JP2009197318A - 常温溶融塩浴を用いた電気Al−Zr−Mn合金めっき浴、そのめっき浴を用いためっき方法及びAl−Zr−Mn合金めっき皮膜 - Google Patents
常温溶融塩浴を用いた電気Al−Zr−Mn合金めっき浴、そのめっき浴を用いためっき方法及びAl−Zr−Mn合金めっき皮膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009197318A JP2009197318A JP2008241512A JP2008241512A JP2009197318A JP 2009197318 A JP2009197318 A JP 2009197318A JP 2008241512 A JP2008241512 A JP 2008241512A JP 2008241512 A JP2008241512 A JP 2008241512A JP 2009197318 A JP2009197318 A JP 2009197318A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- halides
- alloy plating
- electric
- bath
- plating bath
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 93
- 229910000914 Mn alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title description 10
- -1 aluminum halide Chemical class 0.000 claims abstract description 48
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 44
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 10
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 15
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000004880 explosion Methods 0.000 abstract description 4
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 abstract description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 25
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 15
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 7
- AJRFBXAXVLBZMP-UHFFFAOYSA-M 1-methyl-3-propylimidazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCN1C=C[N+](C)=C1 AJRFBXAXVLBZMP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910021380 Manganese Chloride Inorganic materials 0.000 description 6
- GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L Manganese chloride Chemical compound Cl[Mn]Cl GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011565 manganese chloride Substances 0.000 description 6
- 229940099607 manganese chloride Drugs 0.000 description 6
- 235000002867 manganese chloride Nutrition 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 229910018131 Al-Mn Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910018461 Al—Mn Inorganic materials 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 3
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1 GWHJZXXIDMPWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N p-methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1 ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- JNBRDOQHPXUXLY-UHFFFAOYSA-N (2,5-difluorophenyl)hydrazine Chemical compound NNC1=CC(F)=CC=C1F JNBRDOQHPXUXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- GARJMFRQLMUUDD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound C[N+]1(C)CCCC1 GARJMFRQLMUUDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRMDGSNYHCUCL-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2-trifluoroethane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)Cl YMRMDGSNYHCUCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEIMBQONIVMYOA-UHFFFAOYSA-M 1,2-diethylpyrazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCN1C=CC=[N+]1CC QEIMBQONIVMYOA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QDJNGYKMDNEXDS-UHFFFAOYSA-M 1,2-diethylpyrazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCN1C=CC=[N+]1CC QDJNGYKMDNEXDS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QJKFAOGSPNKIFY-UHFFFAOYSA-M 1,2-dimethylpyrazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CN1C=CC=[N+]1C QJKFAOGSPNKIFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SYEJGWDUBPYTOR-UHFFFAOYSA-M 1,2-dimethylpyrazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CN1C=CC=[N+]1C SYEJGWDUBPYTOR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LORRLQMLLQLPSJ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trithiane Chemical compound C1SCSCS1 LORRLQMLLQLPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUZFNEAIMDGBMY-UHFFFAOYSA-M 1,3-dibutylimidazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCN1C=C[N+](CCCC)=C1 XUZFNEAIMDGBMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YHQWECCOTSKSQC-UHFFFAOYSA-M 1,3-dibutylimidazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCN1C=C[N+](CCCC)=C1 YHQWECCOTSKSQC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CIKIMCLALRWQLU-UHFFFAOYSA-M 1,3-diethylimidazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCN1C=C[N+](CC)=C1 CIKIMCLALRWQLU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YSNRFLSZENCKRS-UHFFFAOYSA-M 1,3-diethylimidazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCN1C=C[N+](CC)=C1 YSNRFLSZENCKRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SKNNBMMWHRMJHX-UHFFFAOYSA-M 1,3-dimethylimidazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CN1C=C[N+](C)=C1 SKNNBMMWHRMJHX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IIJSFQFJZAEKHB-UHFFFAOYSA-M 1,3-dimethylimidazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CN1C=C[N+](C)=C1 IIJSFQFJZAEKHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XHQBIYCRFVVHFD-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophen-3-ol Chemical group C1=CC=C2C(O)=CSC2=C1 XHQBIYCRFVVHFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHESOLAAORBNPM-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)SC2=C1 MHESOLAAORBNPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOOXKGZZTBKJFE-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-1-methylpyrrolidin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+]1(C)CCCC1 BOOXKGZZTBKJFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DXVBBMSWHDSSPW-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1h-pyrazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[NH+]1C=CC=N1 DXVBBMSWHDSSPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AESBACLQLRCOLY-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-2-methylpyrazol-2-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCN1C=CC=[N+]1C AESBACLQLRCOLY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DXYVZQCZGRAFNX-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-2-methylpyrazol-2-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCN1C=CC=[N+]1C DXYVZQCZGRAFNX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KVBQNFMTEUEOCD-UHFFFAOYSA-M 1-butylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+]1=CC=CC=C1 KVBQNFMTEUEOCD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- POKOASTYJWUQJG-UHFFFAOYSA-M 1-butylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+]1=CC=CC=C1 POKOASTYJWUQJG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JXIJPHVMDSPMTP-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyrrolidin-1-ium;chloride Chemical compound Cl.CCCCN1CCCC1 JXIJPHVMDSPMTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SREOJFTWJYAMFN-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-1-methyl-2h-pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+]1(C)CC=CC=C1 SREOJFTWJYAMFN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JZZVIWVVEXOIIC-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-1-methylpyrrolidin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+]1(C)CCCC1 JZZVIWVVEXOIIC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUJYPVGWFCTJEX-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-1-propyl-2h-pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC[N+]1(CC)CC=CC=C1 FUJYPVGWFCTJEX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WZLJIIAUVGOWMI-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-2-methylpyrazol-2-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCN1C=CC=[N+]1C WZLJIIAUVGOWMI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IBZJNLWLRUHZIX-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-methyl-2h-imidazole Chemical compound CCN1CN(C)C=C1 IBZJNLWLRUHZIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMQZYMYBQZGEEY-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-3-methylimidazolium chloride Chemical compound [Cl-].CCN1C=C[N+](C)=C1 BMQZYMYBQZGEEY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PUBHYFMAUADWKI-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-3-methylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CC[N+]1=CC=CC(C)=C1 PUBHYFMAUADWKI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DVDFUOWAJIWJJN-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-3-methylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+]1=CC=CC(C)=C1 DVDFUOWAJIWJJN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWDFHWZHHOSSGR-UHFFFAOYSA-N 1-ethylimidazole Chemical compound CCN1C=CN=C1 IWDFHWZHHOSSGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABFDKXBSQCTIKH-UHFFFAOYSA-M 1-ethylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CC[N+]1=CC=CC=C1 ABFDKXBSQCTIKH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AMFMJCAPWCXUEI-UHFFFAOYSA-M 1-ethylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+]1=CC=CC=C1 AMFMJCAPWCXUEI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OEUPQULTDYTGGS-UHFFFAOYSA-N 1-ethylpyrrolidin-1-ium;chloride Chemical compound Cl.CCN1CCCC1 OEUPQULTDYTGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQCGTURNQPKCRW-UHFFFAOYSA-M 1-hexyl-1-methyl-2h-pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCC[N+]1(C)CC=CC=C1 NQCGTURNQPKCRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AAYSMYJPAJCXCJ-UHFFFAOYSA-M 1-hexyl-2-methylpyrazol-2-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCN1C=CC=[N+]1C AAYSMYJPAJCXCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PXOAHFAVUCZMFZ-UHFFFAOYSA-M 1-hexyl-2-methylpyrazol-2-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCN1C=CC=[N+]1C PXOAHFAVUCZMFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SZRSEFNUSHACPD-UHFFFAOYSA-M 1-hexylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 SZRSEFNUSHACPD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JEOSMYVMLZTQOH-UHFFFAOYSA-M 1-hexylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 JEOSMYVMLZTQOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZRJFXYGBCSIPLT-UHFFFAOYSA-M 1-methyl-1-propyl-2h-pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC[N+]1(C)CC=CC=C1 ZRJFXYGBCSIPLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OOKUTCYPKPJYFV-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1h-imidazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CN1C=C[NH+]=C1 OOKUTCYPKPJYFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STCBHSHARMAIOM-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1h-imidazol-1-ium;chloride Chemical compound Cl.CN1C=CN=C1 STCBHSHARMAIOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFHHFDBXQBNJAT-UHFFFAOYSA-M 1-methyl-2-propylpyrazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCN1C=CC=[N+]1C SFHHFDBXQBNJAT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PAYYUKPPZWOSMS-UHFFFAOYSA-M 1-methyl-2-propylpyrazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCN1C=CC=[N+]1C PAYYUKPPZWOSMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JOLFMOZUQSZTML-UHFFFAOYSA-M 1-methyl-3-propylimidazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCN1C=C[N+](C)=C1 JOLFMOZUQSZTML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WTDKNKIQGBNMKG-UHFFFAOYSA-M 1-methylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+]1=CC=CC=C1 WTDKNKIQGBNMKG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAIGYXWRIHZZAA-UHFFFAOYSA-M 1-methylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+]1=CC=CC=C1 QAIGYXWRIHZZAA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WIGRVUWJNPVKPB-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidin-1-ium;chloride Chemical compound Cl.CN1CCCC1 WIGRVUWJNPVKPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXZFCJVFXKCILB-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine;hydrobromide Chemical compound [Br-].C[NH+]1CCCC1 XXZFCJVFXKCILB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJSMKFMMHVAWBK-UHFFFAOYSA-N 1-octyl-1h-imidazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+]=1C=CNC=1 JJSMKFMMHVAWBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRMCUJFIZQNXQL-UHFFFAOYSA-N 1-propyl-1h-imidazol-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCC[NH+]1C=CN=C1 RRMCUJFIZQNXQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBOIUWAYPMADRC-UHFFFAOYSA-M 1-propylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC[N+]1=CC=CC=C1 IBOIUWAYPMADRC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTGSYRVSBPFKMQ-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tribromoacetaldehyde Chemical compound BrC(Br)(Br)C=O YTGSYRVSBPFKMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJEZYZLITKUTFH-UHFFFAOYSA-N 2-(hydrazinecarbonyl)benzoic acid Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O VJEZYZLITKUTFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical group CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXUNZSDDXMPKLP-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenethiol Chemical compound CC1=CC=CC=C1S LXUNZSDDXMPKLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 2-Naphthalenethiol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S)=CC=C21 RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZPFMIUPVMYKEO-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-1h-pyrazol-2-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[NH+]1C=CC=N1 RZPFMIUPVMYKEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGYNIFWIKSEESD-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanal Chemical compound CCCCC(CC)C=O LGYNIFWIKSEESD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYQCZRZXGKSJGD-UHFFFAOYSA-N 2-hexyl-1h-pyrazol-2-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCC[NH+]1C=CC=N1 FYQCZRZXGKSJGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAZMNAJKBTUSFY-UHFFFAOYSA-N 2-hexyl-1h-pyrazol-2-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCC[NH+]1C=CC=N1 WAZMNAJKBTUSFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIJITKCUPZPMFZ-UHFFFAOYSA-M 2-methyl-1-propylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCC[N+]1=CC=CC=C1C DIJITKCUPZPMFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZNDYAWHMRLOIBB-UHFFFAOYSA-M 2-methyl-1-propylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC[N+]1=CC=CC=C1C ZNDYAWHMRLOIBB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TUODQTJBSURDDW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-pyrazol-2-ium;bromide Chemical compound [Br-].C[NH+]1C=CC=N1 TUODQTJBSURDDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLGHIKBHXHNJQP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-pyrazol-2-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+]1C=CC=N1 HLGHIKBHXHNJQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVJYCLNKTRASAI-UHFFFAOYSA-N 2-propyl-1h-pyrazol-2-ium;bromide Chemical compound [Br-].CCC[NH+]1C=CC=N1 YVJYCLNKTRASAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEXCVJQRVZRCBE-UHFFFAOYSA-N 2-propyl-1h-pyrazol-2-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC[NH+]1C=CC=N1 CEXCVJQRVZRCBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABDVJABGTGHCPI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-1h-imidazol-3-ium;chloride Chemical compound Cl.CCN1C=CN=C1 ABDVJABGTGHCPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IATNTPRVOWFGAL-UHFFFAOYSA-N 3-octyl-1h-imidazol-3-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[NH+]1C=CN=C1 IATNTPRVOWFGAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHILVHZCFOSZSW-UHFFFAOYSA-N 3-propyl-1h-imidazol-3-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCN1C=C[NH+]=C1 DHILVHZCFOSZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAFAYWADRVMWFA-UHFFFAOYSA-N 4,6-dimethyl-1h-pyrimidine-2-thione Chemical compound CC1=CC(C)=NC(S)=N1 RAFAYWADRVMWFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=O)C=C1 BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018580 Al—Zr Inorganic materials 0.000 description 1
- BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N Benzalacetone Natural products CC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical class OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- XQFRJNBWHJMXHO-RRKCRQDMSA-N IDUR Chemical compound C1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1N1C(=O)NC(=O)C(I)=C1 XQFRJNBWHJMXHO-RRKCRQDMSA-N 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910010082 LiAlH Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000234435 Lilium Species 0.000 description 1
- BGRDGMRNKXEXQD-UHFFFAOYSA-N Maleic hydrazide Chemical compound OC1=CC=C(O)N=N1 BGRDGMRNKXEXQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005983 Maleic hydrazide Substances 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPFYXYFORQJZEC-FOCLMDBBSA-N Phenazopyridine Chemical group NC1=NC(N)=CC=C1\N=N\C1=CC=CC=C1 QPFYXYFORQJZEC-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-O Pyrazolium Chemical compound C1=CN[NH+]=C1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIOZLISABUUKJY-UHFFFAOYSA-N Thiobenzamide Chemical compound NC(=S)C1=CC=CC=C1 QIOZLISABUUKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPYROIBZEQBJBO-UHFFFAOYSA-L [Br-].C(CC)[N+]=1N(C=CC1)C.[Cl-].C(CC)[N+]=1N(C=CC1)C Chemical compound [Br-].C(CC)[N+]=1N(C=CC1)C.[Cl-].C(CC)[N+]=1N(C=CC1)C MPYROIBZEQBJBO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N acetoguanamine Chemical compound CC1=NC(N)=NC(N)=N1 NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- UIJGNTRUPZPVNG-UHFFFAOYSA-N benzenecarbothioic s-acid Chemical compound SC(=O)C1=CC=CC=C1 UIJGNTRUPZPVNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRZDLTCXOSFHJC-UHFFFAOYSA-N chromene-2-thione Chemical compound C1=CC=C2OC(=S)C=CC2=C1 FRZDLTCXOSFHJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFJRKMMYBMWEAD-UHFFFAOYSA-N dodecanal Chemical compound CCCCCCCCCCCC=O HFJRKMMYBMWEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QRXWMOHMRWLFEY-UHFFFAOYSA-N isoniazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=NC=C1 QRXWMOHMRWLFEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940089454 lauryl aldehyde Drugs 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine powder Natural products NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQKCADLPNLYCZ-UHFFFAOYSA-N n-phenylbenzenecarbothioamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=S)NC1=CC=CC=C1 BOQKCADLPNLYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWCGLTCRJJFXKR-UHFFFAOYSA-N n-phenylethanethioamide Chemical compound CC(=S)NC1=CC=CC=C1 MWCGLTCRJJFXKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXLOVSHXALFLKQ-UHFFFAOYSA-N p-tolualdehyde Chemical compound CC1=CC=C(C=O)C=C1 FXLOVSHXALFLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N terephthalaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=C(C=O)C=C1 KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACOOSTZBTYEGER-UHFFFAOYSA-N thiobenzaldehyde Chemical compound S=CC1=CC=CC=C1 ACOOSTZBTYEGER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N thiouracil Chemical compound O=C1C=CNC(=S)N1 ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000329 thiouracil Drugs 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N trans-benzylideneacetone Chemical compound CC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOIYMIARKYCTBW-OWOJBTEDSA-N trans-urocanic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CNC=N1 LOIYMIARKYCTBW-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、A)アルミニウムハロゲン化物、(B)N−アルキルピリジニウムハライド類、N−アルキルイミダゾリウムハライド類、N,N’−アルキルイミダゾリウムハライド類、N−アルキルピラゾリウムハライド類、N,N’−アルキルピラゾリウムハライド類、N−アルキルピロリジニウムハライド類及びN,N−アルキルピロリジニウムハライド類からなる群より選ばれる1種又は2種以上の化合物、(C)ジルコニウムハロゲン化物並びに(D)マンガンハロゲン化物を含む電気Al−Zr−Mn合金めっき浴であって、(A)アルミニウムハロゲン化物と(B)化合物とのモル比が1:1〜3:1である、電気Al−Zr−Mn合金めっき浴を提供する。
【選択図】なし
Description
また、本発明は前記電気Al−Zr−Mn合金めっき浴を用いる電気めっき方法を提供する。
さらに、本発明は皮膜中のZrとMnの合計共析率が1〜40重量%であるAl−Zr−Mn合金めっき皮膜を提供する。
本発明で用いる(A)アルミニウムハロゲン化物は、AlX3で表され、Xはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンであり、塩素もしくは臭素が好ましい。経済性を考慮すると塩素が最も好ましい。
具体的なN−アルキルピリジニウムハライド類としては、例えばN−メチルピリジニウムクロライド、N−メチルピリジニウムブロマイド、N−エチルピリジニウムクロライド、N−エチルピリジニウムブロマイド、N−ブチルピリジニウムクロライド、N−ブチルピリジニウムブロマイド、N−ヘキシルピリジニウムクロライド、N−ヘキシルピリジニウムブロマイド、2−メチル−N−プロピルピリジニウムクロライド、2−メチル−N−プロピルピリジニウムブロマイド、3−メチル−N−エチルピリジニウムクロライド、3−メチル−N−エチルピリジニウムブロマイドなどが挙げられる。
具体的なN−アルキルイミダゾリウムハライド類及びN,N’−アルキルイミダゾリウムハライド類としては、例えば1−メチルイミダゾリウムクロライド、1−メチルイミダゾリウムブロマイド、1−エチルイミダゾリウムクロライド、1−エチルイミダゾリウムブロマイド、1−プロピルイミダゾリウムクロライド、1−プロピルイミダゾリウムブロマイド、1−オクチルイミダゾリウムクロライド、1−オクチルイミダゾリウムブロマイド、1−メチル−3−エチルイミダゾリウムクロライド、1−メチル−3−エチルイミダゾリウムブロマイド、1,3−ジメチルイミダゾリウムクロライド、1,3−ジメチルイミダゾリウムブロマイド、1,3−ジエチルイミダゾリウムクロライド、1,3−ジエチルイミダゾリウムブロマイド、1−メチル−3−プロピルイミダゾリウムクロライド、1−メチル−3−プロピルイミダゾリウムブロマイド、1−ブチル−3−ブチルイミダゾリウムクロライド、1−ブチル−3−ブチルイミダゾリウムブロマイドなどが挙げられる。
具体的なN−アルキルピラゾリウムハライド類及びN,N’−アルキルピラゾリウムハライド類としては、例えば1−メチルピラゾリウムクロライド、1−メチルピラゾリウムブロマイド、1−プロピルピラゾリウムクロライド、1−プロピルピラゾリウムブロマイド、1−ブチルピラゾリウムクロライド、1−ブチルピラゾリウムブロマイド、1−ヘキシルピラゾリウムクロライド、1−ヘキシルピラゾリウムブロマイド、1−メチル−2−エチルピラゾリウムクロライド、1−メチル−2−エチルピラゾリウムブロマイド、1−メチル−2−プロピルピラゾリウムクロライド、1−メチル−2−プロピルピラゾリウムブロマイド、1−プロピル−2−メチルピラゾリウムクロライド、1−プロピル−2−メチルピラゾリウムブロマイド、1−ブチル−2−メチルピラゾリウムクロライド、1−ブチル−2−メチルピラゾリウムブロマイド、1−へキシル−2−メチルピラゾリウムクロライド、1−へキシル−2−メチルピラゾリウムブロマイド、1,2−ジメチルピラゾリウムクロライド、1,2−ジメチルピラゾリウムブロマイド、1,2−ジエチルピラゾリウムクロライド、1,2−ジエチルピラゾリウムブロマイドなどが挙げられる。
具体的なN−アルキルピロリジニウムハライド類及びN,N−アルキルピロリジニウムハライド類としては、例えば1−メチルピロリジニウムクロライド、1−メチルピロリジニウムブロマイド、1,1−ジメチルピロリジニウムクロライド、1−エチル−1−メチルピロリジニウムクロライド、1−エチルピロリジニウムクロライド、1−プロピルピリジニウムクロライド、1−メチル−1−プロピルピリジニウムクロライド、1−ブチル−1−メチルピロリジニウムクロライド、1−エチル−1−プロピルピリジニウムクロライド、1−メチル−1−ヘキシルピリジニウムクロライド、1−ブチルピロリジニウムクロライド、1−エチル−1−メチルピリジニウムクロライドなどが挙げられる。
ジルコニウムハロゲン化物の浴中濃度は、好ましくは4×10-4〜4×10-1モル/lであり、より好ましくは4×10-3〜2×10-1モル/lである。このような浴中濃度とすることで、Al−Zr−Mn合金めっき皮膜中のZr共析率を適切な範囲とすることができ、黒色の粉末として析出することもない。
マンガンハロゲン化物の浴中濃度は、好ましくは8×10-4〜8×10-1モル/lであり、より好ましくは8×10-3〜4×10-1モル/lであり、さらに好ましくは8×10-3〜8×10-2モル/lである。このような浴中濃度とすることで、Al−Zr−Mn合金めっき皮膜中のMn共析率を適切な範囲とすることができ、黒色の粉末として析出することもない。
本発明で(F)有機重合体として用いる脂肪族ジエン系ポリマーとしては、ブタジエン、イソプレン、ペンタジエンなどの重合体などが挙げられる。好ましくは、1,2又は3,4構造の分枝鎖を有する重合体、又はこれらと他の重合性ビニル系モノマーとのコポリマーである。前記ビニル系モノマーとしては、上記スチレン系ポリマーについて記載したものと同様のものが挙げられる。
(F)有機重合体の重量平均分子量は、200〜80000の範囲が好ましい。特に、重量平均分子量が300〜5000程度の低中分子量のポリスチレン及びポリ−α−メチルスチレンは、溶融塩溶解性が良く最も好ましい。その浴中濃度は、0.1〜50g/lの範囲が好ましく、より好ましくは1〜10g/lの範囲である。(F)有機重合体をこのような範囲で用いると、デンドライド析出を防止し、表面平滑効果を発揮し、めっきやけが発生するのを防止できる。
脂肪族アルデヒドは、例えば炭素数2〜12の脂肪族アルデヒドであり、具体的にはトリブロモアセトアルデヒド、メタアルデヒド、2−エチルヘキシルアルデヒド、ラウリルアルデヒドなどが挙げられる。
芳香族アルデヒドは、例えば炭素数7〜10の芳香族アルデヒドであり、具体的には0−カルボキシベンズアルデヒド、ベンズアルデヒド、0−クロルベンズアルデヒド、p−トルアルデヒド、アニスアルデヒド、p−ジメチルアミノベンズアルデヒド、テレフタルアルデヒドなどが挙げられる。
芳香族ケトンとしては、例えば炭素数8〜14の芳香族ケトンであり、具体的にはベンザルアセトン、ベンゾフェノン、アセトフェノン、塩化テレフタロイルベンジルなどが挙げられる。
含窒素不飽和複素環化合物は、例えば炭素数3〜14の窒素複素環化合物であり、具体的にはピリミジン、ピラジン、ピリダジン、s−トリアジン、キノキサリン、フタラジン、1,10−フェナントロリン、1,2,3−ベンゾトリアゾール、アセトグアナミン、塩化シアヌル、イミダゾール−4−アクリル酸などが挙げられる。
S含有複素環化合物は、例えば炭素数3〜14のS含有複素環化合物であり、具体的にはチオウラシル、チオニコチン酸アミド、s−トリチアン、2−メルカプト−4,6−ジメチルピリミジンなどが挙げられる。
S含有置換基を有する芳香族炭化水素は、例えば炭素数7〜20のS含有置換基を有する芳香族炭化水素であり、具体的にはチオ安息香酸、チオインジゴ、チオインドキシル、チオキサンテン、チオキサントン、2−チオクマリン、チオクレゾール、チオジフェニルアミン、チオナフトール、チオフェノール、チオベンズアミド、チオベンズアニリド、チオベンズアルデヒド、チオナフテンキノン、チオナフテン、チオアセトアニリドなどが挙げられる。
芳香族カルボン酸及びその誘導体は、例えば炭素数7〜15の芳香族カルボン酸及びその誘導体であり、具体的には安息香酸、テレフタル酸、安息香酸エチルなどが挙げられる。
二重結合を有する脂肪族カルボン酸及びその誘導体は、例えば炭素数3〜12の二重結合を有する脂肪族カルボン酸及びその誘導体であり、具体的にはアクリル酸、クロトン酸、メタクリル酸、アクリル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸−2−エチルヘキシルなどが挙げられる。
アセチレンアルコール化合物としては、例えばプロパギルアルコールなどが挙げられる。
フッ素樹脂としては、例えば平均分子量が500〜1300の三フッ化塩化エチレン樹脂などが挙げられる。
(G)光沢剤の浴中濃度は、好ましくは0.001〜0.1モル/lの範囲であり、より好ましくは0.002〜0.02モル/lの範囲である。本発明の電気Al−Zr−Mn合金めっき浴においては、(G)光沢剤をこのような範囲で用いると、平滑効果が得られ、高電流密度でめっきを施した場合でも、黒色スマット状の析出を生じることはない。
本発明の電気Al−Zr−Mn合金めっき浴においては、(E)芳香族炭化水素溶媒、(F)有機重合体及び(G)光沢剤のうちの2種を併用しもてよく、これら3種のすべてを併用してもよい。
ただし、複雑な形状部品をめっきする場合は、着き回り性をよくするために攪拌を行わないか弱くし、0.5〜1A/dm2の低い陰極電流密度で長時間めっきを行うことが望ましい。陽極としては、AlとMnとZr板の組み合わせが望ましいが、Al板又は不溶性陽極でも構わない。ただし、この場合は、アルミニウムハロゲン化物、ジルコニウムハロゲン化物及びマンガンハロゲン化物を補給して浴組成を一定に保持する必要がある。
本発明の電気Al−Zr−Mn合金めっき浴を用いて得られるAl−Zr−Mn合金めっき皮膜中のZrとMnの合計共析率は、好ましくは2〜40重量%(Alは98〜60重量%)であり、より好ましくは3〜35重量%であり、最も好ましくは15〜35重量%である。このようなZrとMnの合計共析率とすることにより、Al−Zr−Mn合金めっき皮膜の耐食性が良好となる。また、好ましくはAl−Zr−Mn合金めっき皮膜中において、Zr共析率は1〜39重量%であり、より好ましくは5〜30重量%であり、さらに好ましくは10〜30重量%であり、最も好ましくは10〜25重量%である。また、好ましくはMnの共析率は1〜39重量%であり、より好ましくは2〜25重量%であり、最も好ましくは3〜20重量%である。鉄素地の防錆、特に疵付き部からの赤さび発生を抑制し、耐食性を良好にする。
本発明の電気Al−Zr−Mn合金めっき浴を用いて得られるAl−Zr−Mn合金めっき皮膜の厚さは、通常2〜40μmであり、好ましくは5〜15μmである。
AlCl3と1−メチル−3プロピルイミダゾリウムブロマイドとを2:1のモル比に混合溶融してなる浴に、芳香族炭化水素溶媒のトルエンを35容量%混合し、塩化マンガン及び塩化ジルコニウムを下記表1の通り添加して電気Al−Zr−Mn合金めっき浴を調製した。次に陰極として用いる鉄板(板厚0.5mm)に対し、前処理として、アルカリ脱脂、アルカリ電解洗浄及び酸洗し、水洗後エチルアルコール洗浄し乾燥を行った。前記鉄板を陰極、アルミニウム板(純度99.9%)を陽極として、乾燥窒素ガス雰囲気中で、60℃に保った前記電気Al−Zr−Mn合金めっき浴に5分間浸漬し、同じめっき浴でパルス電流(デューティー比:1/1、ON時間:10ms、OFF時間:10ms)にてAl−Zr−Mn合金めっきを行った。尚、めっき浴はスターラーで強く攪拌した。表1に、塩化マンガン、塩化ジルコニウムの浴中濃度、電解条件及び得られたAl−Zr−Mn合金めっき皮膜のMnとZrの共析率(%)、耐食性の評価結果を示す。
AlCl3と1−メチル−3プロピルイミダゾリウムブロマイドとを2:1のモル比に混合溶融してなる浴に、塩化マンガン0.02モル/l及び塩化ジルコニウム0.015モル/lを添加した。さらに、下記表2の通り各種添加剤を添加して電気Al−Zr−Mn合金めっき浴を調製した。次に陰極として用いる鉄板(板厚0.5mm)に対し、前処理として、アルカリ脱脂、アルカリ電解洗浄及び酸洗し、水洗後エチルアルコール洗浄し乾燥を行った。前記鉄板を陰極、アルミニウム板(純度99.9%)を陽極として、乾燥窒素ガス雰囲気中で、50℃に保った前記電気Al−Zr−Mn合金めっき浴に5分間浸漬し、同じめっき浴で直流にてAl−Zr−Mn合金めっきを行った。尚、めっき浴はスターラーで攪拌した。表2に、添加剤の浴中濃度、電解条件及び得られたAl−Zr−Mn合金めっき皮膜のMnとZrの共析率(%)、耐食性の評価結果を示す。
溶剤、添加剤未使用の場合の実施例を以下に示す。
AlCl3と1−メチル−3プロピルイミダゾリウムブロマイドとを2:1のモル比に混合溶融してなる浴に、塩化マンガン及び塩化ジルコニウムを下記表3の通り添加して電気Al−Zr−Mn合金めっき浴を調製した。次に陰極として用いる鉄板(板厚0.5mm)に対し、前処理として、アルカリ脱脂、アルカリ電解洗浄及び酸洗し、水洗後エチルアルコール洗浄し乾燥を行った。前記鉄板を陰極、アルミニウム板(純度99.9%)を陽極として、乾燥窒素ガス雰囲気中で、80℃に保った前記電気Al−Zr−Mn合金めっき浴に5分間浸漬し、同じめっき浴でパルス電流(デューティー比:1/1、ON時間:10ms、OFF時間:10ms)にてAl−Zr−Mn合金めっきを行った。尚、めっき浴はスターラーでゆるく攪拌した。表3に、Mn、Zrの浴中濃度、電解条件及び得られたAl−Zr−Mn合金めっき皮膜のMnとZrの共析率(%)、耐食性の評価結果を示す。
AlCl3と1−メチル−3プロピルイミダゾリウムブロマイドとを2:1のモル比に混合溶融してなる浴に、下記表3の通り各種添加剤を添加して電気Alめっき浴を調製した。次に陰極として用いる鉄板(板厚0.5mm)に対し、前処理として、アルカリ脱脂、アルカリ電解洗浄及び酸洗し、水洗後エチルアルコール洗浄し乾燥を行った。前記鉄板を陰極、アルミニウム板(純度99.9%)を陽極として、乾燥窒素ガス雰囲気中で、50℃に保った前記電気Alめっき浴に5分間浸漬し、同じめっき浴で直流にてAlめっきを行った。尚、めっき浴はスターラーで攪拌した。表3に、添加剤の浴中濃度、電解条件及び得られたAlめっき皮膜の耐食性の評価結果を示す。
AlCl3と1−メチル−3プロピルイミダゾリウムブロマイドとを2:1のモル比に混合溶融してなる浴に、塩化マンガンを下記表4の通り添加して電気Al−Mn合金めっき浴を調製した。次に陰極として用いる鉄板(板厚0.5mm)に対し、前処理として、アルカリ脱脂、アルカリ電解洗浄及び酸洗し、水洗後エチルアルコール洗浄し乾燥を行った。前記鉄板を陰極、アルミニウム板(純度99.9%)を陽極として、乾燥窒素ガス雰囲気中で、50℃に保った前記電気Al−Mn合金めっき浴に5分間浸漬し、同じめっき浴で直流にてAl−Mn合金めっきを行った。尚、めっき浴はスターラーで攪拌した。表4に、塩化マンガンの浴中濃度、電解条件及び得られたAl−Mn合金めっき皮膜のMnの共析率(%)、耐食性の評価結果を示す。
Al合金めっき皮膜のMn及びZr共析率(%)並びに厚さは、蛍光X線分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製、マイクロエレメントモニターSEA5120)を用いて測定した。
SSTでの赤錆発生時間は、塩水噴霧試験方法(JIS Z2371)に従って測定した。
Claims (10)
- (A)アルミニウムハロゲン化物、(B)N−アルキルピリジニウムハライド類、N−アルキルイミダゾリウムハライド類、N,N’−アルキルイミダゾリウムハライド類、N−アルキルピラゾリウムハライド類、N,N’−アルキルピラゾリウムハライド類、N−アルキルピロリジニウムハライド類及びN,N−アルキルピロリジニウムハライド類からなる群より選ばれる1種又は2種以上の化合物、(C)ジルコニウムハロゲン化物並びに(D)マンガンハロゲン化物を含む電気Al−Zr−Mn合金めっき浴であって、(A)アルミニウムハロゲン化物と(B)化合物とのモル比が1:1〜3:1である、電気Al−Zr−Mn合金めっき浴。
- (C)ジルコニウムハロゲン化物の浴中濃度が4×10-4〜4×10-1モル/lであり、(D)マンガンハロゲン化物の浴中濃度が8×10-4〜8×10-1モル/lである、請求項1記載の電気Al−Zr−Mn合金めっき浴。
- (E)芳香族炭化水素溶媒を、50容量%を超えない範囲で含有する、請求項1又は2記載の電気Al−Zr−Mn合金めっき浴。
- (F)スチレン系ポリマー及び脂肪族ジエン系ポリマーからなる群より選ばれる1種又は2種以上の有機重合体を0.1〜50g/l含有する、請求項1〜3のいずれか1項記載の電気Al−Zr−Mn合金めっき浴。
- (G)光沢剤を0.001〜0.1モル/l含有する、請求項1〜4のいずれか1項記載の電気Al−Zr−Mn合金めっき浴。
- 請求項1〜5のいずれか1項記載の電気Al−Zr−Mn合金めっき浴を用いる電気めっき方法。
- 電気めっきをパルス電流及び/又は強制攪拌下で行う請求項6記載のめっき方法。
- 皮膜中のZrとMnの合計共析率が2〜40重量%であるAl−Zr−Mn合金めっき皮膜。
- 皮膜中のZr共析率が1〜39重量%であり、Mnの共析率が1〜39重量%であるAl−Zr−Mn合金めっき皮膜。
- 鉄素地上に被覆された請求項9記載のAl−Zr−Mn合金めっき皮膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008241512A JP5299814B2 (ja) | 2008-01-22 | 2008-09-19 | 常温溶融塩浴を用いた電気Al−Zr−Mn合金めっき浴、そのめっき浴を用いためっき方法及びAl−Zr−Mn合金めっき皮膜 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008011961 | 2008-01-22 | ||
JP2008011961 | 2008-01-22 | ||
JP2008241512A JP5299814B2 (ja) | 2008-01-22 | 2008-09-19 | 常温溶融塩浴を用いた電気Al−Zr−Mn合金めっき浴、そのめっき浴を用いためっき方法及びAl−Zr−Mn合金めっき皮膜 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009197318A true JP2009197318A (ja) | 2009-09-03 |
JP2009197318A5 JP2009197318A5 (ja) | 2010-12-24 |
JP5299814B2 JP5299814B2 (ja) | 2013-09-25 |
Family
ID=41141139
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008241512A Expired - Fee Related JP5299814B2 (ja) | 2008-01-22 | 2008-09-19 | 常温溶融塩浴を用いた電気Al−Zr−Mn合金めっき浴、そのめっき浴を用いためっき方法及びAl−Zr−Mn合金めっき皮膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5299814B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009173977A (ja) * | 2008-01-22 | 2009-08-06 | Dipsol Chem Co Ltd | 常温溶融塩浴を用いた電気Al又はAl合金めっき浴及びそれを用いるめっき方法 |
GB2470590A (en) * | 2009-05-29 | 2010-12-01 | Astron Advanced Materials Ltd | Electrodeposition of elemental zinrconium |
US20110083967A1 (en) * | 2009-10-14 | 2011-04-14 | Massachusetts Institute Of Technology | Electrodeposited alloys and methods of making same using power pulses |
WO2012014488A1 (ja) | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 京セラ株式会社 | 入力装置 |
WO2012141136A1 (ja) * | 2011-04-11 | 2012-10-18 | 株式会社日立製作所 | 電気アルミニウムめっき液 |
JPWO2012043129A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2014-02-06 | 株式会社日立製作所 | 電気アルミニウムめっき液 |
US8821707B2 (en) | 2010-08-04 | 2014-09-02 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Electric Al or Al alloy plating bath using room temperature molten salt bath and plating method using the same |
WO2018128153A1 (ja) * | 2017-01-05 | 2018-07-12 | Tdk株式会社 | MnAl合金の製造方法 |
KR20190006945A (ko) | 2016-05-18 | 2019-01-21 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 알루미늄 합금 및 알루미늄 합금의 제조 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6270593A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-04-01 | Nisshin Steel Co Ltd | 電気アルミニウムめつき浴およびそのめつき浴によるめつき方法 |
JPH03285094A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | Nisshin Steel Co Ltd | Al―Mn合金電気めっき浴 |
JPH0551785A (ja) * | 1991-05-21 | 1993-03-02 | Deitsupusoole Kk | 電気アルミニウムめつき浴 |
JPH0665781A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-08 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Al合金被覆金属材 |
-
2008
- 2008-09-19 JP JP2008241512A patent/JP5299814B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6270593A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-04-01 | Nisshin Steel Co Ltd | 電気アルミニウムめつき浴およびそのめつき浴によるめつき方法 |
JPH03285094A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | Nisshin Steel Co Ltd | Al―Mn合金電気めっき浴 |
JPH0551785A (ja) * | 1991-05-21 | 1993-03-02 | Deitsupusoole Kk | 電気アルミニウムめつき浴 |
JPH0665781A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-08 | Sumitomo Metal Ind Ltd | Al合金被覆金属材 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009173977A (ja) * | 2008-01-22 | 2009-08-06 | Dipsol Chem Co Ltd | 常温溶融塩浴を用いた電気Al又はAl合金めっき浴及びそれを用いるめっき方法 |
GB2470590B (en) * | 2009-05-29 | 2014-07-23 | Astron Advanced Materials Ltd | Electrodeposition of elemental zirconium |
GB2470590A (en) * | 2009-05-29 | 2010-12-01 | Astron Advanced Materials Ltd | Electrodeposition of elemental zinrconium |
US9017541B2 (en) | 2009-05-29 | 2015-04-28 | Astron Advanced Materials Limited | Electrodeposition of elemental zirconium |
US20110083967A1 (en) * | 2009-10-14 | 2011-04-14 | Massachusetts Institute Of Technology | Electrodeposited alloys and methods of making same using power pulses |
US10030312B2 (en) * | 2009-10-14 | 2018-07-24 | Massachusetts Institute Of Technology | Electrodeposited alloys and methods of making same using power pulses |
WO2012014488A1 (ja) | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 京セラ株式会社 | 入力装置 |
US8821707B2 (en) | 2010-08-04 | 2014-09-02 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Electric Al or Al alloy plating bath using room temperature molten salt bath and plating method using the same |
JPWO2012043129A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2014-02-06 | 株式会社日立製作所 | 電気アルミニウムめっき液 |
WO2012141136A1 (ja) * | 2011-04-11 | 2012-10-18 | 株式会社日立製作所 | 電気アルミニウムめっき液 |
KR20190006945A (ko) | 2016-05-18 | 2019-01-21 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 알루미늄 합금 및 알루미늄 합금의 제조 방법 |
US10808300B2 (en) | 2016-05-18 | 2020-10-20 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Aluminum alloy and method for manufacturing aluminum alloy |
WO2018128153A1 (ja) * | 2017-01-05 | 2018-07-12 | Tdk株式会社 | MnAl合金の製造方法 |
JPWO2018128153A1 (ja) * | 2017-01-05 | 2019-11-07 | Tdk株式会社 | MnAl合金の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5299814B2 (ja) | 2013-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5270846B2 (ja) | 常温溶融塩浴を用いた電気Al−Zr合金めっき浴とそれを用いるめっき方法 | |
JP5299814B2 (ja) | 常温溶融塩浴を用いた電気Al−Zr−Mn合金めっき浴、そのめっき浴を用いためっき方法及びAl−Zr−Mn合金めっき皮膜 | |
US8821707B2 (en) | Electric Al or Al alloy plating bath using room temperature molten salt bath and plating method using the same | |
US10309025B2 (en) | Aluminum or aluminum alloy molten salt electroplating bath having good throwing power, electroplating method using the bath, and pretreatment method of the bath | |
JP2008195990A (ja) | 電気アルミニウムめっき浴及びそれを用いためっき方法 | |
JP5080097B2 (ja) | 溶融塩電気アルミニウムめっき浴及びそれを用いためっき方法 | |
US8916039B2 (en) | Aluminum or aluminum alloy barrel electroplating method | |
US20120052324A1 (en) | Electric Al-Zr-Mn Alloy-Plating Bath Using Room Temperature Molten Salt Bath, Plating Method Using the Same and Al-Zr-Mn Alloy-Plated Film | |
JP2009173977A (ja) | 常温溶融塩浴を用いた電気Al又はAl合金めっき浴及びそれを用いるめっき方法 | |
JP2009197318A5 (ja) | ||
JP3034635B2 (ja) | 電気アルミニウムめっき浴 | |
JP2009173977A5 (ja) | ||
US20150159290A1 (en) | Electric Al-Zr-Mn Alloy-Plating Bath Using Room Temperature Molten Salt Bath, Plating Method Using the Same and Al-Zr-Mn Alloy-Plated Film | |
JPH04362191A (ja) | 常温溶融塩電解液及び該電解液を用いた電気アルミニウムめっき方法 | |
JP3061281B2 (ja) | Al―Mn合金電気めっき浴 | |
JPH02133596A (ja) | つき回り性に優れた電気アルミニウムめっき浴およびその浴によるめっき方法 | |
JPH01246390A (ja) | ベリリウムの電気鋳造法 | |
JPH0328392A (ja) | 電気アルミニウムめっき浴 | |
JPH02240289A (ja) | ベリリウムの電鋳法 | |
JPH06184787A (ja) | フェノール類を含有する鉛及び鉛合金めっき浴 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101102 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101102 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110701 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130304 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130501 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130527 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130607 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5299814 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |