JP2009222573A - 距離測定装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】距離測定装置を小型化すること。
【解決手段】距離測定装置は、測定光と参照光を生成する光源10およびスプリッタ11と、参照光の光路長を制御する光路長制御手段12と、検知器13と、コントローラ14と、で構成されている。光路長制御手段12は、強誘電体を材料とし、空孔124が一定の間隔で周期的に形成されたフォトニック結晶121と、フォトニック結晶121の両面に設けられた金属薄膜電極122、123とで構成されている。金属薄膜電極122、123を介してフォトニック結晶121に電圧を印加することで、フォトニック結晶121のフォトニックバンド構造を変化させることができる。したがって、フォトニック結晶121に参照光を入射させれば、印加する電圧値に応じて参照光の光路長を制御することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、光路長から距離を測定する距離測定装置に関するものである。
光を用いて距離を測定する方法として、以下に示す方法が知られている。
光源からの光を測定光と参照光の2つに分け、測定光を測定物に照射し、測定物によって反射された測定光を受信する。もう一方参照光は、光路長制御手段によって光路長を変化させる。そして、受信した測定光と参照光による干渉や自己相関が起こるように、光路長制御手段を調整する。干渉や自己相関が起こるのは、測定光と参照光の光路長が一致した場合であるから、光路長制御手段によって調整した光路差の値から距離を測定することができる。
光路長制御手段として、特許文献1にはミラーを機械的に移動させることで光路長を調整する手段が示されている。
特開平8−43533
しかし、ミラーを機械的に移動させて光路長を調整する方法では、ミラーを移動させるために駆動装置が必要であり、また装置が大型になってしまうという問題があった。
そこで本発明の目的は、光の干渉によって測定物までの距離を測定する距離測定装置を小型化することである。
第1の発明は、測定物までの距離を光の干渉によって測定する距離測定装置において、測定光と参照光を同時に出力する光出力手段と、測定光を測定物に照射し、測定物によって反射された測定光を受光する照射受光手段と、フォトニック結晶によって前記参照光の群速度を制御することで、前記参照光の光路長を調整する光路長制御手段と、測定光と参照光との干渉が生じたときの、参照光の光路長によって距離を算出する距離算出手段と、を有することを特徴とする距離測定装置である。
光出力手段は、1つの光源からの光をスプリッタによって分割することで測定光と第1参照光を同時に生成するようにしてもよいし、特性の等しい2つの光源を制御して、それぞれの光源から測定光と参照光を同時に生成するようにしてもよい。光源には、SLD(スーパールミネセントダイオード)や、短パルス光源などを用いることができる。測定光と参照光とで、干渉パターンが得られるのは、測定光と参照光の光路差が、光のコーヒレント長以下の場合に生じる。両光の光路差が零であれば、コーヒーレント長内の波数の分だけ干渉縞が発生し、光路差がコーヒーレント長に向かって長くなるに連れて、干渉縞の数が減少する。したがって、コーヒーレント長が分解能を決定するが、干渉縞が最大となる位置を決定することで、コーヒーレント長以下の精度でも、距離測定が可能である。
第2の発明は、第1の発明において、前記フォトニック結晶は、強誘電体部材で構成され、光路長制御手段は、強誘電体部材に電圧を印加して強誘電体の屈折率を変化させることで群速度を制御する、ことを特徴とする距離測定装置である。
フォトニック結晶の構造は、強誘電体部材に周期的な柱状の孔を設けることで構成してもよいし、柱状の強誘電体部材を周期的に並べることで構成してもよい。
第3の発明は、第1の発明において、光路長制御手段は圧電素子を有し、光路長制御手段は、圧電素子に電圧を印加することによってフォトニック結晶を物理的に変形させることによって群速度を制御する、ことを特徴とする距離測定装置である。
第4の発明は、第1の発明において、フォトニック結晶は、フォトニック結晶ファイバであり、光路長制御手段は、フォトニック結晶ファイバの伸張によって群速度を制御する、ことを特徴とする距離測定装置である。
フォトニック結晶ファイバの伸張は、圧電素子に電圧を印加することなどによって行うことができる。
フォトニック結晶中の光の群速度は、波長がバンドギャップ近傍であると非常に遅くなるため、光路長を非常に大きくすることができる。また、フォトニック結晶のフォトニックバンド構造は、フォトニック結晶の材料自体の屈折率を変化させたり、フォトニック結晶構造の周期性を変化させることなどで変えることができ、これによりフォトニック結晶中の光の群速度も変化させることができる。
第1の発明は、上述のようなフォトニック結晶の性質を利用し、距離測定装置の光路長制御手段として、群速度可変なフォトニック結晶を用いるものである。参照光を群速度可変なフォトニック結晶に入射させることで、参照光の群速度を非常に遅くすることができるので、参照光の光路長を大きく変化させることができる。ミラーを移動させる駆動装置などを必要とせずに光路長を大きくできるため、光路長制御手段の小型化を図ることができ、その結果として距離測定装置自体も小型化することができる。
第2の発明では、フォトニック結晶の材料自体の屈折率を電圧を印加して変化させることで、第3の発明では、圧電素子に電圧を印加してフォトニック結晶を物理的に変形させることで、フォトニックバンド構造を変化させている。いずれも印加する電圧値によって参照光の群速度が決まり、群速度によって光路長が決まる。したがって、干渉が検出されたときの電圧値から測定物までの距離が算出できる。
また、第4の発明のように、フォトニック結晶ファイバは伸張によりフォトニックバンド構造を変化させることができるので、参照光をフォトニック結晶ファイバに入射させることで、参照光の光路長を制御することができる。また、フォトニック結晶ファイバを用いると、参照光の光路長をより大きくできるため、長距離の測定に有効である。
以下、本発明の具体的な実施例について図を参照に説明するが、本発明はそれらの実施例に限定されるものではない。
図1は、実施例1の距離測定装置の構成について示した図である。距離測定装置は、光源10と、スプリッタ11と、光路長制御手段12と、検知器13と、コントローラ14と、ミラー16と、距離測定装置は、光源10と、スプリッタ11と、光路長制御手段12と、検知器13と、コントローラ14と、ミラー16と、で構成されている。光源10とスプリッタ11が、本発明の光出力手段に相当し、ミラー16と検知器13が本発明の照射受光手段に相当し、検知器13とコントローラ14が本発明の距離算出手段に相当する。
光源10は、波長1.55μmの光を放射するSLD(スーパールミネセントダイオード)である。短パルス光源などを用いてもよい。
光路長制御手段12は、図2に示すように、強誘電体であるPLZT(チタン酸ジルコン酸ランタン鉛)を材料とし、直径0.2607μmの円柱状の空孔124が0.62μmの間隔で周期的に形成されたフォトニック結晶121と、フォトニック結晶121の両面に設けられた金属薄膜電極122、123とで構成されている。金属薄膜電極122、123に電圧を印加すると、その電圧値に応じてPLZTの屈折率が変化し、フォトニック結晶121のフォトニックバンド構造も変化する。なお、図2では、フォトニック結晶121の構造がわかるように透過して示している。
検知器13は、CCDなどの撮像素子によって観測面に生じる光の干渉縞を観測する装置である。干渉縞を観測しやすくするために、観測面に入射する光の光軸は、観測面に対して垂直な方向から少し傾けることが望ましい。
次に、この距離測定装置の動作について説明する。
光源10から放射される光は、スプリッタ11によって測定光と参照光に分割される。測定光は、ミラー16によって照射方向を制御されて測定物15に照射され、測定物15によって反射された測定光は検知器13によって受光される。
一方、参照光は、光路長制御手段12によって光路長を調整された後、検知器13に到達する。
ここで、光路長制御手段12による光路長制御の動作についてより詳しく説明する。参照光は、光路長制御手段12のフォトニック結晶121に入射させたのち、フォトニック結晶121から出射させる。フォトニック結晶121中の参照光は、そのフォトニック結晶121のフォトニックバンド構造によって群速度が変化する。群速度が変化するというのは、つまり、光路長が変化するということである。フォトニック結晶121のフォトニックバンド構造は、金属薄膜電極122、123を介してフォトニック結晶121に印加する電圧に応じて変化するので、印加する電圧値によって参照光の光路長を制御することができる。フォトニック結晶121中の光の群速度は非常に遅くすることができるが、これは光路長を非常に長くできることを意味する。したがって、光路長制御手段12としてフォトニック結晶121を用いることにより、光路長制御手段12を小型化することができる。
そして、検知器13において、測定光と参照光とによる干渉が検出されるまで、コントローラ14により光路長制御手段12に印加する電圧を制御し、参照光の光路長を調整する。干渉縞の数が最も多く検出されるのは測定光の光路長と参照光の光路長が一致するときであるから、干渉縞の数が最も多く検出されたときの参照光の光路長によって、測定物15までの距離が決まる。このように、測定物15までの距離は、干渉縞のピークが検出されたときの参照光の光路長によって決定され、その光路長は光路長制御手段12に印加する電圧値によって決定されることから、あらかじめ印加する電圧値と測定距離とを対応付けておけば、干渉縞のピークが検出されたときの電圧値によって測定物15までの距離を算出することができる。また、光のコーヒーレント長以内の光路差が発生した場合に、何らかの干渉縞が発生し、コーヒーレント長の1/2の光路差が発生した場合には、干渉縞の数や全体としての干渉縞の強度も1/2となる。したがって、干渉縞の数のピークを検出すると、最も、精度の高い距離測定が実現できるが、コーヒーレント長の1/2の範囲の干渉をしきい値とするのであれば、距離測定の分解能は、コーヒーレント長の1/2となる。コーヒーレント長を短くすると、分解能が高くなるが、それだけ、干渉縞の数が減少するため、干渉縞の検出が困難となる。コーヒーレント長を短くするには、コーヒーレント長の短いレーザや、パルスレーザを用いると良い。干渉縞を検出する方法は、各種の方法が考えられる。一つの方法は、干渉縞(明暗)の本数をパターン認識で検出する方法である。光路差をフィードバック制御して、干渉縞の数が最も多くなる位置を検出する方法が考えられる。また、検知器13の受光面上の各画素毎に、明度がある第1しきい値(干渉縞の明部分の明度に近いしきい値)よりも高い画素の数と、明度がある第2しきい値(干渉縞の暗部分の明度に近いしきい値)よりも暗い画素の数とを検出して、これらの画素数がほぼ等しく、その数が最も大きい位置を、光路差零の位置として検出する方法が考えられる。また、干渉縞が、受光面の全体の明度に関係するのであれば、単に、明度の変化特性から、光路差零の位置を検出するようにしても良い。
以上のように、実施例1の距離測定装置では、光路長制御手段を小型化することができるので、距離測定装置も小型化することができる。
なお、実施例1において、フォトニック結晶121の材料としてPLZTを用いているが、他の強誘電体を用いてもよい。
実施例2の距離測定装置は、実施例1の距離測定装置における光路長制御手段12を、以下に説明する光路長制御手段22に替えたものである。
光路長制御手段22は、図3に示すように、圧電素子225と、圧電素子225の両面に形成された金属薄膜電極222、223と、金属薄膜電極222上に形成されたシリコン膜227と、シリコン膜227上にSiO2 膜228を介して形成されたフォトニック結晶221と、で構成されている。フォトニック結晶221は、厚さ0.2μmのシリコン膜に直径0.2145μmの空孔224が0.39μmの間隔で周期的に形成された構造に、線状に周期性を乱した線欠陥部229を設けた光導波路構造である。線欠陥部229の下部にはSiO2 膜228が形成されておらず、中空になっている。膜厚方向にはシリコンであるフォトニック結晶221をコア、空気層をクラッドとした屈折率差の大きい構造となっているので、フォトニック結晶221中の光を全反射によって膜厚方向に閉じ込めるのが容易となっている。
金属薄膜電極222、223に電圧を印加することで圧電素子225を変形させ、その変形によってフォトニック結晶221を変形させることで、フォトニック結晶221のフォトニックバンド構造を変化させることができる。したがって、圧電素子225にある値の電圧を印加した状態でフォトニック結晶221中に参照光を入射させたあと出射させれば、その電圧値に応じて参照光の光路長を制御することが可能である。
実施例2の距離測定装置は、検知器13において、測定光と参照光とによる干渉が検出されるまで、コントローラ14により光路長制御手段22の圧電素子225に印加する電圧を制御し、干渉が検出されたときの電圧値から測定物15までの距離を測定する。実施例1の場合と同じように、圧電素子225に印加する電圧値と測定距離とをあらかじめ対応付けておけば、干渉が検出されたときの電圧値から測定物までの距離を算出することができる。
この実施例2の距離測定装置もまた、実施例1の距離測定装置と同様に光路長制御手段を小型化することができるので、距離測定装置も小型化することができる。
実施例3の距離測定装置は、実施例1の距離測定装置における光路長制御手段12を、以下に説明する光路長制御手段32に替えたものである。
光路長制御手段32は、図4に示すように、一定の間隔を開けて台座326上に一端を固定して配置された2本の円柱327、328と、2本の円柱327、328の他方の端を固定する圧電素子325と、その2本の円柱327、328を心としてコイル状に巻き付けられたフォトニック結晶ファイバ321と、で構成されている。
図5は、フォトニック結晶ファイバ321の軸方向に垂直な面での断面を示す図である。図5のように、フォトニック結晶ファイバ321は、軸方向に垂直な面での断面形状が、円柱状の7つの空孔324が正三角形の頂点に対応する配置で中心付近に形成された形状である構造となっている。
圧電素子325に電圧を印加すると、圧電素子325の変形によって2本の円柱327、328間の距離が変化する。これによってフォトニック結晶ファイバ321は伸張されるため、フォトニックバンド構造を変化させることができる。したがって、圧電素子325にある値の電圧を印加した状態でフォトニック結晶ファイバ321に参照光を入射させ、その後出射させれば、その電圧値に応じて参照光の光路長を制御することが可能である。
この実施例3の距離測定装置の動作は、実施例1、2の距離測定装置の動作とほぼ同じである。すなわち、実施例3の距離測定装置は、検知器13において、測定光と参照光とによる干渉が検出されるまで、コントローラ14により光路長制御手段32の圧電素子325に印加する電圧を制御し、干渉が検出されたときの電圧値から測定物15までの距離を測定する。実施例1の場合と同じように、圧電素子325に印加する電圧値と測定距離とをあらかじめ対応付けておけば、干渉が検出されたときの電圧値から測定物までの距離を算出することができる。
実施例3の距離測定装置は、光路長制御手段32としてフォトニック結晶ファイバ321を用いているため、実施例1、実施例2の距離測定装置の光路長制御手段12、22に比べて参照光の光路長をより長くすることができる。したがって、実施例3の距離測定装置は、長距離の測定に特に有効である。
この実施例2の距離測定装置もまた、実施例1の距離測定装置と同様に光路長制御手段を小型化することができるので、距離測定装置も小型化することができる。
なお、光路長制御手段32に加えて、さらに光路長制御手段12もしくは光路長制御手段22を有するようにしてもよい。そうすれば、光路長制御手段32を用いて遠距離を測定し、光路長制御手段12もしくは光路長制御手段22によって近距離を測定することが可能な小型の距離測定装置を実現することができる。
なお実施例では、1つの光源から放射された光を分割して測定光と参照光を生成しているが、同一特性の光源を2つ用い、2つの光源から同時に光が放射されるように制御し、一方の光源からの光を測定光、他方の光源からの光を参照光としてもよい。
また、光路長制御手段の構成は実施例に示した構成に限るものではなく、フォトニック結晶を用いて光の群速度を制御できる構成であればよい。また、フォトニック結晶およびフォトニック結晶ファイバの構造も実施例に示したものに限るものではない。
本発明によると、距離測定装置を小型化することができるので、携帯性に優れている。
実施例1の距離測定装置1の構成について示した図。 光路長制御手段12の構成について示した図。 光路長制御手段22の構成について示した図。 光路長制御手段32の構成について示した図。 フォトニック結晶ファイバ321の断面を示した図。
符号の説明
10:光源
11:スプリッタ
12、22、32:光路長制御手段
13:検知器
14:コントローラ
121、221:フォトニック結晶
321:フォトニック結晶ファイバ
225、325:圧電素子

Claims (4)

  1. 測定物までの距離を光の干渉によって測定する距離測定装置において、
    測定光と参照光を同時に出力する光出力手段と、
    前記測定光を前記測定物に照射し、前記測定物によって反射された前記測定光を受光する照射受光手段と、
    フォトニック結晶によって前記参照光の群速度を制御することで、前記参照光の光路長を調整する光路長制御手段と、
    前記測定光と前記参照光との干渉が生じたときの、前記参照光の光路長によって距離を算出する距離算出手段と、
    を有することを特徴とする距離測定装置。
  2. 前記フォトニック結晶は、強誘電体部材で構成され、
    前記光路長制御手段は、前記強誘電体部材に電圧を印加して強誘電体の屈折率を変化させることで群速度を制御する、ことを特徴とする請求項1に記載の距離測定装置。
  3. 前記光路長制御手段は、圧電素子を有し、
    前記光路長制御手段は、前記圧電素子に電圧を印加することによって前記フォトニック結晶を物理的に変形させることによって群速度を制御する、ことを特徴とする請求項1に記載の距離測定装置。
  4. 前記フォトニック結晶は、フォトニック結晶ファイバであり、
    前記光路長制御手段は、前記フォトニック結晶ファイバの伸張によって群速度を制御する、ことを特徴とする請求項1に記載の距離測定装置。
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