JP2006163325A - Organic el display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機ELディスプレイに関し、より詳しくはマルチパネル型有機ELディスプレイに関する。該マルチパネル型ディスプレイは大画面テレビなどに使用することができる。 The present invention relates to an organic EL display, and more particularly to a multi-panel organic EL display. The multi-panel display can be used for a large screen television or the like.
有機ELディスプレイの製造設備では、その処理できる基板サイズによって、製作できるパネルサイズの大きさに限界がある。例えば、有機EL材料の製膜装置では、現在400mm角から600mm角の基板の処理が可能であり、20インチクラスのディスプレイであれば単一基板で実現できる。しかし、40インチ、60インチのディスプレイは例えば20インチの基板を4枚、9枚組み合わせて構成することになる。 In an organic EL display manufacturing facility, the size of a panel that can be manufactured is limited by the size of the substrate that can be processed. For example, an organic EL material film forming apparatus can currently process a 400 mm square to 600 mm square substrate, and a 20-inch class display can be realized with a single substrate. However, 40-inch and 60-inch displays are configured by combining four or nine 20-inch substrates, for example.
小型有機ELディスプレイパネルを接続してマルチパネルタイプのマトリックス型ディスプレイを形成する提案がある(例えば、特許文献1〜4参照。)。 There is a proposal for forming a multi-panel type matrix display by connecting small organic EL display panels (for example, see Patent Documents 1 to 4).
特許文献1はアクティブマトリックスタイプのマルチパネルタイプのディスプレイである。このディスプレイは、TFTがマトリックス状に配置された基板(TFT基板)の上に金属によって形成されたアノード電極が設けられ、アノード電極上のリブで囲まれた領域には有機EL層が形成され、有機EL層上には透明電極からなるカソード電極が設けられており、透明電極の高抵抗値による画面中央部の輝度低下を補うためにリブの上部に補助電極が設けられている。補助電極による外光の反射を防止するため、リブに当たる部分(補助電極部分)にブラックマトリックスが設けられている。特許文献1では各小型パネルの端部をリブの位置で切断して、つなぎ合わせており、境目部分がブラックマトリックスで覆われているので各小型パネル間の境目が目立たないものを提案している。 Patent Document 1 is an active matrix type multi-panel type display. In this display, an anode electrode made of metal is provided on a substrate on which TFTs are arranged in a matrix (TFT substrate), an organic EL layer is formed in a region surrounded by ribs on the anode electrode, A cathode electrode made of a transparent electrode is provided on the organic EL layer, and an auxiliary electrode is provided on the top of the rib in order to compensate for a decrease in luminance at the center of the screen due to the high resistance value of the transparent electrode. In order to prevent reflection of external light by the auxiliary electrode, a black matrix is provided in a portion that hits the rib (auxiliary electrode portion). In Patent Document 1, the end portions of each small panel are cut at the position of the ribs and joined together, and the boundary portion is covered with a black matrix, so that the boundary between the small panels is not conspicuous. .
特許文献2はマルチパネルタイプのアクティブマトリックス型液晶表示装置であり、アクティブマトリックス基板と対向基板の間に液晶層を有しており、複数の液晶パネルを覆うように液晶パネルの外側にカラーフィルターと遮光部が所定のパターンで設けられている。これにより、液晶パネル間のつなぎ目を遮光部で覆うことができ、つなぎ目を目立たなくすることができるとしている。 Patent Document 2 is a multi-panel type active matrix liquid crystal display device having a liquid crystal layer between an active matrix substrate and a counter substrate, and a color filter on the outside of the liquid crystal panel so as to cover a plurality of liquid crystal panels. The light shielding portion is provided in a predetermined pattern. As a result, the joint between the liquid crystal panels can be covered with the light shielding portion, and the joint can be made inconspicuous.
特許文献3では各小型パネルの基板の主面に形成された透明電極は基板の側面まで延びる延長部を有し、各小型パネル同士はその側面の透明電極延長部同士を厚み方向にのみ導電性を示す異方性導電性シートを介して電気的に接続している。 In Patent Document 3, the transparent electrode formed on the main surface of the substrate of each small panel has an extension that extends to the side surface of the substrate, and each small panel is electrically conductive only in the thickness direction with the transparent electrode extension on the side. Are electrically connected through an anisotropic conductive sheet.
特許文献4では、大型基板上に小型パネルを貼り合わせ、小型パネル間には隙間が設けられており、その隙間を埋めるように埋め込み部を設けるとともに埋め込み部の周辺に封止用密閉部材を取り付けるための台座部が設けられている。 In Patent Document 4, a small panel is bonded on a large substrate, a gap is provided between the small panels, an embedded portion is provided so as to fill the gap, and a sealing sealing member is attached around the embedded portion. A pedestal portion is provided.
特許文献5には小型パネルとしてフレキシブル基板を用いたパネルを用い、パネル端部に設けた電極駆動回路部分を光取り出し部と反対側に曲げる構造とすることで各小型パネルの端部まで発光部を設けることができるとするものである。 In Patent Document 5, a panel using a flexible substrate is used as a small panel, and the electrode driving circuit portion provided at the end of the panel is bent to the side opposite to the light extraction portion, so that the light emitting portion extends to the end of each small panel. Can be provided.
特許文献6は前面パネルと所定間隔をあけて設けた裏面パネルとを有し、前面パネルと裏面パネルの間には複数の画素と複数の電極とを有し、裏面にはギャップが設けられ、該ギャップ内には複数の電極のそれぞれに接続された端子を有している。 Patent Document 6 has a front panel and a back panel provided at a predetermined interval, has a plurality of pixels and a plurality of electrodes between the front panel and the back panel, and a gap is provided on the back. A terminal connected to each of the plurality of electrodes is provided in the gap.
しかし、特許文献1、2に記載のディスプレイはアクティブマトリックス型ディスプレイであり、TFTは素子のばらつきがあるため駆動方法が複雑になること、大面積のTFT基板は作成が困難で、高価になるという欠点を有する。 However, the displays described in Patent Documents 1 and 2 are active matrix type displays, and TFTs have variations in elements, so that the driving method is complicated, and a large-area TFT substrate is difficult to produce and is expensive. Has drawbacks.
特許文献3、4に記載のディスプレイはパッシブマトリックス型ディスプレイであり、上記アクティブマトリックス方式よりも構成が簡単で作製しやすい。しかし、パッシブマトリックス方式の行-列ストライプ電極パターンの場合、電極取り出し部のスペースを個々の小型パネルの縁部に設ける必要があり、このため表示側の不発光領域に継ぎ目ができ、この継ぎ目がディスプレイを見る人に認識されやすく、ディスプレイとしては実用的でない。この継ぎ目部のスペースを狭くすることは容易ではない。 The displays described in Patent Documents 3 and 4 are passive matrix displays, which have a simpler configuration and are easier to manufacture than the active matrix method. However, in the case of a passive matrix type row-column stripe electrode pattern, it is necessary to provide a space for the electrode extraction portion at the edge of each small panel, and therefore, a seam can be formed in the non-light-emitting area on the display side. It is easy for the viewer to recognize the display and is not practical as a display. It is not easy to narrow the space at the joint.
このタイプのディスプレイとしては図5に示すように上記電極取り出し部52、53を行、列それぞれ小型パネル51の片側に置き、マルチディスプレイとしてはこれらの電極取り出し部をマルチパネルの縁部に配置する方式が採用されている。しかしこの方式では図5に示すように2×2構成しかとることができず、3×3、4×4、あるいは2×3など、少なくとも一辺が3以上のマルチパネルディスプレイではこの方式が採用できず、このような大型マルチディスプレイにも対応可能な構成が要望されている。
As shown in FIG. 5, this type of display has the electrode take-out
特許文献5、6に記載の提案はこのような養成への対応を試みたものであるが、特許文献5に記載の方式では、電極駆動回路部分をディスプレイ裏面に隠れるように急激に折り曲げて小型パネルを接続しているので断線につながるおそれが高く、実用的ではない。 The proposals described in Patent Documents 5 and 6 attempt to cope with such training. However, in the method described in Patent Document 5, the electrode driving circuit portion is abruptly bent so as to be hidden behind the display, and is small. Since the panel is connected, there is a high risk of disconnection, which is not practical.
特許文献6に記載のディスプレイは裏面に設けたギャップが隣り合う画素間の狭い領域に設けられ、そのギャップ内に複数の端子を配置し、ギャップ内の端子に行電極あるいは列電極を配線し、また導電ピンを形成する作業は、画素数が増えた精細度の高いディスプレイの場合は大変手間がかかるという欠点を有している。 In the display described in Patent Document 6, a gap provided on the back surface is provided in a narrow region between adjacent pixels, a plurality of terminals are arranged in the gap, and row electrodes or column electrodes are wired to the terminals in the gap, In addition, the work of forming the conductive pins has a drawback that it takes a lot of time in the case of a high-definition display with an increased number of pixels.
本発明者らは、このような状況に鑑み、上述のような問題がない、少なくとも1辺が3以上の小型パネルからなる大画面ディスプレイにも容易に適用可能で、継ぎ目の目立たないパッシブマトリックス方式の有機ELマルチパネルディスプレイにつき検討した結果、本発明に到達した。 In view of such a situation, the present inventors can easily apply to a large-screen display having a small panel having at least one side of 3 or more, which does not have the above-described problems, and has a conspicuous passive matrix system. As a result of studying the organic EL multi-panel display, the present invention has been achieved.
すなわち、本発明の有機ELディスプレイは、複数の表示パネルが互いに接合されたマルチパネルタイプの有機ELディスプレイであって、複数の表示パネルと、該表示パネルを配列支持する支持基板と、前記複数の表示パネルの支持基板と反対側の面に設けられた少なくとも一つの色変換フィルターとからなり、前記表示パネルはパネル基板とその上に設けられた有機発光体とからなり、互いに隣接する表示パネルは各表示パネルのパネル基板縁部に形成された貫通孔を介して電気的に接合され、表示パネルの接合部は色変換フィルターに設けられた遮光部により遮光されてなることを特徴とする。 That is, the organic EL display of the present invention is a multi-panel type organic EL display in which a plurality of display panels are bonded to each other, and includes a plurality of display panels, a support substrate for arranging and supporting the display panels, and the plurality of the plurality of display panels. The display panel comprises at least one color conversion filter provided on the surface opposite to the support substrate of the display panel, the display panel comprises a panel substrate and an organic light emitting material provided thereon, and the display panels adjacent to each other are The display panel is electrically joined through a through-hole formed in the edge of the panel substrate of each display panel, and the joined part of the display panel is shielded from light by a light shielding part provided in a color conversion filter.
本発明によれば、少なくとも1辺が3以上の小型パネルからなる大画面ディスプレイであっても継ぎ目が目立たないように小型パネルが連結された大画面ディスプレイをパッシブマトリックス方式で駆動でき、大画面有機ELディスプレイを安価に製造することができる。 According to the present invention, a large-screen display composed of small panels having at least one side of 3 or more can be driven in a passive matrix manner so that the small panels are connected so that the joint is not noticeable. An EL display can be manufactured at low cost.
図1は本発明の有機ELディスプレイの一例を示す概念図であり、3×3構成の例を示している。すなわち、表示パネル(小型パネル)11は3×3の構成で支持基板(図示せず)上に配列され、駆動部12、13はディスプレイ縁部に設けられている。 FIG. 1 is a conceptual diagram showing an example of the organic EL display of the present invention, and shows an example of a 3 × 3 configuration. That is, the display panel (small panel) 11 is arranged on a support substrate (not shown) in a 3 × 3 configuration, and the drive units 12 and 13 are provided at the display edge.
図6は支持基板61と色変換フィルター69との間に複数の表示パネル68が配列された状態を示す概念図であり、2枚の表示パネルの場合を示している。図6においては、あらかじめ接続用導電部(図示せず)を配列した支持基板71の上に有機EL素子からなる複数の表示パネル68を並べ、支持基板61と同じ大きさの色変換フィルター69を複数の表示パネル68上に貼り付けて、所望の大きさの有機ELディスプレイとしている。表示パネル68はそれぞれパネル基板62とその上に設けられた有機発光体63からなり、色変換フィルター69は透明基板64と透明基板上にカラーフィルター用の開口部を残すように遮光部(ブラックマトリックス)65が形成され、その開口部にカラーフィルター66が形成され、カラーフィルター66の上には必要に応じて蛍光変換層67が形成され、さらに平坦化層(図示せず)が形成されている。図6では色変換フィルター69の最上部が透明基板64となるように配置されている。遮光部65は、視覚上の違和感をなくすように、表示パネル68の継ぎ目を覆うように配列されている。
FIG. 6 is a conceptual diagram showing a state in which a plurality of
図2に示すように、表示パネルのパネル基板21の4つの縁部には行電極、列電極のパターンに対応した位置に貫通孔22が形成されている。
As shown in FIG. 2, through
上記貫通孔22の形成は、レーザービーム照射、機械的な孔抜きなどで形成することができるが、これらに限定されるものではない。
The
図3は支持基板31の上に配置された接続用導電部を示す図であり、3×3タイル配置の例を示している。接続用導電部33は所望の面積の支持基板31の上に、表示パネルの行電極、列電極のパターンに合わせ、表示パネルの継ぎ目部に継ぎ目を介して相対して隣接するパネル基板の2つの貫通孔をつなぐような位置に設けられている。接続用導電部33は例えば導電ペーストなどの導電性材料を用い、支持基板31の所定の位置にスクリーン印刷法により形成することができる。
FIG. 3 is a diagram showing the connection conductive portion arranged on the
図4は隣接する表示パネルの接続を示す図であり、貫通孔47が形成されたパネル基板41上にバス電極として用いる電極パターン46が形成されている。バス電極は例えばスパッタ法により形成することができる。バス電極形成時に貫通孔47の内壁と、パネル基板41のバス電極が形成されたと反対側の面の貫通孔47周辺にバス電極を形成したと同様の電極材からなる薄膜(図示せず)が形成され、導通パスと支持基板上に形成された接続用導電部48との接触部として機能する。前記電極材薄膜と前記接続用導電部48を介して隣り合う表示パネルのバス電極が接続される。前記貫通孔47の位置を表示パネルの縁部の画素の外側に設けることで、継ぎ目部の長さを隣接する画素間の間隔と同じにでき、視覚上の違和感がなくなる。
FIG. 4 is a diagram showing the connection of adjacent display panels. An
パネル基板41上には行電極または列電極として用いるラインパターンの陽極46が形成されている。
An
陽極46と陽極間のパネル基板41の上には、陽極46の上の画素開口部となる部分を除いて層間絶縁部43が形成されている。
On the
この層間絶縁部43は、表示領域の外側において、陰極形成領域よりも広く形成し、陰極の端子パッド部上に開口部が設けられている。
The
層間絶縁部43を形成する絶縁膜はパネル駆動時に印加される電圧から算出される絶縁耐圧を持つ必要があり、この絶縁耐圧が得られるに充分な膜厚とする。
The insulating film forming the
絶縁膜としては、ポジ型フォトレジスト、アクリレート等のネガ型フォトレジスト、ポリイミド、SiOx、SiOxNy、SiNy、TiOxなどの無機酸化膜を用いることができる。 As the insulating film, a positive photoresist, a negative photoresist such as acrylate, an inorganic oxide film such as polyimide, SiOx, SiOxNy, SiNy, or TiOx can be used.
層間絶縁部43上に、陽極のラインパターンの長手方向とは直角の方向にオーバーハング構造を有する絶縁膜からなるラインパターンの陰極分離壁(図示せず)が形成されている。陰極分離壁間には有機発光体44が形成されており、陰極分離壁間の有機発光体44上にラインパターン状の陰極45が形成されている。陽極46と陰極45は互いに直交する方向に有機発光体44を介して形成され、陰極45は列電極または行電極となる。行電極と列電極に電流を流すと、行電極と列電極の交差する箇所の画素部が発光する。
On the
表示パネルの行電極、列電極は表示パネルの縁部にあるバス電極につながり、バス電極は貫通孔部の電極材薄膜を介して接続用導電部48に接触し、該接続用導電部の他端では隣り合う表示パネルの貫通孔部の電極材薄膜、バス電極を経由して該隣り合う表示パネルの行電極、列電極とつながる。このようにして電極材薄膜と接続用導電部を介して隣り合う表示パネルの行電極または列電極が接続され、大画面ディスプレイとしての行、列電極が連続してつながり、ディスプレイ端部において駆動部と連結される。
The row electrode and the column electrode of the display panel are connected to the bus electrode at the edge of the display panel, and the bus electrode is in contact with the connecting
1.色変換フィルター
本明細書において、色変換フィルターは、カラーフィルター層、色変換層、およびカラーフィルター層と色変換層との積層体の総称である。
1. Color Conversion Filter In this specification, the color conversion filter is a generic name for a color filter layer, a color conversion layer, and a laminate of a color filter layer and a color conversion layer.
1.1カラーフィルター
本発明で用いるカラーフィルターは、液晶ディスプレイ等、フラットパネルディスプレイに用いられるカラーフィルターであればいずれも用いることができる。近年はフォトレジストに顔料を分散させた顔料分散型カラーフィルターが広く用いられており、本発明においてもこれを好ましく用いることができる。
1.1 Color Filter Any color filter used in the present invention can be used as long as it is a color filter used in a flat panel display such as a liquid crystal display. In recent years, a pigment dispersion type color filter in which a pigment is dispersed in a photoresist has been widely used, and this can be preferably used in the present invention.
フラットパネルディスプレイ用のカラーフィルターは、400nm〜550nmの波長の光を透過する青色カラーフィルター、500nm〜600nmの波長の光を透過する緑色カラーフィルター、600nm以上の波長の光を透過する赤色カラーフィルターのそれぞれを配列したものが一般的であり、また、各カラーフィルター画素間に、主にコントラストの向上を目的として、可視域の波長の光を透過しないブラックマトリクスを配設することが一般的に行われており、本発明においてもこれを採用することができる。 The color filters for flat panel displays are a blue color filter that transmits light with a wavelength of 400 nm to 550 nm, a green color filter that transmits light with a wavelength of 500 nm to 600 nm, and a red color filter that transmits light with a wavelength of 600 nm or more. These are generally arranged, and a black matrix that does not transmit light in the visible range is generally disposed between the color filter pixels, mainly for the purpose of improving contrast. This can also be adopted in the present invention.
色変換層は、有機発光体にて発光される近紫外領域ないし可視領域の光、特に青色ないし青緑色領域の光を吸収して、異なる波長の可視光へと波長分布変換を行う層であり、好ましくは、少なくとも赤色領域の蛍光色素の一種類以上が用いられ、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素の一種以上と組み合わせてもよい。色変換層は、当該技術において知られている任意の蛍光色素をマトリクス樹脂に分散した材料を用いて形成することができる。 The color conversion layer is a layer that absorbs light in the near-ultraviolet region or visible region, particularly blue or blue-green region emitted from the organic light emitter, and converts the wavelength distribution into visible light of different wavelengths. Preferably, at least one fluorescent dye in the red region is used, and may be combined with one or more fluorescent dyes that emit fluorescence in the green region. The color conversion layer can be formed using a material in which any fluorescent dye known in the art is dispersed in a matrix resin.
有機発光体から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えばローダミンB、ローダミン6G、ローダミン3B、ローダミン101、ローダミン110、スルホローダミン、ベーシックバイオレット11、べーシックレッド2などのローダミン系色素、シアニン系色素、1−エチル−2−[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−13−ブタジエニル]−ピリジウム−パークロレート(ピリジン1)などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。 Examples of fluorescent dyes that absorb light in the blue or blue-green region emitted from the organic light emitter and emit fluorescence in the red region include rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, rhodamine 110, sulforhodamine, basic violet. 11, rhodamine dyes such as basic red 2, cyanine dyes, and pyridine dyes such as 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -13-butadienyl] -pyridium-perchlorate (pyridine 1) Or oxazine dyes.
有機発光体から発せられる青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば3−(2’−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン(クマリン6)、3−(2’−ベンゾイミダゾリル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリン(クマリン7)、3−(2’−N−メチルベンゾイミダゾリル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリン(クマリン30)、2,3,5,6−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリフルオロメチルキノリジン(9,9a,1−gh)クマリン(クマリン153)などのクマリン系色素、または、クマリン色素系染料であるべーシックイエロー51、さらにはソルベントイエロー11、ソルベントイエロー116などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。 Examples of fluorescent dyes that absorb blue to blue-green light emitted from organic light emitters and emit green fluorescence include 3- (2′-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6), 3- (2′-Benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 7), 3- (2′-N-methylbenzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 30), 2, 3, 5 , 6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153) or the like, or basic yellow 51 which is a coumarin dye-based dye, Furthermore, naphthalimide dyes such as Solvent Yellow 11 and Solvent Yellow 116 are listed.
なお、本発明に用いる有機蛍光色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機蛍光顔料としてもよい。 The organic fluorescent dye used in the present invention is a polymethacrylate, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, and these resins. An organic fluorescent pigment may be obtained by kneading into a mixture or the like in advance to obtain a pigment.
本発明に用いる有機蛍光色素は、色変換層に対して、該色変換層の重量を基準として0.01〜5重量%、より好ましくは0.1〜2重量%含有される。有機蛍光色素の含有量が0.01重量%未満であると充分な波長変換を行うことができず、一方、該含有量が5重量%を超えると濃度消光等により色変換効率の低下をもたらす。 The organic fluorescent dye used in the present invention is contained in the color conversion layer in an amount of 0.01 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 2% by weight, based on the weight of the color conversion layer. When the content of the organic fluorescent dye is less than 0.01% by weight, sufficient wavelength conversion cannot be performed. On the other hand, when the content exceeds 5% by weight, the color conversion efficiency decreases due to concentration quenching or the like. .
色変換層に用いられるマトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を、光および/または熱処理して、ラジカル種やイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものである。光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は高精細でのパターニングが可能であり、耐溶剤性、耐熱性等の信頼性の面でも好ましい。 The matrix resin used for the color conversion layer is a photocurable or photothermal combination type curable resin that is photo- and / or heat-treated to generate radical species and ionic species to polymerize or cross-link and insolubilize them. It is. The photocurable or photothermal combination type curable resin can be patterned with high definition, and is preferable in terms of reliability such as solvent resistance and heat resistance.
1.3平坦化層
カラーフィルターの平坦化層は、カラーフィルターを保護する目的および膜面の平滑化を目的に配設されるものであり、光透過性に優れ、かつカラーフィルターを劣化させることなく配設できる材料およびプロセスが選択される。また、カラーフィルターの上面に透明導電膜等を形成する場合、さらにスパッタ耐性も要求されることになる。
1.3 Flattening layer The flattening layer of the color filter is disposed for the purpose of protecting the color filter and smoothing the film surface, and has excellent light transmittance and deteriorates the color filter. Materials and processes that can be disposed of are selected. Further, when a transparent conductive film or the like is formed on the upper surface of the color filter, sputtering resistance is also required.
平坦化層は前述のように平滑化の目的を持つため、一般的には塗布法で形成される。平坦化層に適用可能な材料としては、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を、光および/または熱処理して、ラジカル種やイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものが一般的である。また、該光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は色変換層のパターニングを行うため、硬化前は有機溶媒あるいはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。 Since the planarization layer has the purpose of smoothing as described above, it is generally formed by a coating method. As a material applicable to the flattening layer, a photocurable or photothermal combination type curable resin is subjected to light and / or heat treatment to generate radical species and ionic species to be polymerized or crosslinked to be insoluble and infusible. Things are common. In addition, since the photo-curable or photothermal combined type curable resin performs patterning of the color conversion layer, it is desirable that the photo-curable or photo-thermal curable resin is soluble in an organic solvent or an alkali solution before curing.
具体的に光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂とは、(1)アクリロイル基やメタクリロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物、(2)ポリビニル桂皮酸エステルと増感剤からなる組成物、(3)鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物、(4)エポキシ基を有するモノマーと光酸発生剤からなる組成物を例示でき、これらの組成物からなる膜を塗布により形成し、光または熱処理して、(1)の場合は光ラジカルや熱ラジカルを発生させて重合、(2)の場合は二量化により架橋、(3)の場合はナイトレンを発生させてオレフィンを架橋、(4)の場合は酸(カチオン)を発生させて重合することにより不溶不融化させるものである。これらの中では特に(1)が高精細のパターニング可能であり、耐溶剤性、耐熱性にも優れることから好ましい。 Specifically, the photocurable or photothermal combination type curable resin is (1) a composition comprising an acrylic polyfunctional monomer and oligomer having a plurality of acryloyl groups and methacryloyl groups, and a photo or thermal polymerization initiator, (2 ) A composition comprising a polyvinyl cinnamate ester and a sensitizer, (3) a composition comprising a chain or cyclic olefin and bisazide, and (4) a composition comprising a monomer having an epoxy group and a photoacid generator. A film made of these compositions is formed by coating, and light or heat treatment is performed to generate a photoradical or a heat radical in the case of (1), and in the case of (2), to be crosslinked by dimerization. In the case of (4), nitrene is generated to crosslink the olefin, and in the case of (4), an acid (cation) is generated to effect insolubilization by polymerization. Among these, (1) is particularly preferable because high-definition patterning is possible and solvent resistance and heat resistance are excellent.
その他、使用目的、使用条件によってはポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルスルフォン、ポリビニルブチラール、ポリフェニレンエーテル、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ノルボルネン系樹脂、メタクリル樹脂、イソブチレン無水マレイン酸共重合樹脂、環状オレフィン系等の熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいはポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート等と3官能性あるいは4官能性のアルコキシシランを含むポリマーハイブリッド等も利用することができる。 In addition, polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polyether sulfone, polyvinyl butyral, polyphenylene ether, polyamide, polyether imide, norbornene resin, methacrylic resin, isobutylene maleic anhydride copolymer resin depending on the purpose and conditions of use , Thermoplastic resins such as cyclic olefins, thermosetting resins such as epoxy resins, phenol resins, urethane resins, urea resins, melamine resins, or trifunctional or tetrafunctional alkoxy with polystyrene, polyacrylonitrile, polycarbonate, etc. A polymer hybrid containing silane can also be used.
2.表示パネル
2.1パネル基板
表示パネルはパネル基板とその上に設けられた有機発光体とからなる。パネル基板としては、通常、膜厚50〜500μm程度の透明なプラスチックフィルムが用いられ、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PES(ポリエーテルスルフォン)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、ポリイミド、PO(ポリオレフィン)等を用いることができ、PC、PET、PES、PEN、ポリイミドなどの比較的耐熱性を有するプラスチックからなるフィルムが好ましく用いられる。また、パネル基板としては、上記の材料に限定されることなく、多層膜の樹脂フィルムをベースとしたフィルムも用いることができる。
2. Display Panel 2.1 Panel Substrate The display panel is composed of a panel substrate and an organic light emitter provided thereon. As the panel substrate, a transparent plastic film having a film thickness of about 50 to 500 μm is usually used. PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate), PES (polyether sulfone), PEN (polyethylene naphthalate), polyimide, PO (Polyolefin) or the like can be used, and a film made of a relatively heat-resistant plastic such as PC, PET, PES, PEN, or polyimide is preferably used. The panel substrate is not limited to the above materials, and a film based on a multilayer resin film can also be used.
2.2有機発光体
有機発光体は、一対の電極の間に少なくとも有機EL発光層を把持し、必要に応じて、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および/または電子注入層を介在させた構造を有する。具体的には、下記のような層構成からなるものが採用される。
(1)陽極/有機EL発光層/陰極
(2)陽極/正孔注入層/有機EL発光層/陰極
(3)陽極/有機EL発光層/電子注入層/陰極
(4)陽極/正孔注入層/有機EL発光層/電子注入層/陰極
(5)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/有機EL発光層/電子注入層/陰極
2.2 Organic light-emitting body The organic light-emitting body holds at least the organic EL light-emitting layer between a pair of electrodes, and if necessary, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer and / or an electron injection layer It has a structure with intervening. Specifically, those having the following layer structure are employed.
(1) Anode / organic EL light emitting layer / cathode (2) Anode / hole injection layer / organic EL light emitting layer / cathode (3) Anode / organic EL light emitting layer / electron injection layer / cathode (4) Anode / hole injection Layer / organic EL light emitting layer / electron injection layer / cathode (5) anode / hole injection layer / hole transport layer / organic EL light emitting layer / electron injection layer / cathode
上記の層構成において、陽極と陰極の少なくとも一方は、該有機発光体の発する光の波長域において透明であることが望ましく、透明である電極を通じて光を発して、色変換フィルターの蛍光色変換膜に光を入射させる。当該技術において、陽極を透明にすることが容易であることが知られており、本発明においても陽極を透明にすることが好ましい。 In the above layer structure, at least one of the anode and the cathode is preferably transparent in the wavelength range of light emitted from the organic light emitter, and emits light through the transparent electrode, so that the fluorescent color conversion film of the color conversion filter Make light incident on. In this technique, it is known that it is easy to make the anode transparent, and it is preferable to make the anode transparent also in the present invention.
上記各層の材料としては、公知のものが使用される。例えば、有機発光層として青色の発光を得るためには、例えばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。 Known materials are used as the material for each of the above layers. For example, in order to obtain blue light emission as an organic light emitting layer, for example, fluorescent brighteners such as benzothiazole, benzimidazole, and benzoxazole, metal chelated oxonium compounds, styrylbenzene compounds, aromatic dimethylidin compounds Etc. are preferably used.
電子注入層としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属、またはこれらのフッ化物等からなる電子注入性の金属、その他の金属との合金や化合物などの材料を用いることができる。また、電子輸送層としては、アルミキノリン錯体などの金属錯体とオキサジアゾール、トリアゾール系化合物等を用いることができる。また、正孔注入層としては、芳香族アミン化合物、スターバースト型アミンや、ベンジジン型アミンの多量体および銅フタロシアニン(CuPc)などを用いることができる。正孔輸送層としては、スターバースト型アミン、芳香族ジアミンなどを用いることができる。 Examples of the electron injection layer include alkali metals such as lithium, sodium, and potassium, alkaline earth metals such as calcium, magnesium, and strontium, or electron injecting metals made of fluorides thereof, and alloys with other metals. Or a material such as a compound can be used. As the electron transport layer, a metal complex such as an aluminum quinoline complex, oxadiazole, a triazole compound, or the like can be used. For the hole injection layer, aromatic amine compounds, starburst amines, benzidine amine multimers, copper phthalocyanine (CuPc), and the like can be used. As the hole transport layer, a starburst amine, an aromatic diamine, or the like can be used.
陽極および陰極のパターンの例としては、それぞれ平行なストライプ状をなし、互いに交差するように形成されている例を挙げることができる。この場合には、本発明の有機発光素子はマトリクス駆動を行うことができる。すなわち、陽極の特定のストライプと、陰極の特定のストライプに電圧が印加された時に、有機発光層において、それらのストライプが交差する部分が発光する。従って、陽極および陰極の選択されたストライプに電圧を印加することによって、特定の色変換膜および/またはフィルターが位置する部分のみを発光させることができる。 Examples of the anode and cathode patterns include parallel stripes formed so as to intersect each other. In this case, the organic light emitting device of the present invention can perform matrix driving. That is, when a voltage is applied to the specific stripe of the anode and the specific stripe of the cathode, the portion where the stripes intersect in the organic light emitting layer emits light. Accordingly, by applying a voltage to selected stripes of the anode and the cathode, it is possible to emit light only at a portion where a specific color conversion film and / or filter is located.
3.支持基板
本発明において、支持基板としては、有機ELディスプレイパネルに用いられる透明基板であればどのようなものも用いることができ、特に限定されるものではない。透明基板の素材例としてはガラス、セラミックスあるいはポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリカーボネート等を例示できる。支持基板上に設けられる接続用導電部は導電性ペーストのスクリーン印刷により形成することができる。導電性ペーストとしてはフィラーにAgを用いたものが好ましい。
3. Support Substrate In the present invention, any support substrate can be used as long as it is a transparent substrate used in an organic EL display panel, and is not particularly limited. Examples of the material for the transparent substrate include glass, ceramics, polyethylene terephthalate, polysulfone, and polycarbonate. The connection conductive portion provided on the support substrate can be formed by screen printing of a conductive paste. A conductive paste using Ag as a filler is preferable.
以下に、実施例を用いて本発明の有機ELディスプレイをさらに説明する。 The organic EL display of the present invention will be further described below using examples.
<実施例1>
40インチのSVGA規格(800×RBG×600)のディスプレイの作製を行った。画素ピッチは1.016mmである。RGB副画素サイズは0.148mm×0.704mm、副画素間隔は0.130mmとし、画素サイズは0.704mm×0.704mm、画素間隔は0.312mmとした。
<Example 1>
A 40-inch SVGA standard (800 × RBG × 600) display was produced. The pixel pitch is 1.016 mm. The RGB subpixel size was 0.148 mm × 0.704 mm, the subpixel interval was 0.130 mm, the pixel size was 0.704 mm × 0.704 mm, and the pixel interval was 0.312 mm.
(表示パネルの作製)
表示パネルのパネル基板として500mm×500mm×0.5mmのポリイミドフィルムを用い、このパネル基板上に上記画素構成の20インチ表示部(400×RGB×300)を作製した。
(Production of display panel)
A polyimide film of 500 mm × 500 mm × 0.5 mm was used as a panel substrate of the display panel, and a 20-inch display portion (400 × RGB × 300) having the above pixel configuration was produced on this panel substrate.
まず、陰極の端子パッド部および陽極の補助電極部として抵抗率1.5×10−5Ω・cmのMoを膜厚300nm、幅10μm形成した。Mo膜の形成にはDCマグネトロンスパッタ法を用い、Mo膜上にレジスト剤「OFRP−800」(商品名、東京応化製)を塗布した後、フォトリソグラフィー法でパターニングを行った。この後、KrFエキシマレーザー、レーザースポット径50μm、レーザー出力100mJ/パルス〜450mJ/パルスで表示部縁より70μm内側の位置にMo膜とポリイミドフィルムを貫通する貫通孔を形成した。この貫通孔は後に形成する陽極のストライプパターン、陰極のストライプパターンに該当する位置に設けた。 First, Mo having a resistivity of 1.5 × 10 −5 Ω · cm was formed to a thickness of 300 nm and a width of 10 μm as a cathode terminal pad portion and an anode auxiliary electrode portion. A DC magnetron sputtering method was used to form the Mo film. After applying a resist agent “OFRP-800” (trade name, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) on the Mo film, patterning was performed by a photolithography method. Thereafter, a KrF excimer laser, a laser spot diameter of 50 μm, a laser output of 100 mJ / pulse to 450 mJ / pulse, and a through hole penetrating the Mo film and the polyimide film were formed at a position 70 μm inside from the display portion edge. The through-holes were provided at positions corresponding to the anode stripe pattern and cathode stripe pattern to be formed later.
次にスパッタ法で陽極として透明電極(ITO)を上記のパネル基板上に全面製膜した。ITO上にレジスト剤「OFRP−800」(商品名、東京応化製)を塗布した後、フォトリソグラフィー法でパターニングを行い、RGB副画素に位置する、幅0.204mm、間隔0.074mm、膜厚100nmのストライプパターンからなる陽極を得た。 Next, a transparent electrode (ITO) was formed on the entire surface of the panel substrate as an anode by sputtering. After applying a resist agent “OFRP-800” (trade name, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) on ITO, patterning is performed by a photolithography method. An anode having a 100 nm stripe pattern was obtained.
次にポジ型フォトレジスト「WIX−2A」(商品名、日本ゼオン製)を用いて、前記副画素に対応する開口部を残して、厚さ1μmの絶縁膜を形成した。絶縁膜の端部の開口部端部に対する角度は鋭角となっている。(開口部の底部の幅が、絶縁膜頂部における開口部の幅より広くなっている)この絶縁膜はパネル駆動時に印加される電圧に対し、充分な絶縁耐圧を示した。 Next, a positive photoresist “WIX-2A” (trade name, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was used to form an insulating film having a thickness of 1 μm, leaving an opening corresponding to the subpixel. The angle between the end of the insulating film and the end of the opening is an acute angle. (The width of the bottom of the opening is wider than the width of the opening at the top of the insulating film.) This insulating film showed a sufficient withstand voltage against the voltage applied when the panel was driven.
次にネガ型フォトレジスト「ZPN1100」(商品名、日本ゼオン製)を用いて、ITO電極のストライクパターンと直交して、隣り合う画素と画素の真中に、厚さ4μmの隔壁を形成した。隔壁の幅は、画素間隙間隔以下、好ましくは画素間隙間隔より50μm狭い幅以下であり、100μm以上であればよい。本実施例では、隔壁の断面形状は逆テーパ形状であり、その上部幅230μm、底部幅130μmであり、ピッチ1.016μmである。隔壁の端部は陰極伸長方向に垂直に伸びる隔壁によって連結されているようにした。 Next, a negative photoresist “ZPN1100” (trade name, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was used to form an adjacent pixel and a partition wall having a thickness of 4 μm in the middle of the pixel perpendicular to the strike pattern of the ITO electrode. The width of the partition wall is not more than the pixel gap interval, preferably not more than 50 μm narrower than the pixel gap interval, and may be 100 μm or more. In this example, the cross-sectional shape of the partition wall is an inversely tapered shape, the top width is 230 μm, the bottom width is 130 μm, and the pitch is 1.016 μm. The ends of the barrier ribs were connected by barrier ribs extending perpendicular to the cathode extension direction.
次いで、前記陽極を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子注入層を真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は1×10−4Paまで減圧した。正孔注入層は銅フタロシアニン(CuPc)を100nm積層した。正孔輸送層は4,4′−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)を20nm積層した。有機発光層を30nm積層した。有機発光層のホスト物質は4,4′−ビス[2,2′−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)、ゲストは4,4′−ビス[2−{4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPAVBi)とした。電子注入層はアルミキレート(Alq3)を20nm積層した。 Next, the substrate on which the anode was formed was mounted in a resistance heating vapor deposition apparatus, and a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron injection layer were sequentially formed without breaking the vacuum. During film formation, the internal pressure of the vacuum chamber was reduced to 1 × 10 −4 Pa. As the hole injection layer, copper phthalocyanine (CuPc) was laminated to a thickness of 100 nm. As the hole transport layer, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (α-NPD) was laminated to 20 nm. The organic light emitting layer was laminated | stacked 30 nm. The host material of the organic light emitting layer is 4,4'-bis [2,2'-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi), and the guest is 4,4'-bis [2- {4- (N, N-diphenylamino) phenyl } Vinyl] biphenyl (DPAVBi). The electron injection layer was formed by laminating 20 nm of aluminum chelate (Alq3).
この後、メタルマスクを用いて、厚さ200nmのMg/Ag(10:1の重量比率)層からなる陰極を真空を破らずに隔壁間に形成した。 Thereafter, using a metal mask, a cathode composed of a Mg / Ag (10: 1 weight ratio) layer having a thickness of 200 nm was formed between the barrier ribs without breaking the vacuum.
最後に、表示部を含んで20インチサイズ(304.8mm×406.4mm)に基板から切り出し、組み合わせ用表示パネルとした。 Finally, the display panel was cut out from the substrate into a 20-inch size (304.8 mm × 406.4 mm) to obtain a display panel for combination.
(支持基板の作製)
ディスプレイの支持基板となるガラス板(645mm×845mm×1.1mm)上に、Agを用いた導電性ペーストをスクリーン印刷法により塗布、焼成(150℃、30分)して、接続用導電部のパターンを形成した。接続用導電部のパターンは、表示基板継ぎ目位置において、陽極ストライプまたは陰極ストライプの延長線上に、幅0.140mm、長さ0.500mm、厚さ500nmとした。
(Production of support substrate)
A conductive paste using Ag is applied on a glass plate (645 mm × 845 mm × 1.1 mm) serving as a support substrate of the display by a screen printing method and baked (150 ° C., 30 minutes). A pattern was formed. The pattern of the conductive part for connection was set to have a width of 0.140 mm, a length of 0.500 mm, and a thickness of 500 nm on the extension line of the anode stripe or the cathode stripe at the joint position of the display substrate.
(支持基板への表示パネルの貼り付け)
上記で作製した接続用導電部を形成した支持基板上に、20インチサイズの表示パネルを位置合わせして2×2で貼り付け、40インチ有機EL発光部を形成した。
(Attaching the display panel to the support substrate)
A 20-inch size display panel was aligned and pasted 2 × 2 on the support substrate on which the conductive portion for connection prepared above was formed, to form a 40-inch organic EL light-emitting portion.
(色変換フィルターの作成)
[ブラックマトリックスの作製]
透明基板としてのコーニングガラス(645mm×845mm×1.1mm)上に、スピンコート法で黒色色素を含むレジスト樹脂を塗布し、フォトリソグラフ法により、パターニングを実施し、カラーフィルター形成用の開口部を残してブラックマトリックスを膜厚2μmで形成した。
(Create color conversion filter)
[Preparation of black matrix]
On a Corning glass (645 mm x 845 mm x 1.1 mm) as a transparent substrate, a resist resin containing a black pigment is applied by spin coating, patterning is performed by photolithography, and openings for forming color filters are formed. A black matrix having a thickness of 2 μm was formed.
[青色フィルターパターンの作製]
青色フィルター材料(フジハントエレクトロニクステクノロジー製、カラーモザイクCB−7001)をスピンコート法にて塗布後、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、青色フィルターの線幅0.148mm、ピッチ1.016mm、膜厚6μmのラインパターンを得た。
[Preparation of blue filter pattern]
After applying blue filter material (Fuji Hunt Electronics Technology, color mosaic CB-7001) by spin coating method, patterning is performed by photolithography method, blue filter line width 0.148mm, pitch 1.016mm, film thickness A 6 μm line pattern was obtained.
[緑色変換フィルターパターンの作製]
蛍光色素としてクマリン6(0.7重量部)を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート(PGMEA)120重量部に溶解し、さらに光重合性樹脂[V259PA/P5](商品名、新日鐵化成工業株式会社製)100重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、先に青色フィルターのパターンを形成した透明基板としてのコーニングガラスの上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、緑色変換フィルターの線幅0.148mm、ピッチ1.016mm、膜厚10μmのラインパターンを得た。
[Production of green conversion filter pattern]
Coumarin 6 (0.7 parts by weight) as a fluorescent dye is dissolved in 120 parts by weight of propylene glycol monoethyl acetate (PGMEA) as a solvent, and a photopolymerizable resin [V259PA / P5] (trade name, Nippon Steel Chemical Industries Ltd.) 100 parts by weight (manufactured by company) was added and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution is applied onto a Corning glass as a transparent substrate on which a blue filter pattern has been previously formed by using a spin coating method, patterned by a photolithographic method, and a green conversion filter having a line width of 0.148 mm. A line pattern having a pitch of 1.016 mm and a film thickness of 10 μm was obtained.
[赤色変換フィルターパターンの作成]
蛍光色素としてクマリン6(0.6質量部)、ローダミン6G(0.3質量部)、ベーシックバイオレット11(0.3質量部)を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート(PGMEA)120質量部に溶解した。得られた溶液に光重合性樹脂「V259PA/P5」(商品名、新日鐵化成工業株式会社製)100質量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、先に青色フィルターおよび緑色変換フィルターのパターンを形成したコーニングガラスの上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、赤色変換フィルターの線幅0.148mm、ピッチ1.016mm、膜厚10μmのラインパターンを得た。
[Create red conversion filter pattern]
Coumarin 6 (0.6 parts by mass), rhodamine 6G (0.3 parts by mass) and basic violet 11 (0.3 parts by mass) were dissolved in 120 parts by mass of propylene glycol monoethyl acetate (PGMEA) as a solvent. . 100 parts by mass of a photopolymerizable resin “V259PA / P5” (trade name, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was added to the obtained solution and dissolved to obtain a coating solution. This coating solution is applied onto a Corning glass on which a blue filter and green conversion filter pattern has been previously formed, using a spin coating method, and then patterned by a photolithographic method. The line width of the red conversion filter is 0.148 mm. A line pattern having a pitch of 1.016 mm and a film thickness of 10 μm was obtained.
[平坦化層の作製]
この色変換層の上に、平坦化層兼ガスバリア層としてUV硬化型樹脂(エポキシ変成アクリレート;JSR社製、NN810)をスピンコート法にて塗布し、高圧水銀灯で照射して、塗布したUV硬化型樹脂を硬化させた。得られた平坦化層の膜厚は5μmであり、変換層のパターンの変形はなく、平坦化層の上面は平坦であった。
[Fabrication of planarization layer]
On this color conversion layer, a UV curable resin (epoxy modified acrylate; manufactured by JSR, NN810) is applied as a flattening layer and a gas barrier layer by a spin coat method, and irradiated with a high-pressure mercury lamp to apply the UV curing. The mold resin was cured. The thickness of the obtained flattening layer was 5 μm, there was no deformation of the conversion layer pattern, and the upper surface of the flattening layer was flat.
(貼り合わせ)
こうして得られた色変換フィルターと支持基板に貼り付けられた表示パネルとをグローブボックス内乾燥窒素雰囲気(酸素および水分濃度ともに10ppm以下)下において貼り合わせ、UV硬化型の封止樹脂を用いて封止した。
(Lamination)
The color conversion filter thus obtained and the display panel attached to the support substrate are bonded together in a glove box in a dry nitrogen atmosphere (both oxygen and moisture concentrations are 10 ppm or less) and sealed with a UV curable sealing resin. Stopped.
得られた40インチディスプレイは15〜30Vの駆動電圧を印加することにより100〜300cd/m2の輝度で発光する。 The obtained 40-inch display emits light with a luminance of 100 to 300 cd / m 2 by applying a driving voltage of 15 to 30V.
<実施例2>
実施例1で作製したと同様の20インチ表示パネルを用いて、実施例1と同様の手順で4×4構成の80インチディスプレイを作製した。これはUXGA企画(1600×RGB×1200)に対応するものである。
<Example 2>
Using a 20-inch display panel similar to that produced in Example 1, an 80-inch display having a 4 × 4 configuration was produced in the same procedure as in Example 1. This corresponds to the UXGA plan (1600 × RGB × 1200).
得られた80インチディスプレイは20〜40Vの駆動電圧を印加することにより100〜300cd/m2の輝度で発光する。 The obtained 80-inch display emits light with a luminance of 100 to 300 cd / m 2 by applying a drive voltage of 20 to 40V.
<実施例3>
画素ピッチを1.19mmである。RGB副画素サイズを0.206mm×0.878mm、副画素間隔を0.312mmとし、画素サイズは0.878mm×0.878mm、画素間隔を0.312mmとした以外は実施例1と同様にして20インチ表示パネルを作製し、3×3構成によりXGA規格(1024×RGB×768)のディスプレイを作製した。得られた60インチディスプレイは20〜40Vの駆動電圧を印加することにより100〜300cd/m2の輝度で発光する。
<Example 3>
The pixel pitch is 1.19 mm. The same procedure as in Example 1 except that the RGB subpixel size is 0.206 mm × 0.878 mm, the subpixel interval is 0.312 mm, the pixel size is 0.878 mm × 0.878 mm, and the pixel interval is 0.312 mm. A 20-inch display panel was produced, and an XGA standard (1024 × RGB × 768) display was produced with a 3 × 3 configuration. The obtained 60-inch display emits light with a luminance of 100 to 300 cd / m 2 by applying a drive voltage of 20 to 40V.
本発明の有機ELディスプレイは容易に複数の表示パネルをつなぎ合わせて大画面ディスプレイとすることができ、しかもつなぎ目を目立たなくすることができるため、大画面テレビなどに有用である。 The organic EL display of the present invention can be easily connected to a plurality of display panels to form a large screen display, and the joints can be made inconspicuous. Therefore, the organic EL display is useful for a large screen television.
11、51、68:表示パネル
12、52:駆動部1
13、53:駆動部2
21、41、62:パネル基板
22、47:貫通孔
31、61:支持基板
32:表示範囲
33、48:導電性接続部
42:陽極
43:層間絶縁部
44:有機発光体
45:陰極
46:バス電極
63:有機発光体
64:透明基板
65:遮光部
66:カラーフィルター
67:蛍光変換層
69:色変換フィルター
11, 51, 68: Display panel 12, 52: Drive unit 1
13, 53: Drive unit 2
21, 41, 62:
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