JP2009231770A - Multilayer flexible printed wiring board and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer flexible printed wiring board having a stable shielding connection point, and a method for manufacturing the wiring board inexpensively and stably. <P>SOLUTION: In the multilayer flexible wiring board in which at least one cable part and at least one component mounting part are integrally formed and at least one of the cable parts has a shield layer, electric connection points 17, 36, 60 are formed from at least two layers of wiring layers to the shield layer 14, 15, 44 on the end surface of the component mounting part which makes a boudary with the cable part having the shield layer. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、多層フレキシブルプリント配線板およびその製造方法に係わり、特にケーブル部にシールド層を有する多層フレキシブルプリント配線板の構造およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a multilayer flexible printed wiring board and a manufacturing method thereof, and more particularly to a structure of a multilayer flexible printed wiring board having a shield layer in a cable portion and a manufacturing method thereof.

近年、電子機器の小型化および高機能化は益々促進されてきており、そのためにプリント配線板に対する高密度化の要求が高まっている。そこで、プリント配線板を片面型から両面型や三層型以上の多層プリント配線板とすることにより、プリント配線板の高密度化を図っている。   In recent years, downsizing and higher functionality of electronic devices have been promoted more and more, and therefore, there is an increasing demand for higher density of printed wiring boards. Therefore, the printed wiring board is made dense by changing the printed wiring board from a single-sided type to a double-sided type or a multilayer printed wiring board of three layers or more.

この一環として、各種電子部品を実装する多層プリント配線板や硬質プリント配線板間をコネクタ等を介して接続する別体のフレキシブル配線板や、フレキシブルフラットケーブルを一体化した可撓性ケーブル部を有する多層フレキシブルプリント配線板が、携帯電話等の小型電子機器を中心に広く普及している。   As a part of this, it has a multilayer printed wiring board for mounting various electronic components, a separate flexible wiring board for connecting hard printed wiring boards via connectors, etc., and a flexible cable part integrated with a flexible flat cable. Multilayer flexible printed wiring boards are widespread mainly in small electronic devices such as mobile phones.

特にデジタルビデオカメラ向けには、3層ないしは4層以上の多層フレキシブルプリント配線板が要求されている。また、携帯電話に用いられる多層フレキシブルプリント配線板のケーブル部は、ヒンジ屈曲部となることから、外形上の制約が大きい。   Particularly for digital video cameras, a multilayer flexible printed wiring board having 3 layers or 4 layers or more is required. Moreover, since the cable part of the multilayer flexible printed wiring board used for a mobile phone becomes a hinge bending part, the restrictions on an external shape are large.

そして、ヒンジ屈曲部は高い屈曲信頼性が要求されており、数十万回の屈曲においても電気特性の変化が規格内であることを求められる。小型・薄型で高機能な携帯電話のケーブルは信号線の本数も増加しており、単層のケーブルだけでは対応できず、内層、外層からの複数層からの引き出しも要求されており、6層多層フレキシブルプリント配線板については特許文献1に記載のようなものがある。   The hinge bent portion is required to have high bending reliability, and the change in electrical characteristics is required to be within the standard even after several hundred thousand times of bending. The number of signal lines for small, thin, high-performance mobile phone cables is increasing, and single-layer cables cannot be used alone, and multiple layers from the inner and outer layers are required. There exists a thing as described in patent document 1 about a multilayer flexible printed wiring board.

これに加え、多層フレキシブルプリント配線板には薄型化という要求もある。これは、携帯電話、デジタルビデオカメラ等の小型電子機器の高機能化に伴い、各部品サイズの小型化が必要となり、これらを搭載する基板に対しても機能は維持した上で、薄型化が必要となっている。薄型の多層フレキシブルプリント配線板を製造する方法として、特許文献2に記載の方法がある。   In addition, the multilayer flexible printed wiring board is also required to be thin. This is because with the increasing functionality of small electronic devices such as mobile phones and digital video cameras, it is necessary to reduce the size of each component. It is necessary. As a method of manufacturing a thin multilayer flexible printed wiring board, there is a method described in Patent Document 2.

これは、内層のケーブル部となるフレキシブルプリント配線板のカバーフィルムを外層の可撓性絶縁ベース材と共用することにより、薄型の4層フレキシブルプリント配線板を製造できるとしている。ただし、外層ケーブルの形成が困難なため、上述の問題を解決するには至らない。   It is said that a thin four-layer flexible printed wiring board can be manufactured by sharing the cover film of the flexible printed wiring board that becomes the inner layer cable portion with the flexible insulating base material of the outer layer. However, since the formation of the outer layer cable is difficult, the above-described problem cannot be solved.

また、特許文献3にもあるように、屈曲ケーブルは、めっきを付けない銅箔単層で片面構成のケーブルが屈曲時の導体の歪が少なく、屈曲特性としては良好であることも知られている。この点で、多層型である特許文献1および2のものは不適当である。   In addition, as described in Patent Document 3, it is also known that a bent cable is a copper foil single layer with no plating, and a single-sided cable has less distortion of the conductor when bent, and has good bending characteristics. Yes. In this respect, those of Patent Documents 1 and 2 which are multi-layer types are inappropriate.

さらに、携帯電話のケーブル等では、屈曲特性とノイズ耐性を両立させるべく、銀ペーストや銀フィルムといったシールド層をケーブルの外側に形成することも必要である。この点においても、特許文献1および2は適当ではない。   Furthermore, in a cellular phone cable or the like, it is also necessary to form a shield layer such as a silver paste or a silver film on the outside of the cable in order to achieve both bending characteristics and noise resistance. In this respect, Patent Documents 1 and 2 are not appropriate.

これらのことから、内、外層の複数層からの引き出し可能な屈曲特性を有するケーブル部を有する薄型の多層フレキシブルプリント配線板を安価かつ安定的に製造する方法の出現が望まれていた。   For these reasons, there has been a demand for the emergence of a method for stably and inexpensively manufacturing a thin multilayer flexible printed wiring board having a cable portion having a bending characteristic that allows drawing from a plurality of inner and outer layers.

図8は、従来の3層フレキシブルプリント配線板の要部構成を示す断面図である(特許文献1参照)。この配線板は、シールド層を有する第2層および第3層を含む複数層からの引き出し可能なケーブル部を有するものである。   FIG. 8 is a cross-sectional view showing a main configuration of a conventional three-layer flexible printed wiring board (see Patent Document 1). This wiring board has a cable portion that can be pulled out from a plurality of layers including a second layer and a third layer having a shield layer.

まず、ポリイミド等の可撓性絶縁ベース材101に、カバーレイを張り合わせてケーブル部を構成するものである。すなわち、回路パターンを両面に有する可撓性プリント配線板102のケーブル部となる層に対し、ポリイミドフィルム等の絶縁フィルム103上に接着材104を有する、いわゆるカバーレイ105を張り合わせて第2層のケーブル部106とする。   First, a cable lay is formed by attaching a coverlay to a flexible insulating base material 101 such as polyimide. That is, the second layer is formed by bonding a so-called cover lay 105 having an adhesive 104 on an insulating film 103 such as a polyimide film to a layer to be a cable portion of the flexible printed wiring board 102 having circuit patterns on both sides. The cable portion 106 is used.

同様に、ポリイミド等の可撓性絶縁ベース材107上に、第3層のケーブル部を含む回路パターンを片面に有する可撓性プリント配線板108のケーブル部となる層に対し、カバーレイ111を張り合わせて第3層のケーブル部112としている。   Similarly, a cover lay 111 is formed on a layer to be a cable portion of a flexible printed wiring board 108 having a circuit pattern including a cable portion of a third layer on one side on a flexible insulating base material 107 such as polyimide. The third layer cable portion 112 is laminated.

この第2層のケーブル106と第3層のケーブル112とは、予め型抜きされた接着材113で張り合わされている。さらに、各々の可撓性絶縁ベース材の外側から、第1層側にシールド層114、第3層側にシールド層115を形成し、シールド層を有するケーブル部としている。   The second-layer cable 106 and the third-layer cable 112 are pasted together with an adhesive 113 that has been punched in advance. Further, from the outside of each flexible insulating base material, a shield layer 114 is formed on the first layer side and a shield layer 115 is formed on the third layer side to form a cable portion having a shield layer.

層間の接続については、第3層のケーブル部に相当する箇所にめっきを付けないことが必須であるが、層間接続部のみにめっきを付ける、いわゆるボタンめっきや層間導通用孔の開口面側のみにパネルめっきを行う、片面めっき(この場合、第1層のみめっきを行う)を採用した上で、全層を貫通するスルーホールや近接した層を接続するブラインドビアホール接続などを選択することもできる。ここでは、貫通スルーホール116とボタンめっきとの組み合わせを選択した。
特公平2-55958号公報 特開平5-90757号公報 特開平7-312469号公報
For the connection between layers, it is essential not to apply plating to the portion corresponding to the cable portion of the third layer, but only the opening side of the so-called button plating or interlayer conduction hole where plating is applied only to the interlayer connection portion. Panel plating, single-sided plating (in this case, only the first layer is plated), and through-holes penetrating all layers or blind via-hole connections connecting adjacent layers can be selected. . Here, a combination of the through through hole 116 and button plating was selected.
Japanese Patent Publication No. 2-55958 Japanese Patent Laid-Open No. 5-90757 Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-312469

このような従来の構造では、多層部117の構成が複雑で厚いため、上述の薄型化の要求に対応できない。このため、多層部とケーブル部との段差が大きく、シールド層を形成する際に薄型のシールドフィルム等では充填不良が発生する、といった問題もある。また、シールドの電気的な接続点118が1面にしか取れず、前述の充填不良があった場合は、加熱時に膨れが起こることで密着に問題が発生する場合がある。   In such a conventional structure, the configuration of the multilayer portion 117 is complicated and thick, and thus cannot meet the above-described demand for thinning. For this reason, the level | step difference of a multilayer part and a cable part is large, and there also exists a problem that filling defect generate | occur | produces in a thin shield film etc. when forming a shield layer. In addition, when the shield electrical connection point 118 can be taken only on one surface and the above-described filling failure occurs, swelling may occur at the time of heating, which may cause a problem in adhesion.

特に、近年の鉛フリー半田を用いた部品実装時のリフロー工程では、ピーク温度が高いことから、リフロー工程時の熱で膨れや剥離が生じる場合がある。加えて、スルーホールやブラインドビアホール形成に際しての導通用孔の穿孔の際、導通用孔内に各層の材料の切り粉やスミア等の異物が多く溜まり、これらを除去するためのデスミア処理工程が煩雑になるとか、デスミア処理不足による電気的接続不良の原因となる等のおそれがある。また、構成材料が多くなることから、材料コストが高くなるという問題もある。   In particular, in a reflow process at the time of component mounting using lead-free solder in recent years, since the peak temperature is high, the heat during the reflow process may cause swelling and peeling. In addition, when drilling through holes for through holes and blind via holes, a lot of foreign matter such as chips and smears of the material of each layer accumulates in the through holes, and the desmear treatment process to remove them is complicated. Or may cause electrical connection failure due to insufficient desmear treatment. In addition, since the number of constituent materials increases, there is a problem that the material cost increases.

本発明は、上述の点を考慮してなされたもので、安定したシールド接続点を有する多層フレキシブルプリント配線板、およびこの配線板を安価かつ安定的に製造する方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above-described points, and an object of the present invention is to provide a multilayer flexible printed wiring board having a stable shield connection point and a method for stably and inexpensively manufacturing the wiring board. .

上記目的達成のため、本願では、次の各発明を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides the following inventions.

第1の発明によれば、
少なくとも1つずつのケーブル部と部品実装部とが一体的に形成され、前記ケーブル部のうちの少なくとも1つにシールド層を有する多層フレキシブルプリント配線板において、
前記シールド層を有する前記ケーブル部との境界となる前記部品実装部の端面に、少なくとも2層以上の配線層から前記シールド層へ電気的な接続点が形成されている
ことを特徴とする。
According to the first invention,
In a multilayer flexible printed wiring board in which at least one cable portion and a component mounting portion are integrally formed, and at least one of the cable portions has a shield layer,
An electrical connection point from at least two wiring layers to the shield layer is formed on an end surface of the component mounting portion that becomes a boundary with the cable portion having the shield layer.

また、第2の発明によれば、
シールド層が形成されたケーブル部を有する多層フレキシブルプリント配線板の製造方法において、
両面に導電層を有する両面可撓性基板および片面に導電層を有する片面可撓性基板を用意する工程と、
前記両面可撓性基板の一方の導電層に前記両面の導電層間を接続する導通用孔を形成するためのマスク孔を設けるとともに、他方の導電層に前記シールド層との電気的な接続点となる回路パターンを形成する工程と、
前記回路パターンの内層側に配された接着材を挟んで前記両面可撓性基板と前記片面可撓性基板とを積層して多層回路を形成する工程と、
前記マスク孔を用いて前記両面可撓性基板の一方の面から前記多層回路の穴明け加工を施し、前記導通用孔を形成する工程と、
前記回路パターンの端部における前記両面可撓性基板の絶縁ベース材の一部を除去し、前記回路パターンを露出させる工程と、
前記導通用孔および前記回路パターンに対し、前記導通用孔の開口面にめっきを施してビアホールを形成するとともに、前記回路パターンの端部に前記シールド層との電気的な接続点を形成する工程と、
少なくとも前記接続点を含む前記回路パターンを覆うように前記シールド層を形成する工程と、
をそなえたことを特徴とする。
According to the second invention,
In the method for producing a multilayer flexible printed wiring board having a cable portion on which a shield layer is formed,
Preparing a double-sided flexible substrate having a conductive layer on both sides and a single-sided flexible substrate having a conductive layer on one side;
A mask hole is provided in one conductive layer of the double-sided flexible substrate to form a conduction hole for connecting the conductive layers on both sides, and an electrical connection point with the shield layer is provided on the other conductive layer. Forming a circuit pattern comprising:
Laminating the double-sided flexible substrate and the single-sided flexible substrate across an adhesive disposed on the inner layer side of the circuit pattern to form a multilayer circuit;
Performing the drilling of the multilayer circuit from one surface of the double-sided flexible substrate using the mask hole, and forming the conduction hole;
Removing a part of the insulating base material of the double-sided flexible substrate at an end of the circuit pattern to expose the circuit pattern;
A process of forming a via hole by plating the opening surface of the conduction hole with respect to the conduction hole and the circuit pattern, and forming an electrical connection point with the shield layer at an end of the circuit pattern When,
Forming the shield layer so as to cover the circuit pattern including at least the connection points;
It is characterized by having.

さらに、第3の発明によれば、
シールド層が形成されたケーブル部を有する多層フレキシブルプリント配線板の製造方法において、
2枚の片面可撓性基板(A,B)を用意する工程と、
前記片面可撓性基板の一方(A)の導電層に、導通用孔を形成するためのマスク孔を形成するとともに、前記シールド層との電気的な接続点となる回路パターンを形成する工程と、
前記片面可撓性基板の一方(A)の前記回路パターンと前記片面可撓性基板の他方(B)の導電層の反対面とを接着することにより、前記2枚の可撓性回路基板を積層して多層回路を形成する工程と、
前記片面可撓性基板の一方(A)の絶縁ベース材における前記マスク孔の投影位置に前記マスク孔よりも大きい径の孔を形成し、前記片面可撓性基板の他方(B)の絶縁ベース材に対し、前記マスク孔を用いて前記片面可撓性基板の一方(A)の導電層の反対面から前記多層回路の穴明け加工を施して前記導通用孔を形成する工程と、
前記接続点となる回路パターン上の前記片面可撓性基板の一方(A)の絶縁ベース材の一部を除去し、前記回路パターンの端部に前記接続点となるパターンを露出させる工程と、
前記導通用孔および前記接続点となるパターンに対し、前記導通用孔の開口面にめっきを施してビアホールを形成するとともに、前記ケーブルの端部に前記接続点を形成する工程と、
少なくとも前記接続点となるパターン上にシールド層を形成する工程と、
をそなえたことを特徴とする。
Furthermore, according to the third invention,
In the method for producing a multilayer flexible printed wiring board having a cable portion on which a shield layer is formed,
Preparing two single-sided flexible substrates (A, B);
Forming a mask hole for forming a hole for conduction in the conductive layer on one side (A) of the one-sided flexible substrate and forming a circuit pattern serving as an electrical connection point with the shield layer; ,
The two flexible circuit boards are bonded by adhering the circuit pattern on one side (A) of the single-sided flexible board and the opposite side of the conductive layer on the other side (B) of the single-sided flexible board. Laminating to form a multilayer circuit;
A hole having a diameter larger than that of the mask hole is formed at the projection position of the mask hole in the insulating base material of one side (A) of the single-sided flexible substrate, and the insulating base of the other side (B) of the single-sided flexible substrate For the material, forming the hole for conduction by drilling the multilayer circuit from the opposite surface of the conductive layer of one side (A) of the one-sided flexible substrate using the mask hole;
Removing a part of the insulating base material on one side (A) of the one-sided flexible substrate on the circuit pattern to be the connection point, and exposing the pattern to be the connection point at an end of the circuit pattern;
For the pattern to be the hole for conduction and the connection point, plating the opening surface of the hole for conduction to form a via hole, and forming the connection point at the end of the cable;
Forming a shield layer on at least the pattern to be the connection point;
It is characterized by having.

これらの特徴により、本発明は次のような効果を奏する。   Due to these features, the present invention has the following effects.

本発明の多層フレキシブルプリント配線板によれば、ビアホール開口面のケーブル部端面の段差が少なく、表層だけではなく、内層にもシールドの電気的な接続点となるパターンを設けていることから、薄型のシールドフィルム等でも充填不良が発生しない上、電気的な接続信頼性に優れる。   According to the multilayer flexible printed wiring board of the present invention, there is little step on the cable part end face of the via hole opening face, and not only the surface layer but also the inner layer is provided with a pattern serving as an electrical connection point of the shield. Even with a shield film, etc., filling failure does not occur, and electrical connection reliability is excellent.

また、本発明の多層フレキシブル配線板の製造方法によれば、スルーホールやブラインドビアホールの形成のための導通用孔の穿孔時に、導通用孔内に各層の材料の切り粉やスミア等の異物の発生量も少なく、これらを除去するためのデスミア処理工程が相対的に緩和された条件にて処理可能となり、デスミア処理工程のマージンがより多く確保できる。また、構成材料も少なくなることから、材料コストの低減にも繋がる。   Further, according to the method for manufacturing a multilayer flexible wiring board of the present invention, when a hole for conduction for forming a through hole or a blind via hole is drilled, foreign materials such as chips and smears of materials of each layer are formed in the hole for conduction. The generation amount is small, and the desmear process for removing them can be processed under relatively relaxed conditions, and a larger margin for the desmear process can be secured. Further, since the number of constituent materials is reduced, the material cost can be reduced.

さらに、本発明の多層フレキシブル配線板の製造方法によれば、ビアホール開口面の導体層(第1層)をセミアディティブ手法により形成することで、より微細かつ高精細な配線形成が可能となる。また、この際、第3層側の導体層はエッチングにより回路形成を行うため、屈曲性に優れる圧延銅箔の適用が可能という特徴も有する。   Furthermore, according to the method for manufacturing a multilayer flexible wiring board of the present invention, a finer and higher-definition wiring can be formed by forming the conductor layer (first layer) on the via hole opening surface by a semi-additive method. Further, at this time, since the conductor layer on the third layer side forms a circuit by etching, it has a feature that it is possible to apply a rolled copper foil having excellent flexibility.

この結果、ケーブル部を有し、内、外層の複数層からの引き出し可能なシールド層が形成されたフレキシブルプリント配線板を安価かつ安定的に製造する方法を提供できる。   As a result, it is possible to provide a method for stably and inexpensively manufacturing a flexible printed wiring board having a cable portion and having a shield layer that can be pulled out from a plurality of inner and outer layers.

以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

〈配線板の実施例〉
図1は、本発明に係る3層フレキシブルプリント配線板の構造を示す断面図である。この配線板では、ポリイミド等の可撓性絶縁ベース材1にカバーレイ5を張り合わせて第2層のケーブル部6とする。そのために、第2層のケーブル部を含む回路パターンを両面に有する可撓性プリント配線板2のケーブル部となる層に対し、ポリイミドフィルム等の絶縁フィルム3の上に接着材4を有するカバーレイ5を形成する。
<Example of wiring board>
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a three-layer flexible printed wiring board according to the present invention. In this wiring board, a cover layer 5 is bonded to a flexible insulating base material 1 such as polyimide to form a second layer cable portion 6. For this purpose, a coverlay having an adhesive 4 on an insulating film 3 such as a polyimide film is applied to a layer to be a cable portion of the flexible printed wiring board 2 having a circuit pattern including a cable portion of the second layer on both sides. 5 is formed.

同様に、ポリイミド等の可撓性絶縁ベース材7上にカバーレイ11を張り合わせて第3層のケーブル部12としている。そのために、第3層のケーブル部を含む回路パターンを片面に有する可撓性プリント配線板8のケーブル部となる層に対し、ポリイミドフィルム等の絶縁フィルム9上に接着材10を有するカバーレイ11を張り合わせて、第3層のケーブル部12を形成する。   Similarly, a cover layer 11 is laminated on a flexible insulating base material 7 such as polyimide to form a third layer cable portion 12. For this purpose, a coverlay 11 having an adhesive 10 on an insulating film 9 such as a polyimide film is used for a layer to be a cable portion of the flexible printed wiring board 8 having a circuit pattern including a third layer cable portion on one side. Are bonded together to form the third-layer cable portion 12.

この配線板は、第1層としての導電層6’に積層形成された、第2層および第3層たる導電層からの2層引き出しが可能なケーブル部を有する。このケーブル部には、シールド層が設けられている。   This wiring board has a cable portion that is formed on a conductive layer 6 ′ as a first layer and can be pulled out from the second layer and the third conductive layer. This cable part is provided with a shield layer.

第2層ケーブルの配線層を形成する際に、後にシールドとの接続を行う接続点6bを形成する。この第2層のケーブル6と第3層のケーブル12とは、予め型抜きされた接着材13で張り合わされている。シールドとの接続点6bは、層間接続のためのめっきを行う前にレーザ加工等で露出させ、その後、めっきを行うことで電気的な接続を得る。   When forming the wiring layer of the second layer cable, the connection point 6b to be connected to the shield later is formed. The second-layer cable 6 and the third-layer cable 12 are pasted together with an adhesive 13 that has been punched in advance. The connection point 6b with the shield is exposed by laser processing or the like before performing plating for interlayer connection, and thereafter, electrical connection is obtained by performing plating.

層間の接続については、第3層のケーブル部に相当する箇所にめっきを付けないことが必須である。ただし、ボタンめっきや片面めっき(この場合、第1層のみめっきを行う)を採用した上で、全層を貫通するスルーホールや近接した層を接続するブラインドビアホール接続をすることもできる。   For the connection between the layers, it is essential that no plating is applied to the portion corresponding to the cable portion of the third layer. However, after adopting button plating or single-sided plating (in this case, only the first layer is plated), through-holes penetrating all layers and blind via-hole connections for connecting adjacent layers can be made.

ここでは、貫通スルーホール14とボタンめっきとの組み合わせを選択した。段差の大きい第1層面では、図1に示すように、シールド層が形成される段差部の第3層ケーブルの第1層側の面に析出しためっき被膜をシールド層の接続点6bを含む形状で残しておくことで段差が縮小できる。これにより、確実に電気的な接続を行うことができ、しかも段差の大きさを縮小できてシールド層形成時の充填不良が発生しなくなる。   Here, a combination of the through through hole 14 and button plating was selected. On the first layer surface having a large step, as shown in FIG. 1, the plating film deposited on the surface on the first layer side of the third layer cable of the step portion where the shield layer is formed includes the connection point 6b of the shield layer. You can reduce the level difference by leaving it at. As a result, electrical connection can be reliably performed, and the size of the step can be reduced, so that no filling failure occurs when the shield layer is formed.

さらに、各可撓性絶縁ベース材の外側から、第1層側にシールド層15、第3層側にシールド層16を形成し、シールド層を有するケーブル部が形成される。第3層ケーブルの第1層側の面のシールドの接続点17は、図示のように第1層および第2層に形成され、かつ段差も低減できていることから、電気的な特性の向上が図れ、シールド層形成時の充填不良が発生しなくなる。   Further, from the outside of each flexible insulating base material, the shield layer 15 is formed on the first layer side, the shield layer 16 is formed on the third layer side, and the cable portion having the shield layer is formed. Since the shield connection point 17 on the first layer side of the third layer cable is formed in the first layer and the second layer as shown in the figure and the step can be reduced, the electrical characteristics are improved. And no filling failure occurs when the shield layer is formed.

〈製造方法の実施例1〉
図2Aないし図2Cは、本発明に係る製造方法の実施例1を示す断面工程図である。この配線板は、第1層としての導電層22に積層形成された第2層および第3層たる導電層23,27からの2層引き出しが可能なケーブル部を有する。このケーブル部には、シールド層が設けられる。
<Example 1 of a manufacturing method>
2A to 2C are cross-sectional process diagrams illustrating Example 1 of the manufacturing method according to the present invention. This wiring board has a cable portion that can be pulled out from the second layer and the conductive layers 23 and 27 that are the third layer laminated on the conductive layer 22 as the first layer. This cable portion is provided with a shield layer.

先ず、図2A(1)に示すように、両面銅張積層板にコンフォーマルマスク、ならびに回路パターンおよびシールド層との接続用パターンを形成する。すなわち、両面銅張積層板24に対し、両面銅張積層板24の銅箔22,23に、両面の回路パターン等をフォトファブリケーション手法により、レーザ加工の際のコンフォーマルマスク22a,23aと、銅箔23に内層回路パターン23bと、後にシールド層との接続点となる第2層のパターン23cとを形成する。   First, as shown in FIG. 2A (1), a conformal mask, a circuit pattern and a connection pattern with a shield layer are formed on a double-sided copper-clad laminate. That is, with respect to the double-sided copper-clad laminate 24, conformal masks 22 a and 23 a at the time of laser processing are applied to the copper foils 22 and 23 of the double-sided copper-clad laminate 24 by a photofabrication technique. An inner layer circuit pattern 23b and a second layer pattern 23c to be a connection point to the shield layer later are formed on the copper foil 23.

両面銅張積層板4は、ポリイミド等の可撓性絶縁ベース材21(ここでは、厚さ12.5μmのポリイミド)の両面に、厚さ12μmの銅箔22および23を有する。コンフォーマルマスク22a,23aおよび回路パターン23b、パターン23cを形成するフォトファブリケーション手法は、レジスト層の形成、露光、現像、エッチング、レジスト層剥離等の一連の工程による。   The double-sided copper-clad laminate 4 has copper foils 22 and 23 having a thickness of 12 μm on both surfaces of a flexible insulating base material 21 such as polyimide (here, polyimide having a thickness of 12.5 μm). The photofabrication technique for forming the conformal masks 22a and 23a, the circuit pattern 23b, and the pattern 23c is based on a series of steps such as resist layer formation, exposure, development, etching, and resist layer peeling.

このときの両面の位置合わせは、ベタの材料に対して行うため、材料の伸縮等に影響されず、容易に位置精度を確保できる。必要に応じて、高精度な位置合わせが可能な露光機を用いることも可能である。また、必要に応じて、ビルドアップ接着材との密着を向上させるための粗化処理を行う。ここまでの工程で、3層フレキシブルプリント配線板の第1層および第2層の回路基材25を得る。   Since the alignment of both surfaces at this time is performed with respect to the solid material, the positional accuracy can be easily secured without being affected by the expansion and contraction of the material. If necessary, it is also possible to use an exposure machine capable of highly accurate alignment. Moreover, the roughening process for improving close_contact | adherence with a buildup adhesive material is performed as needed. Through the steps so far, the first and second layer circuit substrates 25 of the three-layer flexible printed wiring board are obtained.

そして、ポリイミド等の可撓性絶縁ベース材26(ここでは、厚さ12.5μmのポリイミド)の片面に銅箔27(厚さ12μm)が設けられた片面銅張積層板28を用意し、この片面銅張積層板8に、必要に応じて回路基材29および接着材30を位置合わせして積層する。接着材30は、回路基材29と積層するように予め型抜きしておく。   A single-sided copper-clad laminate 28 having a copper foil 27 (thickness 12 μm) provided on one side of a flexible insulating base material 26 (here, polyimide having a thickness of 12.5 μm) such as polyimide is prepared. The circuit base material 29 and the adhesive 30 are aligned and laminated on the copper clad laminate 8 as necessary. The adhesive 30 is previously punched so as to be laminated with the circuit base material 29.

次に図2A(2)に示すように、両面の回路基材25と片面の回路基材29とを位置合わせして接着材30を挟んで真空プレス等で積層する。ここまでの工程で、3層の多層回路基材31を得る。接着材30としては、ローフロータイプのボンディングシート等の流れ出しの少ないものが好ましく、後にケーブル部の接着材としても機能する必要があることから、可撓性が必須である。接着材30の厚さは、10〜15μm程度のものが選択できる。   Next, as shown in FIG. 2A (2), the double-sided circuit base material 25 and the single-sided circuit base material 29 are aligned, and are laminated by sandwiching the adhesive 30 and using a vacuum press or the like. Up to this step, a three-layer multilayer circuit substrate 31 is obtained. The adhesive 30 is preferably a low-flow type bonding sheet or the like with little flow-out, and it is necessary to function as an adhesive for the cable portion later. Therefore, flexibility is essential. The thickness of the adhesive 30 can be selected from about 10 to 15 μm.

続いて、図2B(3)に示すように、コンフォーマルマスク22a,23aを用いてレーザ加工を行い、3層を接続する導通用孔32を形成するとともに、後のシールドの接続点となる第2層のパターン23cを露出させる。   Subsequently, as shown in FIG. 2B (3), laser processing is performed using the conformal masks 22a and 23a to form a conduction hole 32 for connecting the three layers and a connection point for a later shield. The two-layer pattern 23c is exposed.

パターン23cを露出させる際には、可撓性絶縁ベース材21を選択的にレーザ加工し、可撓性絶縁ベース材26には極力加工を行わないように、可撓性絶縁ベース材21の加工を行う箇所は銅箔22を除去しておく。   When the pattern 23c is exposed, the flexible insulating base material 21 is selectively laser processed, and the flexible insulating base material 26 is processed so as not to be processed as much as possible. The copper foil 22 is removed from the place where the process is performed.

さらにレーザのビーム径を細くし、ビームの有効エリアの最外部を用いてレーザ加工することで可撓性絶縁ベース材21を選択的にレーザ加工し、可撓性絶縁ベース材26には極力ダメージを与えずに、第2層のパターン23cを露出させることができる。レーザ加工には、UV-YAGレーザ、炭酸レーザ、エキシマレーザ等を選択可能である。   Further, the flexible insulating base material 21 is selectively laser processed by reducing the laser beam diameter and laser processing using the outermost part of the effective area of the beam, and the flexible insulating base material 26 is damaged as much as possible. The pattern 23c of the second layer can be exposed without providing For laser processing, a UV-YAG laser, a carbonic acid laser, an excimer laser, or the like can be selected.

加工形状としては、例えば図2B(4)に示すように、可撓性絶縁ベース材1および接着材10を半円と平面とが交互に繰り返す、いわば波型断面形状に加工することで、後に形成するめっき被膜の接触面積を増加させることが可能で、シールド接続点の信頼性を向上することが可能である。   As a processing shape, for example, as shown in FIG. 2B (4), the flexible insulating base material 1 and the adhesive material 10 are processed into a so-called wave-shaped cross-sectional shape that repeats a semicircle and a plane alternately. The contact area of the plating film to be formed can be increased, and the reliability of the shield connection point can be improved.

図2B(5)に示すように、導通用孔32を有する多層回路基材33に導電化処理を行い、10〜20μm程度の電解めっきを行って層間導通を取るが、ここでは第3層にめっきを付けない片面めっきを行った。   As shown in FIG. 2B (5), the multi-layer circuit substrate 33 having the conduction holes 32 is subjected to a conductive treatment, and electroplating of about 10 to 20 μm is performed to achieve interlayer conduction. Single-sided plating without plating was performed.

第3層側の銅箔面にめっきマスクを形成し、第1層にめっき被膜を選択的に形成し、その後、めっきマスクを剥離除去することで、めっきされた多層回路基材34を得る。導通用孔32からステップビアホール35、また第2層のパターン23cからシールド層との接続点36が形成され、第3層ケーブルの第1層側の面にもめっき析出が起こるが、これは後の表層の回路パターン形成時にエッチング除去される。   A plating mask is formed on the copper foil surface on the third layer side, a plating film is selectively formed on the first layer, and then the plating mask is peeled off to obtain a plated multilayer circuit substrate 34. A connection point 36 is formed from the conduction hole 32 to the step via hole 35, and from the second layer pattern 23c to the shield layer, and plating deposition also occurs on the first layer side surface of the third layer cable. It is removed by etching when forming the circuit pattern of the surface layer.

次に図2C(6)に示すように、めっきを付けた第1層面とめっきを付けていない第3層面を、フォトファブリケーション手法により同時にエッチング処理して、回路パターン38および39を形成する。   Next, as shown in FIG. 2C (6), the first layer surface with plating and the third layer surface without plating are simultaneously etched by a photofabrication technique to form circuit patterns 38 and 39.

段差の大きい第1層面では、図のようにシールド層が形成される段差部の第3層ケーブルの第1層側の面に析出しためっき被膜を、第2層のパターン33cからシールド層との接続点を含む形状で残しておくことで段差を小さくできる。このため、電気的な接続を行い、かつ段差の低減が図れ、材料厚みが薄くなったことと併せて、シールド層を形成したときの充填不良が発生しなくなる。   On the first layer surface having a large level difference, the plating film deposited on the surface on the first layer side of the third layer cable of the level difference portion where the shield layer is formed as shown in the figure is changed from the pattern 33c of the second layer to the shield layer. The level difference can be reduced by leaving the shape including the connection point. For this reason, electrical connection can be made, the level difference can be reduced, and in addition to the reduction in the material thickness, filling failure does not occur when the shield layer is formed.

ステップビアホール35の開口面である第1層面には、テンティング性を確保するために、20μm以上の厚さを有するドライフィルムレジストを適用することが好ましい。テンティング性を考慮する必要がなく銅箔の薄い第3層面には、10μm以下の厚さの微細パターン形成用のドライフィルムレジストを適用することが可能である。その他、液状レジストを用いる場合等は、ステップビアホール35のテンティング性を考慮する必要がないため、第1層面および第3層面に形成するレジスト層は同じ厚みでよい。   A dry film resist having a thickness of 20 μm or more is preferably applied to the first layer surface, which is the opening surface of the step via hole 35, in order to ensure tenting properties. It is not necessary to consider tenting properties, and a dry film resist for forming a fine pattern having a thickness of 10 μm or less can be applied to the thin third layer surface of the copper foil. In addition, when a liquid resist is used, it is not necessary to consider the tenting property of the step via hole 35. Therefore, the resist layers formed on the first layer surface and the third layer surface may have the same thickness.

次に図2C(7)に示すように、第1層面にソルダーレジスト層40を形成し、第3層面にポリイミドフィルム等の絶縁フィルム41上に接着材42を有する、カバーレイ43を張り合わせ、さらに所定の開口を設けたペースト・フィルム等のシールド層44も形成する。   Next, as shown in FIG. 2C (7), a solder resist layer 40 is formed on the first layer surface, and a cover lay 43 having an adhesive 42 on an insulating film 41 such as a polyimide film is laminated on the third layer surface, A shield layer 44 such as a paste film having a predetermined opening is also formed.

図2C(6)で示した段差の大きい第1層面では、シールド層との接続点により段差が低減できることから、シールド層形成時の充填不良が発生しなくなる。さらに、シールド層と回路パターンとの電気的な接続面積が増加することで、シールド層と回路パターンとの接続信頼性も向上する。回路パターンの厚み段差のみの第3層面では、シールド層の充填性およびシールド層と回路パターンとの接続信頼性に問題はない。   In the first layer surface having a large level difference shown in FIG. 2C (6), the level difference can be reduced by the connection point with the shield layer, so that no filling failure occurs when the shield layer is formed. Furthermore, since the electrical connection area between the shield layer and the circuit pattern is increased, the connection reliability between the shield layer and the circuit pattern is also improved. On the third layer surface with only the thickness difference of the circuit pattern, there is no problem in the filling property of the shield layer and the connection reliability between the shield layer and the circuit pattern.

この工程の前後で、必要に応じて基板表面に半田めっき、ニッケルめっき、金めっき等の表面処理を施し外形加工を行うことで、シールド層を有する第2層および第3層からの2層引き出しが可能なケーブル部を有する3層フレキシブルプリント配線板45を得る。   Before and after this process, two-layer extraction from the second layer and the third layer having the shield layer is performed by subjecting the substrate surface to surface treatment such as solder plating, nickel plating, and gold plating as necessary, and performing external processing. A three-layer flexible printed wiring board 45 having a cable portion that can be obtained is obtained.

また、図2C(8)に示すように、シールド接続点36を延長することで、第3層ケーブルの第1層面側の平坦な箇所に形成することも可能である。この場合、露出するシールド接続点36の上には、酸化防止等の目的で無電解ニッケル金めっき等を施しておくことが好ましい。   Further, as shown in FIG. 2C (8), the shield connection point 36 can be extended to form a flat portion on the first layer surface side of the third layer cable. In this case, electroless nickel gold plating or the like is preferably performed on the exposed shield connection point 36 for the purpose of preventing oxidation.

図3は、図2(5)における片面めっきの手法を示したもので、導通用孔32を有する多層回路基材33を2枚1組とし、回路基材33同士の間隔Gを15mm以下の所定の間隔に設定し、電解銅めっきを行う。これにより、互いの第3層に対しては、それぞれが遮蔽板となり、互いの第1層側からめっき被膜を選択的に析出させることができる。   FIG. 3 shows the single-sided plating method in FIG. 2 (5). A set of two multilayer circuit base materials 33 each having a conduction hole 32, and a distance G between the circuit base materials 33 of 15 mm or less. Electrolytic copper plating is performed at a predetermined interval. Thereby, each becomes a shielding board with respect to a mutual 3rd layer, and a plating film can be selectively deposited from the mutual 1st layer side.

基材33同士の間隔が5mmより近いと、基材33は可撓性を有することから、めっき中に対となる基板に接触したり、第3層側の液更新が困難になり、十分な水洗等がなされなくなる恐れがある。   If the distance between the base materials 33 is closer than 5 mm, the base material 33 has flexibility, so that it becomes difficult to contact the paired substrates during plating or to renew the liquid on the third layer side. There is a risk that it will not be washed.

一方、基材33同士の間隔が15mmより遠い場合は、互いの遮蔽効果が弱まり、第3層の特に基材周縁部にめっきが析出し、ケーブル面へもめっき析出する恐れがある。   On the other hand, when the distance between the base materials 33 is longer than 15 mm, the mutual shielding effect is weakened, and plating may be deposited on the periphery of the base material, particularly the base material, and may also be deposited on the cable surface.

図4(a),(b)は、さらに詳細に示したもので、図4(a)に示すように、回路基材33の周囲をクランプしてめっきラック37にセットされる。これをA-A’断面方向から見ると、図4(b)に示すように、1つのめっきラック37に回路基材33が2枚セットされている。   FIGS. 4A and 4B are shown in more detail. As shown in FIG. 4A, the periphery of the circuit substrate 33 is clamped and set on the plating rack 37. FIG. When viewed from the A-A ′ cross-sectional direction, as shown in FIG. 4B, two circuit base materials 33 are set in one plating rack 37.

このめっきラック37側を電解銅めっき時の陰極とし、めっき層の両側に陽極を配置したときに、めっきラックが1組の陽極の略中央に位置することが好ましい。これにより、2枚の回路基材33の第1層に略等しい厚さで銅めっき被膜が析出する。   When the plating rack 37 side is used as a cathode during electrolytic copper plating, and anodes are arranged on both sides of the plating layer, the plating rack is preferably positioned at the approximate center of a set of anodes. Thereby, a copper plating film is deposited with a thickness substantially equal to the first layer of the two circuit substrates 33.

〈製造方法の実施例2〉
図5Aおよび図5Bは、本発明の3層フレキシブルプリント配線板の製造方法の実施例2を示す断面工程図である。この配線板は、第2層および第3層たる導電層からの2層引き出しが可能なケーブル部を有し、このケーブル部には、シールド層が設けられるものである。第1層としての導電層は、後で形成される。
<Example 2 of a manufacturing method>
5A and 5B are sectional process diagrams showing Example 2 of the method for manufacturing a three-layer flexible printed wiring board of the present invention. This wiring board has a cable portion that can be drawn out of the second layer and the third conductive layer, and a shield layer is provided on the cable portion. The conductive layer as the first layer is formed later.

先ず図5A(1)に示すように、片面銅張積層板53の銅箔52に、レーザ加工の際のコンフォーマルマスク52a、内層回路パターン52b、および後のシールドの接続点となる第2層のパターン52cを形成する。   First, as shown in FIG. 5A (1), a second layer serving as a connection point of a conformal mask 52a, an inner layer circuit pattern 52b, and a later shield on the copper foil 52 of the single-sided copper-clad laminate 53. Pattern 52c is formed.

これは、ポリイミド等の可撓性絶縁ベース材51(ここでは、厚さ12.5μmのポリイミド)の片面に厚さ12μmの銅箔52を有する片面銅張積層板53に対し、片面の回路パターン等をフォトファブリケーション手法により形成する一連の工程によって行う。   This is because, for example, a circuit pattern on one side of a single-sided copper clad laminate 53 having a 12 μm-thick copper foil 52 on one side of a flexible insulating base material 51 such as polyimide (here, polyimide having a thickness of 12.5 μm). Is performed by a series of steps of forming by photofabrication technique.

必要に応じ、ビルドアップ接着材との密着を向上させるための粗化処理を行う。ここまでの工程で、3層フレキシブルプリント配線板の第2層の内層回路パターンを形成した回路基材54を得る(第1層は、後に形成する)。   If necessary, a roughening treatment is performed to improve adhesion with the build-up adhesive. Through the steps so far, the circuit substrate 54 on which the inner layer circuit pattern of the second layer of the three-layer flexible printed wiring board is formed is obtained (the first layer will be formed later).

そして、ポリイミド等の可撓性絶縁ベース材26(ここでは、厚さ12.5μmのポリイミド)の片面に厚さ12μmの銅箔27を形成した片面銅張積層板28に、必要に応じて位置合わせ用のガイド等を型抜きした回路基材29、および回路基材29を積層するための予め型抜きした接着材30の位置合わせを行い、積層する。   Then, a single-sided copper-clad laminate 28 in which a copper foil 27 having a thickness of 12 μm is formed on one side of a flexible insulating base material 26 such as polyimide (here, polyimide having a thickness of 12.5 μm) is aligned as necessary. The circuit base material 29 from which the guides and the like have been die-cut and the adhesive 30 that has been die-cut in advance for laminating the circuit base material 29 are aligned and laminated.

次に図5A(2)に示すように、接着材30を挟んで、第2層の内層回路パターンを形成した回路基材54と片面の回路基材29とを真空プレス等で積層する。ここまでの工程で、3層のうち2層の導体層を有する多層回路基材55を得る。   Next, as shown in FIG. 5A (2), the circuit substrate 54 on which the second-layer inner layer circuit pattern is formed and the single-sided circuit substrate 29 are laminated by a vacuum press or the like with the adhesive 30 interposed therebetween. Through the steps so far, a multilayer circuit substrate 55 having two conductor layers out of the three layers is obtained.

接着材30としては、ローフロータイプのボンディングシート等の流れ出しの少ないものが好ましく、後にケーブル部の接着材としても機能する必要があることから、可撓性が必須である。接着材30の厚さは、10〜15μm程度のものが選択できる。   The adhesive 30 is preferably a low-flow type bonding sheet or the like with little flow-out, and it is necessary to function as an adhesive for the cable portion later. Therefore, flexibility is essential. The thickness of the adhesive 30 can be selected from about 10 to 15 μm.

次に図5A(3)に示すように、ポリイミド等の可撓性絶縁ベース材51を直接レーザで加工して形成したコンフォーマルマスク52aを用いて、コンフォーマルマスクの開口面に位置する接着材30および可撓性絶縁ベース材26にレーザ加工を行い、3層を接続する導通用孔56を形成するとともに、後のシールドの接続点となる第2層のパターン52cを露出させる。   Next, as shown in FIG. 5A (3), using a conformal mask 52a formed by directly processing a flexible insulating base material 51 such as polyimide with a laser, an adhesive located on the opening surface of the conformal mask. 30 and the flexible insulating base material 26 are subjected to laser processing to form a conduction hole 56 for connecting the three layers, and the second layer pattern 52c to be a connection point of a later shield is exposed.

パターン52cを露出させる際には、可撓性絶縁ベース材51のみをレーザ加工する。可撓性絶縁ベース材26には極力加工を行わない必要があるため、レーザのビーム径を細くしかつパターン52cをメタルマスクとしてレーザ加工することで、可撓性絶縁ベース材51を選択的にレーザ加工し、第2層のパターン52cを露出させる。レーザ加工には、UV-YAGレーザ、炭酸レーザ、エキシマレーザ等を選択可能である。   When the pattern 52c is exposed, only the flexible insulating base material 51 is laser processed. Since the flexible insulating base material 26 needs to be processed as little as possible, the flexible insulating base material 51 is selectively formed by reducing the laser beam diameter and laser processing using the pattern 52c as a metal mask. Laser processing is performed to expose the pattern 52c of the second layer. For laser processing, a UV-YAG laser, a carbonic acid laser, an excimer laser, or the like can be selected.

図5B(4)に示すように、導通用孔56を有する多層回路基材57に導電化処理を行い、10〜20μm程度の電解めっきを行って層間導通を取るが、第3層にめっきを付けない、片面めっきが必須である。このため、第3層側の銅箔面にめっきマスクを形成し、第1層側にめっき被膜を選択的に形成し、その後、めっきマスクを剥離除去することで、めっきされた多層回路基材58を得る。   As shown in FIG. 5B (4), the multi-layer circuit substrate 57 having the conduction holes 56 is subjected to a conductive treatment, and an electrolytic plating of about 10 to 20 μm is performed to obtain interlayer conduction, but the third layer is plated. Single-sided plating is essential. For this reason, a plating mask is formed on the copper foil surface on the third layer side, a plating film is selectively formed on the first layer side, and then the plating mask is peeled and removed, whereby the plated multilayer circuit substrate 58 is obtained.

導通用孔56からステップビアホール59が形成され、第2層のパターン53cからシールド層の接続点60が形成され、第3層ケーブルの第1層側の面にもめっき析出が起こるが、これは後の表層の回路パターン形成時にエッチング除去される。   A step via hole 59 is formed from the conduction hole 56, a connection point 60 of the shield layer is formed from the second layer pattern 53c, and plating deposition also occurs on the first layer side surface of the third layer cable. It is removed by etching when forming a circuit pattern on the surface layer later.

次に図5B(5)に示すように、めっきにより形成された第1層面とめっきを付けていない第3層面とを、同時にフォトファブリケーション手法によりエッチング処理し、回路パターン61および39を形成する。   Next, as shown in FIG. 5B (5), the first layer surface formed by plating and the third layer surface not plated are simultaneously etched by a photofabrication method to form circuit patterns 61 and 39. .

このとき、ステップビアホール59の開口面である第1層面には、テンティング性を確保するために、20μm以上の厚さを有するドライフィルムレジストを適用することが好ましい。テンティング性の考慮の必要がない銅箔の薄い第3層面には、10μm以下の厚さの微細パターン形成用のドライフィルムレジストを適用することが可能である。その他、液状レジストを用いる場合等は、ステップビアホール59のテンティング性を考慮する必要がないため、第1層面および第3層面に形成するレジスト層は同じ厚みでよい。   At this time, a dry film resist having a thickness of 20 μm or more is preferably applied to the first layer surface, which is the opening surface of the step via hole 59, in order to ensure tenting properties. A dry film resist for forming a fine pattern having a thickness of 10 μm or less can be applied to the thin third layer surface of the copper foil that does not require consideration of tenting properties. In addition, when a liquid resist is used, it is not necessary to consider the tenting property of the step via hole 59, so that the resist layers formed on the first layer surface and the third layer surface may have the same thickness.

次に、第1層面にソルダーレジスト層40を形成し、第3層面にポリイミドフィルム等の絶縁フィルム41上に接着材42を有するカバーレイ43を張り合わせ、さらに所定の開口を設けたペースト・フィルム等のシールド層44も形成する。   Next, a solder resist layer 40 is formed on the first layer surface, a cover lay 43 having an adhesive 42 is laminated on an insulating film 41 such as a polyimide film on the third layer surface, and a paste film or the like provided with a predetermined opening The shield layer 44 is also formed.

段差の大きい第1層面では、シールド接続点により段差が低減できることから、シールド層形成時の充填不良が発生しなくなる。さらに、シールド層と回路パターンとの電気的な接続面積が増加することで、シールド層と回路パターンとの接続信頼性も向上する。回路パターンの厚み段差のみの第3層面では、シールド層の充填性およびシールド層と回路パターンとの接続信頼性に問題はない。   On the first layer surface having a large level difference, the level difference can be reduced by the shield connection point, so that no filling failure occurs when the shield layer is formed. Furthermore, since the electrical connection area between the shield layer and the circuit pattern is increased, the connection reliability between the shield layer and the circuit pattern is also improved. On the third layer surface with only the thickness difference of the circuit pattern, there is no problem in the filling property of the shield layer and the connection reliability between the shield layer and the circuit pattern.

この工程の前後で、必要に応じて基板表面に半田めっき、ニッケルめっき、金めっき等の表面処理を施して外形加工を行うことで、シールド層を有する第2層および第3層からの2層引き出しが可能な、ケーブル部を有する3層フレキシブルプリント配線板62を得る。   Two layers from the second layer and the third layer having a shield layer are formed by subjecting the substrate surface to a surface treatment such as solder plating, nickel plating, gold plating or the like before and after this step to perform external processing. A three-layer flexible printed wiring board 62 having a cable portion that can be pulled out is obtained.

このように、ビアホール開口面の導体層もめっき層のみとなり薄く形成可能であるため、実施例1に比べてより微細な配線形成が可能となる。   Thus, since the conductor layer on the via hole opening surface can be formed only by the plating layer and can be formed thin, finer wiring can be formed as compared with the first embodiment.

〈実施例3〉
図6は、本発明に係る配線板の製造方法の実施例3を示す断面工程図である。この配線板は、シールド層を有する第2層および第3層からの2層引き出しが可能なものであり、図2Bの(3)までの工程は実施例1と同様である。
<Example 3>
FIG. 6 is a sectional process diagram showing Example 3 of the method for manufacturing a wiring board according to the present invention. This wiring board can be pulled out from the second layer and the third layer having the shield layer, and the steps up to (3) in FIG. 2B are the same as those in the first embodiment.

図5A(1)に示すように、導通用孔56を有する多層回路基材57に導電化処理を行い、10〜20μm程度の電解めっきを行って層間導通を取るが、第3層にめっきを付けない、片面めっきが必須である。   As shown in FIG. 5A (1), the multi-layer circuit substrate 57 having the conduction holes 56 is subjected to a conductive treatment, and electroplating of about 10 to 20 μm is performed to obtain interlayer conduction, but the third layer is plated. Single-sided plating is essential.

このとき、第1層側は、セミアディティブ工法による回路形成を行うための、めっきレジスト71を形成し、第3層側の銅箔面にもエッチングレジストとなるレジスト層72を形成し、第1層および第3層を同時に露光する。   At this time, on the first layer side, a plating resist 71 for forming a circuit by a semi-additive method is formed, and a resist layer 72 serving as an etching resist is also formed on the copper foil surface on the third layer side. The layer and the third layer are exposed simultaneously.

図5A中、符号72aは、露光後のイメージングパターンを表しており、後に現像することで、エッチングレジストパターンとなる。その後、第3層側のみ、露光まで行ったエッチングレジスト72上に、さらに微粘着フィルム等のめっきマスク73を形成して現像する。   In FIG. 5A, reference numeral 72a represents an imaging pattern after exposure, and an etching resist pattern is obtained by developing later. Thereafter, on the third layer side only, a plating mask 73 such as a slightly adhesive film is further developed on the etching resist 72 which has been subjected to exposure, and developed.

これによって、めっきレジスト71を形成し、導電化処理被膜を通して電解めっきを行い、第1層側のみにめっきパターン74を形成する。このときに、シールド接続点60も形成される。その後、第1層側のめっきレジスト71を除去し、さらに導電化処理膜をエッチング除去する。   As a result, a plating resist 71 is formed, and electrolytic plating is performed through the conductive film to form a plating pattern 74 only on the first layer side. At this time, the shield connection point 60 is also formed. Thereafter, the plating resist 71 on the first layer side is removed, and the conductive film is removed by etching.

次に図5A(2)は、図5A(1)のA-A’線に沿う断面図である。第3層側のエッチングレジスト72を基板の外形より数mm程度内側に形成し、数mmの露出した基板75上を含め、第3層側の基板全面にめっきマスク73を形成したものである。   Next, FIG. 5A (2) is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 5A (1). An etching resist 72 on the third layer side is formed on the inside of the substrate about several millimeters from the outer shape of the substrate, and a plating mask 73 is formed on the entire surface of the third layer side substrate including the exposed substrate 75 of several millimeters.

次に図5A(3)は、めっきにより形成された第1層面を微粘着フィルム等で保護し、めっきを付けていない第3層面を、フォトファブリケーション手法によるエッチングにて回路パターン39を形成する。   Next, in FIG. 5A (3), the first layer surface formed by plating is protected with a slightly adhesive film or the like, and the circuit layer 39 is formed on the third layer surface not plated by etching by a photofabrication technique. .

第1層面と第3層面とを同時露光しているため、高い位置精度を確保できる。銅箔の薄い第3層面には、10μm以下の厚さの微細パターン形成用のドライフィルムレジストを適用することが可能である。   Since the first layer surface and the third layer surface are simultaneously exposed, high positional accuracy can be ensured. A dry film resist for forming a fine pattern having a thickness of 10 μm or less can be applied to the thin third layer surface of the copper foil.

その後の工程は、図2と同工程を経ることで、第1層から第3層まで微細配線を有し、シールド層を有する第2層および第3層からの2層引き出しが可能なケーブル部を有する3層フレキシブルプリント配線板76を得る。   Subsequent steps are the same as those in FIG. 2, so that the cable portion has fine wiring from the first layer to the third layer and can be drawn out from the second layer and the third layer having the shield layer. A three-layer flexible printed wiring board 76 having is obtained.

このように、ビアホール開口面の導体層(第1層)をセミアディティブ手法により形成することで、実施例2よりも微細かつ高精細な配線形成が可能となる。また、この際、第3層側の導体層はエッチングにより回路形成を行うため、屈曲性に優れる圧延銅箔を適用できる。   Thus, by forming the conductor layer (first layer) on the opening surface of the via hole by a semi-additive method, it is possible to form a finer and higher-definition wiring than in the second embodiment. At this time, since the conductor layer on the third layer side forms a circuit by etching, a rolled copper foil having excellent flexibility can be applied.

本発明に係るシールド層を有する3層フレキシブルプリント配線板の構造の概念的断面構成図。The conceptual cross-sectional block diagram of the structure of the three-layer flexible printed wiring board which has a shield layer concerning this invention. 本発明の実施例1に係る3層フレキシブルプリント配線板の一部製造工程を示す概念的断面構成図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The conceptual cross-sectional block diagram which shows the one part manufacturing process of the 3 layer flexible printed wiring board which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る3層フレキシブルプリント配線板の一部製造工程を示す斜視図を含んだ概念的断面構成図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The conceptual cross-sectional block diagram containing the perspective view which shows the partial manufacturing process of the three-layer flexible printed wiring board which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る3層フレキシブルプリント配線板の一部製造工程を示す概念的断面構成図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The conceptual cross-sectional block diagram which shows the one part manufacturing process of the 3 layer flexible printed wiring board which concerns on Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る3層フレキシブルプリント配線板の構造を示す概念的断面構成図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The conceptual cross-sectional block diagram which shows the structure of the three-layer flexible printed wiring board concerning Example 1 of this invention. 本発明の実施例1に係る3層フレキシブルプリント配線板の構造を示す概念的断面構成図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The conceptual cross-sectional block diagram which shows the structure of the three-layer flexible printed wiring board concerning Example 1 of this invention. 本発明の実施例2に係る3層フレキシブルプリント配線板の一部製造工程を示す概念的断面構成図。The conceptual cross-sectional block diagram which shows the one part manufacturing process of the three-layer flexible printed wiring board which concerns on Example 2 of this invention. 本発明の実施例2に係る3層フレキシブルプリント配線板の一部製造工程を示す概念的断面構成図。The conceptual cross-sectional block diagram which shows the one part manufacturing process of the three-layer flexible printed wiring board which concerns on Example 2 of this invention. 本発明の実施例3に係る3層フレキシブルプリント配線板の構造を示す概念的断面構成図。The conceptual cross-section block diagram which shows the structure of the three-layer flexible printed wiring board concerning Example 3 of this invention. 図7(a),(b)は、図6による処理後のめっきパターンの状態を示す平面図およびそのA-A’線に沿う断面図。7A and 7B are a plan view showing a state of the plating pattern after the treatment shown in FIG. 6 and a cross-sectional view taken along the line A-A ′. 従来の3層フレキシブルプリント配線板の構造の概念的断面構成図。The conceptual cross-sectional block diagram of the structure of the conventional 3 layer flexible printed wiring board.

符号の説明Explanation of symbols

1 可撓性絶縁ベース材、2 両面可撓性プリント配線板、3 絶縁フィルム、
4 接着剤、5 カバーレイ、6 第2層のケーブル部、7 可撓性絶縁ベース材、
8 片面可撓性プリント配線板、9 絶縁フィルム、10 接着剤、11 カバーレイ、
12 第3層のケーブル部、13 接着材、14,15 シールド層、
16 スルーホール、17 シールド層との電気的な接続点、21 可撓性絶縁ベース材、
22 銅箔、22a,23a コンフォーマルマスク、23 銅箔、23b 回路パターン、
23c シールドの接続点となる第2層のパターン、24 両面銅張積層板、
25 第1層および第2層の回路基材、26 可撓性絶縁ベース材、27 銅箔、
28 片面銅張積層板、29 第3層の回路基材、30 接着材、
31 3層の多層回路基材、32 導通用孔、33 導通用孔を有する多層回路基材、
34 めっきされた多層回路基材、35 ステップビアホール、36 シールド接続点、
37 めっきラック、38 第1層の外層回路パターン、
39 第3層の外層回路パターン、40 ソルダーレジスト、41 絶縁フィルム、
42 接着材、43 カバーレイ、44 シールド層、
45 本発明による3層フレキシブルプリント配線板、51 可撓性絶縁ベース材、
52 銅箔、52a コンフォーマルマスク、52b 回路パターン、
52c シールドの接続点となる第2層のパターン、53 片面銅張積層板、
54 第2層の回路基材、55 3層の多層回路基材、56 導通用孔、
57 導通用孔を有する多層回路基材、58 めっきされた多層回路基材、
59 ステップビアホール、60 シールド接続点、61 第1層の外層回路パターン、
62 本発明による3層フレキシブルプリント配線板、71 めっきレジスト、
72 エッチングレジスト、72a エッチングレジスト上の露光イメージングパターン、
73 めっきマスク、74 めっきパターン、75 第3層側基板面、
76 本発明による3層フレキシブルプリント配線板、101 可撓性絶縁ベース材、
102 両面可撓性プリント配線板、103 絶縁フィルム、104 接着剤、
105 カバーレイ、106 第2層のケーブル部、107 可撓性絶縁ベース材、
108 片面可撓性プリント配線板、109 絶縁フィルム、110 接着剤、
111 カバーレイ、112 第3層のケーブル部、113 接着材、
114,115 シールド層、116 スルーホール、117 多層部、
118 シールド層との電気的な接続点。
1 flexible insulating base material, 2 double-sided flexible printed wiring board, 3 insulating film,
4 Adhesive, 5 Coverlay, 6 Cable part of the second layer, 7 Flexible insulating base material,
8 single-sided flexible printed wiring board, 9 insulating film, 10 adhesive, 11 coverlay,
12 cable part of the third layer, 13 adhesive, 14, 15 shield layer,
16 through hole, 17 electrical connection point with shield layer, 21 flexible insulating base material,
22 copper foil, 22a, 23a conformal mask, 23 copper foil, 23b circuit pattern,
23c Second layer pattern to be a shield connection point, 24 double-sided copper-clad laminate,
25 1st and 2nd layer circuit substrates, 26 flexible insulating base material, 27 copper foil,
28 single-sided copper-clad laminate, 29 third layer circuit substrate, 30 adhesive,
31 3 layer multilayer circuit substrate, 32 hole for conduction, 33 multilayer circuit substrate having hole for conduction,
34 plated multilayer circuit substrate, 35 step via hole, 36 shield connection point,
37 plating rack, 38 outer layer circuit pattern of the first layer,
39 third layer outer layer circuit pattern, 40 solder resist, 41 insulating film,
42 Adhesive, 43 Coverlay, 44 Shield layer,
45 Three-layer flexible printed wiring board according to the present invention, 51 Flexible insulating base material,
52 copper foil, 52a conformal mask, 52b circuit pattern,
52c Second layer pattern to be the connection point of shield, 53 Single-sided copper-clad laminate,
54 a second layer circuit substrate, 55 a three layer multilayer circuit substrate, 56 conduction holes,
57 multilayer circuit substrate having holes for conduction, 58 plated multilayer circuit substrate,
59 step via hole, 60 shield connection point, 61 first layer outer layer circuit pattern,
62 three-layer flexible printed wiring board according to the present invention, 71 plating resist,
72 etching resist, 72a exposure imaging pattern on the etching resist,
73 plating mask, 74 plating pattern, 75 third layer side substrate surface,
76 Three-layer flexible printed wiring board according to the present invention, 101 flexible insulating base material,
102 double-sided flexible printed wiring board, 103 insulating film, 104 adhesive,
105 coverlay, 106 second layer cable part, 107 flexible insulating base material,
108 single-sided flexible printed wiring board, 109 insulating film, 110 adhesive,
111 Coverlay, 112 Third layer cable part, 113 Adhesive,
114, 115 shield layer, 116 through hole, 117 multilayer part,
118 Electrical connection point with shield layer.

Claims (4)

少なくとも1つずつのケーブル部と部品実装部とが一体的に形成され、前記ケーブル部のうちの少なくとも1つにシールド層を有する多層フレキシブルプリント配線板において、
前記シールド層を有する前記ケーブル部との境界となる前記部品実装部の端面に、少なくとも2層以上の配線層から前記シールド層へ電気的な接続点が形成されている
ことを特徴とする、ケーブル部にシールド層を有する多層フレキシブルプリント配線板。
In a multilayer flexible printed wiring board in which at least one cable portion and a component mounting portion are integrally formed, and at least one of the cable portions has a shield layer,
An electrical connection point from at least two wiring layers to the shield layer is formed on an end surface of the component mounting portion that becomes a boundary with the cable portion having the shield layer. A multilayer flexible printed wiring board having a shield layer in the part.
シールド層が形成されたケーブル部を有する多層フレキシブルプリント配線板の製造方法において、
両面に導電層を有する両面可撓性基板および片面に導電層を有する片面可撓性基板を用意する工程と、
前記両面可撓性基板の一方の導電層に前記両面の導電層間を接続する導通用孔を形成するためのマスク孔を設けるとともに、他方の導電層に前記シールド層との電気的な接続点となる回路パターンを形成する工程と、
前記回路パターンの内層側に配された接着材を挟んで前記両面可撓性基板と前記片面可撓性基板とを積層して多層回路を形成する工程と、
前記マスク孔を用いて前記両面可撓性基板の一方の面から前記多層回路の穴明け加工を施し、前記導通用孔を形成する工程と、
前記回路パターンの端部における前記両面可撓性基板の絶縁ベース材の一部を除去し、前記回路パターンを露出させる工程と、
前記導通用孔および前記回路パターンに対し、前記導通用孔の開口面にめっきを施してビアホールを形成するとともに、前記回路パターンの端部に前記シールド層との電気的な接続点を形成する工程と、
少なくとも前記接続点を含む前記回路パターンを覆うように前記シールド層を形成する工程と、
をそなえたことを特徴とする多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
In the method for producing a multilayer flexible printed wiring board having a cable portion on which a shield layer is formed,
Preparing a double-sided flexible substrate having a conductive layer on both sides and a single-sided flexible substrate having a conductive layer on one side;
A mask hole is provided in one conductive layer of the double-sided flexible substrate to form a conduction hole for connecting the conductive layers on both sides, and an electrical connection point with the shield layer is provided on the other conductive layer. Forming a circuit pattern comprising:
Laminating the double-sided flexible substrate and the single-sided flexible substrate across an adhesive disposed on the inner layer side of the circuit pattern to form a multilayer circuit;
Performing the drilling of the multilayer circuit from one surface of the double-sided flexible substrate using the mask hole, and forming the conduction hole;
Removing a part of the insulating base material of the double-sided flexible substrate at an end of the circuit pattern to expose the circuit pattern;
A process of forming a via hole by plating the opening surface of the conduction hole with respect to the conduction hole and the circuit pattern, and forming an electrical connection point with the shield layer at an end of the circuit pattern When,
Forming the shield layer so as to cover the circuit pattern including at least the connection points;
A method for producing a multilayer flexible printed wiring board, comprising:
シールド層が形成されたケーブル部を有する多層フレキシブルプリント配線板の製造方法において、
2枚の片面可撓性基板(A,B)を用意する工程と、
前記片面可撓性基板の一方(A)の導電層に、導通用孔を形成するためのマスク孔を形成するとともに、前記シールド層との電気的な接続点となる回路パターンを形成する工程と、
前記片面可撓性基板の一方(A)の前記回路パターンと前記片面可撓性基板の他方(B)の導電層の反対面とを接着することにより、前記2枚の可撓性基板を積層して多層回路を形成する工程と、
前記片面可撓性基板の一方(A)の絶縁ベース材における前記マスク孔の投影位置に前記マスク孔よりも大きい径の孔を形成し、前記片面可撓性基板の他方(B)の絶縁ベース材に対し、前記マスク孔を用いて前記片面可撓性基板の一方(A)の導電層の反対面から前記多層回路の穴明け加工を施して前記導通用孔を形成する工程と、
前記接続点となる回路パターン上の前記片面可撓性基板の一方(A)の絶縁ベース材の一部を除去し、前記回路パターンの端部に前記接続点となるパターンを露出させる工程と、
前記導通用孔および前記接続点となるパターンに対し、前記導通用孔の開口面にめっきを施してビアホールを形成するとともに、前記ケーブルの端部に前記接続点を形成する工程と、
少なくとも前記接続点となるパターン上にシールド層を形成する工程と、
をそなえたことを特徴とする多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
In the method for producing a multilayer flexible printed wiring board having a cable portion on which a shield layer is formed,
Preparing two single-sided flexible substrates (A, B);
Forming a mask hole for forming a hole for conduction in the conductive layer on one side (A) of the one-sided flexible substrate and forming a circuit pattern serving as an electrical connection point with the shield layer; ,
The two flexible substrates are laminated by adhering the circuit pattern on one side (A) of the single-sided flexible substrate and the opposite surface of the conductive layer on the other side (B) of the single-sided flexible substrate. And forming a multilayer circuit;
A hole having a diameter larger than that of the mask hole is formed at the projection position of the mask hole in the insulating base material of one side (A) of the single-sided flexible substrate, and the insulating base of the other side (B) of the single-sided flexible substrate For the material, forming the hole for conduction by drilling the multilayer circuit from the opposite surface of the conductive layer of one side (A) of the one-sided flexible substrate using the mask hole;
Removing a part of the insulating base material on one side (A) of the one-sided flexible substrate on the circuit pattern to be the connection point, and exposing the pattern to be the connection point at an end of the circuit pattern;
For the pattern to be the hole for conduction and the connection point, plating the opening surface of the hole for conduction to form a via hole, and forming the connection point at the end of the cable;
Forming a shield layer on at least the pattern to be the connection point;
A method for producing a multilayer flexible printed wiring board, comprising:
請求項3記載の多層フレキシブルプリント配線板の製造方法において、
前記導通用孔に対し、前記導通用孔の開口面にめっきを行う際に、前記導通用孔の開口面にセミアディティブ手法によるパターンを形成するための第1のレジスト層、および反対面の前記片面可撓性基板Bの導電層にエッチング手法によるパターンを形成するための第2のレジスト層を同時に露光し、
前記第2のレジスト層の上にさらにめっきマスクを形成し、前記第1のレジスト層の現像を行って、前記導通用孔の開口面にめっきを付けることでビアホールを形成する工程と、
をそなえたことを特徴とする多層フレキシブルプリント配線板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer flexible printed wiring board of Claim 3,
A first resist layer for forming a pattern by a semi-additive method on the opening surface of the hole for conduction when plating the opening surface of the hole for conduction with respect to the hole for conduction, and the opposite surface Simultaneously exposing the second resist layer for forming a pattern by an etching technique on the conductive layer of the single-sided flexible substrate B,
Further forming a plating mask on the second resist layer, developing the first resist layer, forming a via hole by plating the opening surface of the hole for conduction,
A method for producing a multilayer flexible printed wiring board, comprising:
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