KR100954596B1 - Plating method for plastic material surface using conductible media by barrel - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 플라스틱과 같은 부도체 상에 인쇄된 특정 부분에만 금속도금층을 형성하는 도금방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plating method of forming a metal plating layer only on a specific portion printed on an insulator such as plastic.
일반적으로 각종 전기, 전자기기의 경량화와 소형화 설계를 위하여 수지소재(플라스틱)가 널리 이용되고 있는바, 일례로 휴대폰의 내장형 안테나인 인테나의 경우에도 내충격성과 내후성이 양호한 PC(폴리카보네이트) 소재로 성형된 몸체의 일면에 무선 송수신을 위한 패턴(루프)을 형성한 구조를 지닌다.In general, resin materials (plastics) are widely used for lightening and miniaturizing various electric and electronic devices. For example, intena, a built-in antenna of a mobile phone, is formed of a PC (polycarbonate) material having good impact resistance and weather resistance. It has a structure that forms a pattern (loop) for wireless transmission and reception on one surface of the body.
종래의 경우 소정의 패턴으로 성형된 금속편을 수지 몸체에 열융착하는 방식이 보편적이었으나 패턴의 불균일한 밀착력에 의하여 금속편과 수지 몸체가 일부 분리되는 등의 불량 소지가 많았고, 또 무선송신이나 전자파 차폐 등의 중요한 물성이 장기간 유지되지 못하는 결점이 있었다. 이러한 이유에서 부도체 상에 도전성 패턴을 형성하는 방식에 있어서 물성변화가 적은 무전해 도금(electroless plating)이 선호된다. 무전해 도금은 금속 이온이 있는 용액 중의 환원제에 의해서 물건 위에 금속이 환원 석출되는 방식이며, 이온화 경향에 의한 치환도금(immersion plating)과는 구별하고 있다.Conventionally, the method of thermally fusion of a metal piece molded into a predetermined pattern to a resin body has been common, but there are many defects such as the metal piece and the resin body being partially separated by the nonuniform adhesion of the pattern, and radio transmission or electromagnetic shielding, etc. There was a drawback that the important properties of the membrane could not be maintained for a long time. For this reason, electroless plating with less change in physical properties is preferred in the method of forming the conductive pattern on the insulator. Electroless plating is a method in which a metal is reduced and precipitated on an article by a reducing agent in a solution containing metal ions, and is distinguished from immersion plating due to an ionization tendency.
일반적으로 무전해 도금공정은 전처리-> 화학동 도금-> 촉매처리-> 무전해 니켈 도금-> 침적식 후처리 순서로 진행된다. 전처리 공정은 탈지, 에칭, 중화, 촉매, 활성화 등의 처리를 포함한다. 탈지처리는 도금하고자 하는 제품의 표면으로부터 유기물, 산화물, 지문자국, 먼지 등의 오염물질을 제거하는 것이다. 에칭 처리는 도금층과 수지표면 사이의 밀착성을 향상시킨다. 중화 처리는 도금 피복력을 개선시키고 산화피막을 제거하는 것이다. 촉매 처리는 소재 표면에 화학도금 반응 개시에 필요한 촉매금속(Pb)을 소재 표면에 석출시키는 것이다. 활성화 처리는 소재 표면에 부착된 촉매층에 활성을 주어 화학도금이 되는 것을 도와준다.In general, the electroless plating process is performed in the order of pretreatment-> chemical copper plating-> catalyst treatment-> electroless nickel plating-> immersion post treatment. The pretreatment process includes treatment of degreasing, etching, neutralization, catalyst, activation and the like. Degreasing treatment removes contaminants such as organic matter, oxides, fingerprints, and dust from the surface of the product to be plated. The etching treatment improves the adhesion between the plating layer and the resin surface. Neutralization treatment is to improve plating coating power and to remove oxide film. Catalytic treatment is to deposit the catalytic metal (Pb) necessary for the start of the chemical plating reaction on the surface of the material. The activation treatment activates the catalyst layer attached to the surface of the material to assist in chemical plating.
화학동도금은 도금액에 도금하고자 하는 표적 부위에 도금액으로부터 환원 석출된 구리 도금층을 형성하는 것이다. 일반적으로 화학동 도금층의 두께는 5㎛ 이상을 하게 되는데 이때 소요되는 시간은 120분 내지 180분이 소요된다.Chemical copper plating is to form a copper plating layer which is reduced and precipitated from the plating liquid at a target portion to be plated in the plating liquid. In general, the thickness of the chemical copper plating layer is more than 5㎛ the time required takes 120 minutes to 180 minutes.
또한, 무전해 니켈 도금은 도금층의 두께가 3㎛ 이상이 되도록 한다. 이때 소요되는 도금시간은 30분 내지 40분 정도이다.In addition, in electroless nickel plating, the thickness of the plating layer is set to 3 µm or more. At this time, the plating time is about 30 to 40 minutes.
이와 같은 종래의 방식의 문제점은 모든 도금 공정이 무전해 도금방식으로 진행되기 때문에 시간이 많이 소요된다는 것이다. 따라서, 생산성이 나쁜 문제점이 있다. 또한, 무전해 도금의 경우에 도금액의 안정성이 떨어져 수명이 짧아지는 문제점이 있다. 또한, 도금액을 자주 교체하여 주어야 하기 때문이 비용이 증가하는 문제점이 있다. The problem with this conventional method is that all the plating process takes a lot of time because the electroless plating is performed. Therefore, there is a problem of poor productivity. In addition, in the case of electroless plating, there is a problem that the life of the plating solution is shortened and the life is shortened. In addition, there is a problem in that the cost increases because the plating solution must be replaced frequently.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서 종래의 무전해 도금 방식을 전해 도금방식으로 변경하고, 통전부재를 이용해 바렐도금을 함으로써 도금시간을 현저하게 단축하고 대량생산이 가능하도록 공정이 개선된 통전부재를 이용하여 플라스틱 표면에 부분적으로 전기 바렐도금을 하는 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to solve the problems described above to change the conventional electroless plating method to the electrolytic plating method, by barrel plating using a conductive member to significantly shorten the plating time and to enable mass production The present invention provides a method of partially electric barrel plating a plastic surface by using an improved current carrying member.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 통전부재를 이용하여 플라스틱 표면에 부분적으로 전기 바렐도금을 하는 방법은, 금속의 직접적인 도금이 어려운 플라스틱 소재의 베이스 부재의 표면에 선택적으로 금속을 도금하는 방법으로서,In order to achieve the above object, the method of partially electric barrel plating the plastic surface by using the current-carrying member according to the present invention, which selectively plate the metal on the surface of the base member of the plastic material difficult to directly plate the metal As a method,
베이스 부재의 표면을 전처리하는 전처리 단계;A pretreatment step of pretreating the surface of the base member;
상기 전처리 단계 후에 상기 베이스 부재에 인쇄된 패턴위에 화학동 도금을 5분 내지 10분간 실시하는 스트라이크 도금단계;A strike plating step of performing chemical copper plating on the pattern printed on the base member after the pretreatment step for 5 to 10 minutes;
상기 스트라이크 도금단계 후에 전기바렐 동도금을 20분 내지 30분간 실시하는 전기바렐 동도금 단계;An electric barrel copper plating step of performing an electric barrel copper plating for 20 to 30 minutes after the strike plating step;
상기 전기바렐 동도금 단계 후에 전기바렐 니켈도금을 10분 내지 15분 실시하는 전기바렐 니켈도금 단계; 및An electric barrel nickel plating step of performing an electric barrel nickel plating for 10 to 15 minutes after the electric barrel copper plating step; And
상기 전기바렐 니켈도금 단계 후에 전해식 후처리를 실시하는 전해식 후처리 단계;를 포함하며,And an electrolytic post-treatment step of performing an electrolytic post-treatment after the electric barrel nickel plating step.
상기 전기바렐 동도금 단계 및 상기 전기바렐 니켈도금 단계에서는 도금액과 베이스 부재의 혼합물에 다수의 전도성 통전부재를 혼합하여 전기바렐 도금을 행하는 점에 특징이 있다.In the electric barrel copper plating step and the electric barrel nickel plating step, the electric barrel plating is performed by mixing a plurality of conductive current-carrying members in a mixture of the plating solution and the base member.
상기 통전부재의 성분은 철(Fe)인 것이 바람직하다.The component of the energizing member is preferably iron (Fe).
상기 통전부재의 형상은 구형 또는 원기둥인 것이 바람직하다.The shape of the energizing member is preferably spherical or cylindrical.
상기 전기바렐 동도금 단계 및 상기 전기바렐 니켈도금 단계에서, 바렐의 내주면에 그물 형태의 메쉬부재를 배치하여 그 바렐 내에서 유동하는 통전부재가 소실되지 않도록 한 것이 바람직하다.In the electric barrel copper plating step and the electric barrel nickel plating step, it is preferable to arrange the mesh member of the mesh shape on the inner circumferential surface of the barrel so that the conducting member flowing in the barrel is not lost.
상기 전기바렐 동도금 단계 및 상기 전기바렐 니켈도금 단계에서, 상기 베이스 부재와 상기 통전부재의 혼합비율은 각 부재의 면적비로 1 : 3의 비율로 혼합한 것이 바람직하다.In the electric barrel copper plating step and the electric barrel nickel plating step, the mixing ratio of the base member and the energizing member is preferably mixed in a ratio of 1: 3 by the area ratio of each member.
상기 전기바렐 동도금 단계 및 상기 전기바렐 니켈도금 단계에서, 바렐내에 장입되는 베이스 부재와 통전부재의 부피의 합은 상기 바렐 부피의 60% 내지 70%인 것이 바람직하다.In the electro-barrel copper plating step and the electro-barrel nickel plating step, the sum of the volume of the base member and the energization member charged in the barrel is preferably 60% to 70% of the barrel volume.
본 발명에 따른 통전부재를 이용하여 플라스틱 표면에 부분적으로 전기 바렐도금을 하는 방법은, 부도체 상에 금속 도금층을 형성하는 방법에 있어서 종래의 무전해 도금방식을 전해 도금방식으로 변경하고, 바렐 도금시에 통전부재를 이용함으로써 도금시간을 현저하게 단축시켜 생산성을 향상시키며 생산비용을 낮추는 효 과를 제공한다.In the method of partially electric barrel plating on a plastic surface using the energizing member according to the present invention, in the method of forming a metal plating layer on a non-conductor, the conventional electroless plating method is changed to an electrolytic plating method, The use of an energizing member on the plate significantly shortens the plating time, thereby improving productivity and reducing the production cost.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 일 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 통전부재를 이용하여 플라스틱 표면에 부분적으로 전기 바렐도금을 하는 방법의 공정도이다. 도 2는 도 1에 도시된 전기바렐 동도금 단계 및 전기바렐 니켈도금 단계에서 사용되는 통전부재의 형태를 보여주는 도면이다. 도 3은 도 1에 도시된 전기바렐 동도금 단계 및 전기바렐 니켈도금 단계에서 사용되는 메쉬부재 형태를 보여주는 도면이다. 도 4는 도 1에 도시된 방법을 사용하여 전기도금을 행한 도금층과 종래의 방법을 사용하여 전기도금을 행한 도금층의 밀착력 시험결과를 비교하여 보여주는 사진이다.1 is a process diagram of a method of partially electric barrel plating on a plastic surface by using an energizing member according to the present invention. Figure 2 is a view showing the shape of the energizing member used in the electric barrel copper plating step and the electric barrel nickel plating step shown in FIG. 3 is a view showing a mesh member form used in the electro-barrel copper plating step and the electro-barrel nickel plating step shown in FIG. 4 is a photograph showing a comparison between the adhesion test results of the plated layer electroplated using the method shown in FIG. 1 and the plated layer electroplated using the conventional method.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 통전부재를 이용하여 플라스틱 표면에 부분적으로 전기 바렐도금을 하는 방법(이하 "도금방법"이라 함)은 금속의 직접적인 도금이 어려운 플라스틱 소재의 베이스 부재의 표면에 선택적으로 금속을 도금하는 방법이다.1 to 4, a method of partially electric barrel plating on a plastic surface by using an energizing member according to a preferred embodiment of the present invention (hereinafter referred to as "plating method") is a plastic that is difficult to directly plate the metal A metal is selectively plated on the surface of a base member of a raw material.
상기 도금방법은 전처리 단계(S1)와, 스트라이크 도금단계(S2)와, 전기바렐 동도금 단계(S3)와, 전기바렐 니켈도금 단계(S4)와, 전해식 후처리 단계(S5)를 포함하고 있다.The plating method includes a pretreatment step (S1), a strike plating step (S2), an electric barrel copper plating step (S3), an electric barrel nickel plating step (S4), and an electrolytic post-treatment step (S5). .
상기 전처리 단계(S1)는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC)와 같이 전기적으로 부도체인 베이스 부재의 표면으로부터 이물질을 제거하는 등의 처리를 하여 도금이 되는 부분의 표면을 깨끗하게 하는 것이다. 특히 베이스 부재의 표면에는 도금하고자 하는 특정 부위에 특정 패턴으로 선택적 도금용 잉크가 인쇄되어 있다. 이와 같이 베이스 부재의 특정부위에만 선택적으로 금속을 도금하는 경우는 휴대폰의 안테나를 케이스에 직접 형성하는 소위 인테나라고 하는 내장형 안테나(antenna)를 형성하는데 사용된다. 상기 선택적 도금용 잉크는 공지된 잉크를 채용할 수 있으므로 상세한 서술은 생략하기로 한다. 상기 선택적 도금용 잉크로는 예컨대 공지된 한국 공개특허 제2008-0042317호에 개시된 것과 같은 잉크를 사용할 수 있다.The pretreatment step (S1) is to clean the surface of the portion to be plated by performing a treatment such as removing foreign matter from the surface of the base member, which is electrically insulated, such as polycarbonate (PC). In particular, the surface of the base member is printed with a selective plating ink in a specific pattern on a specific portion to be plated. In this case, when the metal is selectively plated only on a specific portion of the base member, it is used to form an internal antenna called an antenna that directly forms the antenna of the cellular phone on the case. The selective plating ink may employ well-known inks, and thus detailed description thereof will be omitted. As the selective plating ink, for example, an ink such as that disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2008-0042317 may be used.
상기 스트라이크 도금단계(S2)는 상기 전처리 단계(S1) 후에 실시한다. 상기 스트라이크 도금단계(S2)에서는 상기 베이스 부재에 인쇄된 패턴위에 화학동 도금을 5분 내지 10분간 실시한다. 상기 스트라이크 도금단계(S2)는 도금액에 상기 베이스 부재를 침적한 상태에서 행해진다. 상기 스트라이크 도금단계(S2)에서는 촉매층에 구리 이온이 환원 석출되어 동도금이 이루어진다. 상기 베이스 부재의 인쇄된 부위에 금속 통전성만을 부여하기 위한 공정이므로 짧은 시간 동안만 행한다. 종래의 공정에서는 도금층을 5㎛ 이상 형성하여야 하므로 120분 내지 180분의 시간이 소요되었으나, 본 발명에 따른 스트라이크 도금단계(S2)에서는 석출된 구리 피막이 후술하는 전기바렐 도금 공정에서 용해되지 않도록 하기 위해 최소한 0.2 내지 0.3㎛ 정도의 두께만 도금하도록 한다. 따라서, 상기 스트라이크 도금단계(S2)의 소요시간은 5분 내지 10분 정도면 충분하다. 이 시간 보다 짧은 경우에는 도금층의 두께가 너무 얇아지는 문제점이 있으며, 이 시간 보다 길게 유지하는 경우에는 화학동 도금층과 후술하는 전기도금층 사이의 밀착성이 떨어지는 문제점이 있다. 상기 스트라이크 도금단계(S2)에서 사용되는 도금액의 성분은 개략적으로 황산구리 3~5g/ℓ, 롯셀염 20~30g/ℓ, 포르말린 5~10g/ℓ, 가성소다 5~8g/ℓ을 포함한다. 도 금액의 온도는 20~30℃로 유지되는 것이 바람직하다. 또한, 도금액의 수소이온농도(pH)는 12~12.5로 유지되는 것이 바람직하다. 도금액의 농도가 위 범위보다 높고 온도가 위 온도 범위보다 높을 경우에는 도금속도는 빨라지지만 도금면이 거칠어지고 외관에 얼룩이 발생한다. 그 반대의 조건에서는 치밀한 석출 피막이 얻어지나 도금속도가 저하되고 충분치 못한 도금이 이루어진다.The strike plating step S2 is performed after the pretreatment step S1. In the strike plating step (S2), the chemical copper plating is performed on the printed pattern on the base member for 5 to 10 minutes. The strike plating step S2 is performed in a state where the base member is immersed in a plating solution. In the strike plating step (S2), copper ions are reduced and precipitated in the catalyst layer, thereby copper plating. Since the process of giving only the metal conduction property to the printed portion of the base member, it is performed only for a short time. In the conventional process, since the plating layer should be formed at 5 μm or more, it took 120 minutes to 180 minutes, but in the strike plating step (S2) according to the present invention, in order to prevent the deposited copper film from being dissolved in the electric barrel plating process described later. Only plate the thickness of at least 0.2 to 0.3㎛. Therefore, the required time of the strike plating step (S2) is enough 5 minutes to 10 minutes. If it is shorter than this time, there is a problem that the thickness of the plating layer is too thin. If it is kept longer than this time, there is a problem that the adhesion between the chemical copper plating layer and the electroplating layer described later is inferior. The components of the plating solution used in the strike plating step (S2) roughly include 3 to 5 g / L copper sulfate, 20 to 30 g / L lotel salt, 5 to 10 g / L formalin, and 5 to 8 g / L caustic soda. It is preferable that the temperature of the bill is maintained at 20 to 30 ° C. In addition, the hydrogen ion concentration (pH) of the plating liquid is preferably maintained at 12 to 12.5. When the concentration of the plating liquid is higher than the above range and the temperature is higher than the above temperature range, the plating speed is increased, but the plating surface becomes rough and the appearance is uneven. Under the opposite conditions, a dense deposition film is obtained, but the plating rate is lowered and insufficient plating is performed.
상기 전기바렐 동도금 단계(S3)는 상기 스트라이크 도금단계(S2) 후에 실시한다. 상기 전기바렐 동도금 단계(S3)에서는 전기바렐 동도금을 20분 내지 30분간 실시한다. 상기 전기바렐 동도금 단계(S3)에서는 회전하는 바렐 내부에 도금액과, 베이스 부재와, 다수의 통전부재(10)를 혼합하여 도금을 실시한다. 상기 통전부재(10)는 베이스 부재의 인쇄 부위와 전극 간에 전기적 통로를 형성함으로써 도금의 속도와 도금 품질을 향상시키기 위해 도입되었다. 상기 통전부재(10)의 성분은 철(Fe)인 것이 바람직하다. 상기 통전부재(10)는 도 2에 도시된 바와 같이 구형 또는 원기둥 형상으로 형성될 수 있다. 상기 통전부재(10)가 구형일 경우에는 그 지름이 4.8mm 정도로서 그 둘레가 15mm 정도인 것이 바람직하다. 한편, 상기 통전부재(10)가 원기둥 형상일 경우에는 단면의 지름이 1mm, 길이가 15mm 정도인 것이 바람직하다. 상기 통전부재(10)의 혼합비율은 상기 베이스 부재와 상기 통전부재(10)의 표면적의 비로 1:3의 비율로 혼합한 것이 바람직하다. 또한, 상기 전기바렐 동도금 단계(S3)에서, 바렐내에 장입되는 베이스 부재와 통전부재의 부피의 합은 상기 바렐 부피의 60% 내지 70%인 것이 바람직하다. 상기 전기바렐 동도금 단계(S3)에서 사용되는 도금액의 조성은 시안화 동 60~70g/ℓ, 시안화 나트륨 50~70g/ℓ, 롯셀염 10~20g/ℓ를 포함하고 있다. 도금액의 온도는 50~60℃로, 수소이온농도(pH)는 12~12.5로 유지하고, 전압은 4~8V, 바렐의 회전수는 10~15rpm 정도로 유지하는 것이 바람직하다.The electro-barrel copper plating step (S3) is performed after the strike plating step (S2). In the electric barrel copper plating step (S3), the electric barrel copper plating is performed for 20 to 30 minutes. In the electric barrel copper plating step (S3), plating is performed by mixing a plating solution, a base member, and a plurality of energizing
상기 전기바렐 니켈도금 단계(S4)는 상기 전기바렐 동도금 단계(S3) 후에 실시한다. 상기 전기바렐 니켈도금 단계(S4)에서는 전기바렐 니켈도금을 10분 내지 15분 실시한다. 상기 전기바렐 니켈도금 단계(S4)에서도 상기 전기바렐 동도금 단계(S3)에서와 마찬가지로 통전부재(10)를 도금액에 혼합하여 도금을 실시한다. 상기 통전부재(10)의 재질, 형상, 크기 및 장입부피는 상기 전기바렐 동도금 단계(S3)의 서술을 참조하기로 한다. 상기 전기바렐 니켈도금 단계(S4)에서 사용되는 도금액은 설파민산 니켈도금욕으로 한다. 이 도금액은 일반니켈 도금액에 비해 응력이 작고 밀착력이 좋아 크랙(crack)이 잘 생기지 않아 인쇄수지의 전기적 특성이 양호하다. 이 도금액의 조성은 황산니켈 암모늄 350~450g/ℓ, 염화니켈 5~10g/ℓ, 붕산 30~45g/ℓ를 포함하고 있다. 이 도금액의 온도는 50~60℃로, 수소이온농도(pH)는 3.5~4.5로 유지하는 것이 바람직하다. 도금액에 가해지는 전압은 4~8V, 바렐의 회전수는 10~15rpm 이 바람직하다.The electro-barrel nickel plating step S4 is performed after the electro-barrel copper plating step S3. In the electric barrel nickel plating step (S4), the electric barrel nickel plating is performed for 10 to 15 minutes. In the electric barrel nickel plating step (S4), as in the electric barrel copper plating step (S3), the
상기 전기바렐 동도금 단계(S3) 및 상기 전기바렐 니켈도금 단계(S4)에서, 바렐의 내주면에 그물 형태의 메쉬부재(20)를 배치하여 그 바렐 내에서 유동하는 통전부재가 소실되지 않도록 한 것이 바람직하다. 상기 메쉬부재(20)의 형태는 도 3에 도시되어 있다.In the electric barrel copper plating step (S3) and the electric barrel nickel plating step (S4), it is preferable to arrange the
상기 전해식 후처리 단계(S5)는 상기 전기바렐 니켈도금 단계(S4) 후에 실시 한다. 상기 전해식 후처리 단계(S5)는 종래의 침적식에 비하여 전기적인 효과가 더해져서 도금 가공층을 잘 메워주고 코팅력이 뛰어나 변색방지에 더욱 효과적이다.The electrolytic post-treatment step (S5) is performed after the electric barrel nickel plating step (S4). The electrolytic post-treatment step (S5) is more effective in preventing discoloration because the electrical effect is added compared to the conventional deposition type to fill the plated layer well and the coating power is excellent.
이와 같이 방법을 사용하여 폴리카보네이트(PC) 소재로 된 휴대폰 케이스를 베이스 부재로 하여 그 베이스 부재 표면에 안테나 패턴의 금속 도금층을 형성하였다. 본 발명에 따른 도금방법은 종래의 도금방법에 비하여 전해도금 방식을 채용함으로써 도금에 소요되는 시간이 종래 방식에 비하여 현저하게 단축됨으로써 생산성이 현저하게 증가하는 효과를 제공한다. 특히 상기 통전부재(10)는 베이스 부재의 도금되는 부위의 통전효율을 현저하게 향상시켜서 본 발명의 효과를 더욱 배가시킨다. 수치상으로 본 발명에 따른 도금방법은 종래의 도금방법에 비하여 도금시간이 20~25% 정도에 불과할 정도로 단축되는 효과가 있었다.In this way, a metal plating layer of an antenna pattern was formed on the surface of the base member by using a mobile phone case made of polycarbonate (PC) as a base member. The plating method according to the present invention employs an electroplating method as compared to the conventional plating method, thereby providing an effect of significantly increasing productivity since the time required for plating is significantly shorter than that of the conventional method. In particular, the conducting
도 4는 본 발명에 따른 잉크를 사용하여 형성한 도금층과 종래의 잉크를 사용하여 형성한 도금층의 부착강도 시험결과를 비교한 것이다. 도금층의 부착강도 시험은 일반적으로 산업 현장에서 행해지고 있는 밀착력 시험(Cross-Cutting)을 사용하였다. 밀착력 시험의 목적은 기구부품에 표면처리된 물질과 모재와의 부착력을 검증하여 소비자 사용조건에서 벗겨짐, 박리 등의 문제점이 발생하는 것을 방지고자 실시하는 것이다. 밀착력 시험방법은 밀착력 시험을 위한 부품의 표면에 칸날을 이용하여 가로X세로 1mm 간격으로 각각 11개소씩 표면처리된 막 깊이로 칼집을 낸다. 그 결과 100개의 1mmX1mm의 격자가 생성된다. 생성된 격자의 깔쭉 깔쭉한 부부분(burr)이나 이물질을 제거한다. 그리고 접착 테이프를 형성된 격자에 기포가 생기지 않도록 접착시킨다. 접착된 테이프를 격자면과 90°각도로 신속하게 잡아당긴 다. 이와 같은 과정을 4~5회 반복 실시한다. 그 결과 한 격자(1mmX1mm)당 20% 이하로 떨어지면 합격으로 판정한다.Figure 4 compares the test results of the adhesion strength of the plated layer formed using the ink according to the present invention and the plated layer formed using a conventional ink. The adhesion strength test of the plating layer used the cross-cutting test which is generally performed in the industrial field. The purpose of the adhesion test is to verify the adhesion between the surface-treated material and the base material on the mechanical parts to prevent the problem of peeling, peeling, etc. under the conditions of consumer use. Adhesion test method is to cut the surface of the part for adhesion test by using a knife blade to the depth of the surface treated 11 places at intervals of 1mm in width X length. The result is 100 grids of 1 mm × 1 mm. Remove any burrs or foreign matter from the resulting lattice. And the adhesive tape is adhere | attached so that a bubble may not generate | occur | produce on the grid | lattice formed. The glued tape is pulled out quickly at a 90 ° angle to the lattice plane. Repeat this process four to five times. As a result, when it falls below 20% per one grating (1mmX1mm), it determines with a pass.
본 발명에 따른 방법에 의해 형성된 도금층은 그 도금층을 형성하기 위한 시간에 있어서도 종래의 방법에 비하여 현저하게 단축되었다. 또한, 도 4를 참조하면 본 발명에 따른 잉크를 사용하여 형성된 도금층의 부착강도가 종래의 방법을 사용하여 형성된 도금층의 부착강도 보다 우수하다는 것을 알 수 있다.The plating layer formed by the method according to the present invention was markedly shortened in comparison with the conventional method also in the time for forming the plating layer. In addition, referring to Figure 4 it can be seen that the adhesion strength of the plating layer formed using the ink according to the present invention is superior to the adhesion strength of the plating layer formed using a conventional method.
이상, 바람직한 실시예를 들어 본 발명에 대해 설명하였으나, 본 발명이 그러한 예에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범주 내에서 다양한 형태의 실시예가 구체화될 수 있을 것이다.The present invention has been described above with reference to preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above examples, and various forms of embodiments may be embodied without departing from the technical spirit of the present invention.
도 1은 본 발명에 따른 통전부재를 이용하여 플라스틱 표면에 부분적으로 전기 바렐도금을 하는 방법의 공정도이다.1 is a process diagram of a method of partially electric barrel plating on a plastic surface by using an energizing member according to the present invention.
도 2는 도 1에 도시된 전기바렐 동도금 단계 및 전기바렐 니켈도금 단계에서 사용되는 통전부재의 형태를 보여주는 도면이다.Figure 2 is a view showing the shape of the energizing member used in the electric barrel copper plating step and the electric barrel nickel plating step shown in FIG.
도 3은 도 1에 도시된 전기바렐 동도금 단계 및 전기바렐 니켈도금 단계에서 사용되는 메쉬부재 형태를 보여주는 도면이다.3 is a view showing a mesh member form used in the electro-barrel copper plating step and the electro-barrel nickel plating step shown in FIG.
도 4는 도 1에 도시된 방법을 사용하여 전기도금을 행한 도금층과 종래의 방법을 사용하여 전기도금을 행한 도금층의 밀착력 시험결과를 비교하여 보여주는 사진이다.4 is a photograph showing a comparison between the adhesion test results of the plated layer electroplated using the method shown in FIG. 1 and the plated layer electroplated using the conventional method.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
10...통전부재 20...메쉬부재10 ...
S1...전처리 단계 S2...스트라이크 도금단계S1 ... pretreatment step S2 ... strike plating step
S3...전기바렐 동도금 단계 S4...전기바렐 니켈도금 단계S3 ... Electric Barrel Copper Plating Step S4 ... Electric Barrel Nickel Plating Step
S5...전해식 후처리 단계S5 ... Electrolytic Post-Processing Steps
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