JP2009212506A - 加熱装置及び加熱方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】加熱対象物をその内部に収容する処理容器と、処理容器を囲むように設けられたコイルと、前記コイルに高周波を供給し、加熱対象物の周囲に誘導磁界を形成して、電磁誘導により加熱対象物を誘導加熱するための高周波電源と、コイルにより形成される前記誘導磁界中に設けられ、その周囲の誘導磁界を緩和して加熱対象物の温度分布を制御するための導体により構成される温度分布制御部材と、を備えるように加熱装置を構成する。例えば前記温度分布制御部材を、コイルに対して任意の位置に移動することができるように構成し、処理条件に応じてその位置を調整することで容易に温度制御を行うことができる。
【選択図】図2
Description
処理容器を囲むように設けられたコイルと、
前記コイルに高周波を供給し、加熱対象物の周囲に誘導磁界を形成して、電磁誘導により加熱対象物を誘導加熱するための高周波電源と、
コイルにより形成される前記誘導磁界中に設けられ、その周囲の誘導磁界を緩和して加熱対象物の温度分布を制御するための導体により構成される温度分布制御部材と、を備えたことを特徴とする。
処理容器を囲むように設けられたコイルと、
前記コイルに高周波を供給し、加熱対象物の周囲に誘導磁界を形成して、電磁誘導により加熱対象物を誘導加熱するための高周波電源と、を備えた加熱装置を用いた加熱方法において、
その周囲の誘導磁界を緩和して加熱対象物の温度分布を制御できるように前記コイルにより形成される前記誘導磁界中に温度分布緩和部材が設けられた状態で加熱対象物を加熱することを特徴とする。
特に、この温度分布制御部材をコイルまたは加熱対象物に対して任意の位置に移動できるように構成することで、加熱対象物の周囲の誘導磁界が変化するように当該加熱対象物の処理条件を変更した場合において、コイルの位置やコイルの巻き数などを調整することに比べて容易に加熱対象物の温度分布を制御することができる。
処理容器20の周囲に設けられたコイル31及び温度分布制御部材32,33と、これら処理容器20、コイル31、温度分布制御部材32,33を囲うように設けられた筐体である外装部21とを備えている。
2 成膜装置
20 処理容器
31 コイル
32,33 温度分布制御部材
34 高周波電源
4 基板保持部
40 搬送板
41 載置台
42 ケース体
Claims (7)
- 加熱対象物をその内部に収容する処理容器と、
処理容器を囲むように設けられたコイルと、
前記コイルに高周波を供給し、加熱対象物の周囲に誘導磁界を形成して、電磁誘導により加熱対象物を誘導加熱するための高周波電源と、
コイルにより形成される前記誘導磁界中に設けられ、その周囲の誘導磁界を緩和して加熱対象物の温度分布を制御するための導体により構成される温度分布制御部材と、
を備えたことを特徴とする加熱装置。 - 前記温度分布制御部材は、コイルに対して任意の位置に移動することができるように構成されていることを特徴とする請求項1記載の加熱装置。
- 前記温度分布制御部材は、コイルの長さ方向に沿って設けられる位置を移動することができることを特徴とする請求項2記載の加熱装置。
- 温度分布制御部材は、当該コイルの一端側と他端側に当該コイルを挟むように夫々設けられることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一に記載の加熱装置。
- 加熱対象物は、被処理体とその被処理体を支持すると共に当該被処理体を輻射または熱伝導により加熱するための保持部とにより構成されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一に記載の加熱装置。
- 加熱対象物にガスを供給してガス処理を行うためのガス供給手段と、処理容器内を排気する排気手段とを備えたことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一に加熱装置。
- 加熱対象物をその内部に収容する処理容器と、
処理容器を囲むように設けられたコイルと、
前記コイルに高周波を供給し、加熱対象物の周囲に誘導磁界を形成して、電磁誘導により加熱対象物を誘導加熱するための高周波電源と、を備えた加熱装置を用いた加熱方法において、
その周囲の誘導磁界を緩和して加熱対象物の温度分布を制御できるように前記コイルにより形成される前記誘導磁界中に温度分布緩和部材が設けられた状態で前記加熱対象物を加熱することを特徴とする加熱方法。
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