JP2009175735A - 感光体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】感光体を形成させるためのプロセスは、感光体基材を備える工程と、前記基材の上に、電荷発生層を塗布形成する工程と、電荷輸送層を塗布形成する工程と、保護オーバーコート層を塗布形成する工程と、を含み、前記保護オーバーコート層が、ポリオールバインダと、正孔輸送材料と、硬化剤と、表面処理された酸化スズ粒子充填剤と、を含む。
【選択図】なし
Description
[CH2RaCH2]m[CO2RbCO2]n[CH2RcCH2]p[CO2RdCO2]q・・・(1)
[式中、RaおよびRcは独立して、ポリオールから誘導される直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基(それらのアルキル基は、1〜約20個の炭素原子を有する)を表し、RbおよびRdは独立して、ポリカルボン酸から誘導されるアルキル基(それらのアルキル基は1〜約20個の炭素原子を有する)を表し、m、n、p、およびqは、0〜1のモル分率を表し、n+m+p+q=1である]。
[Rt−CH2]t−[−CH2−Ra−CH2]p−[−CO−Rb−CO−]n−[−CH2−Rc−CH2]p−[−CO−Rd−CO−]q
[式中、RtはCH2CR1CO2−(ここで、R1はアルキル基であり、tはアクリラート化部位のモル分率を表していて、0〜1である)、RaおよびRcは独立して、ポリオールから誘導された、直鎖状アルキルもしくはアルコキシ基、または分岐状アルキルもしくはアルコキシ基を表し、RbおよびRdは独立して、アルキルまたはアルコキシ基を表し、m、n、p、およびqは、0〜1のモル分率を表し、n+m+p+q=1である]。
−[−CH2−Ra−CH2]m−[−CO−Rb−CO−]n−[−CH2−Rc−CH2]p−[−CO−Rd−CO−]q
[式中、RaおよびRcは独立して、ポリオールから誘導された、直鎖状アルキルもしくはアルコキシ基、または分岐状アルキルもしくはアルコキシ基を表し、RbおよびRdは独立して、アルキルまたはアルコキシ基を表し、m、n、p、およびqは、0〜1のモル分率を表し、n+m+p+q=1である]。
[式中、それぞれのXは独立して、−H、−OH、アルキル(−CnH2n+1)(ここで、nは、1〜約10、たとえば1〜約5または1〜約6である)、アラルキル、およびアリール基(それらのアラルキルおよびアリール基は、たとえば約5〜約30、たとえば約6〜約20個の炭素原子を含む)からなる群より選択される]。アラルキル基の好適な例としては、たとえば、−CnH2n−フェニル基(ここで、nは1〜約5または1〜約10である)が挙げられる。アリール基の好適な例としては、たとえば、フェニル、ナフチル、ビフェニルなどが挙げられる。アルキルには、たとえば、1〜約25個の炭素原子、1〜約16個の炭素原子、1〜約10個の炭素原子、または1〜約6個の炭素原子が含まれ、たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、ヘキシル、ドデシルなどが挙げられる。
Q−[−L−OH]n
[式中、Qは電荷輸送成分を表し、Lは2価の結合基を表し、nは繰り返しセグメントまたは基の数、たとえば1〜約8を表している]。
[式中、Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、およびAr5はそれぞれ独立して、置換または非置換のアリール基を表すか、またはAr5が独立して置換または非置換アリーレン基を表し、kは0または1を表すが、ここでAr1、Ar2、Ar3およびAr4の内の少なくとも一つは結合基Lに結合している]。
[式中、Rは、1〜約10個の炭素原子を有するアルキル基、たとえば−CH3、−C2H5、−C3H7、および−C4H9からなる群より選択される]を表すか、またはAr5は独立して、置換または非置換アリーレン基たとえば、
[式中、Rは、1〜約10個の炭素原子を有するアルキル基、たとえば−CH3、−C2H5、−C3H7、および−C4H9からなる群より選択される]を表す。kが0よりも大きい場合、Ar5として好適なその他の基としては、次式のものが挙げられる:
[式中、nは0または1であり、Arは、先にAr1、Ar2、Ar3、Ar4、およびAr5で定義されたものであり、Xは以下のものからなる群より選択される:
[ここで、sは0、1、または2である]]。
およびそれらのメチルエーテル誘導体が挙げられる。
R−Z(X)nY3−n・・・(I)
[式中、RおよびXはそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基、置換アルキル基または置換アリール基を表し、Zは、ケイ素原子、チタン原子などを表し、Yは、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、およびアリル基を表す]。
R−Si(X)nY3−n・・・(II)
[式中、RおよびXは、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、置換アルキル基または置換アリール基、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合を含む有機基、およびエポキシ基を表し、Yは、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、およびアリル基を表す]。
(III)
[式中、R1およびR2はそれぞれ独立して、約1〜約30個の炭素原子のアルキル基、約6〜約60個の炭素原子のアリール基、約1〜約30個の炭素原子の置換アルキル基もしくは置換アリール基を表し、zは、約3〜約10の整数を表す]。
表面処理された酸化スズ粒子は、トルエン中で酸化スズ粒子を3,3,3−トリフルオロプロピルトリメチルシランと混合することにより調製する。得られる分散体を、高温下で加熱しながら、超音波処理にかける。トルエン溶媒を除去して、得られる表面処理された酸化スズ粒子を約150℃で乾燥させる。
実施例1に記載の手順に従って感光体を製造するが、ただし、表面処理された非スズ酸化物粒子をオーバーコート層コーティング溶液に添加する。
実施例1に記載の手順に従って感光体を製造するが、ただし、保護オーバーコート層を省略する。
上述のようにして調製した電子写真(xerographic)の電気的な性質を、公知の手段によって求めたが、そのような手段としては、たとえば、コロナ放電源を用いたその表面を、静電電位計に取り付けた容量結合プローブによって測定して、その表面電位が、初期値V0が約−800ボルトに達するまで荷電する方法である。暗所に0.33秒間静置させた後では、その荷電した部材の表面電位が、Vddp、すなわち暗現像電位(dark development potential)をとる。フィードバックループで、コロナ放電源の出力を調節して、そのVddpを−500Vに維持する。次いでその導電画像形成部材を、少なくとも150ワット電球を用いた、フィルタをかけたキセノンランプからの光に暴露させると、それによって、光放電が誘起され、その結果、表面電位が低下して、Vbg、すなわちバックグラウンド電位となった。入射光の波長は780nmであり、その入射光の露光エネルギーを、0〜25erg/cm2で変化させた。表面電位を露光エネルギーに対してプロットすることによって、光放電曲線が得られた。
(1)前記表面処理された酸化スズ粒子充填剤が、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメチルシラン、デシルトリメトキシシラン(DTMS)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)、デシルシラン、およびイソブチルトリメトキシシラン(i−BTMS)からなる群より選択される化合物を用いて表面処理される、請求項1に記載の感光体。
Claims (3)
- ポリオールバインダと、
正孔輸送材料と、
硬化剤と、
表面処理された酸化スズ粒子充填剤と、
からなる保護オーバーコート層を有する感光体。 - 感光体を形成させるためのプロセスであって、
感光体基材を備える工程と、
前記基材の上に、電荷発生層を塗布形成する工程と、
電荷輸送層を塗布形成する工程と、
保護オーバーコート層を塗布形成する工程と、
を含み、
前記保護オーバーコート層が、
ポリオールバインダと、
正孔輸送材料と、
硬化剤と、
表面処理された酸化スズ粒子充填剤と、
を含むプロセス。 - 画像を形成させるための方法であって、
少なくとも基材と、電荷発生層と、電荷輸送層と、保護オーバーコート層と、を含む感光体に電荷を付与する工程と、
前記感光体を電磁線に露光させる工程と、
前記感光体を前記電磁線に露光させることによって形成された潜像を現像して、可視画像を形成させる工程と、
前記可視画像を印刷基材に転写させる工程と、
を含み
前記保護オーバーコート層が、
ポリオールバインダと、
正孔輸送材料と、
硬化剤と、
表面処理された酸化スズ粒子充填剤と、
を含む方法。
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