JP2009212281A - 半導体発光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】蛍光体の発熱に起因する光学的特性の低下の生じにくい半導体発光装置を提供すること。
【解決手段】半導体発光装置である表面実装型白色LEDパッケージ10は、基台12と、基台12に実装された半導体発光素子であるLEDチップ14と、基台12と対向させLEDチップ14を覆うように配された透光性プレート16とを有し、透光性プレート16はセラミックスからなると共に、その少なくとも一方の主面の少なくとも一部に、波長変換膜である蛍光体膜18が被着されていることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体発光装置に関し、特に、半導体発光素子と当該半導体発光素子からの光を波長変換する波長変換物質とを有する半導体発光装置に関する。
半導体発光素子の一種である発光ダイオード(以下、「LED」と言う。)チップを光源とした、半導体発光装置の一種であるLEDパッケージが、近年、蛍光灯等の従来の照明器具に代替するものとして広く用いられるようになってきた。
基台にLEDチップが実装されてなるLEDパッケージにおいて、フリップチップ構造のLEDチップを用いると、発光層からの光は、専ら結晶成長基板を介してLEDチップから放出されることとなるため、光取り出し効率等の点で不利である。
そこで、多くの場合、フェイスアップ構造のLEDチップが用いられる。フェイスアップ構造のLEDチップを基台に実装する場合、一般的には、チップ上面のオーミック電極と基台上面の配線パターンとは、金(Au)線等のボンディングワイヤーによって接続される。そして、LEDチップには、波長変換物質である蛍光体を混入した樹脂がポッティングされてボンディングワイヤーごとモールドされる。
しかし、上記構成のLEDパッケージでは、樹脂のポッティングの際、ボンディングワイヤーに無理な外力が加わり、これが原因で、最悪の場合に断線をしてしまうといった事態が生じる。さらに、ポッティングにより形成された蛍光体含有樹脂の厚みは、比較的不均一なため、色むらの原因となる。
そこで、ボンディングワイヤーを用いることなくLEDチップに給電ができ、かつ、厚みの不均一に起因する色むらを解消できる技術として以下のものが知られている。すなわち、片面に配線パターンが形成されてなる蛍光体含有樹脂シートを用い、これを基台に実装されたLEDチップに被せて、オーミック電極とこれに対応する配線パターンとを電気的に接続することにより、LEDパッケージを構成するものである。これによれば、ボンディングワイヤーによることなく、蛍光体含有樹脂シートの片面に形成された配線パターンによって給電することが可能となり、また、蛍光体は樹脂シートに含有されているため、その厚みも比較的均一なものとなる。
特開昭63−164482号公報 特開平3−21983号公報 特開2004−172578号公報
ところで、近年におけるLEDの高輝度化に伴い、LEDチップから放出される光のエネルギーが増大している。この結果、当該光の波長を異なる波長の光に変換する波長変換物質である蛍光体におけるエネルギーロスも多くなり、蛍光体含有樹脂シートにおける発熱量が増大している。そして、これが原因で、当該樹脂シートが、例えば波を打つようにゆがんでLEDパッケージにおける光学的特性が損なわれるといった問題が生じている。
本発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、波長変換物質の発熱が原因では光学的特性が損なわれにくい半導体発光装置を提供することを目的とする。
上記の課題を達成するため、本発明に係る半導体発光装置は、基台と、前記基台に実装された半導体発光素子と、前記基台と対向させ前記半導体発光素子を覆うように配された透光性プレートとを有し、前記透光性プレートはセラミックスからなると共に、その少なくとも一方の主面の少なくとも一部に波長変換膜が被着されるか、若しくは透光性プレート自身が波長変換物質を含有していることを特徴とする。
また、前記セラミックスは、酸化アルミニウム(Al)、窒化アルミニウム(AlN)、酸化ジルコニウム(ZrO)、YAG(YAl12)、酸化イットリウム(Y)、ニオブ酸リチウム(LiNbO)、タンタル酸リチウム(LiTaO)、PLZT((Pb,La)(Zr,Ti)O)、酸化セリウム(CeO)、酸化クロム(CrO)酸化ガリウム(Ga)、酸化ハフニウム(HfO)、酸化ニッケル(NiO)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化インジウムスズ(In+SnO)、五酸化ニオブ(Nb)、五酸化タンタル(Ta)、酸化タングステン(WO)、一酸化チタン(TiO)、五酸化チタン(Ti)、二酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、フッ化アルミニウム(AlF)、フッ化バリウム(BaF2)、フッ化カルシウム(CaF)、フッ化セリウム(CeF)、フッ化ランタン(LaF)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)、フッ化マグネシウム(MgF)、フッ化ネオジウム(NdF)、フッ化サマリウム(SmF)、フッ化イッテルビウム(YbF)、フッ化イットリウム(YF)、フッ化ガドリウム(GdF)、臭化カリウム(KBr)、塩化カリウム(KCl)、酸化珪素(SiO)、ヨウ化セシウム(CsI)、セレン化亜鉛(ZnSe)、硫化亜鉛(ZnS)、窒化ガリウム(GaN)、炭酸カルシウム(CaCO)、Ba(Mg,Ta)O系、Ba(Zn,Ta)O系、およびガラスの内のいずれか一つであることを特徴とする。
さらに、前記基台は、底面に第1給電端子および第2給電端子を、上面側に実装パッドを有し、前記半導体発光素子は、第1電極と第2電極とが半導体層の両面に分かれて形成されてなり、前記実装パッドに第2電極が接合されており、前記透光性プレートは、前記基台と対向する主面に配線パターンが形成されていて、前記基台の上面の一部には、前記第1給電端子と電気的に接続された導体パターンが形成されており、前記第1電極と前記配線パターン、および前記配線パターンと前記導体パターンとが、それぞれに対応する導電性接合部材で接合されていることを特徴とする。
あるいは、前記基台は、底面に第1給電端子および第2給電端子を、上面側に実装パッドを有し、前記半導体発光素子は、第1電極と第2電極の両方が半導体層の一方の面に形成されてなり、前記実装パッドに他方の面側が接合されており、前記透光性プレートは、前記基台と対向する主面に第1配線パターンと第2配線パターンとが形成されていて、前記基台の上面の一部には、前記第1給電端子と電気的に接続された第1導体パターンと、前記第2給電端子と電気的に接続された第2導体パターンとが形成されており、第1電極と第1配線パターン、第1配線パターンと第1導体パターン、第2電極と第2配線パターン、および第2配線パターンと第2導体パターンとが、それぞれに対応する導電性接合部材で接合されていることを特徴とする。
また、前記導電性接合部材の各々が、前記半導体発光装置の使用中において前記透光性プレートと前記半導体発光素子との間で生じる熱膨張による伸びの差を吸収し得る弾性を有することを特徴とする。
また、前記導電性接合部材が、クリーム半田の硬化体と金バンプとからなることを特徴とする。
また、前記導電性接合部材が、樹脂に金属粒子を混入したペーストの硬化体と金バンプとからなることを特徴とする。
また、前記導電性接合部材が、溶剤に金属粒子を分散させたペーストの硬化体と金バンプとからなることを特徴とする。
さらに、前記基台と前記透光性プレートの一方または両方が、対向面に凹部を有しており、前記半導体発光素子は、当該凹部に収納されていて、当該凹部の残余の空間に、前記半導体層と前記透光性プレートの中間の屈折率を有する透光性樹脂が充填されていることを特徴とする。
上記の通り本発明に係る半導体発光装置では、波長変換膜が被着された透光性プレートまたは波長変換物質を含有する透光性プレートが、セラミックスからなる。よって、波長変換膜または波長変換物質における発熱に起因して、透光性プレートと基台または半導体発光装置との間に熱膨張による熱ひずみ(伸び)の差が生じたとしても、当該セラミックスはヤング率が高いため剛性が高いので、透光性プレート内に発生する熱応力に起因する変形が生じにくい。したがって、透光性プレートが波打つように変形することがなく、半導体発光装置における光学的特性が損なわれにくい。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
<実施の形態1>
図1は、本発明に係る半導体発光装置の実施の形態の一例として示す、表面実装型白色LEDパッケージ10(以下、単に「LEDパッケージ10」と言う。)の概略構成を表した断面図である。なお、当該断面図は、図2(a)に平面図を示す後述する基台12において、A・A線に相当する位置で切断し、その切断面のみを表した図である。図1の断面図においては、煩雑さを避けるため、前記切断面の先方に見える実線は省略した。また、図1を含む全ての図において各部材間の縮尺は統一していない。
LEDパッケージ10は、基台12と、基台12の上面に実装された半導体発光素子であるLEDチップ(LED素子)14と、LEDチップ14を間にして基台12と対向させLEDチップ14を覆うように配された、片面に波長変換膜である蛍光体膜18が被着された透光性プレート16とを基本構成に有する。
基台12の平面図を図2(a)に、底面図を図2(b)に、図2(a)におけるA・A線断面を図2(c)にそれぞれ示す。なお、図2(c)においては、原則通り切断面の先方に見える実線を描いている。
基台12は、絶縁材料であるセラミックス、例えば、窒化アルミ(AlN)からなる本体20を有する。窒化アルミの線膨張率は4.4×10−6/℃である。本体20は、全体的に方形板状をしており、そのサイズは1.6[mm]〜3.0[mm]角である。本体20上面の中央部は、略方形に凹んでいて、当該凹部20Aの底面には、LEDチップ14を実装するためのパッド22が形成されている。パッド22は、金属膜の一例として示す金(Au)膜からなる。
なお、本体20は、窒化アルミに限らず、例えば、酸化アルミニウム(線膨張率:7.2×10−6/℃)で形成しても構わない。
凹部20Aを創出する方形枠状をした側壁20Bの平坦な頂部20Cには、同じく略方形枠状に導体パターン24が形成されている。導体パターン24は、例えば、金(Au)メッキで形成される。
本体20の下面(底面)には、給電端子であるアノード端子26とカソード端子28とが形成されている。アノード端子26およびカソード端子28も金属膜の一例として示す金(Au)膜からなる。
アノード端子26とパッド22とは、本体20に設けられた導電部材の一例として示すスルーホール30によって電気的に接続されている。カソード端子28と導体パターン24とは、同じく、本体20に設けられた導電部材の一例として示すスルーホール32によって電気的に接続されている。スルーホール30,32は、本体20に対しその厚み方向に開設した孔にめっきによって銅(Cu)を充填してなる導電部材である。
また、導体パターン24上面には、複数個(本例では12個)のバンプ34が形成されている。バンプ34は、金(Au)からなる。
図3(a)にLEDチップ14の平面図を、図3(b)に、図3(a)におけるB・B線断面図をそれぞれ示す。LEDチップ14は、InGaN系のLEDチップであり、発光層を含む半導体層36Aと半導体基台36Bとを張り合わせたチップ本体36を有する。LEDチップ14は両面電極タイプであり、半導体層36Aの上面の2箇所にオーミック電極であるN側電極38,40が設けられており、半導体基台36Bの下面に同じくオーミック電極であるP側電極42が設けられている。LEDチップ14は、1[mm]角サイズで、厚みは0.1[mm]である。P側電極42は金錫(Au/Sn)合金からなる。半導体基台36Bは珪素(Si)からなり、その線膨張率は2.6×10−6/℃である。
図3(c)に、透光性プレート16の平面図を示す。透光性プレート16は、厚み以外は、基台12と同じサイズの方形板状をしている。透光性プレート16は、透光性を有するセラミックスからなる。この明細書で「セラミックス」は、「基本的成分あるいはその大部分が無機の非金属物質から構成されている固体材料」と定義されている範疇のものを指す。よって、セラミックスの中には、ガラスなどの伝統的セラミックスや人工あるいは合成材料からなるニューセラミックスが含まれる。
実施の形態で使用可能なセラミックスは、例えば、酸化アルミニウム(Al)、窒化アルミニウム(AlN)、酸化ジルコニウム(ZrO)、YAG(YAl12)、酸化イットリウム(Y)、ニオブ酸リチウム(LiNbO)、タンタル酸リチウム(LiTaO)、PLZT((Pb,La)(Zr,Ti)O)、酸化セリウム(CeO)、酸化クロム(CrO)酸化ガリウム(Ga)、酸化ハフニウム(HfO)、酸化ニッケル(NiO)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化インジウムスズ(In+SnO)、五酸化ニオブ(Nb)、五酸化タンタル(Ta)、酸化タングステン(WO)、一酸化チタン(TiO)、五酸化チタン(Ti)、二酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、フッ化アルミニウム(AlF)、フッ化バリウム(BaF2)、フッ化カルシウム(CaF)、フッ化セリウム(CeF)、フッ化ランタン(LaF)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)、フッ化マグネシウム(MgF)、フッ化ネオジウム(NdF)、フッ化サマリウム(SmF)、フッ化イッテルビウム(YbF)、フッ化イットリウム(YF)、フッ化ガドリウム(GdF)、臭化カリウム(KBr)、塩化カリウム(KCl)、酸化珪素(SiO)、ヨウ化セシウム(CsI)、セレン化亜鉛(ZnSe)、硫化亜鉛(ZnS)、窒化ガリウム(GaN)、炭酸カルシウム(CaCO3)、Ba(Mg,Ta)O系、Ba(Zn,Ta)O系、ガラスである。
これらの材料は、ヤング率(縦弾性係数)が100[MPa]〜1050[GPa]の範囲にあり、樹脂シートや樹脂フィルムに使用されるような材料と比較して、(熱)応力によって変形しにくい材料である。また、熱伝導率が1[W/(m・K)]〜2000[W/(m・K)]の範囲にあり、樹脂シートや樹脂フィルムに使用されるような材料と比較して、良熱伝導性の材料でもある。
透光性プレート16の上面には、蛍光体膜18が被着されている。蛍光体膜18は、YAG(YAl12:Ce3+)からなる波長変換物質である蛍光体を含み、LEDチップ14から発せられる青色光を黄色光に波長変換する。
なお、蛍光体は上記したものに限らず、例えば、(Ba,Sr)SiO4:Eu2+、Sr1.5AlSi16:Eu2+、Ca-α-SiAlON:Yb2+、β-Si:Eu2+、(Ba,Sr,Ca)Si:Eu2+、(Ba,Sr,Ca)Al2−xSi4−x:Eu2+(0<x<2)、SrGa:Eu2+、CaScSi12:Ce3+、(Sr,Ba)SiO4:Eu2+、(Y,Gd)Al12:Ce3+、Ca-α-SiAlON:Eu2+、(Sr,Ca)SiO4:Eu2+、Ca-α-SiAlON:Eu2+、(Sr,Ca)S:Eu2+、(Ca、Sr)AlSiN:Eu2+、SrSi5-xAl8-x:Eu2+(0≦x≦1)でも良い。あるいは、蛍光体の代わりに金属錯体,染料,顔料などの波長変換物質でも良い。
透光性プレート16の下面には、配線パターン44が形成されている。配線パターン44は、例えば、金(Au)メッキで形成される。
また、LEDパッケージ10(図1)の組み立て工程において、配線パターン44表面の一部にクリーム半田が印刷によって膜状に付着される。クリーム半田は、配線パターン44と導体パターン24(図2(a))、配線パターン44とN側電極38,40(図3(a))をそれぞれ電気的に接続し、機械的に接合するために用いられる。クリーム半田は、錫(Sn)と銀(Ag)の粒子を溶剤とフラックスで練ったクリーム状の半田である。これらのクリーム半田は、言うまでも無く常温で軟性を有するものであり、リフローの際に溶けた後、硬化する。硬化後における半田のヤング率(縦弾性係数)は15[GPa]〜30[GPa]の範囲にある。図10において符号46で指し示す、硬化後のクリーム半田を「半田硬化体」と称することとする。なお、クリーム半田の成分は上記したものに限らず、例えば、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、鉛(Pb)、ビスマス(Bi)、インジウム(In)、アンチモン(Sb)、ニッケル(Ni)、ゲルマニウム(Ge)を含む成分でも良い。
バンプ34と半田硬化体46とで、N側電極38,40と配線パターン44、または、配線パターン44と導体パターン24とを接合する導電性接合部材48が構成される(図1参照)。金(Au)からなるバンプ34のヤング率(縦弾性係数)は70[GPa]〜80[GPa]の範囲にある。なお、バンプはアルミニウム(Al)でも良く、そのヤング率(縦弾性係数)は65[GPa]〜75[GPa]の範囲にある。
上記の構成からなる基台12、LEDチップ14、および透光性プレート16は、以下のようにして組み立てられる。
先ず、基台12にLEDチップ14を実装する。当該実装は、パッド22とP側電極42とを金−錫共晶接合することにより行う。
次に、LEDチップ14が実装された基台12に、前記クリーム半田が塗布された透光性プレート16を重ねた状態でリフローによって接合する。この場合に、導電性接合部材としてクリーム半田のみを用いた場合、リフローの際、当該クリーム半田が導体パターン24から流れ落ちてしまう。これに対し、実施の形態のように、導体パターン24にバンプ34を形成しているため、クリーム半田が導体パターン24から流れ落ちてしまうのを防止できる。
なお、導電性接合部材48は、クリーム半田を用いずに、バンプ34のみでも構わない。この場合は、バンプ34と配線パターン44とは、超音波接合法により接合する。ただ、LEDチップ14の厚みや基台12の側壁20Bの高さにばらつきが生じた場合は、若干、接合性に悪影響が及ぶ場合がある。これに対し、クリーム半田も用いる場合は、当該厚みや高さのばらつきがあったとしても、当該ばらつきはクリーム半田の塗布膜の厚みで吸収されてしまうため、接合性は良好なものとなる。
図1に戻り、上記構成からなるLEDパッケージ10は、例えば、図示しないプリント配線板等に複数個実装されて照明器具または照明装置を構成する。
LEDパッケージ10において、アノード端子26とカソード端子28から給電すると、半導体層36Aの発光層から青色光が放射される。当該青色光は、透光性プレート16を透過し、その一部が蛍光体膜18内の蛍光体によって黄色光に波長変換される。波長変換されずに蛍光体膜18を通過した青色光と前記黄色光とが混色されて全体として白色光となり、被照射体が照射される。
ここで、LEDパッケージ10の使用中、すなわち、LEDチップ14の発光中(点灯中)においては、LEDチップ14のみならず蛍光体膜18が発熱する。上述した通り、LEDチップ14の高輝度化に伴って、蛍光体膜18における発熱が問題となっている。
LEDパッケージ10では、蛍光体膜18が形成された透光性プレート16が、上記したセラミックスで形成されているため、合成樹脂で形成した場合よりも、格段に剛性が高い。よって、透光性プレート16とLEDチップ14との間や透光性プレート16と基台12との間に生じる熱ひずみ(伸び)の差に起因して透光性プレート16内に発生する熱応力による変形が生じにくいため、透光性プレート16が波打つように変形することがなく、LEDパッケージ10における光学的特性が損なわれることもない。
ただし、透光性プレート16の剛性が高い分、すなわち、透光性プレート16が変形しにくい分、透光性プレート16とLEDチップ14および基台12との間の接合部分(導電性接合部材48)に負荷がかかることになる。LEDパッケージ10では、導電性接合部材48に上記したヤング率の範囲のものを使用することによって、透光性プレート16とLEDチップ14との間や、透光性プレート16と基台12との間に生じる熱ひずみ(伸び)の差を、導電性接合部材48の弾性変形によって吸収することとしている。このため、前記負荷により導電性接合部材48が配線パターン44や導体パターン24から剥離するといった事態が回避されることとなり、接合性や電気導電性に関する信頼性が確保されることとなる。
さらに、透光性プレート16は、上記したセラミックスで形成されているため、合成樹脂で形成した場合よりも熱伝導性が良い。このため、蛍光体膜18で発生した熱は、透光性プレート16を介し、導電性接合部材48を経由して基台20へと伝導され、さらには不図示のプリント配線板へと放熱されることとなって、透光性プレート16における温度上昇が抑制されることとなる。その結果、上記した蛍光体膜18での発熱に起因する問題が生じにくくなる。
<実施の形態2>
実施の形態1では、LEDチップとして半導体層の両面に分かれてP側電極とN側電極とが形成されてなるものを用いてLEDパッケージを構成した。これに対し、実施の形態2では、LEDチップとして半導体層の一方の面側にP側電極とN側電極の両方が形成されてなるものを用いてLEDパッケージを構成することとした。
図4は、実施の形態2に係る表面実装型白色LEDパッケージ100(以下、単に「LEDパッケージ100」と言う。)の概略構成を示す断面図である。なお、当該断面図は、図5(a)に平面図を示す後述する基台112において、C・C線に相当する位置で切断し、その切断面のみを表した図である。図4の断面図においては、煩雑さを避けるため、前記切断面の先方に見える実線は省略した。
LEDパッケージ100は、基台112と、基台112の上面に実装された半導体発光素子であるLEDチップ(LED素子)114と、LEDチップ114を間にして基台112と対向させLEDチップ114を覆うように配された透光性プレート116とを基本構成に有する。透光性プレート116の片面には、蛍光体膜118が被着されている。なお、実施の形態2において、LEDチップ114は、基台112の後述するパッド122に耐熱性接着剤、例えば、シリコーン樹脂系の接着剤(不図示)により接合されている。
基台112の平面図を図5(a)に、底面図を図5(b)に、図5(a)におけるC・C線断面を図5(c)にそれぞれ示す。なお、図5(c)においては、原則通り切断面の先方に見える実線を描いている。
基台112は、実施の形態1の本体20と同様の材料で形成された本体120を有する。本体120の全体的な形状およびサイズも実施の形態1の本体20と略同様である。本体120の凹部120Aの底面にも、LEDチップ114を実装するためのパッド122が形成されている。パッド122は、金属膜の一例として示す金(Au)膜からなる。
凹部120Aを創出する方形枠状をした側壁120Bの平坦な頂部120Cには、「コ」字状をした第1導体パターン123と第2導体パターン124とが形成されている。第1および第2導体パターン123,124は、例えば、金(Au)メッキで形成される。
本体120の下面(底面)には、給電端子であるアノード端子126とカソード端子128とが形成されている。アノード端子126およびカソード端子128も金属膜の一例として示す金(Au)膜からなる。
アノード端子126と第1導電パターン123とは、本体120に設けられた導電部材の一例として示すスルーホール131によって電気的に接続されている。カソード端子128と導体パターン124とは、同じく、本体120に設けられた導電部材の一例として示すスルーホール132によって電気的に接続されている。スルーホール131,132は、本体120に対しその厚み方向に開設した孔にめっきによって銅(Cu)を充填してなる導電部材である。
また、第1導体パターン123および第2導体パターン124の各々上面には、複数個(本例では6個ずつ)のバンプ134が形成されている。バンプ134は、金(Au)からなる。
図6(a)にLEDチップ114の平面図を、図6(b)に、図6(b)におけるD・D線断面図をそれぞれ示す。LEDチップ114は、InGaN系のLEDチップである。LEDチップ114は、上記した通り片面電極タイプであり、発光層を含む半導体層136の上面にオーミック電極であるP側電極139とN側電極141とが設けられている。LEDチップ114のサイズと厚みは、実施の形態1のLEDチップ14と略同様である。
図6(c)に、透光性プレート116の平面図を示す。透光性プレート116の形状および材質は、実施の形態1の透光性プレート16と同様である。
透光性プレート116の上面には、実施の形態1の蛍光体膜18と同様の材料からなる蛍光体膜118が被着されている。
透光性プレート116の下面には、第1配線パターン143および第2配線パターン144が形成されている。第1および第2配線パターン143,144は、例えば、金(Au)メッキで形成される。
また、LEDパッケージ100(図4)の組み立て工程において、第1配線パターン143表面および第2配線パターン144表面の各々の一部にクリーム半田が印刷によって膜状に付着される。クリーム半田は、第1導体パターン123と第1配線パターン143、第1配線パターン143とP側電極139、第2導電パターン124と第2配線パターン144、第2配線パターン144とN側電極とをそれぞれ電気的に接続し、機械的に接合するために用いられる。クリーム半田は、実施の形態1と同じ種類のものを用いることができる。また、クリーム半田を用いた、透光性プレート116と基台112との接合方法は、実施の形態1の場合と同様なので、その説明については省略する。
ここで、実施の形態2では、硬化後のクリーム半田を半田硬化体146として図中に表し、半田硬化体とバンプ134とからなる導電性接合部材を符号148で図中に指し示すこととする。なお、導電性接合部材を、クリーム半田を用いずに、バンプ134のみで構成しても構わないのは、実施の形態1と同様である。
図4に戻り、上記構成からなるLEDパッケージ100も、例えば、図示しないプリント配線板等に複数個実装されて照明器具または照明装置を構成する。
LEDパッケージ100において、アノード端子126とP側電極139とは、スルーホール131、第1導電パターン123、導電性接合部材148(バンプ134、半田硬化体146)、第1配線パターン143、および導電性接合部材148(バンプ134、半田硬化体146)を介して電気的に接続されている。また、カソード端子128とN側電極141とは、スルーホール132、第2導電パターン144、導電性接合部材148(バンプ134、半田硬化体146)、第2配線パターン144、および導電性接合部材148(バンプ134、半田硬化体146)を介して電気的に接続されている。
よって、アノード端子126とカソード端子128から給電すると、半導体層136の発光層から青色光が放射される。当該青色光は、透光性プレート116を透過し、その一部が蛍光体膜118内の蛍光体によって黄色光に波長変換される。波長変換されずに蛍光体膜118を通過した青色光と前記黄色光とが混色されて全体として白色光となり、被照射体が照射される。
ここで、透光性プレート116を上記した材質で形成したことによる作用および効果、導電性接合部材148に上記したヤング率を有する材料を用いたことによる作用および効果は、実施の形態1に係るLEDパッケージ10の場合と同様なので、その説明については省略する。
<実施の形態3>
実施の形態1のLEDパッケージ10では、透光性プレートは1枚であったが、実施の形態3では、さらに2枚重ねて、合計3枚の透光性プレートを用いることとした。
図7に、実施の形態3に係る表面実装型白色LEDパッケージ200(以下、単に「LEDパッケージ200」と言う。)の概略構成を示す断面図を示す。当該断面図は、図1と同様に描いたものである。
LEDパッケージ200は、透光性プレートをさらに2枚重ねる分、実施の形態1のLEDパッケージ10の基台12を一回りサイズ拡張し、当該拡張した部分を階段状にして、当該階段部分に透光性プレート2枚を設けた以外は、実施の形態1のLEDパッケージ10と同様の構成である。よって、図7において、LEDパッケージ10と実質的に同様の構成部分には、同じ符号を付して、その説明については省略する。
LEDパッケージ200の基台212の本体210の中央部は、3段に段差が設けられた階段状に形成されている。階段のいわゆるステップ部分は平面視で方形枠状をしている。
第1ステップ部分(20C)に、透光性プレート16が設けられている。第2ステップ部分210Dには、透光性プレート250が、第3ステップ部分210Eには、透光性プレート252が設けられている。透光性プレート250,252は、透光性プレート16と同じ材質のものを用いることができる。
透光性プレート250,252と本体210とは、第2ステップ部分210D、第3ステップ部分210Eの全周に渡って塗布された耐熱性接着剤254,256によって接合されている。
また、透光性プレート250上面には蛍光体膜258が、透光性プレート252上面には蛍光体膜260がそれぞれ被着されている。蛍光体膜258と蛍光体膜260を構成する蛍光体の種類は、蛍光体膜18のものと同じであっても良いし、あるいは異なっていても構わない。
上記のように、蛍光体膜を独立した3層で構成することにより、これを1層で構成する場合と比較して、1層当たりの発熱量を低減することができる。また、蛍光体膜毎に透光性プレートが設けられているため、伝熱経路が十分確保されることとなり、上記した蛍光体膜の発熱に伴う問題も低減される。
さらに、各蛍光体膜の種類を異ならせることにより、LEDパッケージにおいて、多彩な発光色を実現することができる。
なお、透光性プレートの枚数は、1枚や3枚に限らず、2枚、あるいは4枚以上でも構わない。
<実施の形態4>
実施の形態1では、蛍光体膜は透光性プレートの上面に被着した。これに対し、実施の形態4では、蛍光体膜を透光性プレートとは別途に設けるのではなく、透光性プレート自身に波長変換物質を含有させて透光性プレートを構成した。
図8は、実施の形態4に係る表面実装型白色LEDパッケージ300(以下、単に「LEDパッケージ300」と言う。)の概略構成を示す断面図であり、実施の形態1の図1に倣った図である。実施の形態4のLEDパッケージ300は、実施の形態1のLEDパッケージ10(図1)とは、透光性プレートの構成が異なる以外は、実質的に同様の構成である。よって、図8において、LEDパッケージ10と実質的に同様に構成部分には、同じ符号を付して、その説明については省略する。
LEDパッケージ300の透光性プレート316は、透光性プレート自身が波長変換物質を含有するものである。
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明してきたが、本発明は上記した形態に限られないことは勿論であり、例えば、以下のような形態とすることもできる。
(1)上記実施の形態1〜3では、蛍光体膜は透光性プレートの上面に被着したが、これに限らず、下面に被着しても構わない。あるいは、上下両面に被着しても構わない。
また、実施の形態1に対する実施の形態4のように、実施の形態2,3においても、蛍光体膜が被着された透光性プレートに代えて、透光性プレート自身が波長変換物質を含む透光性プレートを用いても構わない。
(2)上記実施の形態1,2では、基台12(112)の本体20(120)の凹部20A(120A)を設け、凹部20A(120A)内にLEDチップ14(114)を収納することとしたが、これに限らず、透光性プレート16(116)に凹部を形成し、当該凹部空間にLEDチップ14(114)を収納することとしても構わない。あるいは、本体20(120)と透光性プレート16(116)の両方に凹部を設け、両方の凹部で形成される空間にLEDチップ14(114)を収納することとしても構わない。
(3)上記実施の形態では、導電性接合部材をクリーム半田の硬化体と金(Au)またはアルミニウム(Al)のバンプとで構成したが、導電接合部材において、バンプと組み合わせる硬化体は、これに限らず、以下のものとすることもできる。
(i)樹脂に金属粒子を混入してなるペーストの硬化体
この場合、樹脂としては、エポキシ、ポリイミド、ウレタン、塩化ビニル、ポリエステル、アクリル、ポリオレフィン、アクリルウレタン、フェーノール等を用いることができる。
また、金属粒子の金属材料としては、銀、金、銅、金と錫の合金等を用いることができる。
硬化後におけるペーストのヤング率(縦弾性係数)は、0.1[GPa]〜10[GPa]の範囲にある。
(ii)溶剤に金属粒子を分散させてなるペーストの硬化体
この場合、溶剤には、揮発性の有機溶剤を用いることができる。
また、金属粒子の金属材料としては、銀、金、銅、金と錫の合金等を用いることができる。
硬化後におけるペーストのヤング率(縦弾性係数)は、30[GPa]〜130[GPa]の範囲にある。
(4)また、LEDチップが収納される前記凹部の残余の空間に、LEDチップの半導体層と空気の中間の屈折率を有する透光性樹脂を充填することとしても構わない。こうすることにより、LEDパッケージからの光の取り出し効率が向上する。この透光性樹脂としては、例えば、シリコーン樹脂を用いることができる。
(5)上記実施の形態では、アノード端子またはカソード端子と導電パターンとは、基台内部に設けたスルーホールによって電気的に接続したが、当該接続に用いる導電性部材はスルーホールに限らない。例えば、基台の周面(側壁)に這設した配線によっても構わない。
(6)上記実施の形態では白色LEDパッケージを例にとって説明したが、発光色は白色に限らないことは言うまでもない。LEDチップと蛍光体との組み合わせを適宜選択することにより、可能な範囲での発光色とすることができる。
本発明に係る半導体発光装置は、例えば、自動車に搭載される各種照明装置(ヘッドライト、フォグランプ、インパネバックライト、車内灯など)の光源、カメラ用フラッシュ、液晶モニター用バックライトユニットなどの光源として好適に利用可能である。
実施の形態1に係る表面実装型白色LEDパッケージの概略構成を示す断面図である。 上記LEDパッケージを構成する基台の、(a)は平面図を、(b)は底面図を、(c)は(a)におけるA・A線断面をそれぞれ示す。 上記LEDパッケージを構成するLEDチップの、(a)は平面図を、(b)は(a)におけるB・B線断面図をそれぞれ示す。(c)は、上記LEDパッケージを構成する透光性プレートの平面図である。 実施の形態2に係る表面実装型白色LEDパッケージの概略構成を示す断面図である。 上記LEDパッケージを構成する基台の、(a)は平面図を、(b)は底面図を、(c)は(a)におけるC・C線断面をそれぞれ示す。 上記LEDパッケージを構成するLEDチップの、(a)は平面図を、(b)は(a)におけるD・D線断面図をそれぞれ示す。(c)は、上記LEDパッケージを構成する透光性プレートの平面図である。 実施の形態3に係る表面実装型白色LEDパッケージの概略構成を示す断面図である。 実施の形態4に係る表面実装型白色LEDパッケージの概略構成を示す断面図である。
符号の説明
10,100,200,300 表面実装型白色LEDパッケージ
12,112,212 基台
14,114 LEDチップ
16,116,250,252,316 透光性プレート
18,118,258,260 蛍光体膜

Claims (9)

  1. 基台と、
    前記基台に実装された半導体発光素子と、
    前記基台と対向させ前記半導体発光素子を覆うように配された透光性プレートと、
    を有し、
    前記透光性プレートはセラミックスからなると共に、その少なくとも一方の主面の少なくとも一部に波長変換膜が被着されるか、若しくは透光性プレート自身が波長変換物質を含有していることを特徴とする半導体発光装置。
  2. 前記セラミックスは、酸化アルミニウム(Al)、窒化アルミニウム(AlN)、酸化ジルコニウム(ZrO)、YAG(YAl12)、酸化イットリウム(Y)、ニオブ酸リチウム(LiNbO)、タンタル酸リチウム(LiTaO)、PLZT((Pb,La)(Zr,Ti)O)、酸化セリウム(CeO)、酸化クロム(CrO)酸化ガリウム(Ga)、酸化ハフニウム(HfO)、酸化ニッケル(NiO)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化インジウムスズ(In+SnO)、五酸化ニオブ(Nb)、五酸化タンタル(Ta)、酸化タングステン(WO)、一酸化チタン(TiO)、五酸化チタン(Ti)、二酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、フッ化アルミニウム(AlF)、フッ化バリウム(BaF2)、フッ化カルシウム(CaF)、フッ化セリウム(CeF)、フッ化ランタン(LaF)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化ナトリウム(NaF)、フッ化マグネシウム(MgF)、フッ化ネオジウム(NdF)、フッ化サマリウム(SmF)、フッ化イッテルビウム(YbF)、フッ化イットリウム(YF)、フッ化ガドリウム(GdF)、臭化カリウム(KBr)、塩化カリウム(KCl)、酸化珪素(SiO)、ヨウ化セシウム(CsI)、セレン化亜鉛(ZnSe)、硫化亜鉛(ZnS)、窒化ガリウム(GaN)、炭酸カルシウム(CaCO3)、Ba(Mg,Ta)O系、Ba(Zn,Ta)O系、およびガラスの内のいずれか一つであることを特徴とする請求項1記載の半導体発光装置。
  3. 前記基台は、底面に第1給電端子および第2給電端子を、上面側に実装パッドを有し、
    前記半導体発光素子は、第1電極と第2電極とが半導体層の両面に分かれて形成されてなり、前記実装パッドに第2電極が接合されており、
    前記透光性プレートは、前記基台と対向する主面に配線パターンが形成されていて、
    前記基台の上面の一部には、前記第1給電端子と電気的に接続された導体パターンが形成されており、
    前記第1電極と前記配線パターン、および前記配線パターンと前記導体パターンとが、それぞれに対応する導電性接合部材で接合されていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体発光装置。
  4. 前記基台は、底面に第1給電端子および第2給電端子を、上面側に実装パッドを有し、
    前記半導体発光素子は、第1電極と第2電極の両方が半導体層の一方の面に形成されてなり、前記実装パッドに他方の面側が接合されており、
    前記透光性プレートは、前記基台と対向する主面に第1配線パターンと第2配線パターンとが形成されていて、
    前記基台の上面の一部には、前記第1給電端子と電気的に接続された第1導体パターンと、前記第2給電端子と電気的に接続された第2導体パターンとが形成されており、
    第1電極と第1配線パターン、第1配線パターンと第1導体パターン、第2電極と第2配線パターン、および第2配線パターンと第2導体パターンとが、それぞれに対応する導電性接合部材で接合されていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体発光装置。
  5. 前記導電性接合部材の各々が、前記半導体発光装置の使用中において前記透光性プレートと前記半導体発光素子との間で生じる熱膨張による伸びの差を吸収し得る弾性を有することを特徴とする請求項3または4に記載の半導体発光装置。
  6. 前記導電性接合部材が、クリーム半田の硬化体と金バンプとからなることを特徴とする請求項5に記載の半導体発光装置。
  7. 前記導電性接合部材が、樹脂に金属粒子を混入したペーストの硬化体と金バンプとからなることを特徴とする請求項5に記載の半導体発光装置。
  8. 前記導電性接合部材が、溶剤に金属粒子を分散させたペーストの硬化体と金バンプとからなることを特徴とする請求項5に記載の半導体発光装置。
  9. 前記基台と前記透光性プレートの一方または両方が、対向面に凹部を有しており、前記半導体発光素子は、当該凹部に収納されていて、当該凹部の残余の空間に、前記半導体層と前記透光性プレートの中間の屈折率を有する透光性樹脂が充填されていることを特徴とする請求項3〜8のいずれか1項に記載の半導体発光装置。
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