JP2009224321A - Organic el display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は有機エレクトロルミネセンス(以下、「有機EL」と称する)ディスプレイに関し、詳しくは、高精細かつ視認性に優れ、多色表示可能な有機ELディスプレイ(以下、単に「ディスプレイ」とも称する)やカラー液晶表示器のバックライトその他の照明機器に好適に使用される有機ELディスプレイに関する。 The present invention relates to an organic electroluminescence (hereinafter referred to as “organic EL”) display, and more specifically, an organic EL display (hereinafter also simply referred to as “display”) capable of displaying multiple colors with high definition and excellent visibility. The present invention relates to an organic EL display suitably used for a backlight of a color liquid crystal display or other lighting equipment.
有機ELディスプレイやカラー液晶表示器等の表示装置に適用される発光素子の一例として、有機化合物の薄膜積層構造を有する有機EL素子が知られている。有機EL素子は、薄膜の自発光型素子であり、低駆動電圧や高解像度、高視野角といった優れた特徴を有することから、その実用化に向けて様々な検討がなされている。 As an example of a light emitting element applied to a display device such as an organic EL display or a color liquid crystal display, an organic EL element having a thin film laminated structure of an organic compound is known. The organic EL element is a thin-film self-luminous element and has excellent characteristics such as a low driving voltage, high resolution, and a high viewing angle. Therefore, various studies have been made for its practical use.
従来の有機EL素子は、陽極を形成したガラス基板の上に、ホール(正孔)注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層が順次形成され、さらに、電子注入層上に陰極が形成された構造を有する。このような有機EL素子においては、有機層部分を覆う、ガラス材料からなる凹部形状の封止ガラスを、ガラス基板に対し紫外線硬化性接着剤を介して気密的に配設する構造が知られている。このような有機ELパネルは、例えば、特許文献1に開示されている。 In a conventional organic EL device, a hole (hole) injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are sequentially formed on a glass substrate on which an anode is formed. The cathode has a structure formed thereon. In such an organic EL element, a structure in which a concave sealing glass made of a glass material covering an organic layer portion is hermetically disposed on a glass substrate via an ultraviolet curable adhesive is known. Yes. Such an organic EL panel is disclosed in Patent Document 1, for example.
また、有機EL素子を配置して構成される表示パネルの実装構造としては、ガラス基板上にドライバICを実装したり、テープ上にドライバICを実装したTCP(Tape Carrier Package)パッケージを、ガラス基板上にACF(異方性導電膜,Anisotropic Conductive Film)実装するものが一般的に用いられている。特許文献2には、複数の配線をガラス基板の一辺側で取り出すことにより、実装後の状態においてパネルサイズを小型化することができる構造の一例が開示されている。
Further, as a display panel mounting structure constituted by arranging organic EL elements, a TCP (Tape Carrier Package) package in which a driver IC is mounted on a glass substrate or a driver IC is mounted on a tape is used. An ACF (Anisotropic Conductive Film) mounted on top is generally used.
また、特許文献3には、反射面を含む電極、有機EL層および透明電極を含むEL素子を有し、透明電極に導電体を介して補助電極が接続されている発光装置が開示されている。さらに、特許文献4には、補助電極と、補助電極に接続され有機電界発光素子の電極と接続可能に対向する導通部と、補助電極に接続され封止部材の外面に露出する外部電極とを備え、有機電界発光素子の有機発光層を封止するために用いられる有機電界発光素子用封止部材が開示されている。
しかしながら、上記特許文献2のような従来の実装構成を採用した場合、配線電極がガラス基板上を長く引き回されることになり、有機EL素子の画素表示を行う部分に対して、その周辺の非表示領域(いわゆる、「額縁」部分)の占める面積が大きくならざるを得ない。
However, when the conventional mounting configuration as described in
この点、特許文献3には、異方導電体を介して透明電極と補助電極とを接続することが開示されているが、形成方法については、フォトリソグラフィ、インクジェット法または印刷法の開示しかなされておらず、インクジェット法または印刷法については、詳細な形成方法の開示はない。異方導電体をフォトリソグラフィにより形成する場合、工程上200℃程度での焼成を要するため、有機EL素子を破壊してしまうものと考えられる。また、ACFを用いて導通を確保するためには加圧により両基板間で導電粒子を押し潰す必要があるが、この点についても特許文献3には何らの開示もない。さらに、特許文献4には、導通部の一例としてACFが挙げられているが、具体的な実施例の明示はなく、ACFの形成方法について何らの開示もない。したがって、特許文献4も特許文献3と同様に、有機EL素子を破壊することなくACFからなる導通部を設けることを示すものではない。したがって、従来の技術では、有機EL素子を損傷することなく、額縁の低減を図ることはできなかった。
In this regard,
そこで本発明の目的は、上記問題を解消して、非表示領域が占める面積をより小さくすることができ、かつ、この狭額縁化の際に、有機EL素子に損傷を与えることがない配線方法を実現することにあり、これにより、より額縁の小さい有機ELディスプレイを提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-described problem, reduce the area occupied by the non-display region, and prevent the organic EL element from being damaged when the frame is narrowed. This is to provide an organic EL display with a smaller frame.
本発明者らは鋭意検討した結果、封止基板の裏面に、第1電極または第2電極のうちの少なくとも一方に導通する補助配線を設けて、この補助配線パターンと有機EL素子から引き出される第1電極または第2電極の配線とを光硬化性ACFにより電気的に接続することで、上記課題を解決できることを見出して、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have provided an auxiliary wiring that is electrically connected to at least one of the first electrode and the second electrode on the back surface of the sealing substrate, and the auxiliary wiring pattern and the organic EL element are drawn out from the first. The inventors have found that the above problems can be solved by electrically connecting the wiring of one electrode or the second electrode with a photocurable ACF, and have completed the present invention.
すなわち、本発明の有機ELディスプレイは、透光性基板上に、少なくとも発光層を含む有機層を第1電極および第2電極により挟持してなる積層体が配設され、該透光性基板と封止基板とが接合されて封止されてなる有機ELディスプレイにおいて、
前記封止基板の裏面に補助配線を有し、該補助配線と、前記第1電極または前記第2電極とが、光硬化性の異方性導電膜を介して電気的に接続されていることを特徴とするものである。
That is, in the organic EL display of the present invention, a laminated body in which an organic layer including at least a light emitting layer is sandwiched between a first electrode and a second electrode is disposed on a light-transmitting substrate. In an organic EL display in which a sealing substrate is bonded and sealed,
An auxiliary wiring is provided on the back surface of the sealing substrate, and the auxiliary wiring and the first electrode or the second electrode are electrically connected via a photocurable anisotropic conductive film. It is characterized by.
本発明のディスプレイにおいては、前記透光性基板と前記封止基板とが、前記異方性導電膜と、両基板の周縁部に配設された外周封止部との2箇所で接合されているものとすることができる。 In the display of the present invention, the translucent substrate and the sealing substrate are joined at two locations of the anisotropic conductive film and an outer peripheral sealing portion disposed on a peripheral portion of both substrates. Can be.
本発明によれば、上記構成としたことで、従来は有機EL素子の周辺に配置していた配線を封止基板の裏面に回すことにより、額縁の占める面積を低減することが可能となる。また、配線間の接続に光硬化性のACFを用いることから、接続時に有機EL素子に損傷を与えて特性劣化を生ずることがない。したがって、これにより、表示装置において非表示領域が占める面積をより小さくすることができ、かつ、この狭額縁化の際に有機EL素子に損傷を与えない配線方法を実現して、より額縁の小さい有機ELディスプレイを得ることが可能となった。 According to the present invention, with the above-described configuration, it is possible to reduce the area occupied by the frame by turning the wiring that has been conventionally arranged around the organic EL element to the back surface of the sealing substrate. In addition, since the photocurable ACF is used for the connection between the wirings, the organic EL element is not damaged at the time of connection, and the characteristic deterioration does not occur. Therefore, this can reduce the area occupied by the non-display region in the display device, and realize a wiring method that does not damage the organic EL element during the narrowing of the frame, thereby reducing the frame. An organic EL display can be obtained.
以下、本発明の好適実施形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。
図1に、本発明の有機ELディスプレイの一好適例の模式的断面図を示す。図示するように、本発明の有機ELディスプレイは、透光性基板10上に、少なくとも発光層を含む有機層1を第1電極2および第2電極3により挟持してなる積層体4が配設され、透光性基板10と封止基板20とが接合されて封止されてなるものである。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a preferred example of the organic EL display of the present invention. As shown in the drawing, in the organic EL display of the present invention, a laminate 4 in which an organic layer 1 including at least a light-emitting layer is sandwiched between a
本発明のディスプレイにおいては、封止基板20の裏面に補助配線5が配設されており、この補助配線5と、第1電極2または第2電極3、図示する例では第1電極2とが、光硬化性の異方性導電膜(ACF)6を介して電気的に接続されている。すなわちこの場合、第1電極2は、ACF6を介して補助配線5の接続部分5a、補助配線5に接続され、さらに、接続部分5b、ACF6を介して電極引き出し部2aに接続されている。なお、電極引き出し部2aには、図示しない駆動回路が接続される。
In the display of the present invention, the
ACFとは、エポキシ樹脂やアクリル樹脂中に導電粒子を分散させてなるフィルム状の接着材である。このACFを電極配線間に適用した後、加圧、硬化させることで、ACF内に含まれる導電粒子が押し潰されて、その潰れた導電粒子の部分で電気的な接続が得られることになる。本発明においては、ACFのうちでも、光照射により硬化する光硬化性のACFを用いる。配線をACFにより接続する際、通常の熱硬化性ACFを用いると、熱硬化には180℃以上もの加熱が必要になるため、耐熱温度130℃程度の有機EL素子では、ACFの熱硬化時に損傷して特性劣化を生じることが予想される。これに対し、本発明に係る光硬化性ACFで接続を行うことで、有機EL素子に与えるダメージを回避することができる。 ACF is a film-like adhesive formed by dispersing conductive particles in an epoxy resin or an acrylic resin. After this ACF is applied between the electrode wirings, the conductive particles contained in the ACF are crushed by applying pressure and curing, and electrical connection can be obtained at the crushed conductive particles. . In the present invention, among the ACFs, a photocurable ACF that is cured by light irradiation is used. When wiring is connected by ACF, if a normal thermosetting ACF is used, heating at 180 ° C. or higher is required for thermosetting. Therefore, in an organic EL element having a heat resistant temperature of about 130 ° C., damage is caused when the ACF is thermoset. Therefore, it is expected that characteristic deterioration will occur. On the other hand, the damage given to an organic EL element can be avoided by connecting with the photocurable ACF according to the present invention.
本発明に係る光硬化性ACFに用いる光硬化性樹脂としては、具体的には、(1)アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光重合開始剤とからなる組成物膜を光処理して、光ラジカルを発生させて重合させたもの、(2)ポリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物を光処理することにより二量化させて架橋したもの、(3)鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物膜を光処理することによりナイトレンを発生させ、オレフィンと架橋させたもの、(4)エポキシ基を有するモノマーと光酸発生剤とからなる組成物膜を光処理することにより、酸(カチオン)を発生させて重合させたものなどが挙げられる。この中でも特に、(1)の光硬化性樹脂が、耐溶剤性等の信頼性の面でも好ましい。 Specifically, the photocurable resin used for the photocurable ACF according to the present invention includes (1) a composition comprising an acrylic polyfunctional monomer and oligomer having a plurality of acroyl groups and methacryloyl groups, and a photopolymerization initiator. (1) a polymer film obtained by phototreatment of a material film to generate a photo radical and polymerized; (2) a composition comprising a polyvinyl cinnamate ester and a sensitizer, which is dimerized and cross-linked by phototreatment; 3) A composition film comprising a chain or cyclic olefin and a bisazide is phototreated to generate nitrene and crosslinked with the olefin, and (4) a composition comprising an epoxy group-containing monomer and a photoacid generator. Examples thereof include those obtained by photopolymerizing a material film to generate an acid (cation) and polymerize it. Among these, the photocurable resin (1) is particularly preferable in terms of reliability such as solvent resistance.
また、光硬化性ACF中に含有させる導電粒子としては、ポリエチレン等の樹脂微粒子に金属めっきを施して導電性を付与したものなどを好適に用いることができる。その粒径は、例えば、1〜10μmである。 In addition, as the conductive particles to be contained in the photocurable ACF, those obtained by applying metal plating to resin fine particles such as polyethylene and the like can be suitably used. The particle size is, for example, 1 to 10 μm.
かかる光硬化性ACFは、透光性基板10上に上記積層体4を形成し、封止基板20の裏面に上記補助配線5を形成した後、一方の基板上の目的箇所に、一般に用いられる封止用接着剤と同様に、例えば、ディスペンサ等を用いて塗布することにより適用することができる。その後、両基板を重ねて加圧し、光硬化性ACFを押し潰した後、光照射することにより、両基板を貼り合わせることができる。この場合、図1に示すように、透光性基板10および封止基板20の周縁部に、封止用接着剤を同時に適用することで、これら基板間を、光硬化性ACF6と封止用接着剤を用いた外周封止部7との2箇所で接合させることができる。
Such a photocurable ACF is generally used at a target location on one substrate after the laminate 4 is formed on the
図2(a)に、図1中のB−B断面から有機層の方向を見た模式的平面図を示す。図1は、図2(a)中のA−A断面に沿う断面図に相当する。また、図2(b)は、図2(a)中のC−C断面に沿う模式的断面図である。さらに、図3は、図2(a)中のD−D断面に沿う模式的断面図である。図1に示すように、この実施形態においては、第1電極2は有機層1の下部で分離されており、このうち電極引き出し部側の第1電極2は、図2、3に示すように、電極引き出し部2aに直接接続されている。一方、電極引き出し部とは反対側の第1電極2上にはACF6が形成されており、前述したように、この部分の第1電極2はACF6および接続部分5aを介して補助配線5に接続され、さらに、接続部分5bおよびACF6を介して電極引き出し部2aに接続されている。この場合、補助配線5に抵抗の小さい材料を用いることで、電極引き出し部2aとは反対側の第1電極2も、電極引き出し部2a側の第1電極の電位とほぼ等しくなる。なお、図2(a)に示すように、第2電極3も、外周封止部7の下から外部へ引き出されて駆動回路に接続されている。
FIG. 2A shows a schematic plan view in which the direction of the organic layer is seen from the BB cross section in FIG. FIG. 1 corresponds to a cross-sectional view along the AA cross section in FIG. Moreover, FIG.2 (b) is typical sectional drawing which follows the CC cross section in Fig.2 (a). Furthermore, FIG. 3 is a schematic cross-sectional view along the DD cross section in FIG. As shown in FIG. 1, in this embodiment, the
本発明のディスプレイにおいては、光硬化性ACFを用いて補助配線と第1電極または第2電極とを電気的に接続する以外の点については特に制限されるものではなく、ディスプレイの具体的な層構成および各層の材質等については、常法に従い適宜構成することができる。 In the display of the present invention, there is no particular limitation except that the auxiliary wiring and the first electrode or the second electrode are electrically connected using the photocurable ACF, and a specific layer of the display is not limited. About a structure and the material of each layer, it can comprise suitably according to a conventional method.
例えば、補助配線5の材質としては、Cu,Mo,Alなどの金属またはIZO、ITOなどの導電性酸化物が挙げられる。このうち、封止基板20上に形成した配線パターンと透光性基板10上の電極配線とを上記光硬化性ACFで接続する部分については、光を透過させるために、IZOなどの透明酸化物を用いることが必要である。
For example, the material of the
透光性基板10の材質としては、透光性基板10上に順次積層される層の形成時に用いられる種々の条件(例えば、使用される溶媒、温度等)に耐え得るものであれば特に限定されるものではない。好適には、寸法安定性に優れるものを用いる。好適な材質の例としては、ガラス基板、またはポリオレフィン、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂もしくはポリイミド樹脂で形成された剛直性の樹脂基板が挙げられる。また、他の好適な材質の例としては、ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂またはポリイミド樹脂などで形成された可撓性フィルムが挙げられる。
The material of the
本発明に係る有機層1は、発光部の中核をなす層である。有機層1は、上述したように、少なくとも発光層を含み、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層および/または電子注入層を含む。有機層1には、例えば、下記のような層構成を採用することができる。
(1)有機発光層
(2)正孔注入層/有機発光層
(3)有機発光層/電子注入層
(4)正孔注入層/有機発光層/電子注入層
(5)正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(6)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層
(7)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
なお、上記(1)〜(7)の各構成においては、陽極として機能する電極が左側に接続され、陰極として機能する電極が右側に接続される。
The organic layer 1 which concerns on this invention is a layer which makes the core of a light emission part. As described above, the organic layer 1 includes at least a light emitting layer, and includes a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and / or an electron injection layer as necessary. For example, the following layer structure can be adopted for the organic layer 1.
(1) Organic light emitting layer (2) Hole injection layer / organic light emitting layer (3) Organic light emitting layer / electron injection layer (4) Hole injection layer / organic light emitting layer / electron injection layer (5) Hole transport layer / Organic light emitting layer / electron injection layer (6) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer (7) Hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection Layer In each of the above configurations (1) to (7), the electrode functioning as the anode is connected to the left side, and the electrode functioning as the cathode is connected to the right side.
このうち有機発光層の材料は、所望の色調に応じて選択することが可能である。例えば、青色から青緑色の発光を得るためには、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などを使用することができる。より具体的には、4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)が挙げられる。また、種々の波長の発光を得るために、ホスト化合物(ジスチリルアリーレン化合物、4,4’−ビス[N−(3−トリル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(TPD)、アルミニウム錯体(例えば、トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム錯体(Alq3)など)にドーパントとしてペリレン、キナクリドン類、ルブレンなどを添加したものを使用することもできる。 Among these, the material of the organic light emitting layer can be selected according to a desired color tone. For example, in order to obtain light emission from blue to blue-green, fluorescent whitening agents such as benzothiazole, benzimidazole, and benzoxazole, metal chelated oxonium compounds, styrylbenzene compounds, aromatic dimethylidin compounds, etc. Can be used. More specifically, 4,4′-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi) can be mentioned. In order to obtain light emission at various wavelengths, a host compound (distyrylarylene compound, 4,4′-bis [N- (3-tolyl) -N-phenylamino] biphenyl (TPD), aluminum complex (for example, A tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum complex (Alq 3 ) or the like added with perylene, quinacridones, rubrene or the like as a dopant can also be used.
また、ホスト化合物にドーパントを添加することによって、種々の波長域の光を発する有機発光層を形成することもできる。この場合、ホスト化合物としては、ジスチリルアリーレン系化合物、N,N’−ジトリル−N,N’−ジフェニルビフェニルアミン(TPD)、またはAlq3などを使用することができる。一方、ドーパントとしては、ペリレン(青紫色)、クマリン6(青色)、キナクリドン系化合物(青緑色〜緑色)、ルブレン(黄色)、4−ジシアノメチレン−2−(p−ジメチルアミノスチリル)−6−メチル−4H−ピラン(DCM、赤色)、または白金オクタエチルポルフィリン錯体(PtOEP、赤色)などを使用することができる。 Moreover, the organic light emitting layer which emits the light of a various wavelength range can also be formed by adding a dopant to a host compound. In this case, a distyrylarylene compound, N, N′-ditolyl-N, N′-diphenylbiphenylamine (TPD), Alq 3 or the like can be used as the host compound. On the other hand, as a dopant, perylene (blue purple), coumarin 6 (blue), quinacridone compounds (blue green to green), rubrene (yellow), 4-dicyanomethylene-2- (p-dimethylaminostyryl) -6 Methyl-4H-pyran (DCM, red), platinum octaethylporphyrin complex (PtOEP, red), or the like can be used.
ホール(正孔)注入性ホスト材料としては、フタロシアニン類(銅フタロシアニンなど)またはインダンスレン系化合物、BAPP(N,N−ビス−(4’−ビフェニルアミノ−4−フェニル)−3−ペリニルアミン),BABP(N,N−ビス−(4’−ビフェニルアミノ−4−ビフェニル)−3−ペリニルアミン),CzPP(N,N−ビス−(N’−フェニルカルバゾール)−3−ペリニルアミン),CzBP(N,N−ビス−(4’−カルバゾール−4−ビフェニル)−3−ペリニルアミン)などの高分子ペリレン系材料などを用いることができる。さらに、注入性ホスト材料よりもキャリア移動特性に優れる材料としてホール輸送性材料を用いることができ、トリフェニルアミン誘導体(TPD)、N,N’−ビス(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルビフェニルアミン(α−NPD)、4,4’,4”−トリス(N−3−トリル−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)、N,N,N’−テトラビフェニル−4,4’−ビフェニレンジアミン(TBPB)などのトリアリールアミン系材料を含む公知の材料を用いることができる。 As a hole-injecting host material, phthalocyanines (such as copper phthalocyanine) or indanthrene compounds, BAPP (N, N-bis- (4′-biphenylamino-4-phenyl) -3-perynylamine) , BABP (N, N-bis- (4′-biphenylamino-4-biphenyl) -3-perinylamine), CzPP (N, N-bis- (N′-phenylcarbazole) -3-perinylamine), CzBP (N , N-bis- (4′-carbazole-4-biphenyl) -3-perinylamine) and the like can be used. Further, a hole transporting material can be used as a material having a carrier transport property superior to that of an injectable host material, such as triphenylamine derivative (TPD), N, N′-bis (1-naphthyl) -N, N′—. Diphenylbiphenylamine (α-NPD), 4,4 ′, 4 ″ -tris (N-3-tolyl-N-phenylamino) triphenylamine (m-MTDATA), N, N, N′-tetrabiphenyl-4 A known material including a triarylamine material such as 4,4'-biphenylenediamine (TBPB) can be used.
電子輸送層および電子注入層の材料としては、特に限定されるものではなく、公知の材料を用いることができる。例えば、電子輸送層は、2−(4−ビフェニル)−5−(p−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(PBD(チェック))のようなオキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、トリアジン誘導体、フェニルキノキサリン類、アルミニウムのキノリノール錯体(例えば、Alq3)などを使用して形成することができる。また、電子注入層は、Li,Ca,Cs,Mgなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属、あるいは、これら金属のフッ化物または酸化物などを使用して形成することができる。 The materials for the electron transport layer and the electron injection layer are not particularly limited, and known materials can be used. For example, the electron transport layer may be an oxadiazole derivative such as 2- (4-biphenyl) -5- (pt-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (PBD (check)), triazole Derivatives, triazine derivatives, phenylquinoxalines, quinolinol complexes of aluminum (eg, Alq 3 ), and the like can be used. The electron injection layer can be formed using an alkali metal or alkaline earth metal such as Li, Ca, Cs, or Mg, or a fluoride or oxide of these metals.
なお、有機層1と第2電極3との間には、さらに電子注入効率を高めるためのバッファ層を任意選択的に形成することもできる(図示せず)。バッファ層としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属もしくはそれらの合金、または希土類金属もしくはそれらのフッ化物などの電子注入性材料を用いることができる。また、有機層1上には、第2電極3形成時のダメージを緩和するために、MgAg等からなるダメージ緩和層(図示せず)を形成することも好ましい。
In addition, a buffer layer for further increasing the electron injection efficiency can be optionally formed between the organic layer 1 and the second electrode 3 (not shown). As the buffer layer, an electron injecting material such as an alkali metal, an alkaline earth metal or an alloy thereof, or a rare earth metal or a fluoride thereof can be used. Moreover, it is also preferable to form a damage mitigating layer (not shown) made of MgAg or the like on the organic layer 1 in order to mitigate damage when the
第1電極2は、有機層1への電荷注入と、外部駆動回路との接続という機能を持つ。第1電極2が反射電極として機能する場合の望ましい材料としては、高反射率の金属(アルミニウム、銀、モリブデン、タングステン、ニッケル若しくはクロムなど)、またはアモルファス合金(NiP、NiB、CrP若しくはCrBなど)からなるものが挙げられる。第1電極2が透明電極として機能する場合の望ましい材料としては、SnO2、In2O3、In−Sn酸化物、In−Zn酸化物、ZnO、またはZn−Al酸化物などの導電性金属酸化物を用いることができる。
The
第2電極3は、反射電極として機能する場合および透明電極として機能する場合のいずれについても、第1電極2と同様の材料を用いて形成することができる。また、第2電極3の透過率は、有機層1からの発光を上方に取り出す機能を実効あるものとするため、波長400〜800nmの光に対して50%以上とすることが好ましく、同条件において85%以上とすることがより好ましい。
The
封止用接着剤7としては、例えば、エポキシ系等のUV(紫外線)硬化型接着剤などを用いることができる。この封止用接着剤7中には、透光性基板10と封止基板20との間の距離を補完するための要素、例えば、ガラスビーズなどのスペーサ粒子を含有させたものを用いてもよい。
As the sealing adhesive 7, for example, an epoxy-based UV (ultraviolet) curable adhesive or the like can be used. In the sealing adhesive 7, an element for supplementing the distance between the light-transmitting
封止基板20は、有機EL素子を外部から隔離して、有機EL素子の発光機能を実効あるものとするために用いられる。好ましい封止基板20としては、例えば、ガラス基板、SUS、Al等の金属封止基板、または、ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂若しくはポリイミド樹脂で形成された剛直性の樹脂基板が挙げられる。また、ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などで形成された可撓性フィルムも好適に用いられる。
The sealing
また、第1電極2の下層には、通常、カラーフィルタ(CF)またはCF+色変換層(CCM)や平坦化層(OCL)等が積層される(図1中の符号8)。カラーフィルタは、所望の波長域の光のみを透過させる層である。カラーフィルタは、色変換層との積層構造をとる場合、色変換層によって波長分布変換された光の色純度を向上させることができる点で有効である。カラーフィルタとしては、例えば、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製のカラーモザイクなどの、市販の液晶用カラーフィルタ材料を用いたものが挙げられる。
In addition, a color filter (CF), a CF + color conversion layer (CCM), a planarization layer (OCL), or the like is usually laminated below the first electrode 2 (
光変換層は、色変換用の蛍光色素を含む層であり、マトリクス樹脂を含んでもよい。光変換層は、有機EL素子から出射された光に対して波長分布変換を行い、異なる波長域の光を放出するための層である。ここで、光変換層を構成する蛍光色素は、所望の波長域(例えば、赤色、緑色、または青色)の光を出射する色素である。 The light conversion layer is a layer containing a fluorescent dye for color conversion, and may contain a matrix resin. The light conversion layer is a layer for performing wavelength distribution conversion on the light emitted from the organic EL element and emitting light in different wavelength ranges. Here, the fluorescent dye constituting the light conversion layer is a dye that emits light in a desired wavelength range (for example, red, green, or blue).
青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば、ローダミンB、ローダミン6G、ローダミン3B、ローダミン101、ローダミン110、スルホローダミン、ベーシックバイオレット11、ベーシックレッド2などのローダミン系色素、シアニン系色素、1−エチル−2−〔4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル〕−ピリジニウム−パークロレート(ピリジン1)などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料(直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など)も、蛍光性があれば使用することができる。
Examples of the fluorescent dye that absorbs light in the blue to blue-green region and emits fluorescence in the red region include rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, rhodamine 110, sulforhodamine, basic violet 11, and
これに対し、青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば3−(2’−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン(クマリン6)、3−(2’−ベンゾイミダゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン(クマリン7)、3−(2’−N−メチルベンゾイミダゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン(クマリン30)、2,3,5,6−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリフルオロメチルキノリジン(9,9a,1−gh)クマリン(クマリン153)などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー51、さらにはソルベントイエロー11、ソルベントイエロー116などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。さらに、各種染料(直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など)も蛍光性があれば使用することができる。 On the other hand, as a fluorescent dye that absorbs light in the blue or blue-green region and emits fluorescence in the green region, for example, 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6), 3- (2 '-Benzimidazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 7), 3- (2'-N-methylbenzimidazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 30), 2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8 A coumarin dye such as trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153), or basic yellow 51 which is a coumarin dye dye, and further naphthalimide such as solvent yellow 11 and solvent yellow 116 System dyes and the like. Furthermore, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can be used if they are fluorescent.
また、光変換層を構成するマトリクス樹脂としては、アクリル樹脂もしくは種々のシリコーンポリマー、またはそれらに代替可能なものであればいかなるものも使用することができる。例えば、ストレート型シリコーンポリマー、および変性樹脂型シリコーンポリマーを用いることができる。 As the matrix resin constituting the light conversion layer, an acrylic resin, various silicone polymers, or any material that can be substituted for them can be used. For example, straight silicone polymers and modified resin silicone polymers can be used.
以下、本発明を、実施例を用いてより詳細に説明する。
(実施例1)
<有機EL基板>
透光性基板10としての厚さ0.7mmのガラス基板を、純水中で超音波洗浄し、乾燥させた後に、さらにUVオゾン洗浄した。この洗浄済ガラス基板に対して、スピンコート法を用いてカラーモザイクCK−7800(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を塗布し、フォトリソグラフ法を用いてパターニングを行って、幅0.03mm、膜厚1μmの複数のストライプ状部分がピッチ0.11mmで配列されているブラックマトリクスを形成した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
Example 1
<Organic EL substrate>
A glass substrate having a thickness of 0.7 mm as the
引き続いて、カラーモザイクCB−7001(富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を塗布し、フォトリソグラフ法を用いてパターニングして、幅0.1mm、膜厚1μmの第1方向に延びる複数のストライプ状の部分がピッチ0.33mmで配置されている青色カラーフィルタ層を形成した。 Subsequently, a color mosaic CB-7001 (manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) is applied and patterned using a photolithographic method, and a plurality of stripes extending in the first direction having a width of 0.1 mm and a thickness of 1 μm. A blue color filter layer in which the shape portions are arranged at a pitch of 0.33 mm was formed.
次いで、クマリン6(0.9質量部)を溶剤としてのプロピレングリコールモノエチルアセテート(PGMEA)120質量部に溶解させた。これに、光重合性樹脂組成物としての「V259PA/P5」(新日鉄化学(株)製)100質量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、上記ガラス基板上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施して、幅0.1mm、膜厚5μmの第1方向に延びる複数のストライプ形状部分がピッチ0.33mmで配置されている緑色変換層を得た。 Next, coumarin 6 (0.9 parts by mass) was dissolved in 120 parts by mass of propylene glycol monoethyl acetate (PGMEA) as a solvent. To this, 100 parts by weight of “V259PA / P5” (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) as a photopolymerizable resin composition was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution is applied onto the glass substrate using a spin coating method, and patterned by a photolithographic method. A plurality of stripe-shaped portions extending in the first direction having a width of 0.1 mm and a film thickness of 5 μm are pitched. A green color conversion layer arranged at 0.33 mm was obtained.
さらに、クマリン6(0.5質量部)、ローダミン6G(0.3質量部)およびベーシックバイオレット11(0.3質量部)に、「V259PA/P5」(新日鉄化学(株)製)100質量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、上記ガラス基板上にスピンコートを用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施して、幅0.1mm、膜厚5μmの第1方向に延びる複数のストライプ形状部分がピッチ0.33mmで配置されている赤色変換層を形成した。 Furthermore, Coumarin 6 (0.5 parts by mass), Rhodamine 6G (0.3 parts by mass) and Basic Violet 11 (0.3 parts by mass) were added to “V259PA / P5” (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass. Was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution is applied onto the glass substrate by spin coating, and patterned by photolithography, so that a plurality of stripe-shaped portions extending in the first direction having a width of 0.1 mm and a film thickness of 5 μm have a pitch of 0. A red conversion layer arranged at 33 mm was formed.
上記のようにしてカラーフィルタ層および色変換層が形成されたガラス基板に対して、「V259PA/P5」を塗布し、高圧水銀灯の光を照射して、膜厚8μmの平坦化層を形成した。この際、カラーフィルタ層および色変換層のストライプ形状に変形は発生せず、かつ平坦化層の上面は平坦であった。 “V259PA / P5” was applied to the glass substrate on which the color filter layer and the color conversion layer were formed as described above, and a flattening layer having a thickness of 8 μm was formed by irradiating light from a high-pressure mercury lamp. . At this time, no deformation occurred in the stripe shapes of the color filter layer and the color conversion layer, and the upper surface of the planarizing layer was flat.
次いで、上記平坦化層の上に、スパッタ法にて、膜厚300nmのSiOx膜からなるパッシベーション層を形成した。スパッタ装置にはRF−プレーナマグネトロン、ターゲットにはSiを用いた。成膜時のスパッタガスには、Arと酸素との混合ガスを使用した。 Next, a passivation layer composed of a 300 nm-thickness SiOx film was formed on the planarizing layer by sputtering. An RF-planar magnetron was used for the sputtering device, and Si was used for the target. A mixed gas of Ar and oxygen was used as a sputtering gas during film formation.
次いで、上記パッシベーション層の上面に、スパッタ法にてIZOを全面成膜した。DCスパッタ装置を用い、圧力0.3PaのAr雰囲気中、ターゲットとしてIn2O3−10%ZnOを用い、100Wの電力を印加した。この際の成膜速度は0.33nm/sであった。続いて、フォトリソグラフィー法にてパターニングを行い、さらに乾燥処理(150℃)およびUV処理(水銀灯、室温および150℃)を行って、それぞれの副画素に位置する、幅0.094mm、ピッチ0.11mm、膜厚100nmの第1方向に延びる複数のストライプ形状の部分電極からなる透明電極(陽極)を得た。 Next, IZO was deposited on the entire upper surface of the passivation layer by sputtering. Using a DC sputtering apparatus, 100 W electric power was applied using In 2 O 3 -10% ZnO as a target in an Ar atmosphere at a pressure of 0.3 Pa. The film formation speed at this time was 0.33 nm / s. Subsequently, patterning is performed by a photolithography method, and further, a drying process (150 ° C.) and a UV process (mercury lamp, room temperature and 150 ° C.) are performed. A transparent electrode (anode) composed of a plurality of stripe-shaped partial electrodes extending in the first direction with a thickness of 11 mm and a thickness of 100 nm was obtained.
次いで、上記透明電極が形成されたガラス基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、ホール注入層、ホール輸送層、発光層および電子輸送層からなる有機EL層を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して、真空槽内圧は1×10−5Paまで減圧した。 Next, the glass substrate on which the transparent electrode is formed is mounted in a resistance heating vapor deposition apparatus, and an organic EL layer composed of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer is sequentially formed without breaking the vacuum. did. During film formation, the internal pressure of the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −5 Pa.
ホール注入層としては、4,4’−トリス(3−メチルフェニルアミン)−トリフェニルアミン(m−NTDATA)とテトラフロロテトラシアノ−キノジメタン(F4−TCNQ)との共蒸着膜を、膜厚比がm−NTDATA:F4−TCNQ=100:2になるように、75nmにて成膜した。ホール輸送層としては、n,n’−ビス−(1−ナフチル)− n,n’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン(NPB)を10nm積層し、発光層としては、DPVBiと4,4‘−ビス[2−{4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPAVBi)と4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)との共蒸着膜を、100:3:0.15の膜厚比になるように、35nmにて積層した。続いて、電子輸送層としてのAlq3を、膜厚20nmにて成膜した。 As the hole injection layer, a co-evaporated film of 4,4′-tris (3-methylphenylamine) -triphenylamine (m-NTDATA) and tetrafluorotetracyano-quinodimethane (F4-TCNQ) was used. Was formed at 75 nm so that m-NTDATA: F4-TCNQ = 100: 2. As the hole transport layer, 10 nm of n, n′-bis- (1-naphthyl) -n, n′-diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine (NPB) is laminated to form a light emitting layer. Are DPVBi, 4,4′-bis [2- {4- (N, N-diphenylamino) phenyl} vinyl] biphenyl (DPAVBi) and 4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethyl). A co-evaporated film with aminostyryl) -4H-pyran (DCM) was laminated at 35 nm so as to have a film thickness ratio of 100: 3: 0.15. Subsequently, the Alq 3 as the electron transport layer was formed to a thickness of 20 nm.
その後、真空を破ることなしに、上記第1方向と直交する第2方向に延びる幅0.3mm,ピッチ0.33mmのストライプパターンが得られるマスクを用いて、LiF(膜厚1nm)/Al(膜厚100nm)を堆積させ、複数のストライプ形状の部分電極からなる反射電極を形成した。 Then, using a mask that can obtain a stripe pattern with a width of 0.3 mm and a pitch of 0.33 mm extending in the second direction orthogonal to the first direction without breaking the vacuum, LiF (film thickness: 1 nm) / Al ( A reflective electrode composed of a plurality of stripe-shaped partial electrodes was formed.
このようにして反射電極までを形成したガラス基板(有機EL基板)を、グローブボックス内乾燥窒素雰囲気(水分濃度10ppm以下)に移動させた。 The glass substrate (organic EL substrate) formed up to the reflective electrode in this way was moved to a dry nitrogen atmosphere (moisture concentration of 10 ppm or less) in the glove box.
<封止基板>
封止基板を、厚さ0.7mmの無アルカリガラス(日本電気硝子(株)製、OA−10)を用いて製作した。この封止基板上に、補助配線として、幅0.094mm、ピッチ0.11mm、厚さ1μmのCuパターンをスパッタで形成した。なお、有機EL基板の下部電極と接合させる部分についてはIZOを先に形成しておき、接合部以外の部分をCu配線とした。
<Sealing substrate>
The sealing substrate was manufactured using a non-alkali glass (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., OA-10) having a thickness of 0.7 mm. On this sealing substrate, a Cu pattern having a width of 0.094 mm, a pitch of 0.11 mm and a thickness of 1 μm was formed as an auxiliary wiring by sputtering. In addition, about the part joined with the lower electrode of an organic electroluminescent board | substrate, IZO was formed previously and parts other than a junction part were made into Cu wiring.
次いで、配線パターンを形成した部位のガラスはそのままとし、それ以外の場所に、深さ0.3mmでザグリ加工を実施した。ザグリ溝の形成には、サンドブラスト加工を用いた。このザグリ溝の底部に、ディスペンサーシステムを用いてペースト状乾燥剤を塗布し、水分濃度10ppm以下の雰囲気中で加熱乾燥した後、自然冷却させた。 Next, the portion of the glass where the wiring pattern was formed was left as it was, and a counterbore process was performed at a depth of 0.3 mm in other locations. Sand blasting was used to form the counterbored grooves. A paste-like desiccant was applied to the bottom of the counterbore groove using a dispenser system, dried by heating in an atmosphere having a moisture concentration of 10 ppm or less, and then naturally cooled.
<封止>
上記で得られた封止基板を、水分濃度10ppm以下の雰囲気を保ったまま、貼り合わせ装置内の塗布ステージにセットした。この封止基板の補助配線上の、有機EL基板の下部電極と接合させる部分に、ACFとしての、樹脂微粒子(粒径φ10μm,ポリエチレン製)に金メッキを施した導電性微粒子を混入させた光硬化型接着剤(アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、5質量%の光重合開始剤とからなる組成物膜を光処理して、光ラジカルを発生させて重合させたもの)を、ディスペンサーシステムにより塗布した。次いで、封止基板の周縁部に、外周シール剤として、φ20μmのビーズの入った紫外線硬化型エポキシ系接着剤(ナガセケムラックス社製、XNR−5516)を塗布して、外周封止部を形成した。
<Sealing>
The sealing substrate obtained above was set on a coating stage in a bonding apparatus while maintaining an atmosphere having a moisture concentration of 10 ppm or less. Photocuring in which conductive fine particles in which resin fine particles (particle diameter φ10 μm, made of polyethylene) are plated with gold are mixed in the portion to be joined to the lower electrode of the organic EL substrate on the auxiliary wiring of the sealing substrate. Type adhesive (a composition film comprising an acrylic polyfunctional monomer and oligomer having a plurality of acroyl groups and methacryloyl groups and 5% by mass of a photopolymerization initiator was phototreated to generate photo radicals and polymerize them. Were applied by a dispenser system. Next, an outer peripheral sealing part is formed by applying an ultraviolet curable epoxy adhesive containing φ20 μm beads (XNR-5516, manufactured by Nagase Chemrax Co., Ltd.) as a peripheral sealing agent to the peripheral part of the sealing substrate. did.
その後、同装置内で有機EL基板と封止基板とを向かい合わせ、1kPaまで減圧して両基板を接触させ、大気圧に戻すことでACFおよび外周封止部を押し潰して、両基板を貼り合わせた。これを紫外線照射装置にセットして、ACFおよび外周封止部に紫外線を照射し、貼り合わせを完了した。 Then, the organic EL substrate and the sealing substrate face each other in the same apparatus, the pressure is reduced to 1 kPa, the two substrates are brought into contact, the ACF and the outer peripheral sealing portion are crushed by returning to atmospheric pressure, and both the substrates are attached. Combined. This was set in an ultraviolet irradiation device, and the ACF and the outer peripheral sealing portion were irradiated with ultraviolet rays to complete the bonding.
結果として得られた有機ELディスプレイは、非表示領域が小さく、かつ、有機EL素子の損傷もないものであった。 The resulting organic EL display had a small non-display area and no damage to the organic EL element.
1 有機層
2 第1電極
2a 電極引き出し部
3 第2電極
4 積層体
5 補助配線
5a,5b 接続部分
6 光硬化性異方性導電膜(ACF)
7 外周封止部
10 透光性基板
20 封止基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
7 Peripheral sealing
Claims (2)
前記封止基板の裏面に補助配線を有し、該補助配線と、前記第1電極または前記第2電極とが、光硬化性の異方性導電膜を介して電気的に接続されていることを特徴とする有機ELディスプレイ。 A laminated body in which an organic layer including at least a light emitting layer is sandwiched between a first electrode and a second electrode is disposed on a translucent substrate, and the translucent substrate and the sealing substrate are bonded and sealed. In the organic EL display which is made,
An auxiliary wiring is provided on the back surface of the sealing substrate, and the auxiliary wiring and the first electrode or the second electrode are electrically connected via a photocurable anisotropic conductive film. Organic EL display characterized by this.
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2009
- 2009-02-17 JP JP2009034579A patent/JP2009224321A/en not_active Withdrawn
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