JP2009179823A - Plastic spring having conductive circuit - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of facilitating the integration of an electronic circuit, saving the consumption of noble metals incorporated in a catalyst, and forming a precise conductive circuit by an electroless plating process. <P>SOLUTION: An injection-molded first spring substrate 2 is roughened, a coating material 3 made of polylactic acid or the like is partially applied thereto, so as to form a second spring substrate 4, and a catalyst 5 is applied thereto. The catalyst 5 stuck to the surface of the hydrophobic coating material 3 is removed by water cleaning. Next, the part 4a to be formed with electroplating not coated with the coating material 3 is subjected to electroless plating having an acidic or neutral bath composition, so as to form a conductive circuit 6, thereafter, the coating material 3 is hydrolyzed with an alkaline solution, so as to be removed. Since the coating material 3 has acid resistance, it is not dissolved with the acid or neutral electroless plating liquid, further, the coating material 3 is removed after the electroless plating, the problem that the catalyst 5 applied to the part 4a to be formed with electroless plating drops out with the alkaline solution does not occur. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、合成樹脂製のばね基体の表面に導電回路を形成した、合成樹脂製のばねに関する。   The present invention relates to a synthetic resin spring in which a conductive circuit is formed on the surface of a synthetic resin spring base.

従来から、複数枚の基板が所定の間隔をもって積層された、3次元的な導電性回路等において、各基板の電極等を相互に電気的に接続する手段として、ばね状の接続端子が用いられている(例えば特許文献1〜3参照。)。   Conventionally, in a three-dimensional conductive circuit or the like in which a plurality of substrates are stacked at a predetermined interval, spring-like connection terminals have been used as means for electrically connecting the electrodes and the like of each substrate to each other. (For example, refer to Patent Documents 1 to 3.)

すなわち特許文献1には、合成樹脂製の支持体1に金属製の板状の端子ピン2を植設した構成が開示されている。端子ピン2の上端部は、支持体1の上面から突出しており、この端子ピンの下端部は、二股状になって、この支持体の下面から突出している。したがって支持体1を上下に積層すると、上側の支持体の下面から突出する端子ピン2の二股状の下端部に、下側の支持体の上面から突出する端子ピンの上端部が挿入係合し、両者が電気的に接続される。   That is, Patent Document 1 discloses a configuration in which a metal plate-like terminal pin 2 is implanted on a synthetic resin support 1. The upper end portion of the terminal pin 2 protrudes from the upper surface of the support body 1, and the lower end portion of the terminal pin has a bifurcated shape and protrudes from the lower surface of the support body. Therefore, when the support body 1 is stacked up and down, the upper end part of the terminal pin protruding from the upper surface of the lower support body is inserted and engaged with the bifurcated lower end part of the terminal pin 2 protruding from the lower surface of the upper support body. Both are electrically connected.

一方特許文献2には、半導体チップ1上に形成されたボンデングパッド1aと、基板3上に形成された電極3aとを、この電極の表面上に形成したばね状の突起状電極2によって、電気的に接続する構成が開示されている。突起状電極2は、ニッケル等の金属ばねの他、電極3aの表面に光硬化性樹脂を複数層積層して、ばね状の突起を形成し、この外表面に無電解めっきをして導電体にするもの、及び金属材料を混合した光硬化性樹脂を複数層積層し、ばね状の突起を形成するものが記載されている。   On the other hand, in Patent Document 2, a bonding pad 1a formed on a semiconductor chip 1 and an electrode 3a formed on a substrate 3 are formed by a spring-like protruding electrode 2 formed on the surface of the electrode. A configuration for electrical connection is disclosed. In addition to a metal spring such as nickel, the protruding electrode 2 is formed by laminating a plurality of layers of photocurable resin on the surface of the electrode 3a to form a spring-shaped protrusion, and electroless plating is applied to the outer surface of the conductor. And a material in which a plurality of layers of a photo-curing resin mixed with a metal material is laminated to form a spring-like protrusion.

また特許文献3には、合成樹脂製のローケーティングハウジング3の一側部に、リード状のばね機構3bを一体的に突設し、このばね機構を対向するハウジング4の側面に接触させて、両者を電気的に接続する構成が記載してある。合成樹脂製のローケーティングハウジング3は、表面にめっきを施して導電性を持たせたものであって、これにより電磁妨害対策を行なっている。   In Patent Document 3, a lead-like spring mechanism 3b is integrally projected on one side of a synthetic resin locating housing 3, and this spring mechanism is brought into contact with a side surface of the opposing housing 4. A configuration for electrically connecting the two is described. The locating housing 3 made of synthetic resin has a surface plated so as to have conductivity, thereby taking measures against electromagnetic interference.

ところで従来から、絶縁材からなる基体の表面を被覆材で部分的に被覆し、この被覆材で被覆されていない部分に、めっき層を形成する成形回路部品の製造方法が各種存在するが、これらの製造方法において、この被覆材を簡単に溶出して除去できる製造方法が提案されている。例えば、基体の表面を粗化し、その粗化した表面を水溶性の高分子材料であるポリビニルアルコール系樹脂からなる被覆材で部分的に被覆し、触媒を付与した後に被覆材を水洗除去し、被覆材で被覆されていなかったために触媒が付着した基体の表面部分に、無電解めっきを行って導電性回路を形成する成形回路部品の製造方法がある(例えば特許文献4及び5参照。)。   Conventionally, there are various methods for producing molded circuit components in which the surface of a base made of an insulating material is partially covered with a coating material, and a plating layer is formed on a portion not covered with the coating material. In this manufacturing method, there has been proposed a manufacturing method in which this coating material can be easily eluted and removed. For example, the surface of the substrate is roughened, and the roughened surface is partially coated with a coating material made of a polyvinyl alcohol resin that is a water-soluble polymer material, and after the catalyst is applied, the coating material is washed away with water, There is a method of manufacturing a molded circuit component in which a conductive circuit is formed by performing electroless plating on a surface portion of a substrate to which a catalyst adheres because it is not covered with a coating material (see, for example, Patent Documents 4 and 5).

また基体の表面を粗化し、その粗化した表面を加水分解性の高分子材料であるポリ乳酸等からなる被覆材で部分的に被覆し、触媒を付与した後に被覆材をアルカリ性溶液で加水分解して除去し、被覆材で被覆されていなかったために触媒が付着した部分に、無電解めっきを行って導電性回路を形成する成形回路部品の製造方法がある(例えば特許文献6参照。)。
特開平8−31492号公報(第図7等) 特開平2005−11845号公報(第図5等) 実開平2−129689号公報(第図1等) 特開平11−145583号公報(1〜4頁) 特開2000−80480号公報(1〜8頁) 特開2002−344116号公報(1〜4頁)
Also, the surface of the substrate is roughened, and the roughened surface is partially coated with a coating material made of polylactic acid or the like, which is a hydrolyzable polymer material, and after the catalyst is applied, the coating material is hydrolyzed with an alkaline solution. There is a method of manufacturing a molded circuit component in which a conductive circuit is formed by performing electroless plating on a portion where the catalyst is adhered because it is not covered with a coating material (see, for example, Patent Document 6).
JP-A-8-31492 (FIG. 7 etc.) Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-11845 (FIG. 5 etc.) Japanese Utility Model Laid-Open No.2-129689 (FIG. 1 etc.) JP-A-11-145583 (pages 1 to 4) JP 2000-80480 A (pages 1 to 8) JP 2002-344116 A (pages 1 to 4)

本願発明者は、上述した従来の導電性のばね部材について、さらに改良すべき次の点があることを見出した。すなわちこれらの導電性のばね部材は、いずれも全表面が導電性であるため、例えば集積度が高い導電性回路基板同士を、この導電性のばね部材を介して相互に接続する場合には、この導電性のばね部材と周辺部品とを電気的に隔離するために、この導電性のばね部材の側面等に、絶縁フィルム等の絶縁層を挟む必要がある。また集積度が高い導電性回路同士を、導電性のばね部材を介して相互に接続するためには、ばね部材のサイズを極めて微小にすることが必要となるところ、ばね部材の強度、製造性、及び導電性回路への接続等の点から、サイズの微小化にも限度がある。   The inventor of the present application has found that the conventional conductive spring member described above has the following points to be further improved. That is, since all of these conductive spring members are conductive, for example, when connecting highly conductive circuit boards to each other via this conductive spring member, In order to electrically isolate the conductive spring member and the peripheral components, it is necessary to sandwich an insulating layer such as an insulating film on the side surface of the conductive spring member. In addition, in order to connect highly integrated conductive circuits to each other via a conductive spring member, the size of the spring member must be extremely small. In addition, there is a limit to miniaturization in size from the viewpoint of connection to a conductive circuit.

そこで本願発明者は、絶縁性のばね部材の表面上に、部分的にめっきを行なって、導電性回路を形成することによって、上述した問題を解決できることに想到した。すなわち絶縁性のばね部材の表面上、例えば表面または裏面のみに導電性回路を形成すれば、導電性回路を形成しない部分、すなわちばね部材の両側面は、絶縁性のままであるため、周辺部品と電気的に隔離するために、この導電性のばね部材の側面等に、絶縁フィルム等の絶縁層を挟む必要がなくなる。また絶縁性のばね部材の表面上に、複数列の導電性回路を形成すれば、ばね部材のサイズを微小にすることなく、集積度が高い導電性回路同士を、この複数列の導電性回路を形成したばね部材を介して、相互に接続することが可能となる。   Therefore, the present inventor has conceived that the above-described problems can be solved by forming a conductive circuit by partially plating the surface of the insulating spring member. That is, if a conductive circuit is formed only on the surface of the insulating spring member, for example, only on the front surface or the back surface, the portion where the conductive circuit is not formed, that is, both side surfaces of the spring member remain insulative. Therefore, it is not necessary to sandwich an insulating layer such as an insulating film on the side surface of the conductive spring member. Further, if a plurality of rows of conductive circuits are formed on the surface of the insulating spring member, the conductive circuits having a high degree of integration can be connected to each other without reducing the size of the spring member. It is possible to connect to each other via the spring member formed with the.

しかるに上述した新たな着想、すなわち絶縁性のばね部材の表面上に、部分的にめっきを行なって導電性回路を形成する手段を完成するためには、さらなる解決すべき課題があった。すなわち上記特許文献4あるいは5に記載の方法においては、被覆材として、水溶性のポリビニルアルコール系樹脂等の高分子材料を使用しているため、触媒付与の工程において、この被覆材の表面が膨潤して親水性となり、その結果、被覆材の表面に付着した触媒を、洗浄によって除去できない。このため、後工程において被覆材を溶解除去するときに、触媒も一緒に溶解液に混入し、溶解液の廃却と共に、混入した触媒も廃棄されてしまう。しかるに触媒には、パラジウムや金等の希少金属が用いられるため、これらの貴重な貴金属に対する省資源化を十分考慮する必要がある。   However, in order to complete the above-described new idea, that is, a means for forming a conductive circuit by partially plating on the surface of an insulating spring member, there is a further problem to be solved. That is, in the method described in Patent Document 4 or 5, a polymer material such as a water-soluble polyvinyl alcohol-based resin is used as the coating material, so that the surface of the coating material swells in the catalyst application step. As a result, the catalyst adhering to the surface of the coating material cannot be removed by washing. For this reason, when the coating material is dissolved and removed in the subsequent step, the catalyst is also mixed with the solution, and the mixed catalyst is discarded along with the disposal of the solution. However, since rare metals such as palladium and gold are used for the catalyst, it is necessary to sufficiently consider resource saving for these precious metals.

また上記特許文献6に記載の方法においては、被覆材としてポリ乳酸や脂肪族ポリエステル等の加水分解性の高分子材料を使用し、触媒を付与した後に、加水分解を促進するためアルカリ性溶液を用いて被覆材を除去するが、この被覆材の除去工程において、被覆材で被覆されていない基体の表面部分、すなわち導電性回路を形成する部分に付与された触媒までもが、このアルカリ性溶液の洗浄効果によって脱落し、その結果、この導電性回路を形成する部分に、無電解めっきが十分析出しないという問題が考えられる。   In addition, in the method described in Patent Document 6, a hydrolyzable polymer material such as polylactic acid or aliphatic polyester is used as a coating material, and an alkaline solution is used to accelerate hydrolysis after imparting a catalyst. In this step of removing the covering material, in the step of removing the covering material, the surface portion of the substrate that is not coated with the covering material, that is, the catalyst applied to the portion that forms the conductive circuit, is also washed with this alkaline solution. As a result, there is a problem that the electroless plating is not sufficiently deposited on the portion where the conductive circuit is formed.

さらに上述した特許文献4〜6の手段では、いずれも被覆材を除去後に無電解めっきを行なっているため、いわゆる通常行なわれるバレルめっき(すなわち基体を容器内にバラバラな状態で投入し、容器をめっき浴槽内で回転させる。)では、無電解めっきの初期段階において、触媒付与面が互いに擦れ合って触媒が脱落し、このためめっき未着不良が生ずるという問題が考えられる。   Furthermore, since all of the means of Patent Documents 4 to 6 described above perform electroless plating after removing the coating material, so-called barrel plating (that is, the substrate is put into the container in a disjointed state) In the initial stage of electroless plating, the catalyst-applied surfaces rub against each other and the catalyst falls off, which may cause a problem of non-plating failure.

そこで本願発明の第1の目的は、電子回路の集積化を容易にする導電性回路を有する合成樹脂製のばねの製造方法を提供することにある。また第2の目的は、触媒に含まれる貴重な貴金属の省資源化と、導電性回路を形成する部分に無電解めっきを十分析出させることができる、導電性回路を有する合成樹脂製のばねの製造方法を提供することにある。   Accordingly, a first object of the present invention is to provide a method of manufacturing a spring made of a synthetic resin having a conductive circuit that facilitates integration of an electronic circuit. The second object is to save resources of precious metals contained in the catalyst and to make the electroless plating sufficiently deposited on the portion where the conductive circuit is formed, and a synthetic resin spring having a conductive circuit. It is in providing the manufacturing method of.

本願発明による導電回路を有する合成樹脂製のばねの特徴は、合成樹脂製のばね基体の表面を、耐酸性の被覆材によって部分的に被覆して、この被覆材によって被覆されていない部分に、無電解めっきによる導電性回路を形成すること、この被覆材として、触媒液によって膨潤することなく疎水性を維持する加水分解性の高分子樹脂を使用すること、この被覆材で被覆した後の無電解めっきを酸性または中性のいずれかの浴組成で行なうこと、被覆材の溶解除去を、導電性回路を形成する部分に無電解めっきを形成した後に行うこと、及び触媒付与後に、被覆材の表面に付着した触媒を洗い落とす水洗工程を設けて、この洗い落とした触媒の回収を容易にすることにある。   The characteristic of the synthetic resin spring having the conductive circuit according to the present invention is that the surface of the synthetic resin spring base is partially covered with an acid-resistant coating material, and the portion not covered with this coating material is Forming a conductive circuit by electroless plating, using a hydrolyzable polymer resin that maintains hydrophobicity without swelling by a catalyst solution as the coating material, and applying no coating after coating with this coating material Electrolytic plating is carried out with either an acidic or neutral bath composition, the coating material is dissolved and removed after electroless plating is formed on the portion where the conductive circuit is formed, and after the catalyst is applied, It is to provide a water washing step for washing off the catalyst adhering to the surface and to facilitate the recovery of the washed-out catalyst.

すなわち本願発明による成形回路部品の製造方法は、絶縁性の合成樹脂を射出成形して、第1のばね基体を形成する第1の工程と、上記第1のばね基体の表面を粗化する第2の工程と、上記粗化した第1のばね基体の表面に、ポリグリコール酸、若しくはポリ乳酸の単体、またはポリ乳酸と脂肪族ポリエステルとの混合体、若しくは共重合体からなる被覆材を部分的に被覆して第2のばね基体を形成する第3の工程と、上記第2のばね基体の表面に触媒を付与する第4の工程と、上記第2のばね基体の被覆材の表面に残存する上記触媒を、水洗除去する第5の工程と、上記第2のばね基体の表面であって、上記被覆材で被覆されていない部分に、浴組成が酸性または中性のいずれかの第1の無電解めっきをする第6の工程と、上記第2のばね基体の表面に被覆された被覆材を除去する第7の工程とを備えることにある。   That is, the method of manufacturing a molded circuit component according to the present invention includes a first step of forming an insulating synthetic resin by injection molding to form a first spring base, and a first step of roughening the surface of the first spring base. And a coating material made of polyglycolic acid or polylactic acid alone, a mixture of polylactic acid and aliphatic polyester, or a copolymer on the surface of the roughened first spring base. A second step of forming a second spring base by covering the surface, a fourth step of applying a catalyst to the surface of the second spring base, and a surface of the coating material of the second spring base A fifth step of removing the remaining catalyst by washing with water and a portion of the surface of the second spring base that is not covered with the coating material, either having an acidic or neutral bath composition. A sixth step of electroless plating 1 and the second spring In further comprising a seventh step of removing the coating material coated on the surface of the body.

上記第1のばね基体を構成する合成樹脂は、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂、ポリエーテルイミド(PEI)、またはポリエーテルイミドとポリイミド(PI)との共重合体のいずれかの1であることが望ましい。   The synthetic resin constituting the first spring base is one of polyetheretherketone (PEEK) resin, polyetherimide (PEI), or a copolymer of polyetherimide and polyimide (PI). It is desirable.

上記第6の工程と第7の工程との間に、上記第1の無電解めっきの表面に、浴組成が酸性または中性のいずれかの第1の電解めっき、または第2の無電解めっきのいずれかを積層する第8の工程を備えてもよい。   Between the sixth step and the seventh step, the surface of the first electroless plating is either the first electroplating or the second electroless plating whose bath composition is acidic or neutral. You may provide the 8th process of laminating | stacking either of these.

あるいは上記第7の工程の後に、上記第1の無電解めっきの表面に、浴組成が酸性、中性、またはアルカリ性のいずれかの1の第2の電解めっき、または第3の無電解めっきを積層する第9の工程を備えてもよい。   Alternatively, after the seventh step, one of the second electroplating or the third electroless plating whose bath composition is acidic, neutral, or alkaline is applied to the surface of the first electroless plating. A ninth step of stacking may be provided.

また上記第7の工程の後に、上記第1の電解めっきの表面に、浴組成が酸性、中性、若しくはアルカリ性のいずれかの1の第3の電解めっき、または第4の無電解めっきのいずれかを積層する第10の工程を備えてもよい。あるいは上記第7の工程の後に、上記第2の無電解めっきの表面に、浴組成が酸性、中性、若しくはアルカリ性のいずれかの1の第4の電解めっき、または第5の無電解めっきのいずれかを積層する第11の工程を備えてもよい。   In addition, after the seventh step, any one of the third electrolytic plating, which is either acidic, neutral or alkaline, or the fourth electroless plating is applied to the surface of the first electrolytic plating. You may provide the 10th process of laminating | stacking these. Alternatively, after the seventh step, the surface of the second electroless plating may be one of the 4th electroplating or the 5th electroless plating having any one of acidic, neutral or alkaline bath composition. You may provide the 11th process of laminating one.

なお上述した工程番号、電解めっき番号、及び無電解めっき番号は、いずれも各工程、各電解めっき、及び各無電解めっきに関して、それぞれ相互に区別するためのものであって、必ずしも本願発明による成形回路部品の製造工程の時系列的な順番を示すものではない。   Note that the above-mentioned process number, electrolytic plating number, and electroless plating number are all for distinguishing each step, each electrolytic plating, and each electroless plating, and are not necessarily formed according to the present invention. It does not indicate the chronological order of the circuit component manufacturing process.

ここで「絶縁性の合成樹脂」としては、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂、ポリエーテルイミド(PEI)、またはポリエーテルイミドとポリイミド(PI)との共重合体のいずれかの1であることが望ましい。また「第1のばね基体」としては、コイル状のつる巻きばね、及び板状のばね等が該当する。また第1のばね基体として単体のものの他、他の部品の一部分として一体的に形成されたものも含む。   Here, the “insulating synthetic resin” is one of polyetheretherketone (PEEK) resin, polyetherimide (PEI), or a copolymer of polyetherimide and polyimide (PI). Is desirable. Further, the “first spring base” corresponds to a coiled helical spring, a plate-shaped spring, and the like. In addition to the single first spring base, the first spring base is also integrally formed as a part of other parts.

ここで「粗化する」とは、第1のばね基体の表面に小さな凹凸を形成し、無電解めっき層の密着性を向上し、親水性を付与するためのエッチングを意味する。例えば、NaOHやKOH等のアルカリ金属水酸化物の水溶液、アルコール性ナトリウム、アルコール性カリウム等のアルカリ金属アルコラートの水溶液、またはジメチルホルムアミド等の有機溶剤を使用して、これらの液を第1の基体の表面に塗布したり、これらの液中に第1の基体を浸漬したりすることを意味する。   Here, “roughening” means etching for forming small irregularities on the surface of the first spring base, improving the adhesion of the electroless plating layer, and imparting hydrophilicity. For example, using an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as NaOH or KOH, an aqueous solution of an alkali metal alcoholate such as alcoholic sodium or alcoholic potassium, or an organic solvent such as dimethylformamide, these liquids are used as the first substrate. Or the first substrate is immersed in these liquids.

「ポリグリコール酸」とは、例えば、株式会社クレハ製の図12に示す構造式のものが該当する。「ポリ乳酸」とは、例えば、三井化学株式会社製のレイシア♯H-100J/Fが該当する。「脂肪族ポリエステル」とは、例えば、ポリヒドロキシカルボン酸、ヒドロキシカルボン酸、脂肪族多価塩基酸とからなる脂肪族ポリエステル、ヒドロキシカルボン酸や脂肪族多価アルコールから選ばれた複数種のモノマー成分と、脂肪族多価塩基酸から選ばれる複数種のモノマー成分とからなるランダム共重合体やブロック共重合体などが該当する。   “Polyglycolic acid” corresponds to the structural formula shown in FIG. “Polylactic acid” corresponds to, for example, Lacia # H-100J / F manufactured by Mitsui Chemicals. “Aliphatic polyester” refers to, for example, an aliphatic polyester composed of polyhydroxycarboxylic acid, hydroxycarboxylic acid, and aliphatic polybasic acid, and a plurality of monomer components selected from hydroxycarboxylic acid and aliphatic polyhydric alcohol And a random copolymer or a block copolymer comprising a plurality of monomer components selected from aliphatic polybasic acids.

このポリ乳酸と脂肪族ポリエステルとの混合量、共重合量は、混合体又は共重合体の全量に対して1〜10重量%程度がよい。アルカリ分解促進剤を、混合体全量に対して1〜100重量%程度、混合してもよい。また必要に応じてアルカリ分解促進剤、有機無機充填剤、着色剤などの、合成樹脂に使用できる汎用の添加剤を混合してもよい。「部分的に被覆する」とは、後工程において導電性回路を形成すべき部分を残して、選択的に被覆するということを意味している。「第2のばね基体」とは、第1のばね基体と、この第1のばね基体の表面に部分的に被覆した被覆材との両方からなる部材を意味する。   The amount of polylactic acid and aliphatic polyester mixed and copolymerized is preferably about 1 to 10% by weight based on the total amount of the mixture or copolymer. You may mix an alkali decomposition accelerator about 1 to 100 weight% with respect to the whole mixture. Moreover, you may mix the general purpose additive which can be used for synthetic resins, such as an alkali decomposition accelerator, an organic inorganic filler, and a coloring agent, as needed. “Partial coating” means that the conductive circuit is selectively coated, leaving a portion where a conductive circuit is to be formed in a later step. The “second spring base” means a member composed of both the first spring base and a covering material partially covering the surface of the first spring base.

「水洗除去」とは、疎水性を維持している被覆材の表面に付着している触媒を、水洗によって洗い流すことを意味する。この水洗に際しては、pH7以上の中性からアルカリ組成の洗浄水を使用し、例えば15〜70℃の洗浄水に、第2のばね基体を5〜120秒間浸して攪拌したり、100〜170℃の洗浄水の蒸気を、第2のばね基体に高圧で噴き付けたりすることが該当する。   “Removing with water” means that the catalyst adhering to the surface of the coating material maintaining hydrophobicity is washed away with water. In this water washing, a neutral to alkaline wash water having a pH of 7 or more is used. For example, the second spring base is immersed in a wash water of 15 to 70 ° C. for 5 to 120 seconds and stirred, or 100 to 170 ° C. This corresponds to spraying the cleaning water vapor at a high pressure on the second spring base.

「浴組成」とは、無電解めっき液のpH(水素イオン濃度)を意味しており、「浴組成が酸性または中性」とは、無電解めっき液、または電解めっき液のpHが7以下であることを意味する。なお本願発明においては、無電解めっきの「浴組成」が、7〜7.5程度の弱アルカリ性であっても、酸性または中性の浴組成と同様に作用するが、無電解めっき液の劣化を早めるため注意が必要である。   “Bath composition” means the pH (hydrogen ion concentration) of the electroless plating solution, and “bath composition is acidic or neutral” means that the pH of the electroless plating solution or electrolytic plating solution is 7 or less. It means that. In the present invention, even if the “bath composition” of electroless plating is weakly alkaline of about 7 to 7.5, it acts in the same manner as an acidic or neutral bath composition, but the electroless plating solution is deteriorated. Care must be taken to speed up.

絶縁性の第1のばね基体の表面を被覆材で部分的に被覆し、第1の無電解めっきにより導電性回路を形成することによって、この導電性回路を形成しない部分、例えばばね部材の両側面を絶縁性のままにすることができるので、周辺部品と電気的に隔離するために、このばね部材の側面等に、絶縁フィルム等の絶縁層を挟む必要がなくなる。また絶縁性の第1のばね基体の表面上に、複数列の導電性回路を形成すれば、ばね部材のサイズのみを微小にすることなく、集積度が高い導電性回路同士を、このばね部材を介して相互に接続することが可能となる。   By partially covering the surface of the insulating first spring base with a coating material and forming the conductive circuit by the first electroless plating, the portions not forming the conductive circuit, for example, both sides of the spring member Since the surface can be kept insulative, there is no need to sandwich an insulating layer such as an insulating film on the side surface of the spring member in order to electrically isolate it from the peripheral components. Further, if a plurality of rows of conductive circuits are formed on the surface of the insulating first spring base, the conductive members having a high degree of integration can be connected to each other without reducing the size of the spring members. It is possible to connect to each other via

被覆材として、加水分解によって容易に除去でき、かつ触媒液によって膨潤することなく疎水性を維持できる、ポリグリコール酸、若しくはポリ乳酸の単体、またはポリ乳酸と脂肪族ポリエステルとの混合体、若しくは共重合体を使用することによって、触媒付与の際に、触媒が被覆材に強固に密着することを防止できる。そして触媒付与後に水洗浄の工程を設けることによって、被覆材の疎水性の表面に付着した触媒を、容易かつ確実に除去できるので、この洗浄水に洗い出された触媒を容易に分離回収可能となり、高価な貴金属の省資源化が可能となる。   As a coating material, polyglycolic acid, or a simple substance of polylactic acid, a mixture of polylactic acid and aliphatic polyester, or a co-polymer that can be easily removed by hydrolysis and can maintain hydrophobicity without swelling with a catalyst solution. By using the polymer, it is possible to prevent the catalyst from being firmly adhered to the coating material when the catalyst is applied. By providing a water washing step after applying the catalyst, the catalyst adhering to the hydrophobic surface of the coating material can be easily and reliably removed, so that the catalyst washed out in the washing water can be easily separated and recovered. This makes it possible to save resources on expensive precious metals.

また上記被覆材は耐酸性を有するので、無電解めっき若しくは電解めっきを、酸性または中性のいずれかの浴組成で行なうことによって、この被覆材の溶解等を防止して、導電性回路を精密に形成することができる。さらに被覆材の溶解除去を、導電性回路を形成する部分に、無電解めっきを形成した後に行うことによって、無電解めっき前に被覆材の溶解除去をする従来手法の問題点、すなわち被覆材の除去に用いるアルカリ性の溶解液によって、被覆材で被覆されていない第1のばね基体の表面に付与した触媒までもが脱落してしまうという問題を回避できるので、無電解めっきを十分に析出させることができる。   In addition, since the coating material has acid resistance, by performing electroless plating or electrolytic plating with either an acidic or neutral bath composition, dissolution of the coating material is prevented, and a conductive circuit is precisely formed. Can be formed. Furthermore, the coating material is dissolved and removed after the electroless plating is formed on the portion where the conductive circuit is formed, so that the problem of the conventional method of dissolving and removing the coating material before the electroless plating, Since the alkaline solution used for the removal can avoid the problem that even the catalyst applied to the surface of the first spring base that is not coated with the coating material falls off, the electroless plating should be sufficiently deposited. Can do.

また被覆材を除去した後は、被覆材の溶解等を考慮する必要がなくなるため、浴組成が酸性、中性、またはアルカリ性のいずれであっても、この被覆材の除去前に行った電解めっき、または無電解めっきに重ねて、さらに電解めっき、または無電解めっきを積層することができる。また無電解めっき、または電解めっきの上に、重ねて無電解めっき、または電解めっきを積層することによって、導電性回路の厚みや強度等を増大させることができる。また材質の異なるめっきを積層することによって、導電性回路の半田付け性の向上等、他の有用な特性を付与することができる。   In addition, after removing the coating material, it is no longer necessary to consider the dissolution of the coating material. Therefore, even if the bath composition is acidic, neutral, or alkaline, the electrolytic plating performed before the removal of the coating material is performed. Alternatively, an electrolytic plating or an electroless plating can be further laminated on the electroless plating. Further, the thickness, strength, and the like of the conductive circuit can be increased by stacking electroless plating or electrolytic plating on the electroless plating or electrolytic plating. Further, by stacking platings of different materials, other useful characteristics such as improvement of solderability of the conductive circuit can be imparted.

さらに被覆材の溶解除去を、無電解めっきを形成した後に行うことによって、無電解めっきの際には、導電性回路を形成する部分の周囲を、被覆材の壁で取囲まれた状態にすることができる。このためバレルめっきを行なう場合にも、被覆材の壁によって、触媒付与が付与された導電性回路を形成する部分が、相互に擦れ合うことを回避でき、めっきの未着不良が生じることが防止できる。   Further, the covering material is dissolved and removed after the electroless plating is formed, so that in the case of the electroless plating, the periphery of the portion where the conductive circuit is formed is surrounded by the wall of the covering material. be able to. For this reason, even when barrel plating is performed, it is possible to prevent the portions forming the conductive circuit provided with the catalyst from being rubbed against each other by the wall of the covering material, thereby preventing the occurrence of defective plating adhesion. .

第1のばね基体に、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂、ポリエーテルイミド(PEI)、またはポリエーテルイミドとポリイミド(PI)との共重合体のいずれかの1を使用することによって、ばね部材として優れた特性を発揮させることができる。すなわちこれらの合成樹脂は、いずれも疲労強度が高く、耐熱性や耐薬品性等にも優れているため、導電回路等に使用するばね部材に極めて適している。   By using one of polyetheretherketone (PEEK) resin, polyetherimide (PEI), or a copolymer of polyetherimide and polyimide (PI) as the first spring base, the spring member As a result, excellent characteristics can be exhibited. That is, since these synthetic resins all have high fatigue strength and excellent heat resistance and chemical resistance, they are extremely suitable for spring members used in conductive circuits and the like.

本願発明の理解を容易にするため、まず最初に、図1〜図6を参照しつつ、本願発明による製造方法で製造する導電回路を有する合成樹脂製のばね(以下「本発明によるばね」という。)の構成、射出成形用の金型、及び使用態様について概説する。その後、図7〜図11を参照しつつ、本発明によるばねの製造方法を詳述する。さて図1は、本発明によるばねを、板状のばね1に構成したものを示している。板状のばね1は、略S字状に湾曲した2辺のリード11と、この2辺のリードを連結する一端部12とからなる第1ばね基体2において、この2辺のリードの上側面に、第1の無電解めっきによる導電性回路6を、それぞれ形成したものである。また第1の無電解めっきは、板状の第1ばね基体2の一端部12の上側面と裏面にも、回り込むように行なっており、相互に対向する電極等との電気的接続を可能にしている。なお2辺のリード11は、単一であっても、三辺以上であってもよい。またリード11は、略S字状に限らず、横向きのU字状や、板状部材をジグザグに形成したもの等であってもよい。   In order to facilitate understanding of the present invention, first, referring to FIGS. 1 to 6, a synthetic resin spring having a conductive circuit manufactured by the manufacturing method according to the present invention (hereinafter referred to as “spring according to the present invention”). )), The mold for injection molding, and the usage mode are outlined. Then, the manufacturing method of the spring by this invention is explained in full detail, referring FIGS. 7-11. FIG. 1 shows a structure in which a spring according to the present invention is formed into a plate-like spring 1. The plate-like spring 1 is composed of a first spring base 2 including two side leads 11 curved in a substantially S-shape and one end portion 12 connecting the two side leads. In addition, the conductive circuits 6 by the first electroless plating are formed respectively. In addition, the first electroless plating is performed so as to also wrap around the upper side surface and the back surface of the one end portion 12 of the plate-like first spring base 2, thereby enabling electrical connection with electrodes facing each other. ing. The two-side leads 11 may be single or three or more sides. Further, the lead 11 is not limited to a substantially S-shape, and may be a lateral U-shape or a zigzag formed plate member.

図2は、本発明によるばねを、つる巻き状のばね101に構成したものを示している。つる巻き状のばね101は、素線断面が四角のつる巻き状の第1のばね基体102の外側面にのみ、第1の無電解ニッケルめっきによる導電性回路106を形成したものである。また第1のばね基体102の両端面も、第1の無電解めっきを行って、相互に対向する電極等との電気的接続を可能にしている。なお上記素線断面は、四角に限らず、円形であってもよく、円形のつる巻き状に限らず、楕円あるいは六角形等の他の多角形のつる巻き状であってもよい。   FIG. 2 shows a spring according to the present invention configured as a helical spring 101. In the helical spring 101, a conductive circuit 106 is formed by first electroless nickel plating only on the outer surface of the first helical spring body 102 having a square wire cross section. Further, both end surfaces of the first spring base 102 are also subjected to the first electroless plating so as to be able to be electrically connected to electrodes facing each other. The strand cross section is not limited to a square but may be a circle, not limited to a circular spiral, but may be an elliptical or hexagonal other helical shape.

つる巻き状のばね101を用いて、積層する電子回路等を連結する際には、このつる巻きの中心に、金属製のピン等からなるガイド部材を設けて、このつる巻き状のばねの倒れ等を防止することができる。すなわち、つる巻き状のばね101の内周は、第1の無電解ニッケルめっき層が形成されていないため、つる巻き状のばねと、金属製のガイド部材との間に、絶縁フィルム等の絶縁層を挟む必要がない。逆につる巻き状のばね101の内周と両端面とにのみ、第1の無電解ニッケルめっきを行えば、このつる巻き状のばねの外周を取囲むように設けた金属製のガイド部材との間に、絶縁フィルム等の絶縁層を挟む必要がない。したがって集積度が高い導電性回路同士を相互に連結することが容易になる。   When connecting the stacked electronic circuits using the helical spring 101, a guide member made of a metal pin or the like is provided at the center of the helical winding, and the helical spring falls down. Etc. can be prevented. That is, since the first electroless nickel plating layer is not formed on the inner periphery of the helical spring 101, an insulating film or the like is insulated between the helical spring and the metal guide member. There is no need to sandwich layers. Conversely, if the first electroless nickel plating is performed only on the inner circumference and both end faces of the helical spring 101, a metal guide member provided so as to surround the outer circumference of the helical spring; There is no need to sandwich an insulating layer such as an insulating film between them. Therefore, it becomes easy to mutually connect conductive circuits having a high degree of integration.

図3は、本発明によるばねを、板状のパネルの一部分として、リード状のばね201に形成した構成を示している。リード状のばね201は、板状のパネルの一端に一定の間隔を隔てて突設した、略S字状に湾曲したリード状の第1のばね基体202において、この第1のばねの片側面に、無電解ニッケルめっきによる導電性回路206を形成したものである。なお導電性回路206は、板状のパネルの表面にも延長して形成してあり、それぞれ電極等と電気的に接続してある。なおリード状のばね201は、二辺以上に限らず、単一であってもよく、略S字状に限らず、U字状や、略C字状等であってもよい。   FIG. 3 shows a configuration in which a spring according to the present invention is formed on a lead-like spring 201 as a part of a plate-like panel. The lead-shaped spring 201 is a lead-shaped first spring base 202 that is curved in a substantially S shape and protrudes from one end of a plate-shaped panel at a predetermined interval. Further, a conductive circuit 206 is formed by electroless nickel plating. Note that the conductive circuit 206 extends to the surface of the plate-like panel and is electrically connected to electrodes and the like. The lead-shaped spring 201 is not limited to two or more sides, but may be a single shape, not limited to a substantially S shape, but may be a U shape, a substantially C shape, or the like.

図4に、図1で説明した板状の第1のばね基体2を射出成形するための、金型の1例を示す。すなわちこの金型は、板状の第1のばね基体2の下側面に沿って上下に2分割した、上金型Aと下金型Bから構成され、この上金型には、この板状の第1のばね基体が埋設するような窪みCが開口している。そして上金型Aと下金型Bとを重ね合わせ、この上金型の窪みCと下金型とで構成されたキャビティ内に、熱可塑性樹脂を射出して形成する。   FIG. 4 shows an example of a mold for injection molding the plate-like first spring base 2 described in FIG. That is, this mold is composed of an upper mold A and a lower mold B that are divided into two vertically along the lower surface of the plate-shaped first spring base 2. A recess C is opened in which the first spring base is embedded. Then, the upper mold A and the lower mold B are overlapped, and a thermoplastic resin is injected into a cavity constituted by the depression C and the lower mold of the upper mold.

図5に、図2で説明した、つる巻き状の第1のばね基体102を射出成形するための金型の1例を示す。すなわちこの金型は、つる巻き状の第1のばね基体102の内周径と同じ直径の開口孔を有し、かつ180度に2分割された外金型Dと、この開口孔に嵌合挿入する円柱状の中子Eとで構成される。外金型Dの内周面には、つる巻き状の第1のばね基体102の素線断面形状の溝Fを、それぞれ半周ずつ、つる巻き状に形成する。そしてこの2の外金型Dを重ね合わせた状態で、その中心の開口孔に、円柱状の中子Eを嵌合挿入する。つる巻き状の第1のばね基体102は、中子Eの外周面と、つる巻き状の溝Fとで構成されたキャビティ内に、熱可塑性樹脂を射出して形成する。   FIG. 5 shows an example of a mold for injection molding the helically wound first spring base 102 described in FIG. That is, this mold has an opening hole having the same diameter as the inner peripheral diameter of the helical spring-shaped first spring base 102, and is fitted into this opening hole with an outer mold D divided into two at 180 degrees. It consists of a cylindrical core E to be inserted. On the inner peripheral surface of the outer die D, the groove F having a wire cross-sectional shape of the helical spring-shaped first spring base 102 is formed in a helical manner, each semi-circularly. Then, in a state where the two outer molds D are overlapped, a cylindrical core E is fitted and inserted into the opening hole at the center. The helically wound first spring base 102 is formed by injecting a thermoplastic resin into a cavity constituted by the outer peripheral surface of the core E and the helically groove F.

図6に、図1で説明した板状のばね1の、使用態様の1例を示す。板状のばね1は、所定の間隔をもって相互に対向する基板G、Hの間に、圧縮されつつ挿入される。すなわち上方の基板Gの上表面には、導電回路G1が形成され、下表面には、接続端子G2が形成されている。導電回路G1と接続端子G2とは、導電性めっきを施したスルホールG3によって、電気的に接続されている。また下方の基板Hの上表面には、導電回路H1が形成されている。なお上方の基板G4の下表面には、電子部品Iが搭載されている。   FIG. 6 shows an example of how the plate-like spring 1 described in FIG. 1 is used. The plate-like spring 1 is inserted while being compressed between the substrates G and H facing each other with a predetermined interval. That is, the conductive circuit G1 is formed on the upper surface of the upper substrate G, and the connection terminal G2 is formed on the lower surface. The conductive circuit G1 and the connection terminal G2 are electrically connected by a through hole G3 subjected to conductive plating. A conductive circuit H1 is formed on the upper surface of the lower substrate H. An electronic component I is mounted on the lower surface of the upper substrate G4.

下方の基板Hに形成した導電回路H1の上面に、板状のばね1の一端部12が搭載され、両者は半田付けによって結合してある。一方、板状のばね1の2辺のリード11の先端部は、上方の基板Gの下表面に形成した接続端子D2に、それぞれ圧接している。このようにして、上方の基板Gの上表面に形成した導電回路G1と、下方の基板Hの上表面に形成した導電回路H1とは、板状のばね1を介して、相互に電気的に接続される。なお板状のばね1の両側面は、無電解めっきが形成されていないため、隣接する電子部品Iとの絶縁性が確保される。したがって板状のばね1と隣接する電子部品Iと間に、絶縁フィルム等を設ける必要はない。   One end 12 of the plate-like spring 1 is mounted on the upper surface of the conductive circuit H1 formed on the lower substrate H, and both are joined by soldering. On the other hand, the tip portions of the leads 11 on the two sides of the plate-like spring 1 are in pressure contact with the connection terminals D2 formed on the lower surface of the upper substrate G, respectively. Thus, the conductive circuit G1 formed on the upper surface of the upper substrate G and the conductive circuit H1 formed on the upper surface of the lower substrate H are electrically connected to each other via the plate-like spring 1. Connected. In addition, since the electroless plating is not formed in the both sides | surfaces of the plate-shaped spring 1, the insulation with the adjacent electronic component I is ensured. Therefore, it is not necessary to provide an insulating film or the like between the plate-like spring 1 and the adjacent electronic component I.

次に図7を参照しつつ、本発明によるばねの製造方法の工程を説明する。なお図7は、図1に記載した板状のばね1の断面A−Aを示したものである。さて最初に熱可塑性樹脂であるポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂を射出成形して、板状の第1のばね基体2を製作する(A)。次に第2の工程として、第1のばね基体2の全表面をエッチングにより粗化する(B)。このエッチングは、通常用いられる方法で行なう。例えば無水クロム酸400g/lを硫酸20ml/lに溶解し、温度を75℃に保持して、第1のばね基体2を20分間浸漬する。次に温度50℃の塩酸50ml/lに、3〜5分浸漬して中和する。このエッチングによって図7(B)の部分的拡大図に示すように、全ての表面が凹凸の粗面2aとなる。   Next, the steps of the spring manufacturing method according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 shows a cross section AA of the plate-like spring 1 shown in FIG. First, polyether ether ketone (PEEK) resin, which is a thermoplastic resin, is injection-molded to produce a plate-like first spring base 2 (A). Next, as a second step, the entire surface of the first spring base 2 is roughened by etching (B). This etching is performed by a commonly used method. For example, 400 g / l of chromic anhydride is dissolved in 20 ml / l of sulfuric acid, the temperature is kept at 75 ° C., and the first spring base 2 is immersed for 20 minutes. Next, it is neutralized by dipping in 50 ml / l of hydrochloric acid at a temperature of 50 ° C. for 3 to 5 minutes. By this etching, as shown in the partially enlarged view of FIG. 7B, the entire surface becomes a rough surface 2a having irregularities.

次に第3の工程として、第1のばね基体2の粗面2aに、被覆材3を部分的に被覆して、第2のばね基体4を形成する(C)。被覆材3としては、ポリ乳酸の単体を使用するが、これに限らず、ポリグリコール酸の単体、またはポリ乳酸と脂肪族ポリエステルとの混合体、若しくは共重合体を使用してもよい。これらの樹脂は、アルカリ水溶液で加水分解する性質を有し、酸性水溶液に対して耐性を示す性質がある。被覆の方法としては、射出成形金型内に、表面を粗化した第1のばね基体2をセットして、この第1のばね基体の粗面2aのうち、所定の導電性回路が形成されるべき部分を金型等で覆い、その部分以外のキャビティ内にポリ乳酸樹脂を注入することにより、この第1のばね基体に被覆材3を一体的に形成する。なお被覆材3の厚さは、0.1〜1mmが望ましく、0.3〜0.5mmが、さらに望ましい。   Next, as a third step, the rough surface 2a of the first spring base 2 is partially covered with the covering material 3 to form the second spring base 4 (C). As the covering material 3, a simple substance of polylactic acid is used, but not limited thereto, a simple substance of polyglycolic acid, a mixture of polylactic acid and an aliphatic polyester, or a copolymer may be used. These resins have a property of hydrolyzing with an alkaline aqueous solution and have a property of being resistant to an acidic aqueous solution. As a covering method, the first spring base 2 having a roughened surface is set in an injection mold, and a predetermined conductive circuit is formed on the rough surface 2a of the first spring base. The portion to be covered is covered with a mold or the like, and a polylactic acid resin is injected into a cavity other than that portion, whereby the covering material 3 is integrally formed on the first spring base. The thickness of the covering material 3 is preferably 0.1 to 1 mm, and more preferably 0.3 to 0.5 mm.

次に第4の工程として、第2のばね基体4の全表面に、パラジウム、金などによる触媒5を付与する(D)。触媒5の付与は公知の方法で行うが、例えば、錫、パラジウム系の混合触媒液に、第2のばね基体4を浸漬した後、塩酸、硫酸などの酸で活性化し、表面にパラジウムを析出させる。または、塩化第1錫等の比較的強い還元剤を表面に吸着させ、金などの貴金属イオンを含む触媒溶液に浸漬し、表面に金を析出させる。液の温度は15〜23℃で5分間浸漬すれば良い。   Next, as a fourth step, a catalyst 5 made of palladium, gold or the like is applied to the entire surface of the second spring base 4 (D). The catalyst 5 is applied by a known method. For example, after immersing the second spring base 4 in a mixed catalyst solution of tin and palladium, the catalyst 5 is activated with an acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid to deposit palladium on the surface. Let Alternatively, a relatively strong reducing agent such as stannous chloride is adsorbed on the surface and immersed in a catalyst solution containing noble metal ions such as gold to deposit gold on the surface. What is necessary is just to immerse the temperature of a liquid at 15-23 degreeC for 5 minutes.

第2のばね基体4の表面のうち、被覆材3で被覆されていない露出部分、すなわち所定の導電性回路が形成されるべき部分4aは、上記第2の工程のエッチングにより、粗面化されて親水性になっているため、触媒5が強固に付着する。一方被覆材3の表面は、上述したように、第2の工程のエッチングによっても、膨潤することなく疎水性を維持しているため、触媒5は、強固には付着しない。   Of the surface of the second spring base 4, an exposed portion that is not covered with the covering material 3, that is, a portion 4 a where a predetermined conductive circuit is to be formed, is roughened by etching in the second step. Thus, the catalyst 5 adheres firmly. On the other hand, since the surface of the covering material 3 maintains hydrophobicity without swelling even by the etching in the second step as described above, the catalyst 5 does not adhere firmly.

そこで第5の工程として、触媒5を付与した第2のばね基体4を水洗浄すると(E)、被覆材3の表面に残存するこの触媒は、全て脱落除去できる。一方所定の導電性回路が形成されるべき部分4aは、上述したように、触媒5が強固に付着しているため、水洗浄によっても、触媒が脱落することはない。なおこの水洗浄は、第2のばね基体4を、温度15〜25℃の水槽に浸して、5〜30秒間、ワークを遥動して行なう。   Therefore, as a fifth step, when the second spring base 4 provided with the catalyst 5 is washed with water (E), all of the catalyst remaining on the surface of the covering material 3 can be removed. On the other hand, as described above, the catalyst 5 is firmly attached to the portion 4a where the predetermined conductive circuit is to be formed. Therefore, the catalyst does not fall off even by washing with water. The water washing is performed by immersing the second spring base 4 in a water tank having a temperature of 15 to 25 ° C. and swinging the work for 5 to 30 seconds.

次に第6の工程として、第2のばね基体4の表面であって、被覆材3で被覆されていない部分4aに、浴組成が酸性の第1の無電解めっきである無電解ニッケルめっきを行い、導電性回路6を形成する(F)。この無電解ニッケルめっきは、例えば、pH4.7、温度90℃の酸性浴に、35分間浸漬して行なう。なお第1の無電解めっきとして、上記無電解ニッケルめっきに替えて、浴組成を中性にして、無電解金めっきを行なってもよい。   Next, as a sixth step, electroless nickel plating, which is the first electroless plating having an acidic bath composition, is applied to the portion 4a of the surface of the second spring base 4 that is not covered with the covering material 3. Conductive circuit 6 is formed (F). This electroless nickel plating is performed, for example, by immersing in an acidic bath having a pH of 4.7 and a temperature of 90 ° C. for 35 minutes. As the first electroless plating, electroless gold plating may be performed with a neutral bath composition instead of the electroless nickel plating.

なお無電解ニッケルめっき、または無電解金めっきは、それぞれ酸性または中性の浴組成で行なうため、上述したように耐酸性を有する被覆材3は、めっき液に溶解することはなく、導電性回路6を精密に形成することができる。   In addition, since electroless nickel plating or electroless gold plating is performed with an acidic or neutral bath composition, respectively, as described above, the covering material 3 having acid resistance is not dissolved in the plating solution, and the conductive circuit. 6 can be formed precisely.

次に第7の工程として、第2のばね基体4の表面を被覆した被覆材3を除去する(H)。上述したように被覆材3のポリ乳酸等は、酸性水溶液に対して耐性を示すが、アルカリ水溶液では簡単に加水分解するので、第2のばね基体4を、濃度2〜15重量%、温度25〜70℃の苛性アルカリ(NaOH、KOHなど)水溶液中に、1〜120分程度浸漬して、被覆材3を除去する。したがって手作業によるマスク除去に比べ作業効率が著しく向上する。かかる場合、被覆材3で被覆されていない部分4aは、既に、第1の無電解めっきによる導電性回路6が形成されているので、この部分の触媒5が、この被覆材を加水分解するアルカリ性の溶液によって脱落するという従来の問題点とは、全く無縁となる。   Next, as a seventh step, the covering material 3 covering the surface of the second spring base 4 is removed (H). As described above, the polylactic acid or the like of the covering material 3 is resistant to an acidic aqueous solution, but is easily hydrolyzed by an alkaline aqueous solution, so that the second spring base 4 has a concentration of 2 to 15% by weight and a temperature of 25. The coating material 3 is removed by immersing in a caustic (NaOH, KOH, etc.) aqueous solution at ˜70 ° C. for about 1 to 120 minutes. Therefore, the working efficiency is remarkably improved as compared with the manual mask removal. In this case, since the conductive circuit 6 by the first electroless plating has already been formed in the portion 4a not covered with the coating material 3, the catalyst 5 in this portion is alkaline so as to hydrolyze the coating material. It is completely unrelated to the conventional problem of dropping off by the solution.

さて図8に示すように、上述した第6の工程(第1の無電解めっき)と、第7の工程(被覆材3の除去)との間に、この第1の無電解めっきによる導電性回路6の表面に、浴組成が酸性または中性の第1の電解めっき、または第2の無電解を行なって、二次めっき層8を形成する第8の工程を挿入することができる。例えば第1の電解めっきとして、電解銅めっきを行う場合、酸性の硫酸銅浴の浴組成は、CuSO・5HO(75g)/lHSO(190g)/lCl(60ppm)/添加剤(適量)とする。また陽極材料を含リン銅として、浴温度は25℃に設定し、陰極電流密度を2.5A/dm2とする。なお第2の無電解としては、無電解金めっきを行なう。 Now, as shown in FIG. 8, between the sixth step (first electroless plating) and the seventh step (removal of the covering material 3), the conductivity by the first electroless plating is described. An eighth step of forming the secondary plating layer 8 by performing the first electrolytic plating or the second electroless bath composition having an acidic or neutral bath composition on the surface of the circuit 6 can be inserted. For example, when performing electrolytic copper plating as the first electrolytic plating, the bath composition of the acidic copper sulfate bath is CuSO 4 .5H 2 O (75 g) / lH 2 SO 4 (190 g) / lCl (60 ppm) / additive (Appropriate amount). The anode material is phosphorous copper, the bath temperature is set to 25 ° C., and the cathode current density is 2.5 A / dm 2. As the second electroless, electroless gold plating is performed.

このように第7の工程の前、すなわち被覆材3の除去前に、浴組成が酸性または中性の第1の電解めっき、または第2の無電解を行なう第8の工程を挿入しても、この被覆材3は、耐酸性を有するので、電解銅めっき液等に溶解することはなく、第1の無電解めっきによる導電性回路6の表面上に、正確に二次めっき層8を形成することができる。   In this way, even before the seventh step, that is, before the removal of the covering material 3, the eighth step of performing the first electroplating or the second electroless bath having an acidic or neutral bath composition may be inserted. Since the covering material 3 has acid resistance, it does not dissolve in the electrolytic copper plating solution or the like, and the secondary plating layer 8 is accurately formed on the surface of the conductive circuit 6 by the first electroless plating. can do.

また図9に示すように、第7の工程によって被覆材3を除去した後に、上述した第1の無電解めっき(第6の工程)による導電性回路6の表面に、さらに第2の電解めっきや、第3の無電解めっきによる二次めっき層9を形成する第9の工程を加えることもできる。   Further, as shown in FIG. 9, after the covering material 3 is removed by the seventh step, the second electrolytic plating is further applied to the surface of the conductive circuit 6 by the first electroless plating (sixth step) described above. Alternatively, a ninth step of forming the secondary plating layer 9 by the third electroless plating can be added.

また図10に示すように、第7の工程によって被覆材3を除去した後に、上述した第1の電解めっき(第8の工程)の上に、第3の電解めっきや、第4の無電解めっきによる三次めっき層10を形成する第10の工程を加えることもできる。あるいは図11に示すように、第7の工程によって被覆材3を除去した後に、上述した第2の無電解めっき(第8の工程)の上に、第4の電解めっきや、第5の無電解めっきによる三次めっき層11を形成する第11の工程を加えることもできる。   Further, as shown in FIG. 10, after the covering material 3 is removed in the seventh step, the third electrolytic plating or the fourth electroless process is performed on the first electrolytic plating (eighth step) described above. A tenth step of forming the tertiary plating layer 10 by plating can also be added. Alternatively, as shown in FIG. 11, after the covering material 3 is removed by the seventh step, the fourth electrolytic plating or the fifth non-electrolytic plating is performed on the second electroless plating (eighth step) described above. An eleventh step of forming the tertiary plating layer 11 by electrolytic plating can also be added.

なお上述した第9〜11の工程のいずれの場合にも、アルカリ性溶液で加水分解する被覆材3は、既に除去されているため、めっきの浴組成は、酸性または中性のみならず、アルカリ性であってもよい。また被覆材3で覆われていなかった部分には、すでに第1の無電解めっき等が形成してあるため、従来のような、この部分に付与した触媒が、アルカリ性の溶液で脱落するという問題とは、全く無縁となっている。   In any of the ninth to eleventh steps described above, since the covering material 3 that is hydrolyzed with an alkaline solution has already been removed, the plating bath composition is not only acidic or neutral, but also alkaline. There may be. Further, since the first electroless plating or the like has already been formed on the portion not covered with the covering material 3, the conventional problem is that the catalyst applied to this portion falls off with an alkaline solution. Is completely unrelated.

また第1のばね基体2等の材料であるポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂等に、繊維状又は粒子状のフィラーを添加してもよい。繊維としては、ガラス繊維、カーボン繊維、チタン酸カリュウムウイスカー、ホウ酸アルミニュームウイスカー、炭酸カルシュームウイスカー等、また、粒子状フィラーとしては炭酸カルシューム、ワラストナイト等が挙げられる。   Further, a fibrous or particulate filler may be added to a polyether ether ketone (PEEK) resin or the like that is a material of the first spring base 2 or the like. Examples of the fiber include glass fiber, carbon fiber, calcium titanate whisker, aluminum borate whisker, and carbonated whisker whisker. Examples of the particulate filler include calcium carbonate and wollastonite.

集積度の高い電子回路等の積層を可能にすると共に、触媒に含まれる貴重な貴金属の省資源化と、導電性回路を形成する部分に無電解めっきを十分析出させることができるため、電子機器等に関する産業に広く利用可能である。   It is possible to stack highly integrated electronic circuits, etc., save valuable precious metals contained in the catalyst, and sufficiently deposit electroless plating on the part forming the conductive circuit. It can be widely used in industries related to equipment.

板状のばねの斜視図である。It is a perspective view of a plate-shaped spring. つり巻き状のばねの斜視図である。It is a perspective view of a helical spring. リード状のばねの斜視図である。It is a perspective view of a lead-shaped spring. 第1のばね基体を射出成形するための金型の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the metal mold | die for injection molding the 1st spring base | substrate. 他の第1のばね基体を射出成形するための金型の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the metal mold | die for injection-molding another 1st spring base | substrate. 板状のばねの使用態様の1例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the usage condition of a plate-shaped spring. 板状のばねの製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of a plate-shaped spring. 他の板状のばねの製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of another plate-shaped spring. 他の板状のばねの製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of another plate-shaped spring. 他の板状のばねの製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of another plate-shaped spring. 他の板状のばねの製造工程図である。It is a manufacturing-process figure of another plate-shaped spring. ポリグリコール酸の化学構造式である。It is a chemical structural formula of polyglycolic acid.

符号の説明Explanation of symbols

1、101、201 導電性回路を有する合成樹脂製のばね
2、102、202 第1のばね基体
3 被覆材
4 第2のばね基体
5 触媒
6、106、206 導電性回路(第1の無電解めっき)
8 二次めっき層(第1の電解めっき、第2の無電解めっき)
9 二次めっき層(第2の電解めっき、第3の無電解めっき)
10 三次めっき層(第3の電解めっき、第4の無電解めっき)
11 三次めっき層(第4の電解めっき、第5の無電解めっき)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 101, 201 Synthetic resin spring 2, 102, 202 having conductive circuit First spring base 3 Covering material 4 Second spring base 5 Catalyst 6, 106, 206 Conductive circuit (first electroless circuit) Plating)
8 Secondary plating layer (first electrolytic plating, second electroless plating)
9 Secondary plating layer (second electrolytic plating, third electroless plating)
10 Tertiary plating layer (third electrolytic plating, fourth electroless plating)
11 Tertiary plating layer (4th electroplating, 5th electroless plating)

Claims (6)

絶縁性の合成樹脂を射出成形して、第1のばね基体を形成する第1の工程と、
上記第1のばね基体の表面を粗化する第2の工程と、
上記粗化した第1のばね基体の表面に、ポリグリコール酸、若しくはポリ乳酸の単体、またはポリ乳酸と脂肪族ポリエステルとの混合体、若しくは共重合体からなる被覆材を、部分的に被覆して第2のばね基体を形成する第3の工程と、
上記第2のばね基体の表面に触媒を付与する第4の工程と、
上記第2のばね基体の被覆材の表面に残存する上記触媒を、水洗除去する第5の工程と、
上記第2のばね基体の表面であって、上記被覆材で被覆されていない部分に、浴組成が酸性または中性のいずれかの第1の無電解めっきをする第6の工程と、
上記第2のばね基体の表面に被覆された被覆材を除去する第7の工程とを備える
ことを特徴とする導電性回路を有する合成樹脂製のばねの製造方法。
A first step of injection-molding an insulating synthetic resin to form a first spring base;
A second step of roughening the surface of the first spring base;
The surface of the roughened first spring base is partially coated with a coating material made of polyglycolic acid, polylactic acid alone, a mixture of polylactic acid and aliphatic polyester, or a copolymer. A third step of forming a second spring base;
A fourth step of applying a catalyst to the surface of the second spring base;
A fifth step of removing the catalyst remaining on the surface of the covering material of the second spring base with water;
A sixth step of subjecting the surface of the second spring base to a portion that is not covered with the covering material, a first electroless plating whose bath composition is either acidic or neutral;
And a seventh step of removing the covering material coated on the surface of the second spring base. A method of manufacturing a synthetic resin spring having a conductive circuit.
請求項1において、上記第1のばね基体を構成する合成樹脂は、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂、ポリエーテルイミド(PEI)、またはポリエーテルイミドとポリイミド(PI)との共重合体のいずれかの1である
ことを特徴とする導電回路を有する合成樹脂製のばねの製造方法。
2. The synthetic resin constituting the first spring base according to claim 1, is any one of polyetheretherketone (PEEK) resin, polyetherimide (PEI), or a copolymer of polyetherimide and polyimide (PI). A method for producing a spring made of synthetic resin having a conductive circuit.
請求項1または2のいずれかにおいて、上記第6の工程と第7の工程との間に、上記第1の無電解めっきの表面に、浴組成が酸性または中性のいずれかの第1の電解めっき、または第2の無電解めっきのいずれかを積層する第8の工程を備える
ことを特徴とする導電回路を有する合成樹脂製のばねの製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the bath composition is either acidic or neutral on the surface of the first electroless plating between the sixth step and the seventh step. An eighth step of laminating either electrolytic plating or second electroless plating is provided. A method of manufacturing a synthetic resin spring having a conductive circuit.
請求項1において、上記第7の工程の後に、上記第1の無電解めっきの表面に、浴組成が酸性、中性、またはアルカリ性のいずれかの1の第2の電解めっき、または第3の無電解めっきのいずれかを積層する第9の工程を備える
ことを特徴とする導電回路を有する合成樹脂製のばねの製造方法。
2. The first electrolytic plating according to claim 1, wherein the bath composition is any one of acidic, neutral, and alkaline on the surface of the first electroless plating after the seventh step. A method for producing a synthetic resin spring having a conductive circuit, comprising a ninth step of laminating any one of electroless plating.
請求項3において、上記第7の工程の後に、上記第1の電解めっきの表面に、浴組成が酸性、中性、若しくはアルカリ性のいずれかの1の第3の電解めっき、または第4の無電解めっきのいずれかを積層する第10の工程を備える
ことを特徴とする導電回路を有する合成樹脂製のばねの製造方法。
4. The third electrolytic plating according to claim 3, wherein the bath composition is either acidic, neutral, or alkaline after the seventh step, or the fourth non-electrolytic plating is performed on the surface of the first electrolytic plating. A method for producing a synthetic resin spring having a conductive circuit, comprising a tenth step of laminating any one of electrolytic plating.
請求項3において、上記第7の工程の後に、上記第2の無電解めっきの表面に、浴組成が酸性、中性、若しくはアルカリ性のいずれかの1の第4の電解めっき、または第5の無電解めっきのいずれかを積層する第11の工程を備える
ことを特徴とする導電回路を有する合成樹脂製のばねの製造方法。
4. The fourth electrolytic plating according to claim 3, wherein the bath composition is any one of acidic, neutral, and alkaline on the surface of the second electroless plating after the seventh step. An eleventh step of laminating any one of electroless platings is provided. A method for producing a synthetic resin spring having a conductive circuit.
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