JP2009176830A - レーザ発振装置およびレーザ発振方法 - Google Patents
レーザ発振装置およびレーザ発振方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】レーザ発振装置は、レーザ媒質20と、レーザ媒質20に励起光Eを照射する放電管1と、放電管1へ電力を供給する電源10と、を備えている。電源10は、放電管1にパルス状のプリパルス電力を印加した後、放電管1にプリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光Eを発生させ、レーザ媒質20からレーザ光Lを発振させる。
【選択図】図1
Description
レーザ媒質と、
前記レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、
前記放電管へ電力を供給する電源と、を備え、
前記電源が、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加した後、該放電管に該プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させ、前記レーザ媒質からレーザ光を発振させる。
前記電源は、前記放電管に前記プリパルス電力を複数回、印加することが好ましい。
前記電源から前記放電管に印加される前記プリパルス電力のうち最後に印加されるプリパルス電力の大きさは、他のプリパルス電力の大きさよりも小さくなっていることが好ましい。
前記放電管に流れる電流を観察する電流観察部をさらに備え、
前記プリパルス電力は、前記電流観察部からの情報に基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つが調整されることが好ましい。
被処理体がレーザ加工されている加工状態において、前記電源から前記放電管に次回以降に印加されるプリパルス電力は、前記電流観察部からの情報に基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つが調整されることが好ましい。
前記電源を制御する制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記電流観察部から前記放電管に電流が流れたという情報を受けた後に、前記電源によって前記放電管に加工電力を印加させることが好ましい。
前記電源を制御する制御部をさらに備え、
当該制御部は、被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のときに、前記電流観察部からの情報に基づいて、前記プリパルス電力の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つを調整することが好ましい。
前記制御部は、定期的に非加工状態を作りだし、当該非加工状態のときに、前記電流観察部からの情報に基づいて、前記プリパルス電力の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つを調整することが好ましい。
前記レーザ媒質から発振されるレーザ光を観察するレーザ観察部をさらに備え、
前記プリパルス電力は、前記レーザ観察部からの情報にも基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つが調整されることが好ましい。
レーザ媒質と、該レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、該放電管へ電力を供給する電源と、を備えたレーザ発振装置を用いたレーザ発振方法において、
前記電源によって、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加するプリパルス工程と、
前記電源によって、前記放電管に前記プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させる励起光発生工程と、
前記励起光を受けた前記レーザ媒質からレーザ光が発振されるレーザ光発振工程と、
を備えている。
以下、本発明に係るレーザ発振装置およびレーザ発振方法の第1の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1および図2は本発明の第1の実施の形態を示す図である。
次に、図3および図4により、本発明の第2の実施の形態について説明する。図3および図4に示す第2の実施の形態は、電圧源10が、放電管1にプリパルス電圧を一回だけ印加するのではなく、プリパルス電圧を複数回(本実施の形態では3回)印加するものであり、その他の構成は図1および図2に示す第1の実施の形態と略同一である。
次に、図5により、本発明の第3の実施の形態について説明する。図5に示す第3の実施の形態は、放電管1に流れる電流を観察する電流観察部30と、当該電流観察部30からの情報に基づいて、電圧源10を制御する制御部50と、をさらに備えたものであり、その他の構成は図3および図4に示す第2の実施の形態と略同一である。
次に、図6により、本発明の第3の実施の形態の変形例について説明する。図6に示す変形例は、制御部50が、電流観察部30からの情報に基づいて、電圧源10が放電管1に印加するプリパルス電圧の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つを調整する代わりに、制御部50が、電流観察部30からの情報に基づいて放電管1に電流が流れたことを確認した後に、電圧源10によって放電管1に加工電圧を印加させるものであり、その他の構成は図5に示す第3の実施の形態と略同一である。
次に、図7(a)(b)を参照として、本発明の第4の実施の形態について説明する。第4の実施の形態は、制御部50が、被処理体がレーザ加工されている加工状態において、電圧源10が放電管1に次回印加するプリパルス電圧を調整する代わりに、被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のときに、電圧源10が放電管1に印加するプリパルス電圧を調整するものであり、その他の構成は図5に示す第3の実施の形態と略同一である。なお、この非加工状態においては、レーザ媒質20と被処理体との間に配置されたシャッター(図示せず)が閉じられており、レーザ媒質20から発振されるレーザ光Lによって被処理体が加工されないようになっている。
次に、図8により、本発明の第5の実施の形態について説明する。図8に示す第5の実施の形態は、レーザ媒質20から発振されるレーザ光Lを観察するレーザ光観察部35と、当該レーザ光観察部35からの情報に基づいて、電圧源10を制御する制御部50と、をさらに備えたものであり、その他の構成は図3および図4に示す第2の実施の形態と略同一である。
10 電圧源
20 レーザ媒質
30 電流観察部
35 レーザ光観察部
50 制御部
E 励起光
L レーザ光
M 加工電流
P プリパルス電流
Claims (10)
- レーザ媒質と、
前記レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、
前記放電管へ電力を供給する電源と、を備え、
前記電源は、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加した後、該放電管に該プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させ、前記レーザ媒質からレーザ光を発振させることを特徴とするレーザ発振装置。 - 前記電源は、前記放電管に前記プリパルス電力を複数回、印加することを特徴とする請求項1に記載のレーザ発振装置。
- 前記電源から前記放電管に印加される前記プリパルス電力のうち最後に印加されるプリパルス電力の大きさは、他のプリパルス電力の大きさよりも小さくなっていることを特徴とする請求項2に記載のレーザ発振装置。
- 前記放電管に流れる電流を観察する電流観察部をさらに備え、
前記プリパルス電力は、前記電流観察部からの情報に基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つが調整されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ発振装置。 - 被処理体がレーザ加工されている加工状態において、前記電源から前記放電管に次回以降に印加されるプリパルス電力は、前記電流観察部からの情報に基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つが調整されることを特徴とする請求項4に記載のレーザ発振装置。
- 前記電源を制御する制御部をさらに備え、
当該制御部は、前記電流観察部から前記放電管に電流が流れたという情報を受けた後に、前記電源によって前記放電管に加工電力を印加させることを特徴とする請求項4に記載のレーザ発振装置。 - 前記電源を制御する制御部をさらに備え、
当該制御部は、被処理体がレーザ加工されていない非加工状態のときに、前記電流観察部からの情報に基づいて、前記プリパルス電力の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つを調整することを特徴とする請求項4に記載のレーザ発振装置。 - 前記制御部は、定期的に非加工状態を作りだし、当該非加工状態のときに、前記電流観察部からの情報に基づいて、前記プリパルス電力の大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つを調整することを特徴とする請求項7記載のレーザ発振装置。
- 前記レーザ媒質から発振されるレーザ光を観察するレーザ観察部をさらに備え、
前記プリパルス電力は、前記レーザ観察部からの情報にも基づいて、その大きさ、回数、パルス幅およびパルス間隔のうちの少なくとも1つが調整されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ発振装置。 - レーザ媒質と、該レーザ媒質に励起光を照射する放電管と、該放電管へ電力を供給する電源と、を備えたレーザ発振装置を用いたレーザ発振方法において、
前記電源によって、前記放電管にパルス状のプリパルス電力を印加するプリパルス工程と、
前記電源によって、前記放電管に前記プリパルス電力よりも大きな加工電力を印加して励起光を発生させる励起光発生工程と、
前記励起光を受けた前記レーザ媒質からレーザ光が発振されるレーザ光発振工程と、
を備えたことを特徴とするレーザ発振方法。
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JP2008011761A JP5107732B2 (ja) | 2008-01-22 | 2008-01-22 | レーザ発振装置およびレーザ発振方法 |
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JP2012248614A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Omron Corp | 光増幅装置およびレーザ加工装置 |
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2008
- 2008-01-22 JP JP2008011761A patent/JP5107732B2/ja active Active
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