JP2009187001A - 反射防止構造体、反射防止構造体の製造方法、及び反射防止構造体を備えた光学装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高い反射防止抑制効果を有する反射防止構造体を提供する。
【解決手段】拡散板１は、周期Ｐで規則的に配列された複数の微小凸部２０，２０，…を備えている。微小凸部２０，２０，…のそれぞれは、基端側から先端側に向かって先細状に形成されていると共に、隣り合う他の微小凸部２０と互いの側周面２１，２１が交わった状態で隣接している。複数の微小凸部２０，２０，…で囲まれた凹部２４において、複数の微小凸部２０，２０，…は、隣り合う微小凸部２０，２０，…の互いの側周面２１，２１，…で形成される稜線２２，２２，…が全て１点に集まるように近接して配置されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止構造体、反射防止構造体の製造方法、及び反射防止構造体を備えた光学装置に関するものである。

近年、光の反射を抑制する反射防止処理が表面に施された種々の光学素子が提案されている。反射防止処理としては、例えば、屈折率の比較的低い膜（低屈折率膜）や、低屈折率膜と屈折率の比較的高い膜（高屈折率膜）とを交互に積層してなる多層膜等からなる反射防止膜を表面に形成する処理が挙げられる（例えば、特許文献１等）。

しかしながら、このような低屈折率膜や多層膜からなる反射防止膜は、形成に際して蒸着法やスパッタリング法等の煩雑な工程を要する。このため、生産性が低く、生産コストが高いという問題がある。また、低屈折率膜や多層膜からなる反射防止膜は、波長依存性及び入射角依存性が比較的大きいという問題もある。

このような問題に鑑み、入射角依存性及び波長依存性の比較的小さな反射防止処理として、例えば、光学素子表面に入射光の波長以下ピッチで微小凹凸部を規則的に形成する処理が提案されている（例えば、非特許文献１等）。この処理を行うことによって、素子界面における急激な屈折率変化が抑制され、素子界面において緩やかに屈折率が変化することとなる。このため、光学素子表面における反射が低減され、光学素子内への高い光入射率を実現することができる。
特開２００１−１２７８５２号公報 特表２００１−５１７３１９号公報 ダニエル Ｈ．ラグイン（Ｄａｎｉｅｌ Ｈ． Ｒａｇｕｉｎ） Ｇ． マイケル モリス（Ｇ． Ｍｉｃｈａｅｌ Ｍｏｒｒｉｓ）著、「アナリシス オブ アンチリフレクション ストラクチャード サーフェイス ウィズ コンティニュアス ワン ディメンジョナル サーフェイス プロフィールズ （Ａｎａｌｙｓｉｓ ｏｆ ａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ−ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ ｓｕｒｆａｃｅｓ ｗｉｔｈ ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ ｏｎｅ−ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ ｓｕｒｆａｃｅ ｐｒｏｆｉｌｅｓ）」アプライド・オプティクス（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ）、第３２巻 第１４号（Ｖｏｌ．３２，Ｎｏ．１４）、Ｐ．２５８２−２５９８、１９９３年

しかしながら、複数の微小凹凸部を単純に配列しただけでは、反射防止効果が十分には発揮されない。

例えば、複数の円錐状の微小凸部を平面上に配列する場合、環状に隣接する複数の微小凸部の間の部分には平面状の部分が残ってしまい、平面上に微小凸部を敷き詰めることができない。このように平面状の部分が残ると、該平面状の部分では屈折率変化が急になるため、十分な反射防止効果が得られなくなる虞がある。

本発明は斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、高い反射防止抑制効果を有する反射防止構造体を提供することにある。

第１の発明は、所定の波長以上の光の反射を抑制する反射防止構造体を対象としている。そして、上記所定の波長以下の周期で規則的に配列された複数の微小凸部を備え、上記微小凸部のそれぞれは、基端側から先端側に向かって先細状に形成されていると共に、隣り合う他の上記微小凸部と互いの側周面が交わった状態で隣接しており、複数の上記微小凸部で囲まれた凹部において、複数の該微小凸部は、隣り合う該微小凸部の互いの側周面で形成される稜線が全て１点に集まるように近接して配置されているものとする。

上記の構成の場合、複数の上記微小凸部で囲まれた凹部において複数の該微小凸部を上記稜線が全て１点に集まるように近接して配置することによって、微小凸部それぞれの側周面が凹部に向かって細くなりながら点状に集合することになり、該凹部には平面状の部分が形成されなくなる。

第２の発明は、所定の波長以上の光の反射を抑制する反射防止構造体が対象である。そして、上記所定の波長以下の周期で規則的に配列された複数の微小凸部を備え、上記微小凸部のそれぞれは、基端側から先端側に向かった先細状に形成され且つその基端部が複数の平面で全周に亘って囲まれて断面多角形状に形成されていて、隣り合う他の上記微小凸部と該平面を介して隣接するように構成されているものとする。

上記の構成の場合、先細状の上記微小凸部の基端部を、全周に亘って複数の平面で囲むと共に断面多角形状に形成して、隣り合う他の上記微小凸部と該平面を介して隣接するように構成することによって、微小凸部はその基端部において、全周に亘って他の微小凸部と隣接した状態となり、複数の微小凸部で囲まれた凹部には、平面状の部分が形成されなくなる。

第３の発明は、所定の波長以上の光の反射を抑制する反射防止構造体が対象である。そして、上記所定の波長以下の周期で規則的に配列された複数の微小凹部を備え、複数の上記微小凹部は、第１の発明の反射防止構造体を反転させた形状をしているものとする。

すなわち、第３の発明は、上記微小凹部のそれぞれが、基端側から先端側に向かって先細状に形成されていると共に、隣り合う他の上記微小凹部と互いの側周面が交わった状態で隣接しており、複数の上記微小凹部で囲まれた凸部において、複数の該微小凹部は、隣り合う該微小凹部の互いに側周面で形成される稜線が全て１点に集まるように近接して配置されているものとする。

上記の構成の場合、複数の上記微小凹部で囲まれた凸部において、微小凹部それぞれの側周面が凸部に向かって細くなりながら点状に集合することになり、該凸部には平面状の部分が形成されなくなる。

第４の発明は、所定の波長以上の光の反射を抑制する反射防止構造体を対象としている。そして、上記所定の波長以下の周期で規則的に配列された複数の微小凹部を備え、複数の上記微小凹部は、第２の発明の反射防止構造体を反転させた形状をしているものとする。

すなわち、第４の発明は、上記微小凹部のそれぞれが、基端側から先端側に向かった先細状に形成され且つその基端部が複数の平面で全周に亘って囲まれて断面多角形状に形成されていて、隣り合う他の上記微小凹部と該平面を介して接合されるように構成されているものとする。

上記の構成の場合、微小凹部はその基端部において、全周に亘って他の隣接する微小凹部と接合されている状態となり、複数の微小凹部で囲まれた凸部には、平面状の部分が形成されなくなる。

本発明によれば、複数の微小凸部によって囲まれた凹部、又は複数の微小凹部によって囲まれた凸部に平面状の部分が形成されないため、屈折率の急激な変化を抑制して、反射光等の不要光の発生が十分に抑制された反射防止構造体を実現することができる。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。ここでは、本発明を実施した拡散板を例に挙げて本発明に係る反射防止構造体の形態について説明する。しかし、本発明に係る反射防止構造体は、下記形態に限定されるものではなく、例えば、表示装置をはじめ、撮像装置、照明装置、プロジェクタ等の種々の光学機器の構成部材等であってもよい。

《発明の実施形態１》
本実施形態１に係る拡散板１は、図２に示すように、平面視略矩形状の面材であり、光を拡散透過させるもの（詳細には、以下に説明する微小凸部２０によって反射が抑制される光を少なくとも拡散透過させるもの）である。本実施形態に係る拡散板１は、例えばディスプレイ等の前面に配置され、ディスプレイ表面における光の反射（外光の映り込み等）を抑制するものである。尚、拡散板１の材質は特に限定されるものではないが、樹脂製又はガラス製であってもよい。また、微粒子等が分散混入されていてもよい。

本実施形態において、拡散板１の表面１０には、図３に示すように、入射光Ｌの波長以下の周期Ｐ（好ましくは、入射光Ｌのうち最も短い波長λを拡散板材料の屈折率ｎで除した値以下の周期、つまりＰ≦λ／ｎ）で規則的に配列された複数の微小凸部２０が形成されている（以下、この微小凸部２０が複数形成された反射防止構造のことを「ＳＷＳ」と称することがある）。この微小凸部２０は、詳しくは後述するが、概略円錐状に形成されている。

こうして、拡散板１の表面１０に複数の微小凸部２０を配列させて形成することによって、拡散板１の表面１０と空気層との間の急激な屈折率変化が抑制され、微小凸部２０が形成された表面１０の表層部において屈折率がなだらかに変化することとなる。その結果、拡散板１の表面１０における反射が効果的に抑制される。

ここで、微小凸部２０は、その高さＨが表面１０の各部で相互に異なるように形成されていてもよいが、作成容易性の観点から、高さＨが相互に略同一となるように形成されていることが好ましい。ここで、微小凸部２０の高さＨとは、微小凸部２０における、表面１０の基準面１２の法線方向（即ち、微小凸部２０の長手方向）において最も離れた２点間の距離で定義され、微小凸部２０が錐体状の場合、図２に示すように、錐体の頂点から最も低い部分までの距離で定義される。ここで、基準面とは、微小凸部２０を含む表面１０の形状から微小凸部２０を高周波成分としてカットオフして得られる面のことをいう。

さらに、微小凸部２０は、その錐体の底部中心と頂部とを結んでなる中心軸が相互に略平行となるように形成されていることが好ましい。この場合、射出成形による拡散板１の作製が容易となる。

ここで、微小凸部２０の詳しい形状について説明する。

微小凸部２０は、図１に示すように、基端側から先端側に向かって先細状になった円錐状に形成されており、その四方において他の微小凸部２０，２０，…と隣接している。

詳しくは、各微小凸部２０は、直線状の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体、即ち、円錐を基本形状としている。そして、隣り合う微小凸部２０，２０は、互いの側周面２１，２１が交わった状態で隣接している。このとき、互いの側周面２１，２１が交わることによって、隣り合う微小凸部２０，２０の間には双曲線状の稜線２２が形成される。つまり、上述の如く、各微小凸部２０はその四方において他の微小凸部２０，２０，…と隣接しているため、各微小凸部２０はその四方に４つの稜線２２，２２，…が形成されている。こうして、各微小凸部２０に形成されている４つの稜線２２，２２，…は、互いに端部同士がつながっており、各微小凸部２０は、その基端部が該４つの稜線２２，２２，…で囲まれている。

また、このように構成された微小凸部２０，２０，…のそれぞれを切り出してみると、各微小凸部２０は、図４に示すように、円錐の基端部を稜線２２を含む４つの平面で切断した形状となっている。詳しくは、各微小凸部２０は、その基端部において、中心軸に平行な平面で切断され、双曲線と直線で囲まれた仮想切断面２３が形成されている。微小凸部２０の全周に亘って４つの仮想切断面２３，２３，…が形成されており、隣り合う仮想切断面２３，２３同士は、双曲線（稜線２２）と直線との交点の部分で互いに繋がっている。つまり、各微小凸部２０の基端部は、その全周が４つの仮想切断面２３，２３，…によって囲まれている。これら４つの仮想切断面２３，２３，…は全て同じ形状をしている。そして、隣り合う微小凸部２０，２０は、互いの仮想切断面２３，２３同士を密着させて隣接している。

このように構成された各微小凸部２０は、図５に示すように、平面視で４つの上記稜線２２，２２，…で囲まれた正方形に形成されている。そして、隣り合う微小凸部２０，２０同士は正方形の一辺（即ち、稜線２２）同士を密着させた状態で隣接している。

その結果、４つの微小凸部２０，２０，…に囲まれて４つの稜線２２，２２，…が集まる部分では、図６（Ａ）に示すように、各微小凸部２０の高さが高く、稜線２２を介して隣り合う微小凸部２０，２０が隣接している部分では、図６（Ｂ）に示すように、互いの側周面２１，２１が交わることによって各微小凸部２０の高さが低くなっている。

すなわち、微小凸部２０，２０，…が四方（即ち、直交する２つの方向）に配列された結果、環状に隣接する４つの微小凸部２０，２０，…の間に、各微小凸部２０の頂点からの深さが深くなった凹部２４が形成される。上述の如く、各微小凸部２０の基端部が稜線２２，２２，…で全周を囲まれている（換言すれば、仮想切断面２３，２３，…で全周を囲まれている）構成においては、凹部２４を囲む４つの微小凸部２０，２０，…のそれぞれの間に形成されている４つの稜線２２，２２，…が凹部２４において１点に集まっている。つまり、該凹部２４には、平面状の部分が形成されていない。

続いて、このように構成された微小凸部２０，２０，…を備えた拡散板１の製造方法について説明する。

まず、図７（Ａ）に示すように、石英等で構成された光学基板３上にポジ型の電子線レジスト４１をスピンコートした後、電子線５により微小な円形（即ち、点）が所定ピッチで配列されるように、該円形以外の部分を描画する。

次に、同図（Ｂ）に示すように、電子線レジスト４１の電子線描画した部分を現像により除去する。

さらに、同図（Ｃ）に示すように、Ｃｒ又はＡｌ等の金属４２を蒸着する。このとき、電子線レジスト４１上と電子線レジスト４１が除去された部分の光学基板３上とに金属４２が蒸着される。

最後に、同図（Ｄ）に示すように、電子線レジスト４１を全て除去すると、光学基板３上に蒸着された金属４２のみが残る。この金属４２は、図８に示すように、平面視で微小な貫通孔４３，４３，…が所定のピッチで配列された形状をしている。この貫通孔４３は、必ずしも円形である必要はなく、楕円形や矩形等、任意の形状を採用することができる。

この金属４２を金属マスクとして使用して、以下のようにエッチングを行う。

詳しくは、該金属４２が蒸着された光学基板３にエッチングを施す。

すると、図９の実線で示すように、光学基板３上の金属４２が蒸着されていないところからエッチングされ、掘り下げられていく。そして、エッチングが進むと、徐々に金属４２もエッチングされていき、各貫通孔４３の径が拡大していく。

こうして、光学基板３には、円錐状の微小凹部３１，３１，…が形成されていく。やがて、貫通孔４３は、その径が拡大して、図９の一点鎖線で示すように、隣り合う他の貫通孔４３と繋がるが、金属４２が消失するまでエッチングを継続する（図９の二点鎖線参照）。

その結果、光学基板３には、図１０に示すように、複数の微小凹部３１，３１，…が配列された状態で形成される。各微小凹部３１は、基端側から先端側に向かって先細状になった円錐状に形成されており、その四方において他の微小凹部３１，３１，…と隣接している。

詳しくは、各微小凹部３１は、直線状の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体、即ち、円錐を基本形状としている。そして、隣り合う微小凹部３１，３１は、互いの側周面３２，３２が交わった状態で隣接している。このとき、互いの側周面３２，３２が交わることによって、隣り合う微小凹部３１，３１の間には双曲線状の稜線３３が形成される。つまり、上述の如く、各微小凹部３１はその四方において他の微小凹部３１，３１，…と隣接しているため、各微小凹部３１はその四方に４つの稜線３３，３３，…が形成されている。こうして、各微小凹部３１に形成されている４つの稜線３３，３３，…は、互いに端部同士がつながっており、各微小凹部３１は、その基端部が該４つの双曲線状の稜線３３，３３，…で囲まれている。

こうして複数の微小凹部３１，３１，…は、互いに直交するＸ方向とＹ方向とに並んで配列されている。このように微小凹部３１，３１，…が直交する２つの方向に配列された結果、環状に隣接する４つの微小凹部３１，３１，…の間に１つの凸部３４が形成される。上述の如く、各微小凹部３１の基端部が稜線３３，３３，…で全周を囲まれている構成においては、凸部３４を囲む４つの微小凹部３１，３１，…のそれぞれの間に形成されている４つの稜線３３，３３，…が凸部３４において１点に集まっている。つまり、該凸部３４には、平面状の部分が形成されていない。

つまり、光学基板３の微小凹部３１，３１，…は、上記拡散板１の微小凸部２０，２０，…の反転形状に形成されている。したがって、この光学基板３を成形型として射出成形することによって、微小凸部２０，２０，…が形成された拡散板１を製造することができる。

このように複数の微小凸部２０，２０，…に囲まれた凹部２４に平面状の部分が形成されていない構成においては、図１１に示す該凹部２４’が平面状に形成された拡散板１’と比較して、反射率をより抑制することができる。

詳しくは、図１２には、入射光Ｌの波長に対する反射率の相関を示している。このとき、入射角は０度であり、微小凸部２０，２０，…の周期Ｐは２００ｎｍ、高さＨは３００ｎｍである。図１２からわかるように、拡散板１，１’共に、可視光域である波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲において反射率を抑制しているが、凹部２４に平面状の部分が形成されていない、即ち、表面１０全体に亘って平面状の部分が形成されていない拡散板１の方が、凹部２４’が平面状に形成されている拡散板１’に比べて、可視光域の全範囲において反射率をより抑制することができる。また、拡散板１の方が、平面状の部分が形成されている構成に比べて、波長依存性が小さい。

また、図１３には、入射光Ｌの入射角に対する反射率の相関を示している。このとき、入射光Ｌの波長は５５０ｎｍであり、微小凸部２０，２０，…の周期Ｐは２００ｎｍ、高さＨは３００ｎｍである。図１３からわかるように、拡散板１，１’共に、入射角が比較的小さい領域においては、反射率を抑制しているが、凹部２４に平面状の部分が形成されていない、即ち、表面１０全体に亘って平面状の部分が形成されていない拡散板１の方が、凹部２４’が平面状に形成されている拡散板１’に比べて、その抑制効果は大きい。

したがって、本実施形態１によれば、隣り合う円錐状の微小凸部２０，２０を、それぞれの側周面２１，２１が交わるように隣接させると共に、１つの凹部２４を囲むように環状に配置された４つの微小凸部２０，２０，…において、互いに隣り合う微小凸部２０，２０の間に形成される４つの稜線２２，２２，…が凹部２４において１点に集合するように、４つの該微小凸部２０，２０，…を近接して配置することによって、拡散板１には平面状の部分が形成されないため、屈折率が急激に変化する部分がなくなり、反射光の発生を十分に抑制することができる。

続いて、本実施形態１の変形例について説明する。

−変形例１−
変形例１に係る拡散板２０１は、微小凸部２２０の形状が上記微小凸部２０と異なる。そこで、実施形態１と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略し、構成が異なる部分について主に説明する。

変形例１に係る微小凸部２２０は、図１４に示すように、二次曲線状の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体を基本形状としている。そして、隣り合う微小凸部２２０，２２０は、互いの側周面２２１，２２１が交わった状態で隣接している。このとき、互いの側周面２２１，２２１が交わることによって、隣り合う微小凸部２２０，２２０の間には放物線状の稜線２２２が形成される。各微小凸部２２０はその四方において他の微小凸部２２０，２２０，…と隣接していて、各微小凸部２２０はその四方に４つの稜線２２２，２２２，…が形成されている。こうして、各微小凸部２２０に形成されている４つの稜線２２２，２２２，…は、互いに端部同士がつながっており、各微小凸部２２０は、その基端部が該４つの放物線状の稜線２２２，２２２，…で囲まれている。

このように構成された各微小凸部２２０は、平面視で４つの上記稜線２２２，２２２，…で囲まれた正方形に形成されている。そして、隣り合う微小凸部２２０，２２０同士は正方形の一辺（即ち、稜線２２２）同士を密着させた状態で隣接している。

その結果、４つの微小凸部２２０，２２０，…に囲まれて４つの稜線２２２，２２２，…が集まる部分では、図１５（Ａ）に示すように、各微小凸部２２０の高さが高く、稜線２２２を介して隣り合う微小凸部２２０，２２０が隣接している部分では、図１５（Ｂ）に示すように、互いの側周面２２１，２２１が交わることによって各微小凸部２２０の高さが低くなっている。

すなわち、微小凸部２２０，２２０，…が直交する２つの方向に配列された結果、環状に隣接する４つの微小凸部２２０，２２０，…の間に、各微小凸部２２０の頂点からの深さが深くなった凹部２２４が形成される。上述の如く、各微小凸部２２０の基端部が稜線２２２，２２２，…で全周を囲まれている構成においては、凹部２２４を囲む４つの微小凸部２２０，２２０，…のそれぞれの間に形成されている４つの稜線２２２，２２２，…が凹部２２４において１点に集まっている。つまり、該凹部２２４には、平面状の部分が形成されていない。

このように構成された微小凸部２２０，２２０，…を備えた拡散板２０１は、図１６に示すような、成形型２０３を用いて射出成形によって製造することができる。

この成形型２０３の製造方法は、実施形態１における成形型である光学基板３の製造方法と同様である。ただし、エッチング時の条件を変えることによって、各微小凹部２３１の形状を上記光学基板３の微小凹部３１の形状と変えて、微小凸部２２０を反転させた形状に形成することができる。

以上説明してきた複数の微小凸部２２０，２２０，…に囲まれた凹部２２４に平面状の部分が形成されていない構成においては、微小凸部２２０，２２０，…の間に平面状に形成された構成と比較して、反射率をより抑制することができる。

詳しくは、図１７には、入射光Ｌの波長に対する反射率の相関を示している。このとき、入射角は０度であり、微小凸部２２０，２２０，…の周期Ｐは２００ｎｍ、高さＨは３００ｎｍである。図１７からわかるように、平面状の部分がない拡散板２０１の方が可視光域の略全範囲において反射率をより抑制することができる。また、拡散板２０１の方が、平面状の部分が形成されている構成に比べて、波長依存性が小さい。

また、図１８には、入射光Ｌの入射角に対する反射率の相関を示している。このとき、入射光Ｌの波長は５５０ｎｍであり、微小凸部２２０，２２０，…の周期Ｐは２００ｎｍ、高さＨは３００ｎｍである。図１８からわかるように、平面状の部分がない拡散板２０１の方が、平面状の部分が形成されている構成に比べて、入射角が比較的小さな領域において、反射率をより抑制することができる。

したがって、変形例１によれば、隣り合う円錐状の微小凸部２２０，２２０を、それぞれの側周面２２１，２２１が交わるように隣接させると共に、１つの凹部２２４を囲むように環状に配置された４つの微小凸部２２０，２２０，…において、互いに隣り合う微小凸部２２０，２２０の間に形成される４つの稜線２２２，２２２，…が凹部２２４において１点に集合するように、４つの該微小凸部２２０，２２０，…を近接して配置することによって、拡散板２０１には平面状の部分が形成されないため、屈折率が急激に変化する部分がなくなり、反射光の発生を十分に抑制することができる。

−変形例２−
変形例２に係る拡散板３０１は、微小凸部３２０の形状が上記微小凸部２０と異なる。そこで、実施形態１と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略し、構成が異なる部分について主に説明する。

変形例２に係る微小凸部３２０は、図１９に示すように、余弦関数状の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体を基本形状としている。そして、隣り合う微小凸部３２０，３２０は、互いの側周面３２１，３２１が交わった状態で隣接している。このとき、互いの側周面３２１，３２１が交わることによって、隣り合う微小凸部３２０，３２０の間には釣鐘状の稜線３２２が形成される。各微小凸部３２０はその四方において他の微小凸部３２０，３２０，…と隣接していて、各微小凸部３２０はその四方に４つの稜線３２２，３２２，…が形成されている。こうして、各微小凸部３２０に形成されている４つの稜線３２２，３２２，…は、互いに端部同士がつながっており、各微小凸部３２０は、その基端部が該４つの稜線３２２，３２２，…で囲まれている。

このように構成された各微小凸部３２０は、平面視で４つの上記稜線３２２，３２２，…で囲まれた正方形に形成されている。そして、隣り合う微小凸部３２０，３２０同士は正方形の一辺（即ち、稜線３２２）同士を密着させた状態で隣接している。

その結果、４つの微小凸部３２０，３２０，…に囲まれて４つの稜線３２２，３２２，…が集まる部分では、図２０（Ａ）に示すように、各微小凸部３２０の高さが高く、稜線３２２を介して隣り合う微小凸部３２０，３２０が隣接している部分では、図２０（Ｂ）に示すように、互いの側周面３２１，３２１が交わることによって各微小凸部３２０の高さが低くなっている。

すなわち、微小凸部３２０，３２０，…が直交する２つの方向に配列された結果、環状に隣接する４つの微小凸部３２０，３２０，…の間に、各微小凸部３２０の頂点からの深さが深くなった凹部３２４が形成される。上述の如く、各微小凸部３２０の基端部が稜線３２２，３２２，…で全周を囲まれている構成においては、凹部３２４を囲む４つの微小凸部３２０，３２０，…のそれぞれの間に形成されている４つの稜線３２２，３２２，…が凹部３２４において１点に集まっている。つまり、該凹部３２４には、平面状の部分が形成されていない。

このように構成された微小凸部３２０，３２０，…を備えた拡散板３０１は、図２１に示すような、成形型３０３を用いて射出成形によって製造することができる。

この成形型３０３の製造方法は、実施形態１における成形型である光学基板３の製造方法と同様である。ただし、エッチング時の条件を変えることによって、各微小凹部３３１の形状を上記光学基板３の微小凹部３１の形状と変えて、微小凸部３２０を反転させた形状に形成することができる。

以上説明してきた複数の微小凸部３２０，３２０，…に囲まれた凹部３２４に平面状の部分が形成されていない構成においては、微小凸部３２０，３２０，…の間に平面状に形成された構成と比較して、反射率をより抑制することができる。

詳しくは、図２２には、入射光Ｌの波長に対する反射率の相関を示している。このとき、入射角は０度であり、微小凸部３２０，３２０，…の周期Ｐは２００ｎｍ、高さＨは３００ｎｍである。図２２からわかるように、平面状の部分がない拡散板３０１の方が可視光域の略全範囲において反射率をより抑制することができる。また、拡散板３０１の方が、平面状の部分が形成されている構成に比べて、波長依存性が小さい。

また、図２３には、入射光Ｌの入射角に対する反射率の相関を示している。このとき、入射光Ｌの波長は５５０ｎｍであり、微小凸部３２０，３２０，…の周期Ｐは２００ｎｍ、高さＨは３００ｎｍである。図２３からわかるように、平面状の部分がない拡散板３０１の方が、平面状の部分が形成されている構成に比べて、ほとんどの入射角において、反射率をより抑制することができる。

したがって、変形例２によれば、隣り合う円錐状の微小凸部３２０，３２０を、それぞれの側周面３２１，３２１が交わるように隣接させると共に、１つの凹部３２４を囲むように環状に配置された４つの微小凸部３２０，３２０，…において、互いに隣り合う微小凸部３２０，３２０の間に形成される４つの稜線３２２，３２２，…が凹部３２４において１点に集合するように、４つの該微小凸部３２０，３２０，…を近接して配置することによって、拡散板３０１には平面状の部分が形成されないため、屈折率が急激に変化する部分がなくなり、反射光の発生を十分に抑制することができる。

−変形例３−
変形例３に係る拡散板４０１は、微小凸部４２０の配置が上記微小凸部２０の配置と異なる。そこで、実施形態１と同様の構成については同様の符号を付して説明を省略し、構成が異なる部分について主に説明する。

変形例３に係る微小凸部４２０は、図２４に示すように、上記微小凸部２０と同様に、直線状の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体、即ち、円錐を基本形状としている。そして、隣り合う微小凸部４２０，４２０は、互いの側周面４２１，４２１が交わった状態で隣接している。このとき、互いの側周面４２１，４２１が交わることによって、隣り合う微小凸部４２０，４２０の間には双曲線状の稜線４２２が形成される。各微小凸部４２０はその六方において他の微小凸部４２０，４２０，…と隣接しているため、各微小凸部４２０はその六方に６つの稜線４２２，４２２，…が形成されている。こうして、各微小凸部４２０に形成されている６つの稜線４２２，４２２，…は、互いに端部同士がつながっており、各微小凸部４２０は、その基端部が該６つの稜線４２２，４２２，…で囲まれている。

このように構成された各微小凸部４２０は、図２５に示すように、平面視で６つの上記稜線４２２，４２２，…で囲まれた正六角形に形成されている。そして、隣り合う微小凸部４２０，４２０同士は正六角形の一辺（即ち、稜線４２２）同士を密着させた状態で隣接している。

その結果、環状に隣接する３つの微小凸部４２０，４２０，…に囲まれた部分に、各微小凸部４２０の頂点からの深さが深くなった凹部４２４が形成される。上述の如く、各微小凸部４２０の基端部が稜線４２２，４２２，…で全周を囲まれている構成においては、凹部４２４を囲む３つの微小凸部４２０，４２０，…のそれぞれの間に形成されている３つの稜線４２２，４２２，…が凹部４２４において１点に集まっている。つまり、該凹部４２４には、平面状の部分が形成されていない。

このように構成された微小凸部４２０，４２０，…を備えた拡散板４０１は、実施形態１における光学基板３の製造方法と同様の方法で成形型を作成し、その成形型を用いて射出成形することによって製造することができる。ただし、光学基板３上に蒸着された金属４２に形成された貫通孔４３の配置を微小凸部４２０，４２０，…の配置に合わせて変更する必要がある。

以上説明してきた複数の微小凸部４２０，４２０，…に囲まれた凹部４２４に平面状の部分が形成されていない構成においては、微小凸部４２０，４２０，…の間に平面状に形成された構成と比較して、反射率をより抑制することができる。

詳しくは、図２６には、入射光Ｌの波長に対する反射率の相関を示している。このとき、入射角は０度であり、微小凸部４２０，４２０，…の周期Ｐは２００ｎｍ、高さＨは３００ｎｍである。図２６からわかるように、平面状の部分がない拡散板４０１の方が可視光域の全範囲において反射率をより抑制することができる。

また、図２７には、入射光Ｌの入射角に対する反射率の相関を示している。このとき、入射光Ｌの波長は５５０ｎｍであり、微小凸部４２０，４２０，…の周期Ｐは２００ｎｍ、高さＨは３００ｎｍである。図２７からわかるように、平面状の部分がない拡散板４０１の方が、平面状の部分が形成されている構成に比べて、ほとんどの入射角において、反射率をより抑制することができる。

したがって、変形例３によれば、隣り合う円錐状の微小凸部４２０，４２０を、それぞれの側周面４２１，４２１が交わるように隣接させると共に、１つの凹部４２４を囲むように環状に配置された３つの微小凸部４２０，４２０，…において、互いに隣り合う微小凸部４２０，４２０の間に形成される３つの稜線４２２，４２２，…が凹部４２４において１点に集合するように、３つの該微小凸部４２０，４２０，…を近接して配置することによって、拡散板４０１には平面状の部分が形成されないため、屈折率が急激に変化する部分がなくなり、反射光の発生を十分に抑制することができる。

《発明の実施形態２》
次に、本発明の実施形態２に係る拡散板５０１について説明する。

この実施形態２に係る拡散板５０１は、その表面形状が実施形態１と異なる。

詳しくは、実施形態１に係る拡散板１の表面１０には微小凸部２０，２０，…が形成されているのに対し、実施形態２に係る拡散板５０１の表面５１０には微小凹部５２０，５２０，…が形成されている。

詳しくは、拡散板５０１の表面には、図２８に示すように、複数の微小凹部５２０，５２０，…が規則的に配列されている。この微小凹部５２０，５２０，…は、実施形態１に係る微小凸部２０，２０，…の反転形状と一致する。すなわち、拡散板５０１の表面形状は、実施形態１に係る拡散板１の成形型である光学基板３の形状と同じである。

すなわち、各微小凹部５２０は、基端側から先端側に向かって先細状になった円錐状に形成されており、その四方において他の微小凹部５２０，５２０，…と隣接している。

詳しくは、各微小凹部５２０は、直線状の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体、即ち、円錐を基本形状としている。そして、隣り合う微小凹部５２０，５２０は、互いの側周面５２１，５２１が交わった状態で隣接している。このとき、互いの側周面５２１，５２１が交わることによって、隣り合う微小凹部５２０，５２０の間には双曲線状の稜線５２２が形成される。つまり、上述の如く、各微小凹部５２０はその四方において他の微小凹部５２０，５２０，…と隣接しているため、各微小凹部５２０はその四方に４つの稜線５２２，５２２，…が形成されている。こうして、各微小凹部５２０に形成されている４つの稜線５２２，５２２，…は、互いに端部同士がつながっており、各微小凹部５２０は、その基端部が該４つの双曲線状の稜線５２２，５２２，…で囲まれている。

このように構成された各微小凹部５２０は、平面視で４つの上記稜線５２２，５２２，…で囲まれた正方形に形成されている。そして、隣り合う微小凹部５２０，５２０同士は正方形の一辺（即ち、稜線５２２）同士を密着させた状態で隣接している。

すなわち、微小凹部５２０，５２０，…が直交する２つの方向に配列された結果、環状に隣接する４つの微小凹部５２０，５２０，…の間に、各微小凹部５２０の頂点からの高さが高くなった凸部５２４が形成される。上述の如く、各微小凹部５２０の基端部が稜線５２２，５２２，…で全周を囲まれている構成においては、凸部５２４を囲む４つの微小凹部５２０，５２０，…のそれぞれの間に形成されている４つの稜線５２２，５２２，…が凸部５２４において１点に集まっている。つまり、該凸部５２４には、平面状の部分が形成されていない。

このように構成された微小凹部５２０，５２０，…を備えた拡散板５０１は、実施形態１において成形型として用いた光学基板３と同様の方法で製造することができる。すなわち、実施形態１に係る製造方法で、成形型ではなく拡散板５０１を製造する。さらには、そうして製造した拡散板５０１を基に該拡散板５０１を反転させた成形型を作成して、該成形型を用いて拡散板５０１を射出成形により製造してもよい。

以上説明してきた複数の微小凹部５２０，５２０，…に囲まれた凸部５２４に平面状の部分が形成されていない構成においては、微小凹部５２０，５２０，…の間に平面状に形成された構成と比較して、反射率をより抑制することができる。

したがって、実施形態２によれば、隣り合う円錐状の微小凹部５２０，５２０を、それぞれの側周面５２１，５２１が交わるように隣接させると共に、１つの凸部５２４を囲むように環状に配置された４つの微小凹部５２０，５２０，…において、互いに隣り合う微小凹部５２０，５２０の間に形成される４つの稜線５２２，５２２，…が凸部５２４において１点に集合するように、４つの該微小凹部５２０，５２０，…を近接して配置することによって、拡散板５０１には平面状の部分が形成されないため、屈折率が急激に変化する部分がなくなり、反射光の発生を十分に抑制することができる。

尚、微小凹部は、上記変形例１，２に係る成形型と同様の形状にしてもよい。すなわち、微小凹部の形状は、円錐に限られるものではなく、所定形状の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体であれば任意の形状に形成することができる。

また、微小凹部は、上記変形例３に係る微小凸部４２０，４２０，…の成形型、即ち、微小凸部４２０，４２０，…の反転形状に形成してもよい。

さらに、上記微小凸部及び微小凹部は、回転体に限られず、側周面が曲面であれば、即ち、断面が楕円等の環状の曲線となる形状であれば、任意の形状に形成することができる。

《発明の実施形態３》
続いて、このように隣り合う先細状の微小凸部を、それぞれの側周面が交わるように隣接させると共に、複数の、互いに隣り合う微小凸部の間に形成される稜線が複数の微小凸部で環状に囲まれた凹部で１点に集合するように、複数の該微小凸部を近接して配置する構成において、微小凸部の形状と反射率との関係をシミュレーションにより算出した。

まず、複数の微小凸部の間に形成される稜線の頂部の高さに対する反射率について算出した。ここで、稜線の頂部の高さとは、該微小凸部の長手方向（中心軸方向）において最も離れた稜線上の２点間の距離で定義され、具体的には、微小凸部の底面から稜線の頂部までの微小凸部の長手方向への距離を意味する（図３１（Ｄ）参照）。以下、稜線の頂部の高さを、稜線の高さともいう。

具体的には、四方に隣り合う先細状の微小凸部を、それぞれの側周面が交わるように隣接させると共に、４つの、互いに隣り合う微小凸部の間に形成される稜線が４つの微小凸部で環状に囲まれた凹部で１点に集合するように、複数の該微小凸部を近接して配置する構成を前提として、微小凸部の母線形状を変形させることで稜線の高さを変化させ、その際の反射率をシミュレーションによって求めた。

まず、頂点から底面に向かって外方に拡がった母線を中心軸回りに回転させてなる回転体であって、高さが１で幅が２の回転体を想定する。そして、該回転体の母線の形状を以下の式（１）を用いて、変化させる。

ここで、
ｘ：回転体の中心から幅方向への距離（ただし、−１≦ｘ≦１）
ｚ：回転体の高さ（ただし、０≦ｚ≦１）
つまり、変数ｐを様々な値に設定することで、上記回転体の母線形状が変化する。例えば、図２９に示すように、母線形状を変化させることができる。この母線形状を、幅方向及び高さ方向に拡大、縮小させることによって、母線形状を式（１）に従って変化させた回転体を様々な幅及び高さで作成することができる。

ここでは、該回転体を、図３０に示すように、幅が√２となるように幅方向に縮小させる。

つまり、本実施形態では、４つの微小凸部が直交する四方に隣接し、隣り合う微小凸部の側周面でそれぞれ形成される４つの稜線が４つの微小凸部で囲まれた凹部において１点に集合するように構成されているため、図４に示すように、微小凸部の頂点から延びる母線が底面に到達するのは凹部においてのみである。かかる凹部は、図５に示すように、正方形をした、微小凸部の底面における頂点に位置する。したがって、微小凸部は、正方形の外接円（即ち、正方形の４つの頂点を通る円）を底面とする回転体を基本形状とし、その側周面を四方において切断したものである。

ここで、高さを微小凸部の高さ（全高）で規準化し（即ち、最大高さが１となる）、中心からの距離を微小凸部の周期で規準化した（即ち、微小凸部の配列方向への全幅が１となる）微小凸部を想定すると、配列方向に延びる、正方形をした底面の一辺の長さは１となる。この場合、上記外接円の直径となる底面の対角線の長さは、√２となる。

こうして、高さを微小凸部の高さ（全高）で規準化し、中心からの距離を微小凸部の周期で規準化した微小凸部の母線形状が、図３０に示すように、種々想定される。

そして、かかる各種形状の母線を中心軸回りに回転させて回転体を形成し、該回転体の底面が一辺の長さが１の正方形となるように、該回転体の側周面を四方において該回転体の中心軸と平行に切断する。その結果、図３１に示すような、様々な母線形状をした微小凸部６２０Ａ，６２０Ｂ，…が作成される。

こうして、様々な母線形状の微小凸部６２０Ａ，６２０Ｂ，…が作成されると、それぞれの微小凸部６２０に対する反射率を、ＲＣＷＡ（Rigorous Coupled-Wave Analysis）法を用いたシミュレーションにより求める。

詳しくは、入射光の波長を５３０ｎｍ、入射角を０度とし、微小凸部６２０の周期を２００ｎｍとし、微小凸部６２０の屈折率を１．５として、微小凸部６２０の母線形状と高さを変えながら（詳しくは、式（１）の変数ｐの値を変えると共に、微小凸部６２０を高さ方向に拡大、縮小させながら）、ＲＣＷＡ法により微小凸部６２０の反射率を求めた。

その結果を図３２に示す。図３２においては、微小凸部６２０の母線形状を、式（１）における変数ｐの対数で表し、微小凸部６２０の高さを入射光の波長で規準化している。すなわち、図３２では、微小凸部６２０の母線形状の評価値としての、変数ｐの対数を縦軸にとって、微小凸部６２０の母線形状及び高さに対する反射率の変化を表している。図３２からわかるように、波長に対する微小凸部６２０の高さが高くなるほど、また、変数ｐの対数が−１．０〜０．０の領域に近付くほど、反射率の抑制効果が大きい。また、反射率が等しい各領域は、log_epの負側に拡がっている。したがって、母線形状を内方に窪ませる方が反射率を抑制することができる。例えば、微小凸部の製造時に所定の設計形状に対して許容公差を設定する上でも、母線形状を設計形状よりも内方に窪ませる側の許容公差を設定することによって、十分な反射率抑制効果を確保することができる。

ここで、図３１からわかるように、微小凸部６２０の母線形状が変わると、稜線６２２の高さ（（Ｄ）中の符号ｈ）も変わる。尚、図３０においては、中心軸からの距離が０．５（又は−０．５）の位置の母線の高さが、各母線形状の微小凸部６２０の稜線６２２の高さとなる。そこで、図３２における、変数ｐの対数を、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さに変換して、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さを縦軸にとって、微小凸部６２０の稜線６２２の高さ及び微小凸部６２０の高さに対する反射率の変化をグラフ化すると、図３３に示すようになる。図３３からわかるように、波長に対する微小凸部６２０の高さが高くなるほど、また、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さが２０〜４０％の領域に近付くほど、反射率の抑制効果が大きい。

つまり、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さを５〜８５％であって、波長に対する微小凸部６２０の高さを０．４以上とすることによって、反射率を１．０％未満に抑制することができる。好ましくは、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さを１０〜７０％であって、波長に対する微小凸部６２０の高さを０．５以上とすることによって、反射率を０．５％未満に抑制することができる。さらに好ましくは、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さが２０〜４０％であって、波長に対する微小凸部６２０の高さが０．６以上とすることによって、反射率を０．１％未満に抑制することができる。

ここで、図１１に示すような、隣接する微小凸部の側周面が交わっておらず且つ、複数の微小凸部によって環状に囲まれた部分に平面部が残る構成における、微小凸部の母線形状に対する反射率をシミュレーションにより求めた。

かかる構成では、隣接する微小凸部の側周面が交わらないため、微小凸部の基本形となる回転体の直径は、微小凸部の配列方向幅と同様の１となる。そこで、図２９に示す、各種母線形状を、図３４に示すように、幅が１となるように幅方向に縮小させる。すると、図３５に示すように、様々な母線形状の微小凸部７２０Ａ，７２０Ｂ，…が作成される。

そして、それぞれの微小凸部７２０に対する反射率を、ＲＣＷＡ（Rigorous Coupled-Wave Analysis）法を用いたシミュレーションにより求める。シミュレーションの条件は、平面部を有さない微小凸部６２０Ａ，６２０Ｂ，…の場合と同様である。

その結果を図３６に示す。図３６においては、微小凸部７２０の母線形状を、式（１）における変数ｐの対数で表し、微小凸部７２０の高さを入射光の波長で規準化している。すなわち、図３６では、微小凸部７２０の母線形状の評価値としての、変数ｐの対数を縦軸にとって、微小凸部７２０の母線形状及び高さに対する反射率の変化を表している。図３６からわかるように、平面部がない微小凸部６２０Ａ，６２０Ｂ，…の場合と比べて、反射率を０．１未満に抑制できる領域が小さく、全体的に反射率抑制効果が小さい。また、例えば反射率を０．１未満に抑制できる領域は島状に形成されている。図３６の横軸は、入射光の波長に対する微小凸部の高さを表しており、横軸の値の変化は、微小凸部の高さの変化であると同時に、入射光の波長の変化であると捉えることができる。つまり、反射率を所定量に抑制できる領域が横軸方向に波打つということは、反射率抑制効果に波長依存性があるということになり、可視光のように広い帯域の光が入射する環境においては、光の波長毎に反射率が異なることになってしまう。

このように平面部がある微小凸部７２０の結果と比較すると、平面部がない微小凸部６２０においては、反射率を全体的に抑制することができる。それに加えて、反射率抑制効果の波長依存性も抑制することができるため、広い帯域の光が入射する環境においても各波長について均一に反射率を抑制することができ、反射防止構造体として有効に機能させることができる。

続いて、微小凸部６２０の屈折率を変えて、シミュレーションを行った。

具体的には、上記シミュレーション条件の微小凸部６２０の屈折率を１．５から１．８に変更して、シミュレーションを行った。

その結果を図３７に示す。また、縦軸を微小凸部の高さに対する稜線の高さに変換した結果を図３８に示す。屈折率を１．８にした場合、図３２，３３に示す屈折率１．５の場合の結果と比較すると、反射率１．０％未満の領域、０．５％未満の領域、０．１％未満の領域はそれぞれ小さくなっているものの、反射率の変化の態様は同様であり、また、屈折率１．５の場合と同様に高い反射率抑制効果を有している。

さらに、上記シミュレーション条件の屈折率を２．１に変更して、シミュレーションを行った。

その結果を図３９に示す。また、縦軸を微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さに変換した結果を図４０に示す。屈折率を２．１にした場合、図３２，３３に示す屈折率１．５の結果や、図３７，３８に示す屈折率１．８の結果と比較すると、反射率１．０％未満の領域、０．５％未満の領域、０．１％未満の領域はそれぞれ小さくなっているものの、反射率の変化の態様は同様であり、屈折率１．５の場合と同様に高い反射率抑制効果を有している。

次に、微小凸部６２０の母線形状を指数関数に従って変化させながら、反射率をシミュレーションによって求める。

まず、頂点から底面に向かって外方に拡がった母線を中心軸回りに回転させてなる回転体であって、高さが１で幅が２の回転体を想定する。そして、該回転体の母線の形状を以下の式（２）を用いて、変化させる。

ここで、
ｘ：回転体の中心から幅方向への距離（ただし、−１≦ｘ≦１）
ｚ：回転体の高さ（ただし、０≦ｚ≦１）
つまり、変数ｐを様々な値に設定することで、母線形状が変化する。例えば、図４１に示すように、母線形状を変化させることができる。

次に、該回転体を、上述の式（１）を用いた母線形状の変形のときと同様に、幅が√２となるように幅方向に縮小させる。そして、該回転体の底面が一辺の長さが１の正方形となるように、該回転体の側周面を四方において該微小凸部の中心軸と平行に切断する。その結果、図４２に示すような、様々な母線形状をした微小凸部６２０Ｇ，６２０Ｈ，…が作成される。

こうして、様々な母線形状の微小凸部６２０Ｇ，６２０Ｈ，…が作成されると、それぞれの微小凸部６２０に対する反射率を、ＲＣＷＡ法を用いたシミュレーションにより求める。

詳しくは、入射光の波長を５３０ｎｍ、入射角を０度とし、微小凸部６２０の周期を２００ｎｍとし、微小凸部６２０の屈折率を１．５として、微小凸部６２０の母線形状と高さを変えながら、ＲＣＷＡ法により微小凸部６２０の反射率を求めた。

その結果を図４３に示す。図４３においては、微小凸部６２０の母線形状を、式（２）における変数ｐで表し、微小凸部６２０の高さを入射光の波長で規準化している。すなわち、図４３では、微小凸部６２０の母線形状の評価値としての変数ｐを縦軸にとって、微小凸部６２０の母線形状及び高さに対する反射率の変化を表している。図４３からわかるように、波長に対する微小凸部６２０の高さが高くなるほど、また、変数ｐの対数が−１．０〜１．０の領域に近付くほど、反射率の抑制効果が大きい。

次に、変数ｐを微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さに変換して、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さを縦軸にとって、微小凸部６２０の稜線６２２の高さ及び微小凸部６２０の高さに対する反射率の変化をグラフ化すると、図４４に示すようになる。図４４からわかるように、波長に対する微小凸部６２０の高さが高くなるほど、また、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さが２０〜４０％の領域に近付くほど、反射率の抑制効果が大きい。

つまり、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さを５〜８５％であって、波長に対する微小凸部の高さを０．４以上とすることによって、反射率を１．０％未満に抑制することができる。好ましくは、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さを１０〜７０％であって、波長に対する微小凸部６２０の高さを０．５以上とすることによって、反射率を０．５％未満に抑制することができる。さらに好ましくは、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さが２０〜４０％であって、波長に対する微小凸部６２０の高さが０．６以上とすることによって、反射率を０．１％未満に抑制することができる。

この母線形状を式（２）に従って変化させた際の、稜線６２２の高さ及び微小凸部６２０の高さに対する反射率の関係は、母線形状を式（１）に従って変化させた際の結果とほとんど同じである（図３３，４４参照）。

そこで、母線形状を式（１）に従って変化させた場合と母線形状を式（２）に従って変化させた場合とで、各稜線６２２の高さ及び各微小凸部６２０の高さに対する反射率の平均値を算出すると、図４５に示すようになる。この平均反射率の結果は、当然ながら、母線形状を式（１）に従って変化させた際の結果、及び母線形状を式（２）に従って変化させた際の結果とほとんど同じである。つまり、隣り合う先細状の微小凸部６２０を、それぞれの側周面が交わるように隣接させると共に、複数の、互いに隣り合う微小凸部６２０の間に形成される稜線が複数の微小凸部で環状に囲まれた凹部で１点に集合するように、複数の該微小凸部を近接して配置する構成において、微小凸部６２０の稜線６２２の高さを調節することによって、反射率を調節することができる。

つまり、平面部を有さないように側周面を交わらせて隣接される先細状の微小凸部６２０においては、稜線６２２の高さを変化させると、稜線６２２の頂部よりも微小凸部６２０の基端側の部分、即ち、複数の微小凸部６２０に囲まれた凹部の形状が変化すると共に、稜線６２２の頂部よりも微小凸部６２０の先端側の部分、即ち、微小凸部６２０の先端部分の形状が変化する。そして、微小凸部６２０の側周面の傾き等の形状は反射率に影響を与える。したがって、稜線６２２の高さが決まると、微小凸部６２０の先端形状や複数の微小凸部６２０で囲まれた凹部の形状が大体決まることになり、ひいては、反射率も決まるものと考えられる。その結果、稜線６２２の高さを調節することで、反射率を調節することができるものと考えられる。特に、母線の傾きが頂点に向かって単調に変化（本実施形態では単調減少）する微小凸部６２０においては、稜線６２２の高さが決まると、母線の形状にかかわらず、微小凸部６２０の先端形状や複数の微小凸部６２０で囲まれた凹部の形状は大体決まる。

詳しくは、図４５に示すように、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さｈ及び波長に対する微小凸部６２０の高さＺを式（３）を満たす範囲に設定することによって、反射率を抑制することができる。具体的には、微小凸部６２０の屈折率が１．５の場合には反射率を１．０％未満に抑制することができる。

Z≧766.38h⁶-2181.4h⁵+2454.0h⁴-1379.5h³+405.18h²-58.952h+3.7269 ・・・（３）
好ましくは、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さｈ及び波長に対する微小凸部６２０の高さＺを式（４）を満たす範囲に設定することによって、反射率を抑制することができる。具体的には、微小凸部６２０の屈折率が１．５の場合には反射率を０．５％未満に抑制することができる。

Z≧1538.3h⁶-3896.6h⁵+3914.8h⁴-1981.8h³+532.99h²-73.223h+4.5821 ・・・（４）
さらに好ましくは、微小凸部６２０の高さに対する稜線６２２の高さｈ及び波長に対する微小凸部６２０の高さＺを式（５）を満たす範囲に設定することによって、反射率を抑制することができる。具体的には、微小凸部６２０の屈折率が１．５の場合には反射率を０．１％未満に抑制することができる。

Z≧1519.5h⁶-3511.4h⁵+3410.4h⁴-1736.7h³+491.06h²-75.649h+5.7326 ・・・（５）
そして、稜線６２２の高さは、１つの手法として、微小凸部６２０の母線形状を変化させることで調節することができる。

以上、稜線６２２の高さに対する反射率の関係について説明してきたが、続いて、微小凸部６２０の側周面の傾きと反射率との関係について検討する。

上記式（１）に従った種々の母線形状を有する微小凸部６２０の側周面は、図４６に示すような傾き分布を有している。母線が内方に大きく窪んでいる微小凸部（例えば、log_eｐ=-3〜-2.5）や母線が外方に大きく膨らんでいる微小凸部（例えば、log_eｐ=1〜2）では、傾きが小さな領域（例えば、０〜１０度の領域）が大きくなっている。

ここで、微小凸部６２０の平均傾き（＝全高／（全幅／２））の１／１０を傾きの小ささの指標とし、上記式（１）に従った種々の母線形状を有する微小凸部６２０において、側周面の傾きが平均傾きの１／１０未満の領域、即ち、傾きが小さな領域を抽出すると、図４７に示すようになる。尚、図４７において、各微小凸部の括弧内の数値は、微小凸部６２０の底面積に対する、側周面の傾きが平均傾きの１／１０未満の領域の底面への投影面積の比である。母線が内方に大きく窪むにつれて、あるいは、母線が外方に大きく膨らむにつれて、側周面の傾きが平均傾きの１／１０未満の領域が大きくなっている。一方、図３２，３７，３９からわかるように、母線が内方に大きく窪んだり、母線が外方に大きく膨らむと、反射率が大きくなる。つまり、側周面の傾きと反射率との間には相関があり、傾きが小さい領域の割合が大きくなると、反射率も大きくなると考えられる。したがって、傾きが小さい領域の割合を調節することで、反射率を所望の値に調節することができる。そして、傾きが小さい領域の割合は、１つの手法として、微小凸部６２０の母線形状を変化させることで調節することができる。

また、変数ｐの対数と側周面の傾きが平均傾きの１／１０未満の領域の割合との関係は図４８に示すようになる。つまり、図３２，３７，３９の縦軸を図４８の関係に基づいて変換すると、側周面の傾きが平均傾きの１／１０未満の領域の割合及び微小凸部６２０の高さに対する反射率の関係を知ることができる。

尚、ここでは、微小凸部６２０の平均傾きの１／１０を傾きの小ささの基準として採用したが、これに限られるものではない。例えば、微小凸部６２０の平均傾きの１／５を基準としてもよいし、側周面の絶対的な傾き（例えば、１０°）を基準としてもよい。
《発明の実施形態４》
実施形態４に係る反射防止構造体では、上記実施形態１の変形例３のように、複数の微小凸部が互いの側周面を交わらせて六方に隣接している。そして、３つの微小凸部で囲まれた凹部においては３つの稜線が１点に集合している。かかる構成では、微小凸部の底面は、図２５に示すように、正六角形となる。すなわち、微小凸部は、正六角形の外接円を底面とする回転体を基本形状として、底面が正六角形となるように、側周面を中心軸と平行に切断したものである。

ここで、複数の微小凸部の配列方向（即ち、正六角形の対辺が向き合う方向）の幅を１とすると、微小凸部の基本形状の錐体の直径は２／√３となる。そこで、図２９に示す微小凸部の幅を２／√３となるように縮小させると、図４９に示すような、各種の母線形状を想定することができる。かかる各種母線形状をした回転体の側周面を底面が正六角形となるように中心軸と平行に切断することによって、各種微小凸部が作成される。

そして、それぞれの微小凸部に対する反射率を、ＲＣＷＡ（Rigorous Coupled-Wave Analysis）法を用いたシミュレーションにより求めた。詳しくは、入射光の波長を５３０ｎｍ、入射角を０度とし、微小凸部の周期を２００ｎｍとし、屈折率を１．５として、微小凸部の母線形状と高さを変えながら、ＲＣＷＡ法により微小凸部の反射率を求めた。

その結果を図５０に示す。図５０においては、微小凸部の母線形状を、式（１）における変数ｐの対数で表し、微小凸部の高さを入射光の波長で規準化している。すなわち、図５０では、微小凸部の母線形状の評価値としての、変数ｐの対数を縦軸にとって、微小凸部の母線形状及び高さに対する反射率の変化を表している。図５０からわかるように、波長に対する微小凸部の高さが高くなるほど、また、変数ｐの対数が０．０に近付くほど、反射率の抑制効果が大きい。

また、変数ｐの対数を微小凸部の高さに対する稜線の高さに変換して、微小凸部の高さに対する稜線の高さを縦軸にとって、微小凸部の稜線の高さ及び微小凸部の高さに対する反射率の変化をグラフ化すると、図５１に示すようになる。図５１からわかるように、波長に対する微小凸部の高さが高くなるほど、また、微小凸部の高さに対する稜線の高さが１０〜２０％に近付くほど、反射率の抑制効果が大きい。

尚、複数の微小凸部が六方に隣接するが、隣接する微小凸部の側周面が交わっておらず且つ、複数の微小凸部によって環状に囲まれた部分に平面部が残る構成においては、図５２に示すように、平面部がない微小凸部の場合と比べて、反射率を所定量に抑制できる領域が横軸方向に波打っている、即ち、反射率抑制効果に波長依存性がある。そのため、可視光のように広い帯域の光が入射する環境においては、光の波長毎に反射率が異なることになってしまう。
《発明の実施形態５》
実施形態５に係る反射防止構造体は、微小凸部８２０の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体ではなく、底面が方形の四角錐を基本形状としている。複数の、かかる四角錐状の微小凸部を底辺が重なり合うように四方に隣接させることによって、隣接する微小凸部８２０，８２０，…の側周面が交わり、側周面が交わることでに形成される稜線８２２，８２２，…が複数の微小凸部８２０，８２０，…に囲まれた凹部において１点に集合した反射防止構造体が形成される。こうすることで、底面の法線方向を向く平面部がない反射防止構造体を形成することができる。

このような、四角錐状の微小凸部８２０において、底面が正方形であって、高さを微小凸部の高さ（全高）で規準化し（即ち、最大高さが１となる）、中心からの距離をを微小凸部の周期で規準化した（即ち、正方形の一辺が１となる）微小凸部を想定し、母線（即ち、四角錐の側稜）の形状を上記式（１）に従って変化させて、図５３に示すように、種々の母線形状の微小凸部８２０Ａ，８２０Ｂ，…を作成した。

そして、それぞれの微小凸部８２０Ａ，８２０Ｂ，…に対する反射率を、ＲＣＷＡ（Rigorous Coupled-Wave Analysis）法を用いたシミュレーションにより求めた。詳しくは、入射光の波長を５３０ｎｍ、入射角を０度とし、微小凸部の周期を２００ｎｍとし、屈折率を１．５として、微小凸部８２０の母線形状と高さを変えながら、ＲＣＷＡ法により微小凸部８２０Ａ，８２０Ｂ，…の反射率を求めた。

その結果を図５４に示す。図５４においては、微小凸部８２０の母線形状を、式（１）における変数ｐの対数で表し、微小凸部８２０の高さを入射光の波長で規準化している。すなわち、図５４では、微小凸部８２０の母線形状の評価値としての、変数ｐの対数を縦軸にとって、微小凸部８２０の母線形状及び高さに対する反射率の変化を表している。図５４からわかるように、波長に対する微小凸部８２０の高さが高くなるほど、また、変数ｐの対数が０．０に近付くほど、反射率の抑制効果が大きい。また、回転体を基本形状とした微小凸部６２０の場合と比べて、反射率を所定量に抑制できる領域が横軸方向に多少、波打っており、反射率抑制効果に波長依存性がみられる。特に、母線が外方に膨らんでいる領域において、反射率抑制効果の波長依存性が大きい。
《発明の実施形態６》
実施形態６に係る反射防止構造体は、上記実施形態２と同様に、複数の微小凹部９２０，９２０，…が形成されている。この微小凹部９２０は、実施形態３に係る微小凸部を反転させたものである。つまり、母線形状を式（１）に従って変化させた回転体の側周面を、底面が正方形となるように切断した微小凸部６２０を反転させることで、図５５に示すように、母線形状が様々な微小凹部９２０Ａ，９２０Ｂ，…が作成される。

そして、それぞれの微小凹部９２０Ａ，９２０Ｂ，…に対する反射率を、ＲＣＷＡ法を用いたシミュレーションにより求めた。詳しくは、入射光の波長を５３０ｎｍ、入射角を０度とし、微小凹部９２０の周期を２００ｎｍとし、屈折率を１．５として、微小凹部９２０の母線形状と高さを変えながら、ＲＣＷＡ法により微小凹部９２０Ａ，９２０Ｂ，…の反射率を求めた。ここで、微小凹部９２０の高さとは、微小凹部９２０の長手方向（中心軸方向）において最も離れた２点間の距離で定義され、具体的には、最も低い部分（微小凹部９２０の頂部（最深部））から最も高い部分（隣接する４つの微小凹部９２０，９２０，…の間に形成された凸部）までの微小凹部９２０の長手方向への距離を意味する。

その結果を図５６に示す。図５６においては、微小凹部９２０の母線形状を、式（１）における変数ｐの対数で表し、微小凹部９２０の高さを入射光の波長で規準化している。すなわち、図５６では、微小凹部９２０の母線形状の評価値としての、変数ｐの対数を縦軸にとって、微小凹部９２０の母線形状及び高さに対する反射率の変化を表している。図５６からわかるように、微小凹部９２０の高さが高くなる（即ち、深さが深くなる）ほど、また、変数ｐの対数が−０．５〜０．０に近付くほど、反射率の抑制効果が大きい。

次に、変数ｐを微小凹部９２０の高さに対する稜線９２２の高さに変換して、微小凹部９２０の高さに対する稜線９２２の高さを縦軸にとって、微小凹部９２０の稜線９２２の高さ及び微小凹部９２０の高さに対する反射率の変化をグラフ化すると、図５７に示すようになる。ここで、稜線９２２の高さとは、上述の如く、該微小凹部９２０の長手方向（中心軸方向）において最も離れた稜線上の２点間の距離で定義され、具体的には、隣接する４つの微小凹部９２０，９２０，…の間に形成された凸部から稜線９２２の頂部までの微小凹部９２０の長手方向への距離を意味する（図５５（Ｄ）参照）。図５７からわかるように、波長に対する微小凹部９２０の高さが高くなるほど、また、微小凹部９２０の高さに対する稜線９２２の高さが３０〜５０％に近付くほど、反射率の抑制効果が大きい。

つまり、微小凹部９２０の高さに対する稜線９２２の高さを５〜９０％であって、波長に対する微小凹部９２０の高さを０．５以上とすることによって、反射率を１．０％未満に抑制することができる。好ましくは、微小凹部９２０の高さに対する稜線９２２の高さを１０〜８０％であって、波長に対する微小凹部９２０の高さを０．６以上とすることによって、反射率を０．５％未満に抑制することができる。さらに好ましくは、微小凹部９２０の高さに対する稜線９２２の高さが２０〜５５％であって、波長に対する微小凹部９２０の高さが１．０以上であれば、反射率を０．１％未満に抑制することができる。

《その他の実施形態》
本発明は、上記実施形態について、以下のような構成としてもよい。

すなわち、上記実施形態では、微小凸部又は微小凹部の母線形状を式（１）又は（２）に基づいて変化させているが、これに限られるものではない。様々な母線形状の微小凸部又は微小凹部に対して、上記実施形態を適用することができる。つまり、様々な母線形状の微小凸部又は微小凹部に対して、稜線の高さや側周面の傾きが小さな領域の割合を調節することによって反射率を所望の値に設定することができる。

以上の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。

以上説明したように、本発明は、反射防止構造体及びそれを備えた光学装置について有用である。

本発明の実施形態１に係る微小凸部を示す部分斜視図である。 拡散板を示す概略斜視図である。 拡散板の断面図である。 １つの微小凸部を示す斜視図である。 微小凸部の平面図である。 微小凸部の断面図であって、（Ａ）は図５のVIA−VIA線における断面図であり、（Ｂ）は図５のVIB−VIB線における断面図である。 拡散板を製造するための成形型の製造方法を示す模式図であって、（Ａ）は描画工程を、（Ｂ）は現像工程を、（Ｃ）は金属蒸着工程を、（Ｄ）レジスト除去工程を示す。 金属マスクが形成された光学基板の平面図である。 光学基板がエッチングされる様子を示す模式図である。 拡散板の成形型の斜視図である。 比較例となる微小凸部の斜視図である。 波長と反射率の相関を示すグラフである。 入射角と反射率の相関を示すグラフである。 変形例１に係る微小凸部を示す部分斜視図である。 微小凸部の断面図であって、（Ａ）は図６（Ａ）に対応する断面図であり、（Ｂ）は図６（Ｂ）に対応する断面図である。 拡散板の成形型の斜視図である。 波長と反射率の相関を示すグラフである。 入射角と反射率の相関を示すグラフである。 変形例２に係る微小凸部を示す部分斜視図である。 微小凸部の断面図であって、（Ａ）は図６（Ａ）に対応する断面図であり、（Ｂ）は図６（Ｂ）に対応する断面図である。 拡散板の成形型の斜視図である。 波長と反射率の相関を示すグラフである。 入射角と反射率の相関を示すグラフである。 変形例３に係る微小凸部を示す部分斜視図である。 微小凸部の平面図である。 波長と反射率の相関を示すグラフである。 入射角と反射率の相関を示すグラフである。 実施形態１に係る微小凹部を示す部分斜視図である。 式（１）の関係を示すグラフである。 式（１）に基づいて算出された、微小凸部の母線形状を示すグラフである。 式（１）に従って母線形状を変形させた微小凸部を示す斜視図であって、式（１）の変数ｐが（Ａ）はlog_eｐ=-3、（Ｂ）はlog_eｐ=-2、（Ｃ）はlog_eｐ=-1、（Ｄ）はlog_eｐ=0、（Ｅ）はlog_eｐ=1、（Ｆ）はlog_eｐ=2の微小凸部を示す。 微小凸部（屈折率１．５）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の母線形状及び高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凸部（屈折率１．５）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の稜線の高さ及び微小凸部の高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 式（１）に基づいて算出された、平面部を有する微小凸部の母線形状を示すグラフである。 式（１）に従って母線形状を変形させた、平面部を有する微小凸部を示す斜視図であって、式（１）の変数ｐが（Ａ）はlog_eｐ=-3、（Ｂ）はlog_eｐ=-2、（Ｃ）はlog_eｐ=-1、（Ｄ）はlog_eｐ=0、（Ｅ）はlog_eｐ=1、（Ｆ）はlog_eｐ=2の微小凸部を示す。 平面部を有する微小凸部（屈折率１．５）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の母線形状及び高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凸部（屈折率１．８）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の母線形状及び高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凸部（屈折率１．８）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の稜線の高さ及び微小凸部の高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凸部（屈折率２．１）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の母線形状及び高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凸部（屈折率２．１）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の稜線の高さ及び微小凸部の高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 式（２）の関係を示すグラフである。 式（２）に従って母線形状を変形させた微小凸部を示す斜視図であって、式（１）の変数ｐが（Ａ）はｐ=-3、（Ｂ）はｐ=-2、（Ｃ）はｐ=-1、（Ｄ）はｐ=0、（Ｅ）はｐ=1、（Ｆ）はｐ=2の微小凸部を示す。 微小凸部（屈折率１．５）の母線形状を式（２）に従って変形させた際の、微小凸部の母線形状及び高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凸部（屈折率１．５）の母線形状を式（２）に従って変形させた際の、微小凸部の稜線の高さ及び微小凸部の高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凸部（屈折率１．５）の稜線の高さ及び微小凸部の高さに対する平均反射率の関係を示すグラフである。 式（１）に従って母線形状を変形させた微小凸部の側周面の傾き分布を示すグラフであって、（Ａ）はlog_eｐ=-3、（Ｂ）はlog_eｐ=-2.5、（Ｃ）はlog_eｐ=-2、（Ｄ）はlog_eｐ=-1.5、（Ｅ）はlog_eｐ=-1、（Ｆ）はlog_eｐ=-0.5、（Ｇ）はlog_eｐ=0、（Ｈ）はlog_eｐ=0.5、（Ｉ）はlog_eｐ=1、（Ｊ）はlog_eｐ=1.5、（Ｋ）はlog_eｐ=2の微小凸部に対応するものである。 式（１）に従って母線形状を変形させた微小凸部における、側周面の傾きが微小凸部の平均傾きの１／１０の領域の割合を示すグラフであって、（Ａ）はlog_eｐ=-3、（Ｂ）はlog_eｐ=-2.5、（Ｃ）はlog_eｐ=-2、（Ｄ）はlog_eｐ=-1.5、（Ｅ）はlog_eｐ=-1、（Ｆ）はlog_eｐ=-0.5、（Ｇ）はlog_eｐ=0、（Ｈ）はlog_eｐ=0.5、（Ｉ）はlog_eｐ=1、（Ｊ）はlog_eｐ=1.5、（Ｋ）はlog_eｐ=2の微小凸部に対応するものである。 式（１）に従って変形させた母線形状と側周面の傾きが微小凸部の平均傾きの１／１０の領域の割合との関係を示すグラフである。 微小凸部を最密六方配列する場合の、式（１）に基づいて算出された、微小凸部の母線形状を示すグラフである。 微小凸部を最密六方配列する場合の、微小凸部（屈折率１．５）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の母線形状及び高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凸部を最密六方配列する場合の、微小凸部（屈折率１．５）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の稜線の高さ及び微小凸部の高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凸部を最密六方配列する場合の、平面部を有する微小凸部（屈折率１．５）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の母線形状及び高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 式（１）に従って母線形状を変形させた、四角錐状の微小凸部を示す斜視図であって、式（１）の変数ｐが（Ａ）はlog_eｐ=-3、（Ｂ）はlog_eｐ=-2、（Ｃ）はlog_eｐ=-1、（Ｄ）はlog_eｐ=0、（Ｅ）はlog_eｐ=1、（Ｆ）はlog_eｐ=2の微小凸部を示す。 四角錘状の微小凸部（屈折率１．５）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凸部の母線形状及び高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 式（１）に従って母線形状を変形させた微小凹部を示す斜視図であって、式（１）の変数ｐが（Ａ）はlog_eｐ=-3、（Ｂ）はlog_eｐ=-2、（Ｃ）はlog_eｐ=-1、（Ｄ）はlog_eｐ=0、（Ｅ）はlog_eｐ=1、（Ｆ）はlog_eｐ=2の微小凹部を示す。 微小凹部（屈折率１．５）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凹部の母線形状及び高さに対する反射率の関係を示すグラフである。 微小凹部（屈折率１．５）の母線形状を式（１）に従って変形させた際の、微小凹部の稜線の高さ及び微小凸部の高さに対する反射率の関係を示すグラフである。

１，２０１，３０１，４０１，５０１ 拡散板（反射防止構造体）
２０，２２０，３２０，４２０，６２０，８２０ 微小凸部
２１，２２１，３２１，４２１ 側周面
２２，２２２，３２２，４２２，６２２ 稜線
２３ 仮想切断面（平面）
２４，２２４，３２４，４２４ 凹部
５２０，９２０ 微小凹部
５２１ 側周面
５２２，９２２ 稜線
５２４ 凸部

Claims (11)

1. 所定の波長以上の光の反射を抑制する反射防止構造体であって、
   上記所定の波長以下の周期で規則的に配列された複数の微小凸部を備え、
   上記微小凸部のそれぞれは、基端側から先端側に向かって先細状に形成されていると共に、隣り合う他の上記微小凸部と互いの側周面が交わった状態で隣接しており、
   複数の上記微小凸部で囲まれた凹部において、複数の該微小凸部は、隣り合う該微小凸部の互いの側周面で形成される稜線が全て１点に集まるように近接して配置されている反射防止構造体。
2. 所定の波長以上の光の反射を抑制する反射防止構造体であって、
   上記所定の波長以下の周期で規則的に配列された複数の微小凸部を備え、
   上記微小凸部のそれぞれは、基端側から先端側に向かった先細状に形成され且つその基端部が複数の平面で全周に亘って囲まれて断面多角形状に形成されていて、隣り合う他の上記微小凸部と該平面を介して隣接するように構成されている反射防止構造体。
3. 請求項１又は２に記載の反射防止構造体において、
   以下の条件式を満たす反射防止構造体；
   Z≧766.38h⁶-2181.4h⁵+2454.0h⁴-1379.5h³+405.18h²-58.952h+3.7269
   但し、
   h：隣り合う上記微小凸部の側周面で形成される稜線の、該微小凸部の長手方向における最も低い部分から頂部までの高さ／上記微小凸部の高さ
   Z：上記微小凸部の基端部から先端部までの、該微小凸部の長手方向への高さ／上記所定の波長
   である。
4. 請求項３に記載の反射防止構造体において、
   上記微小凸部は、側周面の傾きが頂点に向かって単調減少している反射防止構造体。
5. 所定の波長以上の光の反射を抑制する反射防止構造体であって、
   上記所定の波長以下の周期で規則的に配列された複数の微小凹部を備え、
   複数の上記微小凹部は、請求項１の反射防止構造体を反転させた形状をしている反射防止構造体。
6. 所定の波長以上の光の反射を抑制する反射防止構造体であって、
   上記所定の波長以下の周期で規則的に配列された複数の微小凹部を備え、
   複数の上記微小凹部は、請求項２の反射防止構造体を反転させた形状をしている反射防止構造体。
7. 請求項１乃至６の何れか１つに記載の反射防止構造体において、
   上記側周面は、曲面で構成されている反射防止構造体。
8. 請求項１又は２に記載の反射防止構造体において、
   上記微小凸部のそれぞれは、所定形状の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体を基本形状としている反射防止構造体。
9. 請求項５又は６に記載の反射防止構造体において、
   上記微小凹部のそれぞれは、所定形状の母線を所定の中心軸回りに回転させてなる回転体を基本形状としている反射防止構造体。
10. 請求項１乃至９のいずれか１つに記載の反射防止構造体を備えた光学装置。
11. 請求項５又は６の何れかに記載の反射防止構造体の製造方法であって、
    基板上にエッチングマスクパターンを形成する第１のステップと、
    上記基板を上記マスクパターンを介してエッチングを施す第２のステップとを備え、
    上記第２のステップにおいて、上記基板の初期面が完全に溶出する程度にエッチングを進行させる、反射防止構造体の製造方法。

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