JP2009215244A - エチレンの製造法 - Google Patents
エチレンの製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009215244A JP2009215244A JP2008061761A JP2008061761A JP2009215244A JP 2009215244 A JP2009215244 A JP 2009215244A JP 2008061761 A JP2008061761 A JP 2008061761A JP 2008061761 A JP2008061761 A JP 2008061761A JP 2009215244 A JP2009215244 A JP 2009215244A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ethanol
- ethylene
- reaction
- sodium
- ferrierite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
【解決手段】 エタノールの脱水反応によりエチレンを製造するにあたり、プロトン型フェリエライトを用いた触媒の存在下で、エタノールを接触させることを特徴とするエチレンの製造法。
【選択図】 なし
Description
(ここで、nは陽イオンMの原子価、xは0.8〜2の範囲の数、yは2以上の数、zは0以上の数である。)
その基本構造は、ケイ素を中心として4つの酸素がその頂点に配置したSiO4で示される四面体構造と、このケイ素の代わりにアルミニウムがその中心にあるAlO4で示される四面体とが、酸素/(ケイ素+アルミニウム)の原子比が2となるようにお互いに酸素を共有して、規則性のある三次元的に結合したものである。
ゼオライト中のナトリウムおよびカリウムの含有量は原子吸光分光光度計(AA)(ジャーレルアッシュ製、商品名AA800MarkII)にて定量分析した。
エタノールの脱水反応評価(その1)は、ガスクロマトグラフ(島津製作所製、商品名GC-14A)を用い、気相パルス反応方式で行った。ガラスインサート部にゼオライトを詰め、キャリアーガスはヘリウムを用い17.3ml/minで通気し、所定の反応温度で実施した。エタノールは0.4μlをマイクロシリンジで注入し、反応ガスをガスクロマトグラフ外部のステンレス製U字管で液体窒素温度にて30分捕集した後、150℃で加熱し、パックドカラム(3m×2.3mm(内径)、充填剤:Waters社製、商品名PorapakQ)に導入し、反応ガスを熱伝導度検出器(TCD)で定量した。
エタノール転化率、エチレン選択率および物質収支は下式で算出した。
エチレン選択率(%)=エチレン生成量(mol)/注入エタノール量(mol)×100 (3)
物質収支(%)=(各生成物量(mol)×炭素数/2+検出エタノール量(mol))/注入エタノール量(mol)×100 (4)
<エタノールの脱水反応評価(その2)[気相連続流通反応評価]>
エタノールの脱水反応評価(その2)は、気相連続流通反応装置を用い、触媒はステンレス製の直管(内径14mm)に充填して行った。反応ガスの分析は、ガスクロマトグラフ(島津製作所製、商品名GC-14A)、パックドカラム(3m×2.3mm(内径)、充填剤:Waters社製、商品名PorapakQ)、熱伝導度検出器(TCD)および水素炎イオン化検出器(FID)を用い定量した。反応液の分析は、ガスクロマトグラフ(島津製作所製、商品名GC-14A)、キャピラリーカラム(GLサイエンス社製、商品名TC−1、60m×0.25mm(内径)、膜厚1.0μm)および水素炎イオン化検出器(FID)を用い定量した。
エチレン選択率(%)=エチレン量(mol)/(各生成物量(mol)×炭素数/2)×100 (6)
実施例1
フェリエライト:HSZ720HOA(東ソー株式会社製、Si/Al比=8.9、ナトリウム含有量=0.89wt%、カリウム含有量=4.7wt%)10.0gを1N−塩化アンモニウム水溶液300mlに懸濁させ、80℃で1時間加熱撹拌した後、ろ別し、白色ケーキ状の物質を分離した。この操作を4回繰り返した。次に純水300mlにケーキ状物質を懸濁させ、80℃で1時間加熱撹拌した後、ろ別し、白色ケーキ状物質を分離した。この操作を5回繰り返した。
反応温度を195℃にした以外は実施例1と同様に行った。その結果、エタノール転化率98.1%、エチレン選択率4.1%、物質収支4.2%であった。
特開平10−15401号公報に準拠して、オーバーフロータイプの反応槽にケイ酸ソーダ水溶液(組成:SiO2=150g/L、Na2O=48.3g/L、Al2O3=0.77g/L)を17.6L/h、硫酸アルミニウム水溶液(組成:Al2O3=41.2g/L、SO42−=257g/L)を4.4L/hで供給し、無定形のスラリーを調製し、得られたスラリー3.9kgを水酸化アルカリ水溶液(組成:NaOH=0.75wt%、KOH=2.2wt%)4.2Lを加え、オートクレーブで170℃で72時間加熱撹拌による結晶化を行い、ナトリウムおよびカリウムを含有するフェリエライト(Si/Al比=9.7、ナトリウム含有量=0.83wt%、カリウム含有量=5.4wt%)を調製した。
Y型ゼオライト:HSZ−360HUA(東ソー株式会社製、Si/Al=7.5ナトリウム含有量=0.074wt%)を400℃で2時間焼成した。
L型ゼオライト:HSZ−500KOA(東ソー株式会社製、Si/Al=3、ナトリウム含有量=0.15wt%、カリウム含有量=14wt%)を実施例1と同様に塩化アンモニウム処理および洗浄処理を行った。
特公昭46−10064号公報に準拠してナトリウム型のZSM−5を調製した。すなわち、30重量%シリカゾル(日産化学製、商品名コロイダルシリカN)76gを2.2mol/lのテトラ−n−プロピルアンモニウムヒドロキシド水溶液108gと混合した。次いで、3.2gのアルミン酸ナトリウムを水54mlに溶かし、この水溶液と前記溶液をSUS製オートクレーブに入れた。この混合物を自圧で150℃、6日間攪拌しながら加熱された。冷却後、生成したスラリーをろ別し、蒸留水100mlを用い洗浄し、この洗浄操作を5回繰り返した。次いで、110℃で一晩乾燥後、空気中540℃で焼成し、白色のナトリウム型のZSM−5を得た。粉末X線回折測定の結果、MFI型すなわちZSM−5形構造を有することがわかった。得られたZSM−5のケイ素/アルミニウム比(原子比)=20であった。
ベータゼオライト:HSZ930NHA(東ソー株式会社製、Si/Al比=10、ナトリウム含有量=0.037wt%)を500℃で6時間焼成した。
シリカアルミナ:N632HN(日揮化学株式会社製、SiO2=63.1wt%、Al2O3=27.5wt%、直径3mm、長さ3mm円柱状)を粉砕し、粒子径0.25から0.52mmに成粒した。
フェリエライト:HSZ720KOA(東ソー株式会社製、Si/Al比=8.9)56.1gを1N−塩化アンモニウム水溶液1.5lに懸濁させ、80℃で2時間加熱撹拌した後、ろ別し、白色ケーキ状の物質を分離した。この操作を4回繰り返した。次に純水1.5lにケーキ状物質を懸濁させ、80℃で2時間加熱撹拌した後、ろ別し、白色ケーキ状物質を分離した。この操作を5回繰り返した。
Claims (4)
- エタノールの脱水反応によりエチレンを製造するにあたり、プロトン型フェリエライトを用いた触媒の存在下で、エタノールを接触させることを特徴とするエチレンの製造法。
- 反応温度が200〜300℃の範囲でエタノールを接触させることを特徴とする請求項1に記載のエチレンの製造法。
- ケイ素/アルミニウム比(原子比)が3〜20およびナトリウムの含有量が0.1wt%以下でカリウムの含有量が0.1wt%以下のプロトン型フェリエライトを用いた触媒であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエチレンの製造法。
- ケイ素/アルミニウム比(原子比)が4〜10およびナトリウムの含有量が0.005wt%以下でカリウムの含有量が0.005wt%以下のプロトン型フェリエライトを用いた触媒であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかの項に記載のエチレンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008061761A JP5071175B2 (ja) | 2008-03-11 | 2008-03-11 | エチレンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008061761A JP5071175B2 (ja) | 2008-03-11 | 2008-03-11 | エチレンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009215244A true JP2009215244A (ja) | 2009-09-24 |
JP5071175B2 JP5071175B2 (ja) | 2012-11-14 |
Family
ID=41187486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008061761A Expired - Fee Related JP5071175B2 (ja) | 2008-03-11 | 2008-03-11 | エチレンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5071175B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2348005A1 (en) | 2010-01-22 | 2011-07-27 | Total Petrochemicals Research Feluy | Dehydration of alcohols on a crystalline silicate of fer structure |
EP2348006A1 (en) | 2010-01-26 | 2011-07-27 | Total Petrochemicals Research Feluy | Dehydration of alcohols on a crystalline silicate of low Si/Al ratio |
WO2011089235A1 (en) | 2010-01-22 | 2011-07-28 | Total Petrochemicals Research Feluy | DEHYDRATION OF ALCOHOLS ON A CRYSTALLINE SILICATE OF LOW Si/Al RATIO |
WO2012080421A1 (en) | 2010-12-17 | 2012-06-21 | Total Petrochemicals Research Feluy | Process for producing propylene from syngas via fermentative propanol production and dehydration |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55159840A (en) * | 1979-05-31 | 1980-12-12 | Nikki Kagaku Kk | Catalyst for producing ethylene from ethanol |
JPH0859529A (ja) * | 1993-12-01 | 1996-03-05 | General Electric Co <Ge> | フェノールの精製方法 |
JP2006116439A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | エチレン製造用触媒およびこの触媒を用いるエチレンの製造方法 |
-
2008
- 2008-03-11 JP JP2008061761A patent/JP5071175B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55159840A (en) * | 1979-05-31 | 1980-12-12 | Nikki Kagaku Kk | Catalyst for producing ethylene from ethanol |
JPH0859529A (ja) * | 1993-12-01 | 1996-03-05 | General Electric Co <Ge> | フェノールの精製方法 |
JP2006116439A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | エチレン製造用触媒およびこの触媒を用いるエチレンの製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2348005A1 (en) | 2010-01-22 | 2011-07-27 | Total Petrochemicals Research Feluy | Dehydration of alcohols on a crystalline silicate of fer structure |
WO2011089235A1 (en) | 2010-01-22 | 2011-07-28 | Total Petrochemicals Research Feluy | DEHYDRATION OF ALCOHOLS ON A CRYSTALLINE SILICATE OF LOW Si/Al RATIO |
US9139929B2 (en) | 2010-01-22 | 2015-09-22 | Total Research & Technology Feluy | Dehydration of alcohols on a crystalline silicate of low Si/Al ratio |
EP2348006A1 (en) | 2010-01-26 | 2011-07-27 | Total Petrochemicals Research Feluy | Dehydration of alcohols on a crystalline silicate of low Si/Al ratio |
WO2012080421A1 (en) | 2010-12-17 | 2012-06-21 | Total Petrochemicals Research Feluy | Process for producing propylene from syngas via fermentative propanol production and dehydration |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5071175B2 (ja) | 2012-11-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10526208B2 (en) | Method for preparing the silicoaluminate form of the AEI zeolite structure with high yields, and its application in catalysis | |
US10703640B2 (en) | Synthesis of zeolite with the CHA crystal structure, synthesis process and use thereof for catalytic applications | |
RU2658820C2 (ru) | Способ карбонилирования | |
KR101738318B1 (ko) | 캐버자이트형 제올라이트 및 그 제조 방법 | |
RU2656599C2 (ru) | Способ карбонилирования диметилового эфира | |
RU2658005C2 (ru) | Способ карбонилирования | |
JP2018520976A (ja) | アルミノシリケートゼオライトssz−98の合成 | |
CN108264052B (zh) | 一种x/zsm-5核/壳分子筛及其制备方法 | |
US20180304245A1 (en) | Carbonylation catalyst and process | |
JP5136151B2 (ja) | エチレンの製造方法 | |
CN102861551B (zh) | BaX型沸石颗粒及其制备方法 | |
JP5071175B2 (ja) | エチレンの製造法 | |
JP2011121859A (ja) | アルミノシリケートの製造方法 | |
CN110072812A (zh) | 分子筛ssz-41的合成 | |
JP2014024007A (ja) | ゼオライト触媒、ゼオライト触媒の製造方法および低級オレフィンの製造方法 | |
CA2962911A1 (en) | Method for producing crystalline silicotitanate | |
JPH0456667B2 (ja) | ||
JP5071174B2 (ja) | エチレンの製法 | |
JP6251788B2 (ja) | ゼオライト触媒、ゼオライト触媒の製造方法および低級オレフィンの製造方法 | |
JP5309687B2 (ja) | 1,2−ジクロロエタンの製造方法 | |
NO115180B (ja) | ||
JP3547181B2 (ja) | トリメチルアミンの不均化方法 | |
NO142784B (no) | Forbindelse for fremstilling av n-substituerte prostaglandin-karboksamider | |
JPH07278063A (ja) | メチルアミン類の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110210 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120719 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120724 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120806 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5071175 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150831 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |