洗浄では、お尻吐水孔ＮＨ２−２からの脈動流の洗浄水吐水を開始すべく、以下のソフトスタートを行う。まず、流路切換弁ＷＮ２−２をお尻流路に切り換え、次いで流調切換弁ＷＰ２−２により洗浄水給水先を洗浄ノズル側とすると共に、その際の流量を設定済みの設定水勢に対応した流量までゼロから漸増調整する。なお、設定水勢対応の流量より所定量だけ少量の流量からこの設定水勢対応流量に漸増調整するようにすることもできる。

このソフトスタートでは、波動発生機器ＷＰ２−８による脈動流の生成も開始する。つまり、パルス信号を出力して脈動発生コイルＷＰ２−１５を繰り返し励磁し、プランジャＷＰ２−１４を往復動させる。これにより、既述したように脈動流を発生させる。お尻洗浄であれば、図５４に示すようにビデ・やわらか洗浄より小さな脈動周波数ｆｔｍで、コイル励磁を繰り返す。このコイル励磁にあっても、パルス信号のデューティ比Ｄｔｍを設定済みの設定水勢に応じたデューティ比に徐々に近づくよう漸増制御する。こうしたソフトスタートにより、設定水勢が大きい場合であっても、吐水量が少なく、かつ、小さなデューティ比Ｄｔｍに基づいた脈動流であるソフトな吐水から徐々に設定水勢の吐水とできるので、使用者に違和感や不快感を与えることが無く好ましい。こうしたソフトスタートが完了すれば、設定水勢での吐水が、脈動流の洗浄水の吐水で行われ、本洗浄に移行する。この本洗浄では、その後に水勢が変更設定されれば、この変更された水勢となるように流調切換弁での流量調整や波動発生機器ＷＰ２−８での脈動流制御（デューティ比制御、脈動周波数制御）がなされる。

ところで、一般に、低流量の洗浄水を流量調整する際、流量の細かな調整はその調整精度の信頼性に欠ける。このことは、水勢を流量調整で行う従来の局部洗浄装置では低流量化を実現できない理由の一つである。しかしながら、この第２実施例の局部洗浄装置では、脈動流制御（デューティ比制御、脈動周波数制御）を通して既述したように水勢調整ができることから、低減した洗浄水流量でありながら、水勢調整できるという利点がある。よって、第２実施例の局部洗浄装置では、最低水勢に近い水勢から最大水勢に近い水勢に大きく変更設定されたような場合は、流量調整と脈動調整を併用して実施し、その他の場合には、脈動流制御で水勢調整を図るようにした。つまり、水勢変更程度を水勢強弱設定ボタンＳＷｈｕ、ＳＷｈｄの操作状況から読み取り、その結果に応じて脈動流制御（デューティ比制御、脈動周波数制御）を行う。具体的には、水勢強設定されれば、デューティ比Ｄｔｍを増大制御する、或いは脈動周波数ｆｔｍを低減制御する、もしくはこの両者の制御を併用する。水勢弱設定はこの逆である。この際、波動発生機器ＷＰ２−８に至る実際の洗浄水流量を図示しない流量センサで検出し、この検出流量と水勢変更設定量とに基づいて脈動流制御（デューティ比制御、脈動周波数制御）を行うので、より細かな水勢調整が可能である。この場合、圧力センサを流量センサとして代用したり、流量設定に関与するスイッチ等からの信号などにより間接的にその流量を検出してもよい。また、流量センサは波動発生機器の上流に配置する構成のほかに、洗浄水水量が検出できる位置にあればどこに配置されてもよく、各ユニットのレイアウトに応じて配置すれば製品のコンパクト化を図ることができる。

本洗浄は、停止ボタンの操作により次のように終了し、その後、ノズル後退・ノズル後洗浄が行われる。即ち、停止ボタンが操作されると、そのボタンＯＮ信号を受けて、ノズルからのお尻洗浄吐水を停止すべく、まず、流調切換弁ＷＰ２−２を機能水ユニット側に切り換え、次いで、流路切換弁ＷＮ２−２の止水並びにコイル励磁のパルス信号の出力停止、ヒータの通電低減を行う。このヒータ通電低減は、着座センサがオフとなるまで維持される。よって、洗浄水はセンサオフとなるまでの間に亘って不用意にその温度が低下せず、適正温度よりわずかに低い上記温度に保温される。このため、便座に着座したまま局部洗浄が繰り返された場合には、速やかに洗浄水を適正温度に温水化でき、好ましい。また、このお尻洗浄吐水停止の際も、流調切換弁・流路切換弁の順に弁駆動して、流路切換弁を無負荷状態に近い状態で駆動できるので、その駆動モータに過負荷をかけることが無く好ましい。なお、上記の本洗浄（お尻洗浄本洗浄）は、使用者が便座から離れて着座センサが停止ボタン操作以前にオフしたり、お尻洗浄中にやわらか・ビデの各洗浄ボタンが操作された場合にも同様に終了する。

流路切換弁ＷＮ２−２が止水となると、ノズル駆動モータＮＳ１−４を逆転駆動制御して、洗浄ノズルＷＮ２−１を待機位置に後退復帰させる。このノズル後退の際、電磁弁は開弁状態にあり、流調切換弁ＷＰ２−２は給水先を機能水ユニットとしているので、機能水はチャンバから吐水されている。よって、この機能水により、ノズル後退の際にあっても洗浄ノズルの筒状部を殺菌洗浄することができる。

洗浄ノズルが待機位置に復帰すると、ノズル後洗浄を開始すべく、流路切換弁ＷＮ２−２をお尻流路に切り換え、次いで流調切換弁ＷＰ２−２により洗浄水給水先を洗浄ノズル側とすると共に、その際の流量を設定する。これにより、調整された流量の洗浄水が待機位置にある洗浄ノズルに送られてお尻吐水孔ＮＨ２−２から吐水されるので、チャンバＮＳ１−１４での跳ね返り水によりノズルヘッドが洗浄される（図８、図１０参照）。このノズル後洗浄における通水により、ノズル後退時にノズルヘッドにかけられた機能水は洗い流される。このノズル後洗浄にあっても、流調切換弁・流路切換弁の順に弁駆動して、流路切換弁を無負荷状態に近い状態で駆動できるので、その駆動モータに過負荷をかけることが無く好ましい。

このノズル後洗浄が所定時間行われると、次回以降の局部洗浄に備えるべく、電磁弁ＷＰ１−１０を閉弁制御して、局部洗浄装置への洗浄水給水を停止する。その後、流量調整弁より下流の給水管路並びに下流の流路切換弁、洗浄ノズルに残留する洗浄水を排出する。つまり、上記の電磁弁の閉弁を受けて、波動発生機器ＷＰ２−８の脈動発生コイルＷＰ２−１５を小さなデューティ比Ｄｔｍで繰り返し励磁し、プランジャＷＰ２−１４を往復動させる。この場合、脈動周波数ｆｔｍは低周波数でよい。このようにプランジャが往復動している際、波動発生機器には洗浄水が給水されていないが、プランジャの往復動により、上流側の洗浄水のシリンダ内への吸込、その吸い込んだ洗浄水の送り出しがなされる。よって、上記の下流の給水管路等に残存している洗浄水は、プランジャの送り出す洗浄水により徐々に下流に送られ、流路切換弁の切換流路（この場合は、お尻流路）を経て、待機位置のノズルのお尻吐水孔から便器ボール部に排出される。こうして、残存洗浄水の排出が完了すると、流量調整弁の機能水ユニット側への切換、流路切換弁の止水により、一連のお尻洗浄動作を終了する。なお、このノズル後退以降の動作においては、操作された洗浄ボタンに応じて流路切換弁の切換先、洗浄ノズルの進出先（ビデであればビデ洗浄位置）が異なるだけであり、やわらか洗浄ボタンやビデ洗浄ボタンについても同様である。

本実施例では、波動発生機器ＷＰ２−８を用いた残存洗浄水の排出を完了させるに際し、次のようにした。

波動発生機器ＷＰ２−８の脈動発生コイルＷＰ２−１５を通電励磁してプランジャＷＰ２−１４を移動させると、このプランジャの移動に伴ってコイルには逆起電力が発生し、通電電流が一旦減少するいわゆるボトム現象が起きる。このボトム現象はコイルを流れる電流の波形として現れるので、電流波形とプランジャの移動の様子とは相関関係にある。ところで、上記した残存洗浄水排出の際に脈動発生コイルを励磁させた状況を考えると、残存洗浄水が完全に排出された前後では、プランジャのシリンダ内に洗浄水がある状況下でのプランジャ移動と、洗浄水がない空の状況下でのプランジャ移動が起きる。シリンダ内の洗浄水は、プランジャの移動抵抗として働くので、コイル励磁を同一条件化（本実施例では、同一デューティ比Ｄｔｍ）で行えば、洗浄水がない空の状況下では、それ以前よりプランジャは速く移動する。よって、シリンダ内に洗浄水がある状況下でのプランジャ移動から洗浄水がない空の状況下でのプランジャ移動に推移した時点、即ち残存洗浄水が完全に排出された時には、ボトム現象の発現の様子が変化する。よって、本実施例の局部洗浄装置では、このボトム現象をボトム検知回路ＣＴ２−２（図３６参照）で検知して残存洗浄水の排出完了を検出し、上記したように流量調整弁の機能水ユニット側への切換、流路切換弁の止水を経て一連のお尻洗浄動作を終了するようにした。

図５７は、脈動発生コイルＷＰ２−１５についてのボトム検知回路ＣＴ２−２の一例を表す回路図、図５８は、脈動発生コイルＷＰ２−１５の通電励磁の際の電流波形の様子を説明するための説明図である。

図５７に示すように、ボトム検知回路ＣＴ２−２は、コンパレータＣＴ２−３とコンデンサＣＴ２−４と抵抗ＣＴ２−５を有し、この抵抗とコンデンサとでＣＲフィルタ回路からなる遅延回路を構成して備える。ＣＲフィルタ回路は入力した信号を抵抗とコンデンサとで定まる遅延程度で遅延して出力する。よって、このボトム検知回路は、マイナス側端子に入力される入力信号（通電電流を反映して検出抵抗ＣＴ２−６に発生する電圧）とこの入力信号を遅延した遅延信号とを、コンパレータでの演算処理に処す。これにより、このボトム検知回路からは、プランジャの移動完了を表すパルス状の信号（ボトム検出信号）が以下のようにして電子制御装置ＣＴ２−１に出力される。

ノズル後洗浄の完了後、脈動発生コイルＷＰ２−１５のスイッチングトランジスタＣＴ２−７には、図示する所定周期（デューティ比Ｄｔｍ一定）のパルス信号が出力され、各パルスに対応してコイルに通電が開始される。あるパルスに着目すると、時間の経過と共に脈動発生コイルに流れる電流は上昇する。そして、パルスによる通電開始から所定時間経過すると、プランジャは移動を始め、このプランジャの移動に伴って脈動発生コイルには逆起電力が発生するので、図５８に実線で示すように、通電電流が一旦減少するボトム現象が起きる。この電流波形（原信号波形）が電圧としてコンパレータのマイナス側端子に入力される。一方、プラス側端子には、図中点線で示すような遅延信号がＣＲフィルタ回路で生成されて入力される。このため、コンパレータではこれら信号がその入力端子の極性を考慮して演算されるので、図示するようにパルス状の信号が生成される。このパルス状の信号（ボトム検知信号）は、上記のトランジスタに出力された各パルスに対応して生成され、電子制御装置に上記所定周期で入力される。ところが、上記したように、残存洗浄水が完全に排出された時には、プランジャの移動速度が速いことから、この時のボトム検知信号は、それ以前と異なる周期で入力されることになる。よって、この信号入力の状況から、電子制御装置は残存水排出完了を判断して、それ以降のパルス出力を停止し、一連のお尻洗浄動作を終了させる。なお、このようなボトム検知結果により残存水排出を完了させるほか、残存水排出のためのコイル励磁から所定時間経過した時点でパルス出力を停止してコイル励磁を止め、洗浄動作を終了させることもできる。

上記した第２実施例の局部洗浄装置によれば、上記したほか、次のような利点がある。まず第１に、波動発生機器ＷＰ２−８の上流に設けたアキュムレータＷＰ２−７により、次の利点がある。図５９は、アキュムレータＷＰ２−７により得られる効果を説明するための説明図である。

波動発生機器ＷＰ２−８を駆動して上記した脈動流の洗浄水を吐水中に、上流側給水管路ＷＰ２−５（図３１参照）の圧力（１次圧力）と、波動発生機器の下流側の下流側給水管路ＷＰ２−６の圧力（２次圧力）を測定することにした。そして、アキュムレータＷＰ２−７を波動発生機器ＷＰ２−８の上流に設けない状態での１次圧を、流調切換弁ＷＰ２−２の下流で測定した。また、アキュムレータＷＰ２−７を図３１に示すように設けた場合の１次圧を、流調切換弁下流、即ちアキュムレータ上流で測定した。その結果を図５９に示す。

アキュムレータを本実施例の波動発生機器の管路上流に組み込むと、アキュムレータとしての本来の機能である水撃低減を上流側給水管路ＷＰ２−５において発揮できることに加え、以下の利点がある。即ち、図５９に示すように、波動発生機器による脈動流生成の際に、上流側給水管路における１次圧力の圧力変動を効果的に抑制できる。よって、既述した水撃抑制によるタンクＴＨ１−３の洗浄水温度分布の乱れ回避と、この１次圧力変動抑制によるタンクの洗浄水温度分布の乱れ回避とを図ることができる。従って、タンクでは温度分布に乱れが無い状態でヒータによる温水化を図ることができるので、ヒータ制御を簡略化できると共に、洗浄水温度の均一化を応答性良く図ることができる。しかも、波動発生機器の発生させる脈動流は、アキュムレータにより1次圧が蓄圧され2次側で増幅された状態となるので、波動発生機器の低能力化や小型化を図ることができる。加えて、アキュムレータによる圧力増幅を得られる分、波動発生機器では圧力変動生成（脈動生成）に要するエネルギが少なくなり、省電力化を図ることもできる。なお、アキュムレータを波動発生機器ＷＰ２−８に近接配置したり当該機器と一体的に配置するようにしたが、流調切換弁ＷＰ２−２に近接配置したり当該機器と一体的に配置することもできる。

また、この第２実施例の局部洗浄装置では、洗浄水の流れに周期的な変動を与えて洗浄水を吐水するに当たり、プランジャの往復動を利用した波動発生機器ＷＰ２−８を用い、この波動発生機器で発生させる脈動流を、流量ゼロの状況が現れないようにした。よって、管路における洗浄水の流れが遮断される状況を発生させないので、水撃を発生させることがない。このため、波動発生機器を始めとする水路系構成機器を耐水撃性が高いものとする必要がなくなり、構成・構造の簡略化や小型化、延いては樹脂化を図ることができる。

また、波動発生機器ＷＰ２−８では、プランジャの往復動により脈動を発生させるに際し、上記のように流量ゼロの状況を発現させないので、洗浄水吐出側に逆止弁等の止水構造を必要としない。このため、より一層の構成・構造の簡略化や小型化を図ることができる。そして、このように小型化を図ることができることから、波動発生機器の設置場所の自由度が高まると共に、質量の大きな他の部材への取付や一体化が簡便化する。

更に、脈動流の洗浄水吐水の際に流量ゼロの洗浄水吐水の状況を起こさないので、以下の利点がある。脈動周波数が不感帯周波数領域内（約５Ｈｚ以上）であっても、吐水を受ける使用者の刺激の連続感は、この脈動周波数がこの不感帯周波数領域の下限に近づくほど薄れがちとなるといえる。しかし、上記のように流量ゼロの洗浄水吐水状況を起こさないので、この刺激の連続感を薄れにくくできる。よって、波動発生機器ＷＰ２−８による脈動流の洗浄水吐水では、脈動周波数の調整範囲を不感帯領域の下限近くにまで広げることができ、広範囲の脈動周波数調整により、洗浄感や水勢の多様化を図ることができる。

また、この第２実施例の局部洗浄装置では、お尻洗浄・やわらか洗浄・ビデ洗浄で洗浄動作の終了時に、上記したように波動発生機器ＷＰ２−８を駆動してプランジャを往復動させ、残存洗浄水を強制的に排出するようにした。よって、流調切換弁ＷＰ２−２から洗浄ノズルＷＮ２−１のノズルヘッドまでに亘る管路の水抜きが完全に行われる。このため、残存水の凍結を確実に回避できる。なお、この波動発生機器による残存水排出完了後に、流調切換弁ＷＰ２−２を機能水ユニット側に切り換えるようにして、流調切換弁ＷＰ２−２から機能水ユニットまでに亘る管路の水抜きを行うようにすれば、この管路における凍結も防止でき好ましい。このような水抜きのために波動発生機器を駆動する際、脈動発生コイルＷＰ２−１５のデューティ比Ｄｔｍを小さくし脈動周波数ｆｔｍを低周波数としたので、プランジャを定速かつ弱い力で移動させるに過ぎず、プランジャをシリンダ端部に高速かつ強い力で衝突させない。このため、プランジャの打音を低減できる。更に、既述したように流路切換弁を水抜き時に各ノズル流路の総ての連通孔を開口させるようにすれば、洗浄ノズルにおける総ての流路で水抜きできる。

加えて、この第２実施例の局部洗浄装置では、既述したように、使用者には連続した吐水を受けているような感じを与えつつ洗浄水水量（吐水量）を低減して節水の実効性を高めた。このため、所望温度まで洗浄水をヒータＴＨ１−２で加熱するための消費電力の低減を図ることができる。すなわち、一般にトイレ室内のコンセントの限界容量は１５Ａである。しかし、従来トイレで使用される局部洗浄装置では、瞬間式の熱交換器の温水ヒータ容量を、寒冷期でも充分な温度、充分な時間の吐水を可能にするために２５００ワット程度に設定している。このヒータ容量の低減を図るために洗浄水に空気を強制的に混入させて洗浄水量を低減させることが行われているが、このようにしても、少なくとも１０００ワット以上のヒータ容量が必要であった。このため、このようなヒータ容量を有する局部洗浄装置をトイレ室内のコンセントに差すと、コンセントの限界容量に近づくため、他の電気機器が接続できないという問題があった。そればかりでなく、局部洗浄装置に設けられた温風乾燥機能や室内暖房機能などを同時に作動させると総合的なヒータ容量は大きくなる。よって、これらの機能が同時に作動したときは、何れかのヒータ通電を停止するなどの措置を取らなければならないといった問題もあった。また、ホテルや施設などは複数の局部洗浄装置を設置する必要があるものの、消費電力の上限のために設置できないといった問題があった。しかしながら、この第２実施例の局部洗浄装置ＫＳ２−１によれば、波動発生機器ＷＰ２−８により脈動を発生させ、この脈動の脈動周波数ｆｔｍ並びにデューティ比Ｄｔｍの制御を通して、洗浄水水量の大幅な減少及び消費電力の低減が図れ、上述したような電源の問題の解決も図ることができる。

上記した第２実施例の局部洗浄装置では、波動発生機器ＷＰ２−８に至る洗浄水流量を図示しない流量センサで検出している。よって、既述したように、このセンサの検出流量を用いた脈動流制御（デューティ比制御、脈動周波数制御）による細かな水勢調整が可能であるほか、以下の利点がある。即ち、電子制御装置ＣＴ２−１は、電磁弁の不良等により過度の流量が発生した時や断水などの異常発生時に、この流量センサからの検出信号を受けて、波動発生機器ＷＰ２−８の駆動停止、ヒータＴＨ１−２への通電停止、洗浄ノズルＷＮ２−１の待機位置復帰等の動作を行なう。こうすれば、プランジャの空打ちによる打音の発生を回避したり、ヒータの空だきを回避等できる。

ＫＳ１−３…便座
ＳＳ１０…着座センサ
ＷＮ１−１…洗浄ノズル
ＷＰ１−４…機能水生成ユニット
ＷＰ１−１０…電磁弁
ＷＰ１−１６…機能水生成タンク
ＷＰ１−１７…電極
ＷＰ２−３…波動発生ユニット
ＣＴ１−１…電子制御装置
ＣＴ２−１…電子制御装置
ＮＨ１−９…お尻用可動体
ＮＨ１−１１…ビデ用可動体

Claims (4)

1. 便座と、
   前記便座に着座した人体を検知する着座センサと、
   吐水孔を有するノズルと、
   前記吐水孔から人体に向けて吐出される洗浄水の吐水態様を時間的に変動させつつ、前記吐水態様を５Ｈｚ以上の周期で時間的に変動させて、前記吐水態様の時間的な変動を人体が認識しないように吐出する吐水手段と、
   前記ノズルを殺菌洗浄するための機能水を生成する機能水生成ユニットと、
   前記吐水手段および機能水生成ユニットに洗浄水を供給する電磁弁と、
   前記吐水手段、機能水生成ユニットおよび電磁弁の動作を制御する吐水制御手段と、
   を備え、
   前記吐水制御手段は、人体局部の洗浄を開始させる操作が行われる前において前記着座センサが人体を検知すると、前記電磁弁を開弁させ、前記機能水生成ユニットから前記ノズルに前記機能水を吐水させて、前記ノズルを殺菌洗浄することを特徴とする人体洗浄装置。
2. 前記機能水生成ユニットは、
   塩素イオンを含んだ洗浄水が供給される機能水生成タンクと、前記機能水生成タンク内に配置されて陽極及び陰極からなる一対の電極と、を有し、前記一対の電極に電圧を印加することによって塩素イオンを含んだ洗浄水から遊離塩素を生成させて機能水を生成することを特徴とする請求項１記載の人体洗浄装置。
3. 前記吐水制御手段は、前記着座センサが人体を検知すると前記一対の電極への通電を開始させることを特徴とする請求項２記載の人体洗浄装置。
4. 前記機能水生成タンクは、前記一対の電極が平板状とされてなり、平板状とされた前記一対の電極を対向配置させて通水路を挟みこんだ構成とし、前記通水路に通水した状態で前記一対の電極に通電させるように構成したことを特徴とする請求項２又は３に記載の人体洗浄装置。