JP2009198155A - 結晶成長炉システム - Google Patents

結晶成長炉システム Download PDF

Info

Publication number
JP2009198155A
JP2009198155A JP2008250052A JP2008250052A JP2009198155A JP 2009198155 A JP2009198155 A JP 2009198155A JP 2008250052 A JP2008250052 A JP 2008250052A JP 2008250052 A JP2008250052 A JP 2008250052A JP 2009198155 A JP2009198155 A JP 2009198155A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
furnace
crystal growth
isolation chamber
opening
furnace system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008250052A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4909970B2 (ja
Inventor
Shiow-Jeng Lew
レウ ショウ−ジェン
Hur-Lon Lin
リン フル−ロン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Green Energy Technology Inc
Original Assignee
Green Energy Technology Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Green Energy Technology Inc filed Critical Green Energy Technology Inc
Publication of JP2009198155A publication Critical patent/JP2009198155A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4909970B2 publication Critical patent/JP4909970B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B35/00Apparatus not otherwise provided for, specially adapted for the growth, production or after-treatment of single crystals or of a homogeneous polycrystalline material with defined structure
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • Y10T117/1024Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state

Abstract

【課題】隔離室、炉上側本体及び制御室を備える結晶成長炉システムを提供する。
【解決手段】結晶成長炉システムは、隔離室、炉上側本体、及び制御室を含み、隔離室と制御室は互いに隔離して並べられる。ドアは、制御室から隔離室を隔離するか制御室と隔離室を連通するように、制御室と隔離室の間に設けられる。隔離室は特に、上板、炉下側本体及び昇降装置を含み、昇降装置は、密閉結晶成長炉を形成するように、炉下側本体を上方向に移動させて炉上側本体を閉鎖する、あるいは下方向に移動させて炉上側本体から離す。隔離室と制御室は互いに隔離して配置されるため、ノイズ、高温及び塵汚染を隔離室から分離することができ、制御室で作業する人員の安全と衛生が確保される。更に、炉上側本体が隔離室の外に配置され工場を冷却するため巨大な空調装置を必要とせずに、熱を大気に直接放散させることができるので、エネルギー節減と安全性の両面の利点を備える。
【選択図】なし

Description

本発明は結晶成長炉、特に、結晶成長炉システムに関する。
図1を参照すると、従来の結晶成長炉システムを示す概略図であって、複数の結晶成長炉91および制御室92は、封止された工場9内に一緒に配置される。炉91が作動すると、高温が生じて、各炉91の内壁と外壁間の空間に純水を供給する必要がある。ただし、大量の純水は、水を純化するための清浄機96を必要とする。さらに、冷却装置97および冷却塔94が、タンク95に収容される純水を冷却するのに採用される。さらに、工場9内で作業する人員に合わせて炉91を制御するため、炉91によって生成される熱を冷却し、工場内の温度を下げるのに巨大な空調装置93が必要とされる。その結果、結晶成長炉の作動中に消費される電気エネルギーは言うまでもなく、冷却設備を設置し保持するコストは相当高い。
さらに、結晶成長炉91は全部工場内に配置されるため、作業員は、作動中に生じるノイズとグラファイト粒子から生成される汚染に長期間さらされ、健康に悪影響を及ぼされる。公共事故が発生した場合、たとえば、結晶成長炉91が爆発した場合、工場内には隔離または遮断する設備がないため、このような事故で工場と人員は多大な損害を受ける。
本発明は、隔離室、炉上側本体、および制御室を備える結晶成長炉システムを提供することである。
本発明によると、隔離室は上板および側壁を含み、上板には開口部が設けられる。隔離室には炉下側本体と昇降装置が配置され、炉下側本体には上側開口部が設けられ、昇降装置は上側開口部が上板の開口部に近づくように上方向へ、あるいは上板開口部から離れるように下方向へ炉下側本体を選択的に移動させるために設けられる。
炉上側本体は、隔離室の上板の上方に配置され、上板の開口部に一致する下側開口部が設けられる。
制御室は隔離室の側壁に隣接して配置され、ドアが側壁に設けられる。ドアは、閉鎖されるときに隔離室から制御室を隔離し、あるいは開放されるときに隔離室と制御室を連通させるように選択的に開閉される。
本発明によると、結晶成長炉は隔離室内に配置されるため、隔離室と制御室は互いに分離されている。そのため、ノイズ、高温、および塵汚染が隔離室から隔てられるので、制御室で作業する人員に安全性と衛生を確保することができる。さらに、炉上側本体は隔離室の外に配置されるため、熱を直接大気に発散させることができる。炉から生じる高温は制御室内の人員に影響を及ぼさない。したがって、工場を冷却するために巨大な空調装置を準備する必要がなく、空調装置と電気代に関連する費用を大幅に低減できる。さらに、結晶成長炉はそれぞれ間に間隔を置いて相互に隔離されている。したがって、たとえ特定の炉で公共事故が発生しても、他の炉に影響が及ばない。明らかに、本発明に係る結晶成長炉システムは、エネルギー節減と安全性の両方の利点を備える。
さらに、補強リングが、隔離室の上板の開口部の外周周りに設けられる。上板は、上板全体の構造を強化するようにコンクリートスラリーの注入後に硬化される補強コンクリート枠を含む。隔離室は、空気清浄機が設けられる別の側壁も含むことができる。結晶成長が終了し、炉下側本体が開放されると、熱と塵は炉から隔離室に放出される。このとき、空気清浄機がオンにされる。隔離室内の空気が清浄にされて、温度が低下すると、結晶塊を排出し、シリコン材料の次のバッチを搭載するためにドアが開放される。そのため、制御室は汚染されない。空気清浄機は隔離室内の空気をろ過して排出し、隔離室へ外部の空気をろ過して引き込む役割を果たす。
隔離室に配置される昇降装置は、少なくとも1つのホブサドル送りねじ(vertical screw)、少なくとも1つのナット、少なくとも1つの共通リンク、および駆動源を含む。少なくとも1つのナットは対応して少なくとも1つのホブサドル送りねじに係合する。駆動源は、ホブサドル送りねじを回転させ、炉下側本体を移動させるように少なくとも1つの共通リンクを回転させる。
さらに、加熱室が結晶成長炉内に配置され、加熱室は上隔壁、複数の側隔壁、および下隔壁を含む。複数の側隔壁が上隔壁の周囲に並べられて上隔壁の下で組み立てられ、その後、ともに炉上側本体に固定される。下隔壁は炉下側本体に固定される。加熱室は少なくとも1つのヒータを収容する。加熱室は、内側断熱層と外側保温層とを含む2層構造を有する。
本発明によると、炉上側本体は、好ましくは、大気に直接熱を放散する噴霧冷却アセンブリを指す上側炉壁冷却アセンブリを含む。炉下側本体は、好ましくは、噴霧冷却アセンブリを指す下側炉壁冷却アセンブリを含む。そのため、冷却装置、冷却塔、および清浄機を設置する必要がなく、設備および保守の費用を節減できる。
本発明の他の目的、利点、および新規な特徴は、添付の図面と組み合わせて解釈したとき以下の詳細な説明からより明白になるであろう。
図2および3を参照すると、本発明に係る結晶成長炉システムを示す概略図と、結晶成長炉システムの一部を示す断面図であって、結晶成長炉システムは隔離室1、炉上側本体21、および制御室3を備える。
隔離室1は上板11および側壁12を含み、上板11には開口部111が設けられ、上板11全体の構造を強化するようにコンクリートスラリーの注入後に硬化される補強コンクリート枠113を含み、補強リング112は開口部111の外周に設けられ、補強リング112は補強コンクリート枠113に溶接される。
隔離室1は、炉下側本体22および昇降装置14とともに配置され、炉下側本体22には上側開口部221が設けられ、昇降装置14は、上側開口部221が上板11の開口部111に近づくように炉下側本体22を上方向に、あるいは開口部111から離れるように下方向に選択的に移動させるために設けられる。
炉上側本体21は、隔離室1の上板11の上方に配置され、上板11の開口部111に一致する下側開口部211が設けられる。炉下側本体22が昇降装置14によって上昇させられると、上側開口部221は、炉上側本体21を炉内部空間が形成される結晶成長炉に組み立てるように、開口部111の下に近づけることができる。
制御室3は、隔離室1の側壁12に隣接して配置され、ドア121が側壁12に設けられる。ドア121は、閉鎖されるときに制御室3を隔離室1から隔離し、開放されるときに制御室3と隔離室1を連通するように選択的に開閉される。
結晶成長炉2は隔離室1内に配置されるため、隔離室1と制御室3は互いに隔離される。その結果、ノイズ、高温、および塵汚染を隔離室1から隔離することができるため、制御室3内で作業する人員の安全と衛生が確保される。さらに、炉上側本体21が隔離室1の外に配置されるため、熱を大気に直接放散させることができる。炉2によって生じる高温は、制御室3内の人員に影響を及ぼさない。したがって、工場を冷却させるための巨大な空調装置を準備する必要がなく、空調装置または電気代にかかる費用を大幅に節減することができる。
図2に示されるように、結晶成長炉2はそれぞれ間隔を置いて配置され、互いに側壁15によって隔離される。したがって、たとえ特定の炉2で公共事故が発生しても、他の炉2は影響を受けない。明らかに、本発明に係る結晶成長炉システムは、エネルギー節減と安全性の両面の利点を備える。さらに図2および3を参照すると、隔離室1は、空気清浄機131が設けられる別の側壁13を含む。結晶成長が終了し、炉下側本体22が開放されると、熱と塵が炉2から隔離室1に放出される。このとき、空気清浄機131はオンにされる。隔離室1内の空気が清浄にされ、温度が下がるまで、結晶塊を排出し、シリコン材料の次のバッチを搭載するためにドア121が開放される。そのため、制御室3は汚染されない。空気清浄機131は、隔離室1の空気をろ過して排出し、隔離室1へ外部の空気をろ過して引き込む役割を果たす。
図3を参照すると、加熱室4が結晶成長炉2内に配置されて、加熱室4は上隔壁41、4つの側隔壁42、および下隔壁43を含む。4つの側隔壁42は上隔壁41の周囲に並べられて、上隔壁の下で組み立てられ、その後、ともに炉上側本体21に固定される。下隔壁43は炉下側本体22に固定される。その結果、下隔壁43は炉下側本体22と一緒に上方向に移動し、対応する4つの側隔壁42の底部で封止することができる。加熱室4は、るつぼ46内の結晶材料を加熱するために少なくとも1つのヒータ40を収容する。加熱室4は、内側断熱層44と外側保温層45を含む2層構造を有する。
図3に示されるように、炉上側本体21は、好ましくは、大気に直接熱を放散するための噴霧冷却アセンブリ51を指す上側炉壁冷却アセンブリ5を含む。炉下側本体22は、好ましくは、噴霧冷却アセンブリ61を指す下側炉壁冷却アセンブリ6を含む。その結果、冷却装置、冷却塔、および清浄機を設置する必要がなく、設備と保守の費用を節減することができる。
さらに、図4を参照すると、本発明の第1の実施形態に係る、上板11の開口部から離れる炉下側本体22を示す概略図であって、昇降装置14は3つのホブサドル送りねじ141、3つのナット142、共通リンク143、および駆動源144を含む。3つのナット142はそれぞれ炉下側本体22に溶接され、3つのホブサドル送りねじ141と係合する。駆動源144はホブサドル送りねじ141を回転させるように共通リンク143を回転させるので、ナット142は炉下側本体22とともに下方向に移動して、上板11の開口部111から離れることができる。
図5に示されるように、駆動源144はホブサドル送りねじ141を回転させるように共通リンク143を回転させるので、ナット142は炉下側本体22とともに上方向に移動して、上板11の開口部111に接近することができる。
次に図6および7を参照すると、本発明の第2および第3の実施形態に係る結晶成長炉システムを示す概略図であって、本発明の第2または第3の実施形態を設計する際の概念は、隔離室7、71、および制御室8、81を有する第1の実施形態の概念と類似する。ただし、第2の実施形態では、図6に示されるように、隔離室7は制御室8の2つの側面で対照的に配置され、第3の実施形態では、図7に示されるように、隔離室71が制御室81の周りに配置される。当然ながら、3つの実施形態に記載される結晶成長炉はすべて、エネルギー節減、清浄性、および安全性という目的を達成することができる。
本発明は好適な実施形態に関して説明したが、本発明の範囲を逸脱せずに他の多くの変更や変形も可能であると了解すべきである。
従来の結晶成長炉を示す概略図である。 本発明の第1の実施形態に係る結晶成長炉システムを示す概略図である。 本発明の第1の実施形態に係る結晶成長炉システムの一部を示す断面図である。 本発明の第1の実施形態に係る、上板の開口部から離れる炉下側本体を示す概略図である。 本発明の第1の実施形態に係る、上板の開口部に近づく炉下側本体を示す透視図である。 本発明の第2の実施形態に係る結晶成長炉システムを示す概略図である。 本発明の第3の実施形態に係る結晶成長炉システムを示す概略図である。

Claims (12)

  1. 上板および側壁を含む隔離室であって、前記上板に開口部が設けられ、前記隔離室が炉下側本体および昇降装置とともに配置され、前記炉下側本体に上側開口部が設けられ、前記上側開口部が前記上板の前記開口部に近づくように前記炉下側本体を上方向に、あるいは前記上板の前記開口部から離れるように下方向に選択的に移動させるために前記昇降装置が設けられる前記隔離室と、前記隔離室の前記上板の上方に配置され、前記上板の前記開口部に一致する下側開口部が設けられる炉上側本体と、前記隔離室の側壁に隣接して配置される制御室であって、ドアが前記側壁に設けられ、閉鎖されたときに前記隔離室と前記制御室を隔離し、開放されたときに前記制御室と前記隔離室を連通させるようにドアが選択的に開閉される前記制御室を備える結晶成長炉システム。
  2. 補強リングが、前記隔離室の前記上板の前記開口部の外周の周りに設けられる請求項1に記載の結晶成長炉システム。
  3. 前記隔離室の前記上板が補強コンクリート枠を含む請求項1に記載の結晶成長炉システム。
  4. 前記隔離室内の空気が空気清浄機を通じて清浄にされるように、前記隔離室に空気清浄機が設けられる別の側壁をさらに備える請求項1に記載の結晶成長炉システム。
  5. 前記隔離室に配置される前記昇降装置は、少なくとも1つのホブサドル送りねじ、少なくとも1つのナット、少なくとも1つの共通リンク、および駆動源を含み、前記少なくとも1つのナットは対応する前記少なくとも1つのホブサドル送りねじと係合し、前記駆動源は、前記少なくとも1つのホブサドル送りねじを回転させ、前記炉下側本体を移動させるように少なくとも1つの共通リンクを回転させる請求項1に記載の結晶成長炉システム。
  6. 上隔壁、複数の側隔壁、および下隔壁を含む加熱室をさらに含み、前記複数の側隔壁は前記上隔壁の周囲に並べられ、その下で組み立てられてから、前記炉上側本体に共に固定され、前記下隔壁は前記炉下側本体に固定される請求項1に記載の結晶成長炉システム。
  7. 前記加熱室は少なくとも1つのヒータを収容する請求項6に記載の結晶成長炉システム。
  8. 前記加熱室は、内側断熱層および外側保温層を含む2層構造を有する請求項6に記載の結晶成長炉システム。
  9. 前記炉上側本体は上側炉壁冷却アセンブリを含む請求項1に記載の結晶成長炉システム。
  10. 前記上側炉壁冷却アセンブリは噴霧冷却アセンブリを指す請求項9に記載の結晶成長炉システム。
  11. 前記炉下側本体は下側炉壁冷却アセンブリを含む請求項1に記載の結晶成長炉システム。
  12. 前記下側炉壁冷却アセンブリは噴霧冷却アセンブリを指す請求項11に記載の結晶成長炉システム。
JP2008250052A 2008-02-19 2008-09-29 結晶成長炉システム Expired - Fee Related JP4909970B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW097105738A TW200936819A (en) 2008-02-19 2008-02-19 Structural arrangement of crystal growth furnace body
TW097105738 2008-02-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009198155A true JP2009198155A (ja) 2009-09-03
JP4909970B2 JP4909970B2 (ja) 2012-04-04

Family

ID=40896810

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008250052A Expired - Fee Related JP4909970B2 (ja) 2008-02-19 2008-09-29 結晶成長炉システム

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20090205564A1 (ja)
JP (1) JP4909970B2 (ja)
DE (1) DE102008028282B4 (ja)
TW (1) TW200936819A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200936824A (en) * 2008-02-27 2009-09-01 Green Energy Technology Inc Crystal-growing furnace with emergency decompression arrangement
CN105258506B (zh) * 2015-09-22 2017-09-19 浙江亚华天玑宝石有限公司 一种防乳浊人造宝石熔烧装置
CN107893258B (zh) * 2017-12-05 2023-09-15 浙江芯能光伏科技股份有限公司 一种节能型多晶铸锭炉
CN112239887B (zh) * 2020-10-21 2022-04-19 苏州昀丰半导体装备有限公司 一种方硅芯铸锭炉装置及使用方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56129696A (en) * 1980-03-12 1981-10-09 Toshiba Corp Crystal growing apparatus
JPH01305882A (ja) * 1988-04-18 1989-12-11 Engelhard Corp 板/スラブの形の大きな単結晶の成長のための装置及び方法
JPH1072278A (ja) * 1996-08-28 1998-03-17 Super Silicon Kenkyusho:Kk 単結晶製造装置
JP2002293526A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Kawasaki Steel Corp 多結晶シリコンの製造装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3414661A (en) * 1965-05-19 1968-12-03 Massachusetts Inst Technology High temperature furnace
TW200936824A (en) * 2008-02-27 2009-09-01 Green Energy Technology Inc Crystal-growing furnace with emergency decompression arrangement

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56129696A (en) * 1980-03-12 1981-10-09 Toshiba Corp Crystal growing apparatus
JPH01305882A (ja) * 1988-04-18 1989-12-11 Engelhard Corp 板/スラブの形の大きな単結晶の成長のための装置及び方法
JPH1072278A (ja) * 1996-08-28 1998-03-17 Super Silicon Kenkyusho:Kk 単結晶製造装置
JP2002293526A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Kawasaki Steel Corp 多結晶シリコンの製造装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20090205564A1 (en) 2009-08-20
TWI366612B (ja) 2012-06-21
DE102008028282B4 (de) 2012-04-12
JP4909970B2 (ja) 2012-04-04
DE102008028282A1 (de) 2009-08-27
TW200936819A (en) 2009-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4909970B2 (ja) 結晶成長炉システム
CN214370713U (zh) 一种具有温度调节装置的通风系统
US5749967A (en) Puller cell
WO2018024039A1 (zh) 风力发电机组塔底冷却装置及控制方法
CN106669301A (zh) 一种用于单晶生长炉的真空除尘设备
CN209860829U (zh) 新型高原动力性能集成式电控一体控制柜
JP3168027U (ja) バーンインオーブンの構造
CN104173165A (zh) 一种升降解剖台
JP5517755B2 (ja) クリーンルーム区画ユニット及びクリーンルーム区画方法
CN101519801B (zh) 长晶炉体结构
CN211406538U (zh) 一种电力建设用电气设备保护箱
JP5498863B2 (ja) クリーンルーム施設及びそのゾーンニング方法
KR20200019838A (ko) 드라이룸의 부스 장치
US20030000457A1 (en) Pulling room
CN104645914A (zh) 一种用于密闭反应室的自净化系统
CN205960488U (zh) 一种智能散热开关柜
TWM631139U (zh) 一般病房加載負壓隔離模組
CN206853428U (zh) 一种等离子废气净化器
CN207559420U (zh) 一种用于gis安装及维护的组合式防尘室
CN215073600U (zh) 一种防爆、防尘式plc控制柜
CN218103976U (zh) 一种机房冷风降耗装置
CN214960464U (zh) 一种煤化工电气自动化控制装置
CN211428735U (zh) 一种散热快的配电箱
KR102517416B1 (ko) 환기장치의 하이브리드 공기청정 시스템
CN219904176U (zh) 一种电源车

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111208

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111220

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120116

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees