JP2008159321A - Organic el display panel and its manufacturing method - Google Patents

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Naoto Fukazawa
直人 深澤
Makoto Uchiumi
誠 内海
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL display panel in which a lead wire connecting an extraction electrode and a mother board and a contact area to the plug can be taken large, and a trouble such as reduction of contact resistance and disconnection is reduced. <P>SOLUTION: The organic EL display panel for forming a large panel by mutually joining together has an organic EL element formed on a substrate by including a first electrode and a second electrode and an organic luminous layer interposed between these on a display part, a passivation layer formed so as to cover the organic EL element on the display part, and a lead wire which is formed so as to extend from the passivation layer to the substrate outside of the passivation layer. The first electrode and the second electrode respectively extend from the display part to the substrate end to constitute an extraction electrode at the substrate end, and the lead wire and the extraction electrode are laminated at the portion outside of the passivation layer, and a bump is formed at the tip part on the opposite side to the extraction electrode side of the lead wire. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、複数のパネルをつなぎ合わせて大型化するための有機ELディスプレイパネル及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL display panel for connecting a plurality of panels to increase the size and a method for manufacturing the same.

1987年にイーストマンコダック社のC.W.Tangにより2層構成のデバイスで高い効率の有機EL素子が発表されて以来、現在に至るまでに様々な有機EL素子が開発されて、携帯端末などに一部実用化され始めている。さらに、液晶に比べて視野角依存性が小さいことから大型パネルへの適用も検討されている。   In 1987, Eastman Kodak's C.I. W. Since Tang announced a highly efficient organic EL element in a two-layer device by Tang, various organic EL elements have been developed up to the present, and some of them have begun to be put into practical use in portable terminals and the like. Furthermore, since the viewing angle dependency is smaller than that of liquid crystal, application to a large panel is also being studied.

また、有機EL素子は、多様化する社会のニーズに応えるべく、長期安定性および高速応答性を有し、多色表示または高精細なフルカラー表示が可能な有機ELディスプレイの実用化が急がれている。
カラー化の方法には、3色塗り分け法、色変換法(CCM法)、カラーフィルタ法などがある。これらの方式の中で、CCM法、カラーフィルタ法は、成膜時にメタルマスクを用いる必要がなく、色変換層やカラーフィルタはフォトプロセスを用いて基板上に作製すればよいため、大面積、高精細化に関して有利である。
In addition, in order to meet diversifying social needs, organic EL elements have long-term stability and high-speed response, and there is an urgent need for practical use of organic EL displays capable of multicolor display or high-definition full-color display. ing.
Coloring methods include a three-color painting method, a color conversion method (CCM method), a color filter method, and the like. Among these methods, the CCM method and the color filter method do not require the use of a metal mask at the time of film formation, and the color conversion layer and the color filter may be formed on a substrate using a photo process. This is advantageous for high definition.

また、有機EL素子を用いた表示装置にはパッシブマトリックス表示装置とアクティブマトリックス装置がある。前者は複数の陽極ラインと複数の陰極ラインが設けられ、陽極ラインと陰極ラインが交差した箇所(画素位置)に発光層が形成されており、各画素は1フレーム期間中、選択された時間だけ点灯する。構造が単純であり、製造コストは低く、安価に提供できる。しかし、画素が多くなると選択時間が短くなるので、駆動電圧を高くし、瞬間輝度を高くする必要がある。また、有機EL素子は電流駆動であるため、大画面になると配線抵抗による電圧降下が大きく、駆動電圧を高くする必要が生じる。   In addition, display devices using organic EL elements include a passive matrix display device and an active matrix device. In the former, a plurality of anode lines and a plurality of cathode lines are provided, and a light emitting layer is formed at a position (pixel position) where the anode lines and the cathode lines intersect, and each pixel has a selected time during one frame period. Light. The structure is simple, the manufacturing cost is low, and it can be provided at low cost. However, since the selection time becomes shorter as the number of pixels increases, it is necessary to increase the driving voltage and increase the instantaneous luminance. In addition, since the organic EL element is current driven, the voltage drop due to the wiring resistance is large when the screen is large, and it is necessary to increase the driving voltage.

一方、アクティブマトリックス表示装置は各画素にTFTのスイッチング素子が接続されているため、1フレーム期間中点灯し続けていることができる。そのため瞬間輝度を高くする必要がないので、電流を抑えることができ、ひいては寿命を延ばすことができる。しかし、TFTを用いることから製造コストが高くなるという問題がある。
以上のことから、大型パネルを安価に製造するには、小型のパッシブマトリックスパネルをつなぎ合わせる方式を採用することが好ましい。
On the other hand, since the TFT switching element is connected to each pixel, the active matrix display device can continue to be lit for one frame period. Therefore, since it is not necessary to increase the instantaneous luminance, the current can be suppressed, and the life can be extended. However, since the TFT is used, there is a problem that the manufacturing cost is increased.
From the above, in order to manufacture a large panel at low cost, it is preferable to employ a method of joining small passive matrix panels.

小型の表示パネルをつなぎ合わせて大型のパネルとする場合、小型表示パネルの外周側に駆動回路基板が設けられている場合、この駆動回路の領域が画面を表示できない非表示領域となってしまい、画質の低下を招いてしまう。また、駆動回路と小型表示パネルの接続は、通常、フレキシブル配線板などによって電気的に接続されているが、この配線にマイグレーションが生じ、断線などが生じるという問題が発生する。   When connecting small display panels to make a large panel, if a drive circuit board is provided on the outer periphery of the small display panel, the area of this drive circuit becomes a non-display area that cannot display the screen, The image quality will be degraded. Further, the connection between the drive circuit and the small display panel is usually electrically connected by a flexible wiring board or the like, but there is a problem that migration occurs in this wiring and disconnection occurs.

また、駆動回路基板を表示パネルに実装した表示装置の場合は、駆動基板にバンプが設けられ、このバンプと表示パネルを電気的に接続している。このような表示装置として、電極と表示材料を積層した構造を有する表示パネルと、前記表示パネルの電極と電気的に接続するバンプを有し、前記表示パネルの駆動制御を行う配線基板を紫外線硬化型接着剤で接着した表示装置の提案がある(例えば、特許文献1参照。)。この提案ではそれぞれ複数のストライプからなる複数の陰極と陽極のそれぞれ端部近傍にスルーホールを設け、このスルーホールと電極端部を接続するようにバンプを設け、これらのバンプはスルーホール及び配線パターンを介して駆動制御部に接続されている。   In the case of a display device in which a drive circuit board is mounted on a display panel, bumps are provided on the drive board, and the bumps and the display panel are electrically connected. As such a display device, a display panel having a structure in which an electrode and a display material are laminated, and a bump that is electrically connected to the electrode of the display panel, and a wiring board that performs drive control of the display panel is UV-cured. There is a proposal of a display device bonded with a mold adhesive (for example, see Patent Document 1). In this proposal, through holes are provided near the end portions of a plurality of cathodes and anodes each having a plurality of stripes, and bumps are provided so as to connect the through holes and the electrode end portions. It is connected to the drive control part via.

また、有機EL表示体の表示部と反対側の基板全面にパッシベーション層を設け、該パッシベーション層上に第1の配線と第2の配線が形成し、有機EL表示体の第1及び第2の電極と上記第1と第2の配線はスルーホールで接続され、これらのスルーホールが基板の端部に設けられている表示体の提案もある(例えば、特許文献2参照。)。この提案では、駆動用半導体素子はパッシベーション層上に設けられている。   In addition, a passivation layer is provided on the entire surface of the substrate opposite to the display portion of the organic EL display body, and a first wiring and a second wiring are formed on the passivation layer, and the first and second wirings of the organic EL display body are formed. There is also a proposal of a display body in which the electrode and the first and second wirings are connected through through holes, and these through holes are provided at the end of the substrate (for example, see Patent Document 2). In this proposal, the driving semiconductor element is provided on the passivation layer.

特開2002−207436号公報JP 2002-207436 A 特開2004−355998号公報JP 2004-355998 A

小型の表示パネルをつなぎ合わせて大型のパネルとする場合、小型パネル端部から電極取り出し部を設けるため小型パネル間のつなぎ目を大きくすると、パネルの境界が目立つという不具合が生じる。このため、小型パネルは、配線が必要な周辺領域を縮小化した狭額縁パネルにしなければならず、縮小された周辺領域で電極を配線しなければならないという課題がある。   When connecting a small display panel to make a large panel, if the joint between the small panels is enlarged to provide an electrode take-out portion from the end of the small panel, there is a problem that the boundary of the panel is conspicuous. For this reason, the small panel has to be a narrow frame panel in which the peripheral area where wiring is required is reduced, and there is a problem that the electrodes must be wired in the reduced peripheral area.

特許文献1の表示装置は小型パネル端部の電極上にバンプを形成しており、電極数が多くなるとそれだけバンプが小さくなるため、接触抵抗が増加し、また、断線などの不具合が生じやすくなる。   In the display device of Patent Document 1, bumps are formed on the electrodes at the end of the small panel, and as the number of electrodes increases, the bumps become smaller accordingly, so that contact resistance increases and problems such as disconnection are likely to occur. .

また、特許文献2の有機EL表示体もパッシベーション層上に設けられた駆動用素子と表示体の第1、第2電極の端部をスルーホール及び第1、第2の配線で接続しており、スルーホールと電極端部の接続は、スルーホール部及びその近傍にスポッティングすることで行っているため、電極数が多くなると接続面積が小さくなり接続抵抗が増加するという上記と同様の問題点を有している。   In addition, the organic EL display of Patent Document 2 is also connected to the driving element provided on the passivation layer and the ends of the first and second electrodes of the display through a through hole and first and second wirings. Since the connection between the through hole and the electrode end is performed by spotting the through hole portion and the vicinity thereof, the same problem as described above that the connection area decreases and the connection resistance increases as the number of electrodes increases. Have.

本発明者らはこのような状況に鑑み、引出し電極とマザー基板のプラグをつなぐリード線、プラグへの接触面積を大きくとることができ、接触抵抗の低減、断線などの不具合を減少させ、歩留まりを向上させた有機ELディスプレイパネルを提供することを目的とする。   In view of such circumstances, the present inventors can increase the contact area between the lead electrode connecting the extraction electrode and the mother substrate, the contact area to the plug, reducing defects such as contact resistance reduction and disconnection, and yield. An object of the present invention is to provide an organic EL display panel with improved performance.

上述の目的を達成するため、本発明の有機ELディスプレイパネルは、互いにつなぎ合わされて大型パネルを形成するための有機ELディスプレイパネルであって、前記有機ELディスプレイパネルは、基板上に形成された表示部と、表示部において第1電極と第2電極とこれらに挟持された有機発光層とを含んで形成された有機EL素子と、表示部において該有機EL素子を覆うように形成されたパッシベーション層と、前記パッシベーション層上からパッシベーション層外の基板上にまで延在するように形成されたリード線とを有し、前記第1電極及び第2電極はそれぞれ表示部から基板端部に伸びて基板端部で引出し電極を構成し、前記リード線と前記引出し電極とはパッシベーション層外の部分において積層され、前記リード線の引出し電極側とは反対側の先端部にバンプが形成されていることを特徴とする。   In order to achieve the above-described object, the organic EL display panel of the present invention is an organic EL display panel that is connected to each other to form a large panel, and the organic EL display panel is a display formed on a substrate. Part, an organic EL element formed including a first electrode and a second electrode in the display part, and an organic light emitting layer sandwiched between them, and a passivation layer formed so as to cover the organic EL element in the display part And lead wires formed so as to extend from the passivation layer to the substrate outside the passivation layer, and the first electrode and the second electrode each extend from the display portion to the substrate end portion to form the substrate. An extraction electrode is formed at the end, and the lead wire and the extraction electrode are laminated in a portion outside the passivation layer, and the lead wire is drawn out. The by electrode side, characterized in that the bump on the tip portion of the opposite side.

また、本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法は、表示部において基板上に色変換フィルタ層を形成する色変換フィルタ層形成工程、表示部から基板端部に伸びて基板端部で引出し電極を構成する電極を含め、色変換フィルタ層上に有機EL素子を形成する有機EL素子形成工程、基板上の表示部背面を含み引出し電極部以外の部分にパッシベーション層を形成するパッシベーション層形成工程、リード線をパッシベーション層上からパッシベーション層外の基板上にまで延在するように、かつリード線と前記引出し電極とはパッシベーション層外の部分において積層するように形成し、引出し電極側とは反対側の先端部にバンプを形成するリード線形成工程を少なくとも有することを特徴とする。   The organic EL display panel manufacturing method of the present invention also includes a color conversion filter layer forming step of forming a color conversion filter layer on the substrate in the display unit, and extending from the display unit to the substrate end to provide an extraction electrode at the substrate end. Organic EL element forming step for forming an organic EL element on the color conversion filter layer, including the electrode to constitute, a passivation layer forming step for forming a passivation layer on the portion other than the extraction electrode portion including the back surface of the display portion on the substrate, lead The lead wire and the extraction electrode are formed so as to be laminated in a portion outside the passivation layer so as to extend from the passivation layer to the substrate outside the passivation layer, and on the side opposite to the extraction electrode side It has at least a lead wire forming step for forming a bump at the tip.

本発明によれば、引出し電極とマザー基板のプラグをつなぐリード線の引出し電極、プラグへの接触面積を大きくとることが可能となり、周辺部の狭い、いわゆる狭額縁有機ELディスプレイパネルであっても、接触抵抗の低減、断線などの不具合を減少させることができ、また、有機ELディスプレイパネル製造の歩留まりを向上させることができる。 According to the present invention, it is possible to increase the contact area between the lead electrode that connects the lead electrode and the plug of the mother substrate, and the contact area with the plug, and even in a so-called narrow frame organic EL display panel with a narrow peripheral portion. In addition, problems such as reduction in contact resistance and disconnection can be reduced, and the yield of manufacturing an organic EL display panel can be improved.

以下に、本発明を、図面を参照しつつ説明する。
本発明はトップエミッション型の有機EL素子に対しても適用が可能であるが、ボトムエミッション型の色変換方式の有機ELディスプレイを用いて説明する。
図1は本発明のボトムエミッション方式の有機ELディスプレイパネルの1実施形態を示す断面概略図であり、図2は引出し電極及びリード線の配置例を示す図である。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.
Although the present invention can be applied to a top emission type organic EL element, a bottom emission type color conversion type organic EL display will be described.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of a bottom emission type organic EL display panel of the present invention, and FIG. 2 is a view showing an arrangement example of lead electrodes and lead wires.

図1に示す本発明の有機ELディスプレイパネルにおいては、基板1上に表示部が形成されている。
表示部は、通電により、有機発光層8から出た光を色変換フィルタ層2で変換して所定の色を基板1側から発する画素表示部であって、表示部には、基板1上に形成された色変換フィルタ層2、色変換フィルタ層2を覆って平坦化するためのオーバーコート層3、オーバーコート層3に残留する水分の拡散を防止するバリア層4、その上に形成された複数のストライプからなる第1電極5、表示部の短絡リークを防ぐために第1電極5上に格子状に形成された絶縁層6、格子状絶縁層6の開口部に形成された有機発光層8、第1電極のストライプと直交する方向に伸びる複数のストライプからなる第2電極9が少なくとも形成されている。すなわち、表示部において、有機発光層8は第1電極5と第2電極9に挟持され、有機EL素子を形成している。ここで、色変換フィルタ層は、カラーフィルタ層、色変換層、およびカラーフィルタ層と色変換層との積層体の総称である。
In the organic EL display panel of the present invention shown in FIG. 1, a display unit is formed on a substrate 1.
The display unit is a pixel display unit that emits a predetermined color from the substrate 1 side by converting light emitted from the organic light emitting layer 8 by the color conversion filter layer 2 when energized, and the display unit is disposed on the substrate 1. The formed color conversion filter layer 2, the overcoat layer 3 for covering and flattening the color conversion filter layer 2, the barrier layer 4 for preventing diffusion of moisture remaining in the overcoat layer 3, and the overcoat layer 3 are formed thereon. A first electrode 5 composed of a plurality of stripes, an insulating layer 6 formed in a lattice shape on the first electrode 5 in order to prevent short-circuit leakage of the display portion, and an organic light emitting layer 8 formed in an opening of the lattice-shaped insulating layer 6 At least a second electrode 9 made of a plurality of stripes extending in a direction perpendicular to the stripes of the first electrode is formed. That is, in the display unit, the organic light emitting layer 8 is sandwiched between the first electrode 5 and the second electrode 9 to form an organic EL element. Here, the color conversion filter layer is a general term for a color filter layer, a color conversion layer, and a laminate of a color filter layer and a color conversion layer.

基板1は、色変換フィルタ層によって変換された光に対して透明であることが必要である。また、基板1は、色変換フィルタ層およびブラックマスクの形成に用いられる条件(溶媒、温度等)に耐えるものであるべきであり、さらに寸法安定性に優れていることが好ましい。基板1は、波長400〜800nmの光に対して50%以上の透過率を有することが好ましい。基板1の材料として好ましいものは、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート等の樹脂を含む。ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましいものである。基板1としてガラス基板を用いる場合は、剛性を保ち、切れ目を入れることから、その厚さは0.3〜1.0mmであることが好ましい。   The substrate 1 needs to be transparent to the light converted by the color conversion filter layer. The substrate 1 should be able to withstand the conditions (solvent, temperature, etc.) used for forming the color conversion filter layer and the black mask, and is preferably excellent in dimensional stability. The substrate 1 preferably has a transmittance of 50% or more with respect to light having a wavelength of 400 to 800 nm. Preferred materials for the substrate 1 include resins such as glass, polyethylene terephthalate, and polymethyl methacrylate. Borosilicate glass or blue plate glass is particularly preferable. In the case where a glass substrate is used as the substrate 1, the thickness is preferably 0.3 to 1.0 mm in order to maintain rigidity and make a cut.

色変換フィルタ層2における色変換層は、色変換色素とマトリクス樹脂からなる層である。色変換色素は、入射光の波長分布変換を行って、異なる波長域の光を放射する色素であり、好ましくは有機発光層からの近紫外光または青色〜青緑色の光の波長分布変換を行って、所望の波長域の光(たとえば、青色、緑色または赤色)を放射する色素である。   The color conversion layer in the color conversion filter layer 2 is a layer made of a color conversion dye and a matrix resin. The color conversion dye is a dye that converts the wavelength distribution of incident light and emits light in different wavelength ranges, and preferably converts the wavelength distribution of near-ultraviolet light or blue to blue-green light from the organic light emitting layer. Thus, it is a pigment that emits light in a desired wavelength band (for example, blue, green, or red).

色変換色素は、発光体から発せられる近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。好ましくは、少なくとも赤色領域の蛍光を発する蛍光色素の1種類以上を用い、さらに緑色領域の蛍光を発する蛍光色素の1種類以上と組み合わせてもよい。   The color conversion dye absorbs light in the near ultraviolet region or visible region emitted from the illuminant, particularly light in the blue or blue-green region, and emits visible light having a different wavelength as fluorescence. Preferably, at least one fluorescent dye that emits fluorescence in the red region may be used, and may be combined with one or more fluorescent pigments that emit fluorescence in the green region.

カラーフィルタ層は、当該技術において知られている任意の色素をマトリクス樹脂に分散した材料(たとえば、液晶ディスプレイ用カラーフィルタ材料)を用いて形成することができる。フルカラー表示を可能にするためには、少なくとも青色(B)変換フィルタ層、緑色(G)変換フィルタ層および赤色(R)変換フィルタ層を有することが望ましい。   The color filter layer can be formed using a material (for example, a color filter material for a liquid crystal display) in which any pigment known in the art is dispersed in a matrix resin. In order to enable full color display, it is desirable to have at least a blue (B) conversion filter layer, a green (G) conversion filter layer, and a red (R) conversion filter layer.

赤色変換フィルタ層は、赤色変換層と赤色カラーフィルタ層との積層体であることが好ましい。これは、光源として青色ないし青緑色領域の光を発光する有機EL層110を用いる場合、有機発光層8からの光を単なる赤色フィルタに通して赤色領域の光を得ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために極めて暗い出力光になってしまうからである。赤色変換層によって青色ないし青緑色領域の光を赤色光へと波長分布変換することにより、十分な強度を有する赤色領域の光の出力が可能となる。   The red conversion filter layer is preferably a laminate of a red conversion layer and a red color filter layer. This is because when the organic EL layer 110 that emits light in the blue or blue-green region is used as the light source, if light from the organic light-emitting layer 8 is passed through a simple red filter to obtain light in the red region, This is because the output light becomes extremely dark due to the small amount of light of the wavelength. By converting the wavelength distribution of light in the blue or blue-green region into red light by the red conversion layer, it is possible to output light in the red region having sufficient intensity.

緑色変換フィルタ層は、緑色変換層と緑色カラーフィルタ層との積層体であることが好ましい。ただし、有機発光層8が発する光が充分な強度の緑色成分を含有する場合、緑色カラーフィルタ層のみを用いてもよい。   The green conversion filter layer is preferably a laminate of a green conversion layer and a green color filter layer. However, when the light emitted from the organic light emitting layer 8 contains a sufficiently strong green component, only the green color filter layer may be used.

青色変換フィルタ層は、有機発光層8が発する近紫外光または青緑色光の波長分布変換を行って青色光を出力する青色変換層と、青色カラーフィルタ層とを含んでもよい。ただし、有機発光層8が青色から青緑色の光を発する場合、青色カラーフィルタ層のみを用いることが好ましい。
赤、緑、青の各色の色変換フィルタ層は、有機発光層8からの光をそれぞれの色に効率よく変換するために、12μm程度の厚さであることが好ましい。
The blue conversion filter layer may include a blue conversion layer that performs wavelength distribution conversion of near-ultraviolet light or blue-green light emitted from the organic light emitting layer 8 and outputs blue light, and a blue color filter layer. However, when the organic light emitting layer 8 emits blue to blue-green light, it is preferable to use only the blue color filter layer.
The color conversion filter layers for red, green, and blue are preferably about 12 μm thick in order to efficiently convert the light from the organic light emitting layer 8 into each color.

発光体から発せられる青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えばローダミンB、ローダミン6G、ローダミン3B、ローダミン101、ローダミン110、スルホローダミン、ベーシックバイオレット11、ベーシックレッド2などのローダミン系色素、シアニン系色素、1−エチル−2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−ピリジニウムパークロレート(ピリジン1)などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料(直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など)も蛍光性があれば使用することができる。   Examples of fluorescent dyes that absorb blue to blue-green light emitted from the luminescent material and emit fluorescence in the red region include rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, rhodamine 110, sulforhodamine, basic violet 11 Pyridine dyes such as rhodamine dyes such as basic red 2, cyanine dyes, 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridinium perchlorate (pyridine 1) Or oxazine dyes. Furthermore, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can be used if they are fluorescent.

発光体から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば3−(2’−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノ−クマリン(クマリン6)、3−(2’−ベンゾイミダゾリル)−7−ジエチルアミノ−クマリン(クマリン7)、3−(2’−N−メチルベンゾイミダゾリル)−7−ジエチルアミノ−クマリン(クマリン30)、2,3,5,6−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリフルオロメチルキノリジン(9,9a,1−gh)クマリン(クマリン153)などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー51、さらにはソルベントイエロー11、ソルベントイエロー116などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。さらに、各種染料(直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など)も蛍光性があれば使用することができる。   Examples of fluorescent dyes that absorb blue to blue-green light emitted from a light emitter and emit green light include 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylamino-coumarin (coumarin 6), 3- (2′-Benzimidazolyl) -7-diethylamino-coumarin (coumarin 7), 3- (2′-N-methylbenzimidazolyl) -7-diethylamino-coumarin (coumarin 30), 2,3,5,6-1H, 4H -Coumarin-based dyes such as tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153), or basic yellow 51 which is a coumarin dye-based dye, solvent yellow 11, solvent yellow 116 And naphthalimide dyes. Furthermore, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) can be used if they are fluorescent.

なお、色変換色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機色変換顔料としてもよい。また、これらの色変換色素や有機色変換顔料(本明細書中で、前記2つを合わせて色変換色素と総称する)は単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために2種以上を組み合わせて用いてもよい。   In addition, the color conversion dye is previously added to polymethacrylic acid ester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, and a mixture of these resins. It may be kneaded to form a pigment to obtain an organic color conversion pigment. In addition, these color conversion dyes and organic color conversion pigments (in the present specification, the above two are collectively referred to as color conversion dyes) may be used singly, and two kinds may be used to adjust the hue of fluorescence. A combination of the above may also be used.

色変換層に用いられるマトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂(レジスト)を光および/または熱処理して、ラジカル種またはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものである。また、色変換層のパターニングを行うために、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。   The matrix resin used in the color conversion layer is a photocurable or photothermal combination type curable resin (resist) that is subjected to light and / or heat treatment to generate radical species or ionic species to be polymerized or crosslinked to be insoluble and infusible. It is a thing. In order to perform patterning of the color conversion layer, it is desirable that the photocurable or photothermal combination type curable resin is soluble in an organic solvent or an alkaline solution in an unexposed state.

具体的には、マトリクス樹脂は、(1)アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物膜を光または熱処理して、光ラジカルまたは熱ラジカルを発生させて重合させたもの、(2)ボリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物を光または熱処理により二量化させて架橋したもの、(3)鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物膜を光または熱処理してナイトレンを発生させ、オレフィンと架橋させたもの、および(4)エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物膜を光または熱処理により、酸(カチオン)を発生させて重合させたものなどを含む。特に、(1)のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる組成物を重合させたものが好ましい。なぜなら、該組成物は高精細なパターニングが可能であり、および重合した後は耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いからである。   Specifically, the matrix resin is obtained by subjecting a composition film comprising (1) an acrylic polyfunctional monomer and oligomer having a plurality of acryloyl groups and methacryloyl groups, and light or thermal polymerization initiator to light or heat treatment, Or a polymer obtained by generating thermal radicals, (2) a composition comprising a polyvinylcinnamic acid ester and a sensitizer dimerized by light or heat treatment, and (3) a chain or cyclic olefin A composition film composed of bisazide is irradiated with light or heat to generate nitrene and crosslinked with olefin, and (4) a composition film composed of a monomer having an epoxy group and an acid generator is subjected to light or heat treatment, Including those polymerized by generating an acid (cation). In particular, a polymer obtained by polymerizing a composition comprising the acrylic polyfunctional monomer and oligomer (1) and light or a thermal polymerization initiator is preferred. This is because the composition can be patterned with high definition and has high reliability such as solvent resistance and heat resistance after polymerization.

ここで用いることができる光重合開始剤、増感剤および酸発生剤は、含まれる蛍光変換色素が吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであることが好ましい。本発明の蛍光変換フィルタ層において、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光または熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないことも可能である。   The photopolymerization initiator, sensitizer, and acid generator that can be used here are preferably those that initiate polymerization by light having a wavelength that is not absorbed by the fluorescent conversion dye contained therein. In the fluorescence conversion filter layer of the present invention, a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator are added when the resin itself in the photocurable or photothermal combination type curable resin can be polymerized by light or heat. It is also possible not to.

各色に対応する色変換フィルタ層の間の領域には、ブラックマトリックスを形成することが好ましい。ブラックマトリックスを設けることによって、隣接するサブピクセルの色変換フィルタ層への光の漏れを防止して、にじみのない所望される蛍光変換色のみを得ることが可能となる。   A black matrix is preferably formed in a region between the color conversion filter layers corresponding to each color. By providing the black matrix, it is possible to prevent leakage of light to the color conversion filter layer of the adjacent subpixel and obtain only a desired fluorescence conversion color without blur.

色変換フィルタ層2の上には色変換フィルタ層2を覆うようにオーバーコート層3を設けることが好ましい。オーバーコート層3は、色変換フィルタ層2の機能を損なうことなく形成することができ、かつ適度な弾力性を有する材料から形成する。好ましい材料は、表面硬度が鉛筆硬度2H以上であり、0.3MPa以上のヤング率を有し、色変換フィルタ層上に平滑な塗膜を形成することができ、色変換フィルタ層2の機能を低下させないポリマー材料である。より好ましくは、該材料は、可視域における透明性が高く(400〜800nmの範囲で透過率50%以上)、電気絶縁性を有し、水分、酸素および低分子成分に対するバリア性を有するポリマー材料である。オーバーコート層3は、任意選択の層であるが、上記目的のために設けることが好ましい層である。   An overcoat layer 3 is preferably provided on the color conversion filter layer 2 so as to cover the color conversion filter layer 2. The overcoat layer 3 can be formed without impairing the function of the color conversion filter layer 2 and is formed from a material having appropriate elasticity. A preferable material has a pencil hardness of 2H or more and a Young's modulus of 0.3 MPa or more, and can form a smooth coating film on the color conversion filter layer. It is a polymer material that does not decrease. More preferably, the material is a polymer material having high transparency in the visible region (transmittance of 50% or more in the range of 400 to 800 nm), electrical insulation, and barrier properties against moisture, oxygen, and low molecular components. It is. The overcoat layer 3 is an optional layer, but is preferably a layer provided for the above purpose.

そのようなポリマー材料の例は、イミド変性シリコーン樹脂、無機金属化合物(TiO、Al、SiO等)をアクリル、ポリイミド、シリコーン樹脂等の中に分散した材料、アクリレートモノマー/オリゴマー/ポリマーの反応性ビニル基を有した樹脂、レジスト樹脂、フッ素系樹脂、または高い熱伝導率を有するメソゲン構造を有するエポキシ樹脂などの光硬化性樹脂および/または熱硬化性樹脂を挙げることができる。 Examples of such polymer materials include imide-modified silicone resins, materials in which inorganic metal compounds (TiO, Al 2 O 3 , SiO 2, etc.) are dispersed in acrylic, polyimide, silicone resins, etc., acrylate monomers / oligomers / polymers And a photocurable resin and / or a thermosetting resin such as a resin having a reactive vinyl group, a resist resin, a fluorine resin, or an epoxy resin having a mesogenic structure having a high thermal conductivity.

オーバーコート層3の上に形成されるバリア層4は、優れた水分・酸素遮断性を有し、したがってオーバーコート層3、色変換フィルタ層2からの水分および酸素の透過を防止するための層である。有機EL素子からの光を色変換フィルタ層へと透過させるため、バリア層3は、可視域における透明性が高く(400〜800nmの範囲で透過率50%以上)を有することが好ましい。またバリア層4上に電気的に独立した複数の部分からなる第1電極5を形成する必要があるため、バリア層4は少なくともその上面において電気絶縁性を有することが要求される。また、好ましくは、バリア層4は、鉛筆硬度2H以上の膜硬度を有することが好ましい。   The barrier layer 4 formed on the overcoat layer 3 has excellent moisture / oxygen barrier properties, and therefore prevents moisture and oxygen from being transmitted from the overcoat layer 3 and the color conversion filter layer 2. It is. In order to transmit light from the organic EL element to the color conversion filter layer, the barrier layer 3 preferably has high transparency in the visible region (transmittance of 50% or more in the range of 400 to 800 nm). Moreover, since it is necessary to form the 1st electrode 5 which consists of a several electrically independent part on the barrier layer 4, the barrier layer 4 is requested | required to have electrical insulation at least in the upper surface. Moreover, it is preferable that the barrier layer 4 has a film hardness of 2H or higher.

バリア層4は酸化物、窒化物、炭化物、酸窒化物などの無機膜により構成される。また、バリア層4は前記化合物の積層物や混合物であってもよい。その具体例としては酸化珪素、窒化珪素などを挙げることができる。バリア層4は、図1に示すようにオーバーコート層3を完全に覆うように構成されることが好ましい。こうすることによってバリア層4形成後にオーバーコート層3が大気に触れ、水蒸気等のガスを吸着することを防ぐことができ、有機EL素子作成後のバリア層4自体からの脱ガスを防ぐことができる。
また、バリア層4が無機膜からなるので、水分及び酸素の捕捉性が向上し、色変換フィルタ層2から有機EL素子への水分及び酸素の移行を防止することが可能となる。
The barrier layer 4 is composed of an inorganic film such as an oxide, nitride, carbide, or oxynitride. The barrier layer 4 may be a laminate or mixture of the above compounds. Specific examples thereof include silicon oxide and silicon nitride. The barrier layer 4 is preferably configured to completely cover the overcoat layer 3 as shown in FIG. By doing so, it is possible to prevent the overcoat layer 3 from coming into contact with the atmosphere and adsorbing a gas such as water vapor after the barrier layer 4 is formed, and to prevent degassing from the barrier layer 4 itself after the organic EL element is formed. it can.
In addition, since the barrier layer 4 is made of an inorganic film, it is possible to improve moisture and oxygen trapping properties and to prevent moisture and oxygen from being transferred from the color conversion filter layer 2 to the organic EL element.

表示部においては、バリア層4の上に有機EL素子が形成されている。有機EL素子は表示部において、少なくとも一対の電極(第1電極と第2電極)の間に有機発光層8を把持したものであり、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層および/または電子注入層を介在させた構造を有している。これらの各層は、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分な膜厚を有している。たとえば、下記のような層構成からなるものが採用される。
(1)第1電極/有機発光層/第2電極
(2)第1電極/正孔注入層/有機発光層/第2電極
(3)第1電極/有機発光層/電子注入層/第2電極
(4)第1電極/正孔注入層/有機発光層/電子注入層/第2電極
(5)第1電極/正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層/第2電極
第1電極5は複数のストライプからなり、第2電極9は、第1電極のストライプと直交する方向に伸びる複数のストライプからなる。第1電極5は、ITO(In−Sn酸化物)、NESA膜、Sn酸化物、In酸化物、IZO(In−Zn酸化物)、Zn酸化物、Zn−Al酸化物、Zn−Ga酸化物、またはこれらの酸化物に対してF、Sbなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を用いて形成することができる。
In the display unit, an organic EL element is formed on the barrier layer 4. The organic EL element is obtained by holding the organic light emitting layer 8 between at least a pair of electrodes (first electrode and second electrode) in the display unit, and if necessary, a hole transport layer, a hole injection layer, and / or Alternatively, it has a structure in which an electron injection layer is interposed. Each of these layers has a film thickness sufficient to achieve the desired characteristics. For example, the following layer structure is adopted.
(1) First electrode / organic light emitting layer / second electrode (2) First electrode / hole injection layer / organic light emitting layer / second electrode (3) First electrode / organic light emitting layer / electron injection layer / second Electrode (4) First electrode / hole injection layer / organic light emitting layer / electron injection layer / second electrode (5) First electrode / hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer / second Two electrodes The first electrode 5 includes a plurality of stripes, and the second electrode 9 includes a plurality of stripes extending in a direction orthogonal to the stripes of the first electrode. The first electrode 5 is made of ITO (In—Sn oxide), NESA film, Sn oxide, In oxide, IZO (In—Zn oxide), Zn oxide, Zn—Al oxide, Zn—Ga oxide. Alternatively, a conductive transparent metal oxide in which a dopant such as F or Sb is added to these oxides can be used.

第1電極5の各ストライプは基板を横断するように形成され、一方の基板端部において引出し電極16を構成している。また、第2電極9の各ストライプも基板を横断するように形成され、一方の基板端部において引出し電極17を構成している。すなわち、第1電極及び第2電極はそれぞれ表示部から基板端部に伸びて基板端部で引出し電極を構成している。   Each stripe of the first electrode 5 is formed so as to cross the substrate, and constitutes an extraction electrode 16 at one end of the substrate. Further, each stripe of the second electrode 9 is also formed so as to cross the substrate, and an extraction electrode 17 is configured at one substrate end. That is, the first electrode and the second electrode respectively extend from the display portion to the substrate end portion, and constitute an extraction electrode at the substrate end portion.

有機発光層の材料としては、任意の公知の材料を用いることができる。たとえば、青色から青緑色の発光を得るためには、例えば縮合芳香環化合物、環集合化合物、金属錯体(Alqのようなアルミニウム錯体など)、スチリルベンゼン系化合物(4,4’−ビス(ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)など)、ポルフィリン系化合物、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される。あるいはまた、ホスト化合物にドーパントを添加することによって、種々の波長域の光を発する有機発光層を形成してもよい。ホスト化合物としては、ジスチリルアリーレン系化合物(たとえば出光興産製IDE−120など)、N,N’−ジトリル−N,N’−ジフェニルビフェニルアミン(TPD)、アルミニウムトリス(8−キノリノラート)(Alq)等を用いることができる。ドーパントとしては、ペリレン(青紫色)、クマリン6(青色)、キナクリドン系化合物(青緑色〜緑色)、ルブレン(黄色)、4−ジシアノメチレン−2−(p−ジメチルアミノスチリル)−6−メチル−4H−ピラン(DCM、赤色)、白金オクタエチルポルフィリン錯体(PtOEP、赤色)などを用いることができる。 Any known material can be used as the material of the organic light emitting layer. For example, in order to obtain light emission from blue to blue-green, for example, a condensed aromatic ring compound, a ring assembly compound, a metal complex (such as an aluminum complex such as Alq 3 ), a styrylbenzene compound (4,4′-bis (diphenyl) (Vinyl) biphenyl (DPVBi), etc.), porphyrin compounds, benzothiazole compounds, benzimidazole compounds, benzoxazole compounds and the like, and materials such as aromatic dimethylidin compounds are preferably used. Or you may form the organic light emitting layer which emits the light of a various wavelength range by adding a dopant to a host compound. Examples of host compounds include distyrylarylene compounds (for example, IDE-120 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), N, N′-ditolyl-N, N′-diphenylbiphenylamine (TPD), aluminum tris (8-quinolinolate) (Alq 3 ). ) Etc. can be used. As dopants, perylene (blue purple), coumarin 6 (blue), quinacridone compounds (blue green to green), rubrene (yellow), 4-dicyanomethylene-2- (p-dimethylaminostyryl) -6-methyl- 4H-pyran (DCM, red), platinum octaethylporphyrin complex (PtOEP, red), or the like can be used.

正孔注入層の材料としては、Pc類(CuPcなどを含む)またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。正孔輸送層は、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料を用いて形成することができる。用いることができる材料は、好ましくは、TPD、α−NPD、MTDAPB(o−,m−,p−)、m−MTDATAなどを含む。   As a material for the hole injection layer, Pc (including CuPc) or indanthrene compounds can be used. The hole transport layer can be formed using a material having a triarylamine partial structure, a carbazole partial structure, or an oxadiazole partial structure. Materials that can be used preferably include TPD, [alpha] -NPD, MTDAPB (o-, m-, p-), m-MTDATA, and the like.

電子注入層の材料としては、Alqのようなアルミニウム錯体、あるいはアルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウムのキノリノール錯体などを用いることができる。 As the material for the electron injection layer, an aluminum complex such as Alq 3 or an aluminum quinolinol complex doped with an alkali metal or an alkaline earth metal can be used.

以上のように形成される第2電極9以下の各層を覆うパッシベーション層10が設けられる。なお、このパッシベーション層10は、第1電極及び第2電極の引出し電極の上には形成されていない。また、パッシベーション層10の引出し電極側の端部近傍では、引出し電極から離れるにつれて厚みが厚くなるように傾斜が形成されていることが好ましい。パッシベーション層10は、外部環境からの酸素、低分子成分および水分の透過を防止し、それらによる有機EL素子の機能低下を防止することに有効である。パッシベーション層10は、は、有機発光層8の発光を色変換フィルタ層2へと透過させるために、その発光波長域において透明であることが好ましい。   A passivation layer 10 is provided to cover each layer below the second electrode 9 formed as described above. The passivation layer 10 is not formed on the extraction electrodes of the first electrode and the second electrode. Further, in the vicinity of the end of the passivation layer 10 on the extraction electrode side, it is preferable that an inclination is formed so that the thickness increases as the distance from the extraction electrode increases. The passivation layer 10 is effective in preventing permeation of oxygen, low molecular components, and moisture from the external environment, and preventing functional degradation of the organic EL element due to them. The passivation layer 10 is preferably transparent in the emission wavelength region in order to transmit the light emitted from the organic light emitting layer 8 to the color conversion filter layer 2.

これらの要請を満たすために、パッシベーション層10は、可視域における透明性が高く(400〜800nmの範囲で透過率50%以上)、電気絶縁性を有し、水分、酸素および低分子成分に対するバリア性を有し、好ましくは鉛筆硬度2H以上の膜硬度を有する材料で形成される。例えば、SiO、SiN、SiN、AlO、TiO、TaO、ZnO等の無機酸化物、無機窒化物等の材料を使用できる。 In order to satisfy these requirements, the passivation layer 10 has high transparency in the visible region (transmittance of 50% or more in the range of 400 to 800 nm), electrical insulation, and a barrier against moisture, oxygen, and low molecular components. Preferably, it is formed of a material having a film hardness of pencil hardness 2H or more. For example, materials such as inorganic oxides and inorganic nitrides such as SiO x , SiN x , SiN x O y , AlO x , TiO x , TaO x , and ZnO x can be used.

また、パッシベーション層として種々のポリマー材料を用いることができる。イミド変性シリコーン樹脂、無機金属化合物(TiO、Al、SiO等)をアクリル、ポリイミド、シリコーン樹脂等の中に分散した材料、アクリレートモノマー/オリゴマー/ポリマーの反応性ビニル基を有した樹脂、レジスト樹脂、フッ素系樹脂、または高い熱伝導率を有するメソゲン構造を有するエポキシ樹脂などの光硬化性樹脂および/または熱硬化性樹脂を挙げることができる。 In addition, various polymer materials can be used for the passivation layer. Imide-modified silicone resin, materials in which inorganic metal compounds (TiO, Al 2 O 3 , SiO 2 etc.) are dispersed in acrylic, polyimide, silicone resin, etc., resin having reactive vinyl group of acrylate monomer / oligomer / polymer And a photocurable resin and / or a thermosetting resin such as a resist resin, a fluorine resin, or an epoxy resin having a mesogenic structure having high thermal conductivity.

図2に示すように、パッシベーション層10上には、そこからパッシベーション層外の基板1上にまで延在するように形成されたリード線11が設けられている。このリード線11は、パッシベーション層外の部分において第1電極5の引出し電極16と積層されている。この積層により、第1電極とリード線の接触面積は従来の点接触に比べ格段に大きくなっており、接触抵抗を大幅に低減させることができる。リード線11はそれぞれの引出し電極16に対応に対応して引出し電極16の数だけ設けられている。
パッシベーション層10上にあるリード線の長さは図2に示すように、隣接するリード線の長さが互いに異なっており、長短、長短の繰り返しとなっている。これにより、隣り合うリード線同士の短絡の危険性を低減させることができる。
As shown in FIG. 2, a lead wire 11 is provided on the passivation layer 10 so as to extend from there to the substrate 1 outside the passivation layer. The lead wire 11 is laminated with the extraction electrode 16 of the first electrode 5 in a portion outside the passivation layer. By this lamination, the contact area between the first electrode and the lead wire is remarkably larger than the conventional point contact, and the contact resistance can be greatly reduced. The lead wires 11 are provided as many as the extraction electrodes 16 corresponding to the respective extraction electrodes 16.
As shown in FIG. 2, the lengths of the lead wires on the passivation layer 10 are different from each other in the length of the adjacent lead wires, and are repeated as long and short. Thereby, the danger of the short circuit of adjacent lead wires can be reduced.

リード線11の引出し電極側と反対側の端には、バンプ12が形成されており、バンプ12の厚みはリード線11の厚みより厚くなっている。これにより、このリード線11が設けられている基板1とマザーボード15のプラグ13を接続するためにマザーボード15を基板1に圧着したとき、プラグ13はバンプ12にのみ接触し、リード線本体に接触することがない。したがって、リード線同士がプラグを介して接続することがなく、したがって、目的とする画素以外の画素が光ることがない。このリード線は印刷法により形成できる。   A bump 12 is formed on the end of the lead wire 11 opposite to the lead electrode side, and the thickness of the bump 12 is greater than the thickness of the lead wire 11. As a result, when the motherboard 15 is crimped to the substrate 1 to connect the substrate 1 on which the lead wire 11 is provided and the plug 13 of the motherboard 15, the plug 13 contacts only the bump 12 and contacts the lead wire body. There is nothing to do. Accordingly, the lead wires are not connected to each other via the plug, and therefore, pixels other than the target pixel do not shine. This lead wire can be formed by a printing method.

マザーボード15はパネルを保持及び補強するためと、基板に設けられた電極を介してに設けられるもので、図1では1画素分を示した基板とマザーボードの一部を示しているが、図2の第1電極の引出し電極の数、第2電極の引出し電極の数から推測されるように、画素は第1電極と第2電極の交差する部分に設けられているので、基板は多数の画素を有している。また、マザーボードは大型のパネルを形成するため、その上に多数のパネルを搭載する。   The mother board 15 is provided to hold and reinforce the panel and through electrodes provided on the board. FIG. 1 shows a part of the board and the mother board showing one pixel, but FIG. As estimated from the number of extraction electrodes of the first electrode and the number of extraction electrodes of the second electrode, the pixel is provided at the intersection of the first electrode and the second electrode, so that the substrate is a large number of pixels. have. In addition, since the mother board forms a large panel, a large number of panels are mounted thereon.

このマザーボード15はリード線11のバンプ12に対応する位置にコンタクトホール14が設けられ、コンタクトホール位置のマザーボード両面に、互いに電気的に接続したプラグ13が設けられている。マザーボードの基板と反対側の面のプラグは駆動ICに接続されている。   The motherboard 15 is provided with contact holes 14 at positions corresponding to the bumps 12 of the lead wires 11, and plugs 13 that are electrically connected to each other are provided on both sides of the motherboard at the contact hole positions. The plug on the surface opposite to the board of the motherboard is connected to the drive IC.

次に、本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法につき説明する。
このパネルを1つずつ作ることも可能であるが、生産性向上のため、図3上部に示すように大型の基板1に複数個の小型パネルを形成し、パッシベーション層による封止後に切断し、リード線を形成した後に再度マザーボード15とユニット化して、図3下部に示すように複数のパネルをつなぎ合わせて大型パネルを製造する。
まず、基板上に、有機EL素子を形成する。有機EL素子を形成するに当たって、基板上にブラックマトリックスをフォトプロセスで格子状に形成した後、その上に赤(R)、緑(G)、青(B)の3色を発光させるための3種の色変換フィルタ層をフォトプロセスで形成する。
Next, the manufacturing method of the organic EL display panel of the present invention will be described.
Although it is possible to make this panel one by one, in order to improve productivity, a plurality of small panels are formed on a large substrate 1 as shown in the upper part of FIG. 3 and cut after sealing with a passivation layer, After forming the lead wire, it is unitized with the mother board 15 again, and a large panel is manufactured by connecting a plurality of panels as shown in the lower part of FIG.
First, an organic EL element is formed on a substrate. In forming an organic EL element, a black matrix is formed on a substrate in a lattice shape by a photo process, and then 3 colors for emitting three colors of red (R), green (G), and blue (B) are formed thereon. A seed color conversion filter layer is formed by a photo process.

色変換フィルタ層2は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂、色変換色素および添加剤を含有する溶液または分散液を、スピンコート法、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法などを用いて基板1上に塗布して樹脂の層を形成し、そして所望される部分の光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を露光することにより重合させて形成される。所望される部分に露光を行って光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を不溶化させた後に、パターニングを行う。該パターニングは、未露光部分の樹脂を溶解または分散させる有機溶媒またはアルカリ溶液を用いて、未露光部分の樹脂を除去するなどの慣用の方法によって実施することができる。   The color conversion filter layer 2 uses a spin coating method, a roll coating method, a casting method, a dip coating method, or the like using a solution or dispersion containing a photocurable or photothermal combination type curable resin, a color conversion dye and an additive. Then, it is formed on the substrate 1 by coating the substrate 1 to form a resin layer, and then exposing the desired portion of the photocurable or photothermal combination type curable resin to polymerization. Patterning is performed after exposing the desired portion to insolubilize the photocurable or photothermal combination type curable resin. The patterning can be performed by a conventional method such as removing the resin in the unexposed portion using an organic solvent or an alkali solution in which the resin in the unexposed portion is dissolved or dispersed.

次に、色変換フィルタ層2が形成された基板1上にオーバーコート層を形成しその上にバリア層を形成することが好ましい。オーバーコート層を形成する方法には、特に制限はなく、たとえば、乾式法(スパッタ法、蒸着法、CVD法など)、あるいは湿式法(スピンコート法、ロールコート法、キャスト法など)のような慣用の手法により形成することができる。バリア層として無機膜を形成する場合は、この無機膜は、蒸着法、スパッタ法(反応性スパッタ法を含む)、化学気相堆積(CVD)法を用いて形成することができる。特に酸化物の膜を形成する場合、密着性、膜厚の均質性および生産性の観点から、スパッタ法(反応性スパッタ法を含む)を用いることが好ましい。   Next, it is preferable to form an overcoat layer on the substrate 1 on which the color conversion filter layer 2 is formed and form a barrier layer thereon. The method for forming the overcoat layer is not particularly limited. For example, a dry method (sputtering method, vapor deposition method, CVD method, etc.) or a wet method (spin coating method, roll coating method, cast method, etc.) is used. It can be formed by a conventional method. In the case of forming an inorganic film as the barrier layer, this inorganic film can be formed by vapor deposition, sputtering (including reactive sputtering), or chemical vapor deposition (CVD). In particular, when an oxide film is formed, it is preferable to use a sputtering method (including a reactive sputtering method) from the viewpoints of adhesion, film thickness uniformity, and productivity.

こうして得られた色変換フィルタを搭載した基板の上に少なくとも第1電極、有機EL層および第2電極を順次積層することで有機EL素子を形成する。   An organic EL element is formed by sequentially laminating at least the first electrode, the organic EL layer, and the second electrode on the substrate on which the color conversion filter thus obtained is mounted.

第1電極は蒸着法、スパッタ法(反応性スパッタ法を含む)または化学気相堆積(CVD)法を用いて形成することができ、好ましくはスパッタ法(反応性スパッタ法を含む)を用いて形成する。
第1電極5は基板を横断するように形成された複数のストライプからなるように形成し、一方の基板端部において引出し電極16を構成する。
The first electrode can be formed by vapor deposition, sputtering (including reactive sputtering) or chemical vapor deposition (CVD), and preferably using sputtering (including reactive sputtering). Form.
The first electrode 5 is formed of a plurality of stripes formed so as to cross the substrate, and the extraction electrode 16 is configured at one substrate end.

次に、表示部の短絡リークを防ぐための絶縁層(SM1)6をブラックマトリックス上に格子状に形成する。そして、この絶縁層6の上に陰極分離壁7を形成することが好ましい。陰極分離壁7にはアクリル系やノボラック樹脂などのフォトレジストを用い、フォトプロセスとエッチングにより第1電極のストライプと直交するようなライン状のパターンを形成する。陰極分離壁7は逆テーパー形状を有しており、陰極(第2電極)のパターニング機能を持つ。すなわち、隣接する陰極分離壁の間に第2電極を形成するために、陰極分離壁の上部及び隣接する陰極分離壁の間に導電体層を形成したときに、陰極分離壁の逆テーパー形状のため、陰極分離壁の上部に設けられた導電体層と陰極分離壁の間の導電体層は電気的に接続することなく、隣接する陰極分離壁の間にストライプ状の第2電極のパターンが形成される。
所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる反射電極を形成してもよい。この場合は陰極分離壁を設ける必要はなくなる。
Next, an insulating layer (SM1) 6 for preventing a short circuit leak in the display portion is formed on the black matrix in a lattice shape. A cathode separation wall 7 is preferably formed on the insulating layer 6. The cathode separation wall 7 is made of a photoresist such as acrylic or novolac resin, and a linear pattern orthogonal to the stripe of the first electrode is formed by a photo process and etching. The cathode separation wall 7 has a reverse taper shape and has a patterning function of the cathode (second electrode). That is, when the conductor layer is formed between the upper portion of the cathode separation wall and the adjacent cathode separation wall in order to form the second electrode between the adjacent cathode separation walls, the reverse tapered shape of the cathode separation wall is formed. Therefore, the conductive layer provided on the cathode separation wall and the conductor layer between the cathode separation walls are not electrically connected, and the stripe-shaped second electrode pattern is formed between the adjacent cathode separation walls. It is formed.
You may form the reflective electrode which consists of a some partial electrode using the mask which gives a desired shape. In this case, it is not necessary to provide a cathode separation wall.

第1電極5が形成され、絶縁層6、陰極分離壁7が形成された基板上に少なくとも有機発光層を含む層を形成する。
正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層の各層は、蒸着により形成することができる。
A layer including at least an organic light emitting layer is formed on the substrate on which the first electrode 5 is formed and the insulating layer 6 and the cathode separation wall 7 are formed.
Each layer of the hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer can be formed by vapor deposition.

これらの層が形成された基板のうえに第2電極を形成する。第2電極9も基板を横断するように形成された複数のストライプからなるように形成し、一方の基板端部において引出し電極17を構成する。第2電極は、用いる材料に依存して、蒸着(抵抗加熱または電子ビーム加熱)、スパッタ、イオンプレーティング、レーザーアブレーションなどの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。   A second electrode is formed on the substrate on which these layers are formed. The second electrode 9 is also formed of a plurality of stripes formed so as to cross the substrate, and the extraction electrode 17 is configured at one substrate end. The second electrode can be formed using any means known in the art such as vapor deposition (resistance heating or electron beam heating), sputtering, ion plating, laser ablation, etc., depending on the material used. .

こうして形成された有機EL素子が形成された基板上に、パッシベーション層10を形成する。パッシベーション層は第1電極の引出し電極16と第2電極の引出し電極17以外の部分を覆うように形成する。パッシベーション層10の形成方法としては特に制約はない。パッシベーション層が無機化合物からなる場合は、スパッタ法、CVD法、真空蒸着法、ディップ法、ゾル−ゲル法等の慣用の手法により形成できる。また、パッシベーション層がポリマー材料からなる場合も、その形成法は特に制限はなく、たとえば、乾式法(スパッタ法、蒸着法、CVD法など)、あるいは湿式法(スピンコート法、ロールコート法、キャスト法など)のような慣用の手法により形成することができる。パッシベーション層の厚みは最も厚い部分で5〜10μmであることが好ましい。   A passivation layer 10 is formed on the substrate on which the organic EL element thus formed is formed. The passivation layer is formed so as to cover portions other than the extraction electrode 16 of the first electrode and the extraction electrode 17 of the second electrode. There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the passivation layer 10. FIG. When the passivation layer is made of an inorganic compound, it can be formed by a conventional method such as a sputtering method, a CVD method, a vacuum deposition method, a dip method, or a sol-gel method. In addition, when the passivation layer is made of a polymer material, the formation method is not particularly limited. For example, a dry method (sputtering method, vapor deposition method, CVD method, etc.) or a wet method (spin coating method, roll coating method, cast method) For example). The thickness of the passivation layer is preferably 5 to 10 μm at the thickest part.

この段階でダイヤモンドカッター、超硬ホイールカッターもしくはレーザーカッターを用いて、大型の基板1の分割する所定の位置に切れ目を入れて切断する。   At this stage, a diamond cutter, a carbide wheel cutter or a laser cutter is used to cut and cut at a predetermined position where the large substrate 1 is divided.

次に、リード線をパッシベーション層上からパッシベーション層外の基板上にまで延在するように、かつリード線と前記引出し電極とはパッシベーション層外の部分において積層するように形成する。リード線は、導電性ペーストを用いて印刷により形成することが好ましい。印刷法としては、インクジェット法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。
リード線の引出し電極側とは反対側の先端部にはリード線の他の部分より厚みのあるバンプを形成する。このバンプは、例えば重ね印刷をすることにより形成できる。この重ね印刷は、所定の厚みになるまで繰り返し行えばよい。
Next, the lead wire is formed so as to extend from the passivation layer to the substrate outside the passivation layer, and the lead wire and the extraction electrode are laminated in a portion outside the passivation layer. The lead wire is preferably formed by printing using a conductive paste. Examples of the printing method include an inkjet method and a screen printing method.
A bump that is thicker than other portions of the lead wire is formed at the tip of the lead wire opposite to the lead electrode side. This bump can be formed, for example, by overprinting. This overprinting may be repeated until a predetermined thickness is reached.

こうしてリード線が印刷された小型パネルとマザーボード15を接着する。マザーボードにはコンタクトホールを通して背面に配置された駆動ICと電気的に接続されたプラグ13が設けられており、このマザーボードのプラグと、対応するリード線11のバンプ12の位置を合わせるようにして貼り合わせ、電気的に導通させる。この導通を良好なものとするためには、プラグ13も導電性インクを用いた印刷で形成し、上述のように貼り合わせた状態で焼成することが好ましい。リード線及びバンプとプラグの形成を印刷で行い、マザーボードと小型パネルの貼り合わせ後に焼成を行えば、工数を低減することができるという利点もある。   In this way, the small panel on which the lead wire is printed and the mother board 15 are bonded. The motherboard is provided with a plug 13 that is electrically connected to the driving IC arranged on the back surface through a contact hole. The plug of the motherboard is attached so that the bumps 12 of the corresponding lead wires 11 are aligned. And make them electrically conductive. In order to make this conduction good, it is preferable that the plug 13 is also formed by printing using conductive ink and fired in a state of being bonded as described above. If the lead wires, bumps and plugs are formed by printing and firing is performed after the mother board and the small panel are bonded together, there is an advantage that the number of man-hours can be reduced.

以下に実施例を用いて本発明をさらに説明する。
<実施例1>
厚さ0.8mmのガラス基板に、8ライン×16画素の小型パネルを複数個形成することとした。画素は赤、緑、青の3種の色変換層に対応する3サブピクセルで1画素になるようにした。
The present invention will be further described below using examples.
<Example 1>
A plurality of small panels of 8 lines × 16 pixels were formed on a glass substrate having a thickness of 0.8 mm. The pixel is set to one pixel by three sub-pixels corresponding to three kinds of color conversion layers of red, green, and blue.

ガラス基板上に低反射クロムを蒸着した後、フォトプロセスによりブラックマトリックスを格子状に形成した。ついで、赤、緑、青の色変換フィルタ層を厚さ12μmで形成した。ついで、色変換層フィルタ形成でできた溝を埋めて平坦化するため、アクリル系レジスト材料(東京応化製、NN810)をスピンコートし、フォトプロセスにより色変換フィルタ層およびブラックマスクを覆うオーバーコート層を形成し、その上にCVD法で窒化珪素を厚さ1μm形成してバリア層とした。   After depositing low-reflection chrome on a glass substrate, a black matrix was formed in a lattice shape by a photo process. Next, red, green, and blue color conversion filter layers were formed with a thickness of 12 μm. Next, an acrylic resist material (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., NN810) is spin-coated to fill and flatten the grooves formed by the color conversion layer filter formation, and an overcoat layer that covers the color conversion filter layer and the black mask by a photo process A silicon nitride film having a thickness of 1 μm was formed thereon by CVD to form a barrier layer.

こうして形成したバリア層の上にIZO(In-Zn酸化物)をスパッタ法により室温成膜し、フォトプロセスでパターニングして、第1電極を形成した。この第1電極は複数のストライプからなり、各ストライプは基板を横断するように形成され、一方の基板端部において引出し電極16を構成するようにした。   On the barrier layer thus formed, IZO (In—Zn oxide) was deposited at room temperature by sputtering, and patterned by a photo process to form a first electrode. The first electrode is composed of a plurality of stripes, and each stripe is formed so as to cross the substrate, and the extraction electrode 16 is formed at one end of the substrate.

次に、表示部の短絡リークを防ぐためにフェノール系ポジレジストJEM700(JSR製)を用いてブラックマトリックス上に絶縁層を格子状に形成し、その絶縁膜上にノボラック樹脂を用い、フォトプロセスで第1電極のストライプに直交する逆テーパー状の陰極分離壁を形成した。
こうして得られた基板にエキシマランプを用いてUV/オゾン処理を行った。IZO表面にUV/オゾン処理を行うことにより、IZO上のレジスト残渣が分解除去され、仕事関数が5.1eV程度に深くなった。
Next, in order to prevent short-circuit leakage in the display portion, an insulating layer is formed on the black matrix using a phenol-based positive resist JEM700 (manufactured by JSR), a novolac resin is used on the insulating film, and a photo process is performed. A reverse-tapered cathode separation wall perpendicular to the stripe of one electrode was formed.
The substrate thus obtained was subjected to UV / ozone treatment using an excimer lamp. By performing UV / ozone treatment on the IZO surface, the resist residue on the IZO was decomposed and removed, and the work function was increased to about 5.1 eV.

次いで、第1電極を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層の4層からなる有機EL層を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して、真空槽内圧を1×10-4Paまで減圧した。正孔注入層として、膜厚100nmの銅フタロシアニン(CuPc)を、正孔輸送層として、膜厚20nmの4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)を、有機発光層として、膜厚30nmの4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)を、そして電子注入層として、膜厚20nmのトリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体(Alq)を積層した。 Next, the substrate on which the first electrode is formed is mounted in a resistance heating vapor deposition apparatus, and the organic EL layer composed of four layers of the hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron injection layer is not broken. Were sequentially formed. During film formation, the internal pressure of the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −4 Pa. Copper phthalocyanine (CuPc) with a film thickness of 100 nm is used as the hole injection layer, and 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α with a film thickness of 20 nm is used as the hole transport layer. -NPD) as the organic light-emitting layer, 30 nm-thick 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi), and as the electron injection layer, 20 nm-thick tris (8-hydroxy) A quinoline) aluminum complex (Alq 3 ) was laminated.

ついでこの上に陰極(第2電極)としてアルミニウムを蒸着した。陰極分離壁が逆テーパー状となっているため、隣り合う陰極分離壁の間にストライプ状に形成された第2電極は隣り合うストライプが短絡することはない。このストライプも第1電極のストライプと同様、基板を横断するように形成され、一方の基板端部において引出し電極17を構成するようにした。   Subsequently, aluminum was vapor-deposited thereon as a cathode (second electrode). Since the cathode separation wall has a reverse taper shape, the adjacent stripes are not short-circuited in the second electrode formed in a stripe shape between the adjacent cathode separation walls. Similar to the stripe of the first electrode, this stripe was formed so as to cross the substrate, and the extraction electrode 17 was configured at one end of the substrate.

次に、パッシベーション層として、引出し電極部16,17をメタルマスクで覆った後、CVD法により、厚さ10μmの窒化ケイ素膜を形成した。
次いで、基板の分割する位置にダイヤモンドカッターを用いて切れ目を入れ、個々の小型パネルに分割した。分割に伴い発生したガラスくずを除去するため、3分間超音波洗浄した後、流水で3分洗浄し、IPA蒸気乾燥により乾燥させた。
Next, after the extraction electrode portions 16 and 17 were covered with a metal mask as a passivation layer, a silicon nitride film having a thickness of 10 μm was formed by a CVD method.
Next, a cut was made at a position where the substrate was divided using a diamond cutter, and the substrate was divided into individual small panels. In order to remove the glass scrap generated by the division, it was subjected to ultrasonic cleaning for 3 minutes, then washed with running water for 3 minutes, and dried by IPA vapor drying.

次に、導電性インクとしてAgナノ粒子を分散させた粘度5cPのナノメタルインクを用い圧電素子駆動のインクジェットでリード線を印刷した。この導電性インクは、120℃で焼成でき、焼成後、約3μΩ・cmの比抵抗を示す。用いたインクジェットヘッドはノズル径50μmで、ノズル数128のもので、1ドットあたり50〜80pL印刷でき、印刷ドット径は約Φ100μmであった。   Next, a lead wire was printed by a piezoelectric element-driven ink jet using a nanometal ink having a viscosity of 5 cP in which Ag nanoparticles were dispersed as a conductive ink. This conductive ink can be baked at 120 ° C., and exhibits a specific resistance of about 3 μΩ · cm after baking. The ink jet head used had a nozzle diameter of 50 μm, had 128 nozzles, and could print 50 to 80 pL per dot, and the print dot diameter was about Φ100 μm.

このリード線は、パッシベーション層上からパッシベーション層外の基板上にまで延在するように幅600μm、厚さ5μmとなるように形成し、パッシベーション層外の部分において第1電極の引出し電極と重なり合って、積層状態となるように形成した。パッシベーション層上にあるリード線の長さは図2に示すように、隣接するリード線の長さが互いに異なっており、長短、長短の繰り返しとなるようにした。リード線の全長は長い方を6mm、短い方を3mmとした。リード線のパッシベーション層上の先端の、マザーボードのプラグと接触する部分には重ね印刷を行い、厚さ30μmのバンプを形成した。   The lead wire is formed to have a width of 600 μm and a thickness of 5 μm so as to extend from the passivation layer to the substrate outside the passivation layer, and overlaps with the extraction electrode of the first electrode in a portion outside the passivation layer. Then, it was formed to be in a laminated state. As shown in FIG. 2, the lengths of the lead wires on the passivation layer are such that the lengths of the adjacent lead wires are different from each other, and the length is short and long. The total length of the lead wire was 6 mm for the longer side and 3 mm for the shorter side. Overprinting was performed on the portion of the lead wire on the passivation layer that was in contact with the plug of the mother board to form a bump having a thickness of 30 μm.

次いで、このリード線を形成した小型パネルと、別途準備した背面に駆動ICを有し、この駆動ICとコンタクトホールを通して電気的に接続するように導電性インクで形成されたプラグを有するマザーボードとを、前記プラグと前記バンプが接触するように貼り合わせ、120℃で60分焼成した。この導電性インクは焼成により、約3μΩ・cmの比抵抗を示した。これにより、駆動ICと第1電極との電気的接続がとれ、表示部以外の部分が小さい狭額縁パネルでも断線がなく信頼性及び生産性に優れた有機ELディスプレイパネルが製造できた。   Next, a small panel in which the lead wires are formed, and a mother board having a driver IC on a separately prepared back surface and a plug formed of conductive ink so as to be electrically connected to the driver IC through a contact hole. The plugs and the bumps were bonded so that they were in contact with each other and baked at 120 ° C. for 60 minutes. This conductive ink exhibited a specific resistance of about 3 μΩ · cm upon firing. As a result, an electrical connection between the driving IC and the first electrode was obtained, and an organic EL display panel having excellent reliability and productivity without disconnection even in a narrow frame panel having a small portion other than the display portion could be manufactured.

本発明のリード線により、引出し電極とマザーボードのプラグとのコンタクト部分の面積を大きくとることが可能となり、また、リード線と第1電極とのコンタクトも大きくとることができ、接触抵抗の低減を図ることが可能になるとともに段先頭の不具合が生じにくく、歩留まり向上につながる。   The lead wire of the present invention makes it possible to increase the area of the contact portion between the lead electrode and the plug of the motherboard, and also to increase the contact between the lead wire and the first electrode, thereby reducing the contact resistance. As a result, it is possible to reduce the trouble at the head of the stage and improve the yield.

本発明のボトムエミッション方式の有機ELディスプレイパネルの1実施形態を示す断面概略図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a bottom emission type organic EL display panel of the present invention. 引出し電極及びリード線の配置例を示す図である。It is a figure which shows the example of arrangement | positioning of an extraction electrode and a lead wire. 基板上に形成する複数の有機ディスプレイパネルを示す図および個々の有機ディスプレイパネルを切り出し、有機ディスプレイパネルをつなぎ合わせる状態を示す図である。It is the figure which shows the some organic display panel formed on a board | substrate, and the figure which shows the state which cut out each organic display panel and connected the organic display panel.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板 2 色変換フィルタ層
3 オーバーコート層(平坦化層) 4 バリア層
5 第1電極(陽極) 6 絶縁層(SM1)
7 陰極分離壁 8 有機発光層
9 第2電極(陰極) 10 パッシベーション層
11 リード線 12 バンプ
13 プラグ 14 コンタクトホール
15 マザーボード 16 引出し電極(第1電極)
17 引出し電極(第2電極)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Color conversion filter layer 3 Overcoat layer (flattening layer) 4 Barrier layer 5 First electrode (anode) 6 Insulating layer (SM1)
7 Cathode separation wall 8 Organic light emitting layer 9 Second electrode (cathode) 10 Passivation layer 11 Lead wire 12 Bump 13 Plug 14 Contact hole 15 Motherboard 16 Lead electrode (first electrode)
17 Extraction electrode (second electrode)

Claims (6)

互いにつなぎ合わされて大型パネルを形成するための有機ELディスプレイパネルであって、前記有機ELディスプレイパネルは、表示部において第1電極と第2電極とこれらに挟持された有機発光層とを含んで基板上に形成された有機EL素子と、表示部において該有機EL素子を覆うように形成されたパッシベーション層と、前記パッシベーション層上からパッシベーション層外の基板上にまで延在するように形成されたリード線とを有し、前記第1電極及び第2電極はそれぞれ表示部から基板端部に伸びて基板端部で引出し電極を構成し、前記リード線と前記引出し電極とはパッシベーション層外の部分において積層され、前記リード線の引出し電極側とは反対側の先端部にバンプが形成されていることを特徴とする有機ELディスプレイパネル。   An organic EL display panel connected to each other to form a large panel, wherein the organic EL display panel includes a first electrode, a second electrode, and an organic light emitting layer sandwiched between them in a display unit The organic EL element formed above, the passivation layer formed so as to cover the organic EL element in the display unit, and the lead formed so as to extend from the passivation layer to the substrate outside the passivation layer Each of the first electrode and the second electrode extends from the display portion to the end of the substrate to form an extraction electrode at the end of the substrate, and the lead wire and the extraction electrode are in a portion outside the passivation layer. An organic EL display characterized in that it is laminated and bumps are formed at the tip of the lead wire opposite to the lead electrode side. Ipaneru. 前記引出し電極が複数設けられており、前記引出し電極から延びるリード線は交互に長さが異なっており、各リード線の先端部に形成されたバンプの厚みがリード線の厚みより厚くなっていることを特徴とする請求項1記載の有機ELディスプレイパネル。   A plurality of the extraction electrodes are provided, the lead wires extending from the extraction electrodes are alternately different in length, and the thickness of the bump formed at the tip of each lead wire is thicker than the thickness of the lead wire. The organic EL display panel according to claim 1. 前記リード線が印刷により形成されてなるものであることを特徴とする請求項1又は2記載の有機ELディスプレイパネル。   3. The organic EL display panel according to claim 1, wherein the lead wire is formed by printing. 表示部において基板上に色変換フィルタ層を形成する色変換フィルタ層形成工程、表示部から基板端部に伸びて基板端部で引出し電極を構成する電極を含め、色変換フィルタ層上に有機EL素子を形成する有機EL素子形成工程、基板上の表示部を含み引出し電極部以外の部分にパッシベーション層を形成するパッシベーション層形成工程、リード線をパッシベーション層上からパッシベーション層外の基板上にまで延在するように、かつリード線と前記引出し電極とはパッシベーション層外の部分において積層するように形成し、引出し電極側とは反対側の先端部にバンプを形成するリード線形成工程を少なくとも有することを特徴とする有機ELディスプレイパネルの製造方法。   A color conversion filter layer forming step for forming a color conversion filter layer on the substrate in the display unit, including an electrode extending from the display unit to the substrate end and constituting an extraction electrode at the substrate end, and an organic EL on the color conversion filter layer Organic EL element forming process for forming elements, passivation layer forming process for forming a passivation layer in a portion other than the extraction electrode part including the display part on the substrate, and extending the lead wire from the passivation layer to the substrate outside the passivation layer. And at least a lead wire forming step in which the lead wire and the lead electrode are formed so as to be laminated in a portion outside the passivation layer, and a bump is formed at a tip portion opposite to the lead electrode side. The manufacturing method of the organic electroluminescent display panel characterized by these. 前記リード線が印刷又はインクジェットで形成されてなるものであることを特徴とする請求項4記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。   5. The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 4, wherein the lead wire is formed by printing or inkjet. 前記引出し電極が複数設けられており、前記引出し電極から延びるリード線は交互に長さが異なっており、各リード線の先端部に形成されたバンプの厚みがリード線の厚みより厚くなっていることを特徴とする請求項4又は5記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。   A plurality of the extraction electrodes are provided, the lead wires extending from the extraction electrodes are alternately different in length, and the thickness of the bump formed at the tip of each lead wire is thicker than the thickness of the lead wire. The method for producing an organic EL display panel according to claim 4 or 5, wherein
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