JP2009170643A - Separation device and inspecting apparatus of substrate - Google Patents
Separation device and inspecting apparatus of substrate Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009170643A JP2009170643A JP2008006845A JP2008006845A JP2009170643A JP 2009170643 A JP2009170643 A JP 2009170643A JP 2008006845 A JP2008006845 A JP 2008006845A JP 2008006845 A JP2008006845 A JP 2008006845A JP 2009170643 A JP2009170643 A JP 2009170643A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- substrates
- suction head
- silicon substrate
- separation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本発明は、複数の基板を積層状態で支持する支持体から、基板を1枚ずつ分離して搬出する分離装置及びこれを用いた基板の検査装置に関する。 The present invention relates to a separation apparatus that separates and carries out substrates one by one from a support that supports a plurality of substrates in a stacked state, and a substrate inspection apparatus using the same.
一般に、太陽電池として使用されるシリコン基板等は、シリコン鋳塊を薄く切断(スライス)することにより作製されており、切断された基板は積層状態で収納カセット等の支持体に支持されて搬送されている。
このようなシリコン基板においては、JIS H 0613の規定により、クラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマーク等の検査を行うことが求められている。
In general, a silicon substrate or the like used as a solar cell is manufactured by thinly slicing (slicing) a silicon ingot, and the cut substrate is conveyed by being supported by a support such as a storage cassette in a stacked state. ing.
Such a silicon substrate is required to be inspected for cracks, claw tracks, hooks, cracks, edge chips, pinholes, dirt, saw marks, and the like according to JIS H 0613.
従来、このような検査は作業者の目視によって行われており、多大な労力と時間とを必要としていた。このため、これらの検査を自動で行うことが可能な検査装置が求められている。検査を自動で行うためには、積層された基板(薄板)を支持体から1枚ずつ搬出する必要がある。ところで、前述のシリコン基板等は、その表面が比較的平滑なため、積層された基板同士が密着し、単に最表面にある基板を保持しても基板を1枚ずつ搬出することは困難であった。 Conventionally, such an inspection is performed by visual inspection of an operator, and requires a lot of labor and time. Therefore, an inspection apparatus capable of automatically performing these inspections is required. In order to perform inspection automatically, it is necessary to carry out the laminated substrates (thin plates) one by one from the support. By the way, the above-mentioned silicon substrates and the like have a relatively smooth surface, so that the stacked substrates are in close contact with each other, and it is difficult to carry out the substrates one by one even if the substrate on the outermost surface is simply held. It was.
そこで、積層された基板を1枚ずつ分離して搬出する分離装置として、例えば特許文献1〜3に開示されたものが提案されている。
特許文献1に開示された分離装置は、対向する基板側に向けて凸曲した吸着部を有し、基板表面の中央部を押圧することで基板を湾曲させて基板の裏面に密着した他の基板を分離し、基板の端部を吸着して搬出する構成とされている。
また、特許文献2に開示された分離装置は、基板の4つの角部に吸着する吸着パッドを有し、やはり、基板表面の中央部を押圧することで基板を湾曲させて基板の裏面に密着した他の基板を分離し、基板の角部を吸着して搬出する構成とされている。
Therefore, for example, those disclosed in Patent Documents 1 to 3 have been proposed as separation apparatuses that separate and carry out stacked substrates one by one.
The separation device disclosed in Patent Document 1 has an adsorbing portion that is curved toward the opposite substrate side, and presses the central portion of the substrate surface to bend the substrate and adhere to the back surface of the substrate. The substrate is separated, and an end portion of the substrate is sucked and carried out.
In addition, the separation device disclosed in Patent Document 2 has a suction pad that sucks at the four corners of the substrate, and also presses the center of the substrate surface to bend the substrate and adhere to the back surface of the substrate. The other substrate is separated, and the corner portion of the substrate is sucked and carried out.
さらに、特許文献3に開示された分離装置は、多数の吸着孔が設けられた吸着パッドを有し、この吸着パッドで基板を吸着して保持するとともに、エアナイフ部からエアを噴出して基板の裏面に密着した他の基板を分離する構成とされている。
ところで、特許文献1〜3に記載された分離装置においては、基板を確実に保持するために、基板の広い面積を吸着して保持している。特に、特許文献3においては、高速の移動を可能とするために、基板と略同一の大きさの吸着パッドを用いている。
しかしながら、このように基板の広い面積を吸着して保持した場合には、基板の表面に汚れやキズが生じるおそれがあった。また、例えば太陽電池用のシリコン基板は厚さが150〜400μm程度と非常に薄く、かつ、脆性材料であるため、基板の複数箇所を吸着して保持した場合には、基板に曲げ応力が作用してクラック、欠け及び割れ等の欠陥が発生するおそれがあった。
一方、吸着パッドの保持力を抑えると、搬出中の基板の位置ズレが生じたり、落下したりしてしまうといった問題があった。
By the way, in the separation apparatus described in Patent Documents 1 to 3, in order to hold the substrate securely, a large area of the substrate is sucked and held. In particular, in Patent Document 3, in order to enable high-speed movement, a suction pad having approximately the same size as the substrate is used.
However, when a large area of the substrate is sucked and held in this way, there is a possibility that the surface of the substrate may be soiled or scratched. In addition, for example, a silicon substrate for a solar cell is very thin with a thickness of about 150 to 400 μm and is a brittle material. Therefore, when a plurality of portions of the substrate are adsorbed and held, bending stress acts on the substrate. As a result, defects such as cracks, chips and cracks may occur.
On the other hand, if the holding force of the suction pad is suppressed, there is a problem that the substrate being moved out of position is displaced or dropped.
この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、複数の基板が積層状態で支持された支持体から基板を1枚ずつ確実に分離して搬出することができ、かつ、基板表面の汚れやキズ、基板のクラック、欠け及び割れ等の欠陥が発生することを防止できる分離装置及びこの分離装置を備えた基板の検査装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the circumstances described above, and is capable of reliably separating and carrying out substrates one by one from a support body in which a plurality of substrates are supported in a stacked state, and the substrate surface An object of the present invention is to provide a separation apparatus capable of preventing the occurrence of defects such as dirt, scratches, cracks, chips and cracks on the substrate, and a substrate inspection apparatus equipped with the separation apparatus.
前述の課題を解決するために、本発明の分離装置は、複数の基板が積層状態で支持された支持体から、前記基板を1枚ずつ分離して搬出する分離装置であって、前記支持体に対して前記基板の積層方向に相対移動可能とされるとともに、前記基板の表面の中央部に吸着して前記基板を保持する吸着ヘッドと、積層された前記基板に向けてエアを噴出して積層された基板の一部を浮上させて分離するエア分離機構と、前記吸着ヘッドの外周側に位置し、前記吸着ヘッドに吸着されて保持された前記基板の位置を案内するガイド部と、を備えていることを特徴としている。 In order to solve the above-described problems, a separation apparatus according to the present invention is a separation apparatus that separates and transports the substrates one by one from a support in which a plurality of substrates are supported in a stacked state, and the support The substrate can be relatively moved in the stacking direction of the substrate, and the suction head that holds the substrate by sucking it at the center of the surface of the substrate and jets air toward the stacked substrate An air separation mechanism that floats and separates a part of the stacked substrates, and a guide unit that is located on the outer peripheral side of the suction head and guides the position of the substrate that is sucked and held by the suction head. It is characterized by having.
この構成の分離装置においては、吸着パッドが基板の表面の中央部に吸着するように構成されているので、吸着して保持する際に基板に曲げ応力が作用することを防止でき、基板にクラック、欠け及び割れ等の欠陥が発生することを防止できる。また、基板表面の中央部に吸着しているので、吸着する箇所を小さくすることが可能となり、基板の表面の汚れやキズの発生を抑制できる。
また、吸着ヘッドの外周側に位置して吸着ヘッドに保持された基板の位置を案内するガイド部が設けられているので、基板を搬出する際に基板の位置ズレが生じることがなくなり、確実に基板を搬出することができる。
さらに、積層された基板を分離するのにエアを利用しているので、基板に必要以上の力が作用することなく基板を分離することができ、基板を1枚ずつ確実に分離して搬出することができる。
In the separation apparatus having this configuration, the suction pad is configured to be attracted to the central portion of the surface of the substrate, so that bending stress can be prevented from acting on the substrate when attracted and held, and the substrate is cracked. It is possible to prevent the occurrence of defects such as chipping and cracking. In addition, since it is adsorbed to the central portion of the substrate surface, it is possible to reduce the adsorbed portion, and to suppress the occurrence of dirt and scratches on the surface of the substrate.
In addition, since a guide portion is provided on the outer peripheral side of the suction head to guide the position of the substrate held by the suction head, the substrate is not displaced when unloading the substrate, so that The substrate can be carried out.
Furthermore, since air is used to separate the stacked substrates, the substrates can be separated without excessive force acting on the substrates, and the substrates are reliably separated and transported one by one. be able to.
ここで、前記エア分離機構を、前記支持体に対して前記基板の積層方向に移動可能とされる分離機構保持部材に保持し、前記ガイド部を、前記分離機構保持部材に設けるように構成することが好ましい。
この場合、エア分離機構が、前記支持体に対して前記基板の積層方向に移動可能とされる分離機構保持部材に保持されているので、積層された基板の所定の位置にエアを噴出して基板を分離することができる。また、ガイド部が分離機構保持部材に設けられているので、吸着ヘッド周辺の構造を簡易なものとすることができる。
また、エア分離機構を支持体から近接・離間可能な分離機構保持部材に設けているので、支持体を交換したり、積層された基板を支持体に収容したりする際の作業性を大幅に向上させることができる。
Here, the air separation mechanism is held by a separation mechanism holding member that is movable in the stacking direction of the substrate with respect to the support, and the guide portion is provided in the separation mechanism holding member. It is preferable.
In this case, since the air separation mechanism is held by the separation mechanism holding member that is movable in the stacking direction of the substrate with respect to the support, air is ejected to a predetermined position of the stacked substrates. The substrate can be separated. In addition, since the guide portion is provided on the separation mechanism holding member, the structure around the suction head can be simplified.
In addition, since the air separation mechanism is provided on the separation mechanism holding member that can be moved closer to and away from the support, the workability when replacing the support or accommodating the stacked substrates in the support is greatly increased. Can be improved.
さらに、前記分離機構保持部材と前記吸着ヘッドとを、それぞれ独立して駆動するように構成することが好ましい。
この場合、作業内容に応じて吸着パッドおよび分離機構保持部の位置を制御することが可能となる。例えば、吸着パッドによって基板を吸着する際には、エア分離機構を積層された基板の所定の位置にエアが向くように分離機構保持部材を配置し、吸着パッドから基板を取り外す際には、分離機構保持部材が周囲の部材と干渉しないように吸着パッドに対して後退させておくことが可能となる。
Furthermore, it is preferable that the separation mechanism holding member and the suction head are configured to be driven independently.
In this case, the positions of the suction pad and the separation mechanism holding unit can be controlled according to the work content. For example, when the substrate is sucked by the suction pad, the separation mechanism holding member is arranged so that the air is directed to a predetermined position of the stacked substrates, and when the substrate is removed from the suction pad, the separation is performed. The mechanism holding member can be moved backward with respect to the suction pad so as not to interfere with surrounding members.
また、前記吸着ヘッドを、前記基板を非接触状態で保持するように構成することが好ましい。
この場合、基板と吸着ヘッドとが非接触となるので、基板表面に汚れやキズが発生することを確実に防止できる。また、ガイド部によって基板の位置ズレが防止されているので、非接触であっても基板を確実に搬出することができる。
The suction head is preferably configured to hold the substrate in a non-contact state.
In this case, since the substrate and the suction head are not in contact with each other, it is possible to reliably prevent the substrate surface from being contaminated or scratched. Moreover, since the positional deviation of the substrate is prevented by the guide portion, the substrate can be reliably carried out even if it is not in contact.
また、前記吸着ヘッドと前記基板の表面との接触面積を、前記基板の表面の面積の0.25%以下とすることが好ましい。
この場合、基板と吸着ヘッドの接触面積が小さくされているので、基板表面に汚れやキズが発生することを抑制できる。また、ガイド部によって基板の位置ズレが防止されているので、接触面積が小さくても基板を確実に搬出することができる。
The contact area between the suction head and the surface of the substrate is preferably 0.25% or less of the surface area of the substrate.
In this case, since the contact area between the substrate and the suction head is reduced, it is possible to suppress the occurrence of dirt and scratches on the substrate surface. Further, since the position of the substrate is prevented by the guide portion, the substrate can be reliably carried out even if the contact area is small.
本発明の基板の検査装置は、前述の分離装置を有し、複数の基板を積層状態で支持する支持体から前記基板を1枚ずつ分離して搬出し、前記基板のクラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマークのうち少なくとも1つを検査する検査部を備えていることを特徴としている。 A substrate inspection apparatus according to the present invention includes the above-described separation device, and separates and unloads the substrates one by one from a support that supports a plurality of substrates in a stacked state. And an inspection unit for inspecting at least one of breakage, edge chip, pinhole, dirt, and saw mark.
この構成の基板の検査装置においては、前述の分離装置によって支持体から基板を1枚ずつ分離して搬出されるので、基板の検査を1枚ずつ確実に行うことができる。これにより、JIS H 0613の規定される基板の検査を自動で行うことが可能となり、検査作業の効率を飛躍的に向上させることができる。 In the substrate inspection apparatus having this configuration, the substrates are separated and carried out from the support one by one by the above-described separation apparatus, so that the substrates can be inspected one by one. As a result, it is possible to automatically inspect a substrate defined in JIS H 0613, and the efficiency of inspection work can be dramatically improved.
本発明によれば、複数の基板が積層状態で支持された支持体から基板を1枚ずつ確実に分離して搬出することができ、かつ、基板表面の汚れやキズ、基板のクラック、欠け及び割れ等の欠陥が発生することを防止できる分離装置及びこの分離装置を備えた基板の検査装置を提供することができる。 According to the present invention, a substrate can be reliably separated and transported one by one from a support in which a plurality of substrates are supported in a stacked state, and the surface of the substrate can be contaminated or scratched, the substrate can be cracked, chipped, and It is possible to provide a separation apparatus capable of preventing the occurrence of defects such as cracks and a substrate inspection apparatus including the separation apparatus.
以下に、本発明の実施の形態について添付した図面を参照して説明する。
図1から図4に本発明の第1の実施形態である分離装置の概略図を示す。また、図5に、この分離装置を備えた基板の検査装置を示す。
本発明の第1の実施形態である分離装置10は、太陽電池用のシリコン基板Wが複数積層されたカセット容器20からシリコン基板Wを1枚ずつ分離して搬出するものである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
1 to 4 show schematic views of a separation apparatus according to a first embodiment of the present invention. FIG. 5 shows a substrate inspection apparatus provided with this separation apparatus.
The
本実施形態である分離装置10は、図1に示すように、シリコン基板Wを積層状態で収容するカセット容器20と、カセット容器20に対してシリコン基板Wの積層方向(上下方向)に移動可能とされるとともにシリコン基板Wに対して対向するように位置する吸着ヘッド30と、カセット容器20に対してシリコン基板Wの積層方向(上下方向)に移動可能とされるとともにシリコン基板Wの側方部に位置するエアノズル40と、を備えている。
As shown in FIG. 1, the
カセット容器20は、積層されたシリコン基板Wを支持するものであり、図1及び図2に示すように、底部21と4つの支持壁22とを備えている。カセット容器20の4つの支持壁22は、底部21から垂直に延びるように立設されており、それぞれの支持壁22の幅方向中央部分には下方に向けて凹んだ切欠部23が形成されている。
また、カセット容器20の底部21には、収容されたシリコン基板Wを上下動させる駆動部24を備えた載置台25が配設されており、載置台25を上昇することにより、積層されたシリコン基板Wを上方へと送り出すことができるように構成されている。また、この載置台25には、カセット容器20内にシリコン基板Wが残存しているが否かを検知するための在荷センサ26が配設されている。
The
In addition, on the
カセット容器20に収容されるシリコン基板Wは、シリコン鋳塊を薄く切断することで作製されるものであり、本実施形態では、単結晶シリコンロッドから切断されたものである。ここで、シリコン基板Wは、図1及び図2に示すように、100〜200mm角で厚さが150〜400μmの概略正方形平板状をなしている。なお、本実施形態では、150mm角で厚さが180μmに設定されたシリコン基板Wを対象としている。
The silicon substrate W accommodated in the
このようなシリコン基板Wは、カセット容器20内に積層状態で収容されており、積層状態での厚さが約150mm程度とされ、800枚前後のシリコン基板Wが積層されている。ここで、シリコン基板Wの厚さにはばらつきが生じているため、正確な枚数についてはこの時点では把握できない状態である。なお、厚さを180μmに設定したものであるため、厚さが300μmを超えるようなシリコン基板Wはカセット容器20内に混在していない。
Such silicon substrates W are accommodated in the
吸着ヘッド30は、上下動可能な駆動軸部31の先端(図1において下端)に設けられており、カセット容器20内に収容されたシリコン基板Wの表面中央部に対向するように配置されている。この吸着ヘッド30は、その先端外周部からエアを噴出することで先端中央部が負圧となるように構成されており、この負圧を利用してシリコン基板Wを吸着して保持するものである。なお、本実施形態では、シリコン基板Wは吸着ヘッド30と非接触の状態で保持されるように構成されている。
また、吸着ヘッド30の後端側(図1において上端側)には、駆動軸部31に対して直交する方向に延在する支持プレート32が設けられている。この支持プレート32には、載置台25に配設された在荷センサ26に対応する在荷センサ33が配設されている。
The
Further, a
エアノズル40は、カセット容器20に対してシリコン基板Wの積層方向(上下方向)に移動可能とされたノズル固定部41に固定されている。
ノズル固定部41は、吸着ヘッド30の駆動軸部31と同軸状に配設された第2駆動軸部42を備えており、吸着ヘッド30(駆動軸部31)とは独立して上下動可能な構成とされている。
The
The
このノズル固定部41は、第2駆動軸部42に対して直交する方向に延在する第2支持プレート43と、この第2支持プレート43から第2駆動軸部42に対して直交する方向に延びる4つのアーム部44と、を備えている。
そして、アーム部44の先端には、カセット容器20側(下方側)に向けて延びて吸着パッド30の外周側に位置するガイド爪部45が設けられている。
The
A
アーム部44は、その先端がカセット容器20の支持壁22の上方に位置するように延設されており、ガイド爪部45の一部が支持壁22の切欠部23に対応するような構成とされている。つまり、本実施形態では、4つのガイド爪部45が、カセット容器20の4つの支持壁22に対応するように設けられているのである。
The
ガイド爪部45の先端には、カセット容器20に積層されたシリコン基板Wのうち最も上側にあるシリコン基板Wの位置を検知する位置センサ46と、エアノズル40とが配設されている。エアノズル40には水平方向に対して角度−30°〜30°の範囲に向けてエアが噴出されるように噴出口が設けられており、本実施形態においては、水平方向に対して斜め下方(角度−5°)に向けてエアが噴出されるように構成されている。
At the tip of the
位置センサ46は、積層されたシリコン基板Wのうち最も上側にあるシリコン基板Wの位置を検知し、検知結果を第2駆動軸部42の動作を制御する噴出位置制御部11に送信する。本実施形態では、積層されたシリコン基板Wのうち最も上側にあるシリコン基板Wの表面位置、つまり、積層されたシリコン基板Wの最上面の位置を検知している。
また、この位置センサ46は、積層されたシリコン基板Wの最上面位置と、吸着ヘッド30によってシリコン基板Wを搬出した後の新たなシリコン基板Wの最上面位置と、を検知し、この信号を搬出枚数検知部12に送信する。
The
The
この搬出枚数検知部12においては、位置センサ46によって検知される吸着ヘッド30でシリコン基板Wを保持する前の最上面位置と基板を保持した後の新たな基板の最上面位置とを比較することで、吸着ヘッド30によって保持されているシリコン基板Wの厚さを推定し、この厚さが所定値を超えた場合に2枚以上のシリコン基板Wが搬出されたと判断する。
In this unloading
このような構成とされた本実施形態である分離装置10による基板の搬出方法について説明する。
まず、カセット容器20の載置台25が上下動することで、積層されたシリコン基板Wの最上面が支持壁22の切欠部23の下端よりも上方に位置するように調整される。
次に、図3に示すように、駆動軸部31及び第2駆動軸部42が駆動して吸着ヘッド30及びノズル固定部41とが下方に移動し、吸着ヘッド30がシリコン基板Wに近接される。このとき、ノズル固定部41に配設された位置センサ46によって、積層されたシリコン基板Wのうち最も上側にあるシリコン基板Wの位置が検知され、この検知結果に基づいて噴出位置制御部11によってノズル固定部41の位置が調整され、エアノズル40の噴出位置が調整される。
A method for carrying out a substrate by the
First, the mounting table 25 of the
Next, as shown in FIG. 3, the
そして、エアノズル40から斜め下方に向けてエアが噴出される。これにより、積層されたシリコン基板Wうちの一部が浮上することになる。また、吸着ヘッド30の先端外周部からもエアが噴出され、吸着ヘッド30の先端中央部が負圧状態となり、最も上に位置するシリコン基板Wが吸着ヘッド30に吸着されて保持される。
このとき、シリコン基板Wは、吸着パッド30と非接触の状態で吸着されるとともに、ノズル固定部41に設けられて吸着パッド30の外周側に位置するガイド爪部45によって水平方向位置が案内されている。
Then, air is ejected from the
At this time, the silicon substrate W is sucked in a non-contact state with the
ここで、吸着ヘッド30に吸着されたシリコン基板W以外のシリコン基板Wはエアノズル40から噴出されるエアによって下方側に押圧され、1枚のシリコン基板Wのみが吸着ヘッド30によって保持されることになる。この状態で、図4に示すように、駆動軸部31及び第2駆動軸部42が上方に移動し、シリコン基板Wが1枚ずつ搬出される。そして、全てのシリコン基板Wが搬出された時点で在荷センサ26、33が反応し、カセット容器20が交換される。
Here, the silicon substrates W other than the silicon substrate W adsorbed by the
次に、この分離装置10を備えたシリコン基板Wの検査装置50について説明する。
図5に示すように、この検査装置50は、前述の分離装置10と、分離装置10によって1枚ずつに分離して搬出されたシリコン基板Wを検査する検査部51と、分離装置10から受け渡されたシリコン基板Wを搬送する搬送手段52と、を備えている。
本実施形態では、検査部51は、分離装置10の吸着ヘッド30によって保持された状態でシリコン基板Wの裏面を検査する裏面検査部53と、吸着ヘッド30から受け渡されたシリコン基板Wの表面を検査する表面検査部54とを備えており、シリコン基板Wの両面を検査可能な構成とされている。なお、この検査部51においては、シリコン基板Wのクラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマークのうち少なくとも1つを検査するものとされている。
Next, the
As shown in FIG. 5, the
In the present embodiment, the
前述のような構成とされた本実施形態である分離装置10によれば、吸着パッド30がシリコン基板Wの表面中央部に吸着するように構成されているので、吸着して保持する際にシリコン基板Wに曲げ応力が作用することを防止でき、シリコン基板Wのクラック、欠けや割れの発生を防止できる。
また、吸着ヘッド30の外周側に位置して吸着ヘッド30に保持されたシリコン基板Wの水平方向位置を案内するガイド爪部45を備えているので、シリコン基板Wを搬出する際にシリコン基板Wの位置ズレが生じることがなく、確実にシリコン基板Wを搬出することができる。
According to the
Further, since the
さらに、エアノズル40が固定されたノズル固定部41にガイド爪部45が設けられているので、吸着ヘッド30の周囲の構造を簡易なものとすることができる。また、エアノズル40およびガイド爪部45が設けられたノズル固定部41を、カセット容器20から離間可能なように構成しているので、カセット容器20の交換作業の作業性を大幅に向上させることができる。
Further, since the
また、ノズル固定部41と吸着ヘッド30とがそれぞれ独立して駆動するように構成されているので、作業内容に応じてノズル固定部41および吸着パッド30の位置を制御することが可能となる。
吸着パッド30によってシリコン基板Wを吸着する際には、ノズル固定部41を積層されたシリコン基板Wの所定の位置にエアが向くように配置し、吸着パッド30からシリコン基板Wを取り外す際には、ノズル固定部41が周囲の部材と干渉しないように吸着パッド30に対して後退させておくことが可能となる。そして、吸着パッド30を搬出する際には、シリコン基板Wの外周側にガイド爪部45が位置するようにノズル固定部41を配置し、ガイド爪部45によってシリコン基板Wの水平方向の位置ズレを防止することが可能となる。
Further, since the
When the silicon substrate W is sucked by the
さらに、シリコン基板Wが吸着パッド30と非接触状態で保持されるように構成されているので、シリコン基板Wの表面に汚れやキズが発生するおそれがない。このとき、ガイド爪部45によってシリコン基板45の水平方向位置が案内されているので、非接触であってもシリコン基板Wをカセット容器20から確実に搬出することができる。
Furthermore, since the silicon substrate W is configured to be held in a non-contact state with the
また、本実施形態では、カセット容器20内に積層されたシリコン基板Wのうち最も上側にあるシリコン基板Wの位置を検出する位置センサ46と、この位置センサ46によって検知されたシリコン基板Wの位置に応じてエアノズル40の噴出位置を調整する噴出位置制御部11とを備えているので、吸着ヘッド30によって保持されたシリコン基板Wとこのシリコン基板Wの裏面に密着した他のシリコン基板Wとを分離するように、エアノズル40の噴出位置を調整することが可能となり、シリコン基板Wを確実に分離して1枚ずつ搬出することができる。
In the present embodiment, the
また、エアノズル40と位置センサ46とがカセット容器20に対して上下方向に移動するノズル固定部41に配設されているので、位置センサ46で検知したシリコン基板Wの位置に応じてエアノズル40の噴出位置を確実に調整することが可能となる。
さらに、位置センサ46によって、積層されたシリコン基板Wの最上面位置と、吸着ヘッド30によってシリコン基板Wを搬出した後の新たなシリコン基板Wの最上面位置とを検知し、これらを比較して2枚以上のシリコン基板Wが搬出されたか否かを検知する搬出枚数検知部12を備えているので、2枚以上のシリコン基板Wが同時に搬出されることがなくなり、シリコン基板Wを1枚ずつ確実に検査することができる。
In addition, since the
Further, the
また、本実施形態である基板の検査装置50は、前述の分離装置10によってカセット容器20からシリコン基板Wを1枚ずつ分離して搬出するとともに、このシリコン基板Wの裏面及び表面を検査することが可能となり、シリコン基板Wのクラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマーク等の検査を自動で行うことができる。これにより、JIS H 0613の規定される検査作業の効率を飛躍的に向上させることができる。
Further, the
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。図6及び図7に第2の実施形態である分離装置を示す。
本実施形態である分離装置110においては、吸着ヘッド130の先端に、リング部材134が配設されている。このリング部材134はシリコン基板Wの表面に接触するように構成されており、リング部材134とシリコン基板Wとの接触面積は、シリコン基板W表面の面積の0.25%以下とされ、より好ましくは0.2%以下とされている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. 6 and 7 show a separation apparatus according to the second embodiment.
In the
また、本実施形態では、エアノズル140が、第1の実施形態と同様に、吸着パッド130と独立に駆動するノズル固定部141に固定されている。このノズル固定部141は、4つのアーム部144と4つのガイド爪部145とを備えており、ガイド爪部145が吸着パッド130の外周側に位置するように構成されている。
In the present embodiment, the
さらに、本実施形態では、位置センサ146がカセット容器120に設けられている。この分離装置110においては、位置センサ146の信号が載置台125の駆動部124に送信され、シリコン基板Wの最上面位置が所定位置となるように構成されている。このようにしてシリコン基板Wの最上面位置が調整された後に、駆動軸部131及び第2駆動軸部142が下方に移動してエアノズル140によってシリコン基板Wが浮上分離されるとともに、吸着ヘッド130によってシリコン基板Wが保持されることになる。このとき、シリコン基板Wはリング部材134に接触した状態で吸着されている。
Further, in the present embodiment, the
本実施形態である分離装置110においては、吸着パッド130の先端に、シリコン基板Wの表面に接触するリング部材134が設けられており、このリング部材134とシリコン基板Wとの接触面積がシリコン基板W表面の面積の0.25%以下とされているので、シリコン基板Wの表面に汚れやキズが発生することを抑制できる。また、吸着時におけるリング部材134との接触によるシリコン基板Wの曲げ変形を抑えて割れの発生を抑制することができる。
さらに、ガイド爪部145によってシリコン基板Wの水平方向の位置ズレが防止されているので、接触面積が小さくてもシリコン基板Wを確実に搬出することができる。
In the
Furthermore, since the horizontal displacement of the silicon substrate W is prevented by the
また、本実施形態では、カセット容器120に位置センサ146が設けられているので、シリコン基板Wに近接した場所に位置センサ146を設けることができ、カセット容器120内に積層されたシリコン基板Wの最上面位置を精度良く検知することができる。
また、載置台125を上下動させてシリコン基板Wの最上面位置を制御しているので、駆動軸部131及び第2駆動軸部142の動作を簡略化することができる。また、位置センサ146が駆動しないカセット容器120の支持壁122に固定されているので、位置センサ146の配設を容易に行うことができる。
In the present embodiment, since the
Moreover, since the mounting table 125 is moved up and down to control the position of the uppermost surface of the silicon substrate W, the operations of the
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、本実施形態では、単結晶シリコンからなるシリコン基板を搬出するものとして説明したが、これに限定されることはなく、多結晶シリコンからなるシリコン基板やその他の材質からなる基板であってもよく、薄板状をなして積層状態で取り扱いされるものであればよい。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to this, It can change suitably in the range which does not deviate from the technical idea of the invention.
For example, in the present embodiment, the silicon substrate made of single crystal silicon has been described as being carried out. However, the present invention is not limited to this, and a silicon substrate made of polycrystalline silicon or a substrate made of other materials may be used. Any material that is thin and can be handled in a laminated state may be used.
また、本実施形態において、ノズル固定部が4つのアーム部および4つのガイド爪部を備えたものとして説明したが、これに限定されることはなく、アーム部およびガイド爪部の数は4つ以外であってもよい。ただし、シリコン基板Wの水平方向位置を案内するガイド爪部は、3つ以上であることが好ましい。 In the present embodiment, the nozzle fixing portion has been described as including four arm portions and four guide claw portions. However, the present invention is not limited to this, and the number of arm portions and guide claw portions is four. It may be other than. However, it is preferable that there are three or more guide claws for guiding the horizontal position of the silicon substrate W.
さらに、検査装置において吸着ヘッドに保持された状態でシリコン基板の裏面を検査するように構成したもので説明したが、検査部の構成は特に限定はない。基板の表面検査を行うことが可能であればよい。 Furthermore, although the inspection apparatus is described as being configured to inspect the back surface of the silicon substrate while being held by the suction head, the configuration of the inspection unit is not particularly limited. It is only necessary that the surface inspection of the substrate can be performed.
10、110 分離装置
20、120 カセット容器(支持体)
30、130 吸着ヘッド
40、140 エアノズル(エア分離機構)
41、141 ノズル固定部(分離機構保持部材)
45、145 ガイド爪部(ガイド部)
50 検査装置(基板の検査装置)
51 検査部
W シリコン基板(基板)
10, 110
30, 130
41, 141 Nozzle fixing part (separation mechanism holding member)
45, 145 Guide claw part (guide part)
50 Inspection equipment (Board inspection equipment)
51 Inspection Unit W Silicon Substrate (Substrate)
Claims (6)
前記支持体に対して前記基板の積層方向に相対移動可能とされるとともに、前記基板の表面の中央部に吸着して前記基板を保持する吸着ヘッドと、
積層された前記基板に向けてエアを噴出して積層された基板の一部を浮上させて分離するエア分離機構と、
前記吸着ヘッドの外周側に位置し、前記吸着ヘッドに吸着されて保持された前記基板の位置を案内するガイド部と、
を備えていることを特徴とする分離装置。 A separation device that separates and carries out the substrates one by one from a support in which a plurality of substrates are supported in a stacked state,
A suction head that is movable relative to the support in the stacking direction of the substrate and that holds the substrate by sucking it to the center of the surface of the substrate;
An air separation mechanism for ejecting air toward the laminated substrate and floating and separating a part of the laminated substrate;
A guide portion that is located on the outer peripheral side of the suction head and guides the position of the substrate that is sucked and held by the suction head;
A separation device comprising:
前記ガイド部が、前記分離機構保持部材に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の分離装置。 The air separation mechanism is held by a separation mechanism holding member that is movable in the stacking direction of the substrate with respect to the support.
The separation device according to claim 1, wherein the guide portion is provided on the separation mechanism holding member.
前記基板のクラック、クロートラック、かけ、くずれ、エッジチップ、ピンホール、汚れ及びソーマークのうち少なくとも1つを検査する検査部を備えていることを特徴とする基板の検査装置。 The separation apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the substrates are separated one by one from a support body that supports a plurality of substrates in a stacked state, and unloaded,
An inspection apparatus for a substrate, comprising: an inspection unit that inspects at least one of cracks, claw tracks, hooks, breaks, edge chips, pinholes, dirt, and saw marks on the substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008006845A JP2009170643A (en) | 2008-01-16 | 2008-01-16 | Separation device and inspecting apparatus of substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008006845A JP2009170643A (en) | 2008-01-16 | 2008-01-16 | Separation device and inspecting apparatus of substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009170643A true JP2009170643A (en) | 2009-07-30 |
Family
ID=40971499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008006845A Withdrawn JP2009170643A (en) | 2008-01-16 | 2008-01-16 | Separation device and inspecting apparatus of substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009170643A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011163852A (en) * | 2010-02-08 | 2011-08-25 | Kobe Steel Ltd | Visual inspection device |
CN102299049A (en) * | 2011-07-30 | 2011-12-28 | 太原风华信息装备股份有限公司 | Petal-basket floating silicon chip automation separation mechanism |
JP2012032271A (en) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Kobe Steel Ltd | Measuring apparatus |
CN102364668A (en) * | 2011-10-28 | 2012-02-29 | 北京太阳能电力研究院有限公司 | Silicon wafer box and silicon wafer feeding device |
CN102420269A (en) * | 2011-09-30 | 2012-04-18 | 无锡市南亚科技有限公司 | Dry-method automatic separation mechanism of silicon sheets |
CN102914551A (en) * | 2011-08-03 | 2013-02-06 | 旭硝子株式会社 | Glass substrate inspection system and manufacturing method of glass substrate |
JP2017152664A (en) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 株式会社リコー | Sheet supply apparatus for circuit board and system including the same |
CN114760757A (en) * | 2021-01-12 | 2022-07-15 | 深南电路股份有限公司 | Board splitting device and board splitting equipment |
-
2008
- 2008-01-16 JP JP2008006845A patent/JP2009170643A/en not_active Withdrawn
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011163852A (en) * | 2010-02-08 | 2011-08-25 | Kobe Steel Ltd | Visual inspection device |
JP2012032271A (en) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Kobe Steel Ltd | Measuring apparatus |
CN102299049A (en) * | 2011-07-30 | 2011-12-28 | 太原风华信息装备股份有限公司 | Petal-basket floating silicon chip automation separation mechanism |
CN102299049B (en) * | 2011-07-30 | 2013-06-12 | 太原风华信息装备股份有限公司 | Petal-basket floating silicon chip automation separation mechanism |
CN102914551A (en) * | 2011-08-03 | 2013-02-06 | 旭硝子株式会社 | Glass substrate inspection system and manufacturing method of glass substrate |
CN102914551B (en) * | 2011-08-03 | 2016-08-03 | 旭硝子株式会社 | Glass substrate checks system and the manufacture method of glass substrate |
CN102420269A (en) * | 2011-09-30 | 2012-04-18 | 无锡市南亚科技有限公司 | Dry-method automatic separation mechanism of silicon sheets |
CN102364668A (en) * | 2011-10-28 | 2012-02-29 | 北京太阳能电力研究院有限公司 | Silicon wafer box and silicon wafer feeding device |
JP2017152664A (en) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | 株式会社リコー | Sheet supply apparatus for circuit board and system including the same |
CN114760757A (en) * | 2021-01-12 | 2022-07-15 | 深南电路股份有限公司 | Board splitting device and board splitting equipment |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009170643A (en) | Separation device and inspecting apparatus of substrate | |
JP2009170644A (en) | Separation device and inspecting apparatus of substrate | |
JP4388493B2 (en) | How to apply film for glass substrates | |
JP5006880B2 (en) | Apparatus and method for separating and conveying substrates | |
JP2009166955A (en) | Separating device, and substrate inspecting device | |
EP1429373A2 (en) | Conveyor system | |
JP2006074004A (en) | Work conveying housing equipment, and grinding equipment provided with the same | |
JP2010212666A (en) | Wafer surface measuring apparatus | |
JP6357914B2 (en) | Scribing equipment | |
CN114695212A (en) | Silicon wafer online detection transfer method and device | |
JP2017037910A (en) | Semiconductor wafer transfer method and semiconductor wafer transfer device | |
JP2016207947A (en) | Substrate carrier robot and substrate detection method | |
JP6357915B2 (en) | Scribing equipment | |
TW202013476A (en) | Wafer breaking device, inverting device, and conveyance system | |
KR20220080705A (en) | Wafer manufacturing apparatus | |
CN213519907U (en) | Silicon chip on-line detection moves and carries device and solar cell production line | |
TWI633592B (en) | Split device | |
JP2003306338A (en) | System for cutting plate glass | |
JP4408694B2 (en) | Adsorption device | |
WO2011148559A1 (en) | Apparatus for separating semiconductor wafers | |
JP5381046B2 (en) | Semiconductor wafer scribing apparatus and scribing system including the same | |
JP4590570B2 (en) | Vertical conveying device for plate material | |
JP5723612B2 (en) | Plate member support device | |
JP2010157640A (en) | Substrate delivery device and method thereof | |
JP2012119526A (en) | Substrate transport device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20110405 |