JP2009170055A - ディスク製造装置、ディスク製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】光ディスク製造における歩留まりの向上やコストダウン
【解決手段】射出成形されたディスク基板に対して、ディスク基板冷却、反射膜形成、光透過層(カバー層)形成、保護層(ハードコート)形成という製造ラインでディスク製造を行う。特に、光透過層形成の段階で、ディスク基板が所定の温度状態となるように、ディスク基板に対し水冷(又は空冷及び水冷)を行う。さらに、スピンコードに用いる紫外線硬化型樹脂の温度や、室内温度を管理する。このようにディスク基板、紫外線硬化性樹脂、室温について温度管理を行うことで、形成される膜厚を安定させる。
【選択図】図4
【解決手段】射出成形されたディスク基板に対して、ディスク基板冷却、反射膜形成、光透過層(カバー層)形成、保護層(ハードコート)形成という製造ラインでディスク製造を行う。特に、光透過層形成の段階で、ディスク基板が所定の温度状態となるように、ディスク基板に対し水冷(又は空冷及び水冷)を行う。さらに、スピンコードに用いる紫外線硬化型樹脂の温度や、室内温度を管理する。このようにディスク基板、紫外線硬化性樹脂、室温について温度管理を行うことで、形成される膜厚を安定させる。
【選択図】図4
Description
本発明は、インライン方式のディスク製造装置、ディスク製造方法に関し、特に射出成形されたディスク基板に対して層構造を形成するディスク製造ラインとしての構成に係るものである。
例えばCD(Compact Disc)、DVD(Digital Versatile Disc)、ブルーレイディスク(Blu-ray Disc(登録商標))などの光ディスクの製造では、インライン方式の製造装置が一般的である。
ディスク量産を目的とする製造工程においては、歩留まりの上昇や製造コストの低下は、常に大きな課題となるが、特にブルーレイディスクのような高密度ディスクの場合、光透過層などの層構造の膜厚の安定化は、歩留まりの向上の点で重要となる。
そこで本発明ではインライン製造装置として、安定して層構造を形成できる生産性の高いディスク製造装置を提供することを目的とする。
本発明のディスク製造装置は、射出成形されたディスク基板を、内部に冷却水の水路が形成された基板プレート上に配置して搬送することで水冷する水冷部と、上記水冷部での冷却過程のディスク基板を取り出して、ディスク基板の信号面側に反射膜を成膜し、上記反射膜を成膜したディスク基板を上記水冷部に戻す反射膜形成部と、上記水冷部で所定の温度状態にまで冷却された後のディスク基板が搬入され、該ディスク基板の信号面側に光透過層を形成する光透過層形成部と、ディスク基板の信号面側に保護膜を形成する保護層形成部とを備える。
また、射出成形されたディスク基板を空冷する空冷部をさらに備え、その場合は、上記空冷部で空冷されたディスク基板が、上記水冷部に搬送される構成とされる。
また、上記光透過層形成部では、紫外線硬化型樹脂のスピンコート及び紫外線照射により、上記光透過層を形成するとともに、上記スピンコートに用いる紫外線硬化型樹脂の温度を、上記水冷部で冷却されたディスク基板の温度と略同一の温度に調整する温度調整部が設けられている。
また、上記空冷部、上記水冷部、上記反射膜形成部、上記光透過層形成部、及び上記保護層形成部は、空調器により一定温度に保たれた室内に配置される。
また、射出成形されたディスク基板を空冷する空冷部をさらに備え、その場合は、上記空冷部で空冷されたディスク基板が、上記水冷部に搬送される構成とされる。
また、上記光透過層形成部では、紫外線硬化型樹脂のスピンコート及び紫外線照射により、上記光透過層を形成するとともに、上記スピンコートに用いる紫外線硬化型樹脂の温度を、上記水冷部で冷却されたディスク基板の温度と略同一の温度に調整する温度調整部が設けられている。
また、上記空冷部、上記水冷部、上記反射膜形成部、上記光透過層形成部、及び上記保護層形成部は、空調器により一定温度に保たれた室内に配置される。
本発明のディスク製造方法は、射出成形されたディスク基板を、内部に冷却水の水路が形成された基板プレート上に配置して搬送することで水冷する水冷工程と、上記水冷工程での冷却過程のディスク基板を取り出して、ディスク基板の信号面側に反射膜を成膜し、上記反射膜を成膜したディスク基板を上記水冷工程に戻す反射膜形成工程と、上記水冷工程で所定の温度状態にまで冷却された後のディスク基板が搬入され、該ディスク基板の信号面側に光透過層を形成する光透過層形成工程と、ディスク基板の信号面側に保護膜を形成する保護層形成工程とを備える。
即ち本発明は、射出成形されたディスク基板に対して、ディスク基板冷却、反射膜形成、光透過層(カバー層)形成、保護層(ハードコート)形成という製造ラインを実現するディスク製造装置(及び方法)であるが、特に、光透過層形成の段階で、ディスク基板が所定の温度状態となるように、ディスク基板に対し水冷(又は空冷及び水冷)を行う。
さらに、スピンコートに用いる紫外線硬化型樹脂の温度や、室内温度を管理する。
このようにディスク基板、紫外線硬化性樹脂、室温について温度管理を行うことで、形成される膜厚を安定させることができる。
さらに、スピンコートに用いる紫外線硬化型樹脂の温度や、室内温度を管理する。
このようにディスク基板、紫外線硬化性樹脂、室温について温度管理を行うことで、形成される膜厚を安定させることができる。
光透過層形成部に搬送するディスク基板に対し水冷(又は空冷及び水冷)を行い、所定の温度状態において光透過層形成が行われるようにすることで、光透過層の膜厚を安定化させることができる。さらに、紫外線硬化型樹脂の温度や室温も一定温度とすることで、より安定した膜厚での層形成を行うことができる。
これにより、製造される光ディスクの歩留まりの向上、ひいては製造コストの低減を実現でき、生産性の高いディスク製造装置を実現できる。
これにより、製造される光ディスクの歩留まりの向上、ひいては製造コストの低減を実現でき、生産性の高いディスク製造装置を実現できる。
以下、本発明の実施の形態を説明する。
まず、図1,図2,図3により光ディスク製造工程を説明する。図1は実施の形態のディスク製造工程を示している。
まず、図1,図2,図3により光ディスク製造工程を説明する。図1は実施の形態のディスク製造工程を示している。
図1のステップF101の基板成形工程では、例えばポリカーボネート樹脂の射出成形によりディスク基板を成形する。
図2(a)はディスク基板を成形する金型を概略的に示している。この金型は、下キャビティ120と上キャビティ121から成り、下キャビティ120には、情報ピットを転写するためのスタンパ104が配置される。スタンパ104には、情報ピットの凹凸パターン104aが形成されている。
なお、再生専用ディスクの製造工程では、エンボスピットとして情報ピットの凹凸パターン104aを形成したスタンパ104が配置されるが、記録可能型ディスク(例えばライトワンスディスクやリライタブルディスク)の製造工程では、記録トラックとなるグルーブ(ウォブリンググルーブ)を形成するための凹凸パターンが形成されたスタンパが配置されることになる。
図2(a)はディスク基板を成形する金型を概略的に示している。この金型は、下キャビティ120と上キャビティ121から成り、下キャビティ120には、情報ピットを転写するためのスタンパ104が配置される。スタンパ104には、情報ピットの凹凸パターン104aが形成されている。
なお、再生専用ディスクの製造工程では、エンボスピットとして情報ピットの凹凸パターン104aを形成したスタンパ104が配置されるが、記録可能型ディスク(例えばライトワンスディスクやリライタブルディスク)の製造工程では、記録トラックとなるグルーブ(ウォブリンググルーブ)を形成するための凹凸パターンが形成されたスタンパが配置されることになる。
このような金型を用いて射出成形でディスク基板105を成形するが、成形されるディスク基板105は図2(b)のようになる。
例えばポリカーボネート樹脂によるディスク基板105は、その中心はセンターホール105bとされるとともに、情報読出面側は、金型内のスタンパ104に形成された凹凸が転写された情報ピットパターン105aとなる。なお、情報ピットではなく、グルーブ(連続溝)が形成される場合もある。
例えばポリカーボネート樹脂によるディスク基板105は、その中心はセンターホール105bとされるとともに、情報読出面側は、金型内のスタンパ104に形成された凹凸が転写された情報ピットパターン105aとなる。なお、情報ピットではなく、グルーブ(連続溝)が形成される場合もある。
続いて、このように形成されたディスク基板1に対して層構造形成が行われる。
図1のステップF102では、射出成形されたディスク基板1に対して空冷が行われ、さらにステップF103、F105で水冷が行われる。
製造ラインについては後述するが、この水冷の途中でディスク基板105が取り出されて、ステップF104で反射膜形成が行われる。
さらにステップF105の水冷の後、ステップF106、F107,F108で光透過層(カバー層)の形成が行われる。
図1のステップF102では、射出成形されたディスク基板1に対して空冷が行われ、さらにステップF103、F105で水冷が行われる。
製造ラインについては後述するが、この水冷の途中でディスク基板105が取り出されて、ステップF104で反射膜形成が行われる。
さらにステップF105の水冷の後、ステップF106、F107,F108で光透過層(カバー層)の形成が行われる。
図3(a)(b)にステップF108まで進んだ状態の層構造を示している。図3(b)は信号読出面側の層構造の拡大図である。
上記ステップF104では、情報ピットパターン105aが形成された信号読出面側に例えばAg合金の反射膜106を形成する。
またステップF106では、反射膜106が形成された信号読出面側に紫外線硬化型樹脂を滴下し、スピンコートにより紫外線硬化型樹脂を展延させる。
そしてステップF107では、展延させた紫外線硬化型樹脂に対して瞬間的に紫外線を照射して、紫外線硬化型樹脂を半硬化させる。
その後、ステップF108で、紫外線硬化型樹脂に所定時間(例えば1.0秒程度)、紫外線を照射して、紫外線硬化型樹脂を全硬化させる。以上で図3(a)(b)のように光透過層(カバー層)107が形成される。
上記ステップF104では、情報ピットパターン105aが形成された信号読出面側に例えばAg合金の反射膜106を形成する。
またステップF106では、反射膜106が形成された信号読出面側に紫外線硬化型樹脂を滴下し、スピンコートにより紫外線硬化型樹脂を展延させる。
そしてステップF107では、展延させた紫外線硬化型樹脂に対して瞬間的に紫外線を照射して、紫外線硬化型樹脂を半硬化させる。
その後、ステップF108で、紫外線硬化型樹脂に所定時間(例えば1.0秒程度)、紫外線を照射して、紫外線硬化型樹脂を全硬化させる。以上で図3(a)(b)のように光透過層(カバー層)107が形成される。
続くステップF109、F110では、信号読出面側の表面処理として図3(c)に示すようにハードコート層(保護層)108を形成する。
まずステップF109で信号読出面側に紫外線硬化型樹脂を滴下し、スピンコートにより紫外線硬化型樹脂を展延させる。そしてステップF110では、展延させた紫外線硬化型樹脂に対して紫外線を照射して、紫外線硬化型樹脂を硬化させ、ハードコート層を形成する。
なお、図1には示していないが、ハードコート層108を形成した後、レーベル面側(情報読出面の反対面側)に防湿膜を形成する場合もある。
まずステップF109で信号読出面側に紫外線硬化型樹脂を滴下し、スピンコートにより紫外線硬化型樹脂を展延させる。そしてステップF110では、展延させた紫外線硬化型樹脂に対して紫外線を照射して、紫外線硬化型樹脂を硬化させ、ハードコート層を形成する。
なお、図1には示していないが、ハードコート層108を形成した後、レーベル面側(情報読出面の反対面側)に防湿膜を形成する場合もある。
このように層構造が形成されたディスク基板105はステップF111で検査工程に回され、検品される。
その後、レーベル印刷等が行われて製品としての光ディスクが完成される。
その後、レーベル印刷等が行われて製品としての光ディスクが完成される。
このような工程でディスク製造を行う製造ラインとしての本例の設備構成を図4に示す。
図4では、射出成形機7、層形成ライン1、検査及びスタックユニット8を示している。
射出成形機7は、図1のステップF101として示した基板成形を行う。
この射出成形機7で製造されたディスク基板105に対して、各装置が配置される層形成ライン1により、図1のステップF102〜F110までの工程が行われる。
そしてその後、検査及びスタックユニット8でステップF111の製品検査が行われる。
図4では、射出成形機7、層形成ライン1、検査及びスタックユニット8を示している。
射出成形機7は、図1のステップF101として示した基板成形を行う。
この射出成形機7で製造されたディスク基板105に対して、各装置が配置される層形成ライン1により、図1のステップF102〜F110までの工程が行われる。
そしてその後、検査及びスタックユニット8でステップF111の製品検査が行われる。
層形成ライン1が、本発明のディスク製造装置の実施の形態となり、この層形成ライン1には空冷部2,水冷部3,反射膜形成部4,光透過層形成部5,ハードコート形成部6,及び制御ユニット10としての各装置が配置される。
空冷部2は、射出成形機7で成形されたディスク基板105を空冷する。
水冷部3は、射出成形機7で成形され、空冷部2で空冷されたディスク基板105を、内部に冷却水の水路が形成された基板プレート上に配置して搬送することで水冷する。
反射膜形成部4はスパッタ装置から成る。そして水冷部3での冷却過程のディスク基板105を取り出して、ディスク基板105の信号面側にスパッタリングにより反射膜106を成膜する。反射膜106を成膜したディスク基板105は、水冷部3に戻す。
光透過層形成部5は、水冷部3で所定の温度状態にまで冷却された後のディスク基板105の信号面側に光透過層107を形成する。
ハードコート形成部6は、ディスク基板105の信号面側(光透過層107上)にハードコート層108を形成する。
制御ユニット10は、この層形成ライン1に配置される各装置のコントロール装置である。
水冷部3は、射出成形機7で成形され、空冷部2で空冷されたディスク基板105を、内部に冷却水の水路が形成された基板プレート上に配置して搬送することで水冷する。
反射膜形成部4はスパッタ装置から成る。そして水冷部3での冷却過程のディスク基板105を取り出して、ディスク基板105の信号面側にスパッタリングにより反射膜106を成膜する。反射膜106を成膜したディスク基板105は、水冷部3に戻す。
光透過層形成部5は、水冷部3で所定の温度状態にまで冷却された後のディスク基板105の信号面側に光透過層107を形成する。
ハードコート形成部6は、ディスク基板105の信号面側(光透過層107上)にハードコート層108を形成する。
制御ユニット10は、この層形成ライン1に配置される各装置のコントロール装置である。
また、この層形成ライン1として各種の装置が配置されている室内は、室内気温が一定温度に管理される。
図5(a)(b)には、室内に配置される空調ユニットについて示している。図5(b)は図5(a)のA−A線を横方向から見た図である。
図5(a)(b)に示すように、室内の天井77の上部には、所要位置、所要数の空調ユニット71,72,73,74が配置され、室温を所定の温度に保つようにしている。
室内においては、図5(b)のようにメインベース70の上下に各種機器類が配置される。この場合、ディスク基板105の搬送ライン及び層形成のための装置は、メインベース70の上部空間に設置される。つまり、空調ユニット71,72,73,74による空調の効く空間で、ディスク基板105に対する層構造形成が行われるようにされている。
メインベース70の下部空間には、各機器に付随する構成や紫外線硬化型樹脂のタンクなどが配置される。
図5(a)(b)には、室内に配置される空調ユニットについて示している。図5(b)は図5(a)のA−A線を横方向から見た図である。
図5(a)(b)に示すように、室内の天井77の上部には、所要位置、所要数の空調ユニット71,72,73,74が配置され、室温を所定の温度に保つようにしている。
室内においては、図5(b)のようにメインベース70の上下に各種機器類が配置される。この場合、ディスク基板105の搬送ライン及び層形成のための装置は、メインベース70の上部空間に設置される。つまり、空調ユニット71,72,73,74による空調の効く空間で、ディスク基板105に対する層構造形成が行われるようにされている。
メインベース70の下部空間には、各機器に付随する構成や紫外線硬化型樹脂のタンクなどが配置される。
温度管理の観点から、メインベース70の上面空間には、発熱源となるモータ類は極力配置しない。
メインベース70の下部空間でも、極力、モータ類・発熱源であるモータアンプなどは配置されない。
基本的には、大きな発熱源となるモータ類その他は、ドライブボックス75,76として示すように例えば天井77の上方に取り付けられ、これによってドライブボックス75,76の発熱によるメインベース70の上面空間の温度に極力影響が無いようにする。
メインベース70の下部空間でも、極力、モータ類・発熱源であるモータアンプなどは配置されない。
基本的には、大きな発熱源となるモータ類その他は、ドライブボックス75,76として示すように例えば天井77の上方に取り付けられ、これによってドライブボックス75,76の発熱によるメインベース70の上面空間の温度に極力影響が無いようにする。
図6で、層形成ライン1のより具体的な装置配置を説明する。図6は層形成ライン1のみを示している。
図6において、図4の各部を構成する主たる装置は、以下のようになる。
空冷部2:空冷塔23
水冷部3:第1水冷テーブル25,第2水冷テーブル27
反射膜形成部4:スパッタ装置60
光透過層形成部5:スピンコート装置32A、32B、UV照射ユニット35A,35B、39
ハードコート形成部6:スピンコート装置51A、51B、UV照射ユニット53
図6において、図4の各部を構成する主たる装置は、以下のようになる。
空冷部2:空冷塔23
水冷部3:第1水冷テーブル25,第2水冷テーブル27
反射膜形成部4:スパッタ装置60
光透過層形成部5:スピンコート装置32A、32B、UV照射ユニット35A,35B、39
ハードコート形成部6:スピンコート装置51A、51B、UV照射ユニット53
まず、図6には示していない射出成形機7で成形されたディスク基板105は、搬送機構21によって、この層形成ライン1に持ち込まれ、反転アーム22に載置される。
反転アーム22は、載置されたディスク基板105を空冷塔23に載置する。
反転アーム22は、載置されたディスク基板105を空冷塔23に載置する。
空冷塔23の構造を図7(a)(b)に示す。
図のように、空冷塔23は、多数の基板載置部231が連結された2列の観覧車状の構造とされる。
即ち2つの基板載置部231が、多数のそれぞれの支持バー232に取り付けられ、かつ、各支持バー232が回動送り機構234により、図7(b)の実線矢印に示すように1段階ずつ回動する。
反転アーム22によっては、図7(b)の破線矢印Aのように、図中左側の最上段に位置している基板載置部231に、ディスク基板105が載置される。載置されたディスク基板105は、回動送り機構234による基板載置部231の移動によって、実線矢印のように下方に送られ、その後、図中右側に移って上昇されていく。
そして図中右側の最上段の位置に達した時点で、破線矢印Bのように、図6に示すアーム24によって空冷塔23から取り出されることになる。
つまり、ディスク基板105は、この空冷塔23に破線矢印Aのように搬入された時点から、破線矢印Bのように搬出されるまでの間、空気による自然冷却が行われることになる。
図のように、空冷塔23は、多数の基板載置部231が連結された2列の観覧車状の構造とされる。
即ち2つの基板載置部231が、多数のそれぞれの支持バー232に取り付けられ、かつ、各支持バー232が回動送り機構234により、図7(b)の実線矢印に示すように1段階ずつ回動する。
反転アーム22によっては、図7(b)の破線矢印Aのように、図中左側の最上段に位置している基板載置部231に、ディスク基板105が載置される。載置されたディスク基板105は、回動送り機構234による基板載置部231の移動によって、実線矢印のように下方に送られ、その後、図中右側に移って上昇されていく。
そして図中右側の最上段の位置に達した時点で、破線矢印Bのように、図6に示すアーム24によって空冷塔23から取り出されることになる。
つまり、ディスク基板105は、この空冷塔23に破線矢印Aのように搬入された時点から、破線矢印Bのように搬出されるまでの間、空気による自然冷却が行われることになる。
図6において、アーム24によって、空冷塔23から取り出されたディスク基板105は、第1水冷テーブル25に送られる。
第1水冷テーブル25は、4つの基板プレート251を有し、この4つの基板プレート251が1段階ずつ(90°ずつ)回転する構造とされている。
そして基板プレート251の内部には、冷却水の水路が形成されており、図示しない水路用配管から冷却水が供給される。ディスク基板105は、このような基板プレート251に載置されることで強制水冷される。また基板プレート251上でディスク基板105を吸着固定すつバキューム機構のため吸着用配管252が設けられている。
第1水冷テーブル25は、4つの基板プレート251を有し、この4つの基板プレート251が1段階ずつ(90°ずつ)回転する構造とされている。
そして基板プレート251の内部には、冷却水の水路が形成されており、図示しない水路用配管から冷却水が供給される。ディスク基板105は、このような基板プレート251に載置されることで強制水冷される。また基板プレート251上でディスク基板105を吸着固定すつバキューム機構のため吸着用配管252が設けられている。
図8,図9、図10に第1水冷テーブル25の概略構造例を模式的に示す。
図8は第1水冷テーブル25を横から見た状態を示している。
基板プレート251は、回転テーブル253上に取り付けられている。そしてこの回転テーブル253が、モータ255によりシャフト255aを中心に回転することで、各基板プレート251の位置が回転移動する。
図8は第1水冷テーブル25を横から見た状態を示している。
基板プレート251は、回転テーブル253上に取り付けられている。そしてこの回転テーブル253が、モータ255によりシャフト255aを中心に回転することで、各基板プレート251の位置が回転移動する。
基板プレート251は例えば銅板で形成され、図9に示すように、内部に水路256が形成されている。図10は、基板プレート251を底面側から見た状態を示しているが、水路256は、例えばこの図のような形状で、基板プレート251内に切削形成される。つまり1つの基板プレート251について、水路入口256iから水路出口256oまで、水路256が、基板プレート251内で或る程度の距離を確保できるように形成される。
各基板プレート251の水路256には、例えば図8に示すように、シャフト255aの内部に形成されて水路用配管254aから冷却水が供給/排出される。
水路用配管254aとしては、往路/復路としての2つの水路が形成されており、図8に破線で示すように水路用配管254aから流入される冷却水は、1つの基板プレート251の水路用配管254に流れる。その後、他の基板プレート251を経由して、シャフト255a内の水路用配管254aの復路から流出される。即ち第1水冷テーブル25に対して1本の連続した水路が形成されて、各基板プレート251の水冷が行われる。
各基板プレート251の水路256には、例えば図8に示すように、シャフト255aの内部に形成されて水路用配管254aから冷却水が供給/排出される。
水路用配管254aとしては、往路/復路としての2つの水路が形成されており、図8に破線で示すように水路用配管254aから流入される冷却水は、1つの基板プレート251の水路用配管254に流れる。その後、他の基板プレート251を経由して、シャフト255a内の水路用配管254aの復路から流出される。即ち第1水冷テーブル25に対して1本の連続した水路が形成されて、各基板プレート251の水冷が行われる。
その様子を図11に模式的に示す。4つの基板プレート251のそれぞれを251A、251B、251C、251Dとする。水路を破線矢印で示している。
水路用配管254aの往路からは、基板プレート251Aの水路入口256iに至る水路が形成されている。そして基板プレート251Aの水路出口256oからは、次の基板プレート251Bの水路入口256iに対して水路が形成されている。同様に、基板プレート251Bの水路出口256oから基板プレート251Cの水路入口256i、基板プレート251Cの水路出口256oから基板プレート251Dの水路入口256iについても水路が形成されている。そして、基板プレート251Dの水路出口256oからは、水路用配管254aの復路に対して水路が形成されている。
これによって、図11に示すように、水路用配管254aの往路から流入される冷却水は基板プレート251A、251B、251C、251Dを順次通って、水路用配管254aの復路から排出されることになる。
水路用配管254aの往路からは、基板プレート251Aの水路入口256iに至る水路が形成されている。そして基板プレート251Aの水路出口256oからは、次の基板プレート251Bの水路入口256iに対して水路が形成されている。同様に、基板プレート251Bの水路出口256oから基板プレート251Cの水路入口256i、基板プレート251Cの水路出口256oから基板プレート251Dの水路入口256iについても水路が形成されている。そして、基板プレート251Dの水路出口256oからは、水路用配管254aの復路に対して水路が形成されている。
これによって、図11に示すように、水路用配管254aの往路から流入される冷却水は基板プレート251A、251B、251C、251Dを順次通って、水路用配管254aの復路から排出されることになる。
なお、基板プレート251は、図9に示すようにセンターピン257と吸着部258が形成されている。
搬送されてくるディスク基板105は、そのセンターホール105bがセンターピン257に挿通する状態で基板プレート251上に配置される。また吸着部258からは、空気流路259、吸着用配管252を介して図示しないバキューム機構により、ディスク基板105の吸引が行われる。
これによりディスク基板105は基板プレート251上面で密着状態で載置される。
上記の水路構造によって水温に冷やされている基板プレート251に対して密着することで、ディスク基板105が効果的に冷却されることになる。
搬送されてくるディスク基板105は、そのセンターホール105bがセンターピン257に挿通する状態で基板プレート251上に配置される。また吸着部258からは、空気流路259、吸着用配管252を介して図示しないバキューム機構により、ディスク基板105の吸引が行われる。
これによりディスク基板105は基板プレート251上面で密着状態で載置される。
上記の水路構造によって水温に冷やされている基板プレート251に対して密着することで、ディスク基板105が効果的に冷却されることになる。
第1水冷テーブル25においては、以上の構造で水冷が行われる。
第1水冷テーブル25からは、図6のアーム26によってディスク基板105が取り出される。従って、アーム24によって第1水冷テーブル25の1つの基板プレート251に載置されたディスク基板105は、第1水冷テーブル25が90°ずつ3回回動してアーム26による取り出し位置に達するまでの間、水冷されることになる。
第1水冷テーブル25からは、図6のアーム26によってディスク基板105が取り出される。従って、アーム24によって第1水冷テーブル25の1つの基板プレート251に載置されたディスク基板105は、第1水冷テーブル25が90°ずつ3回回動してアーム26による取り出し位置に達するまでの間、水冷されることになる。
アーム26によって、ディスク基板105は第2水冷テーブル27に搬送される。
第2水冷テーブル27は、10個の基板プレート271が回転する構造とされる。
基本的には、第2水冷テーブル27は、上記第1水冷テーブル25と同様に、水路用配管272内の往路から流入される冷却水が、各基板プレート271を順次巡って、水路用配管272内の復路から排出される構造とされる。
各基板プレート271は、上記図9、図10と同様に水路や吸引機構が形成されており、上面に配置されたディスク基板105に対して冷却を行う。
第2水冷テーブル27は、10個の基板プレート271が回転する構造とされる。
基本的には、第2水冷テーブル27は、上記第1水冷テーブル25と同様に、水路用配管272内の往路から流入される冷却水が、各基板プレート271を順次巡って、水路用配管272内の復路から排出される構造とされる。
各基板プレート271は、上記図9、図10と同様に水路や吸引機構が形成されており、上面に配置されたディスク基板105に対して冷却を行う。
回転アーム61は、1回の180°回転で、第2水冷テーブル27上のディスク基板105のスパッタ装置60への搬送、及びスパッタ装置60内のディスク基板105の第2水冷テーブル27の搬送を同時に行う。
スパッタ装置60は、回転アーム61によって搬入されたディスク基板105に対して反射膜106の成膜を行う。
スパッタ装置60は、回転アーム61によって搬入されたディスク基板105に対して反射膜106の成膜を行う。
第2水冷テーブル27で所定温度まで冷却されたディスク基板105は、アーム28によって回転テーブル36に搬送される。
さらに回転テーブル36の回転によって移動されたディスク基板105は、マルチアーム30によって、2つずつ、2系統のスピンコート装置32A側の回転テーブル31Aと、スピンコート装置32B側の回転テーブル31Bに振り分け搬送される。
さらに回転テーブル36の回転によって移動されたディスク基板105は、マルチアーム30によって、2つずつ、2系統のスピンコート装置32A側の回転テーブル31Aと、スピンコート装置32B側の回転テーブル31Bに振り分け搬送される。
回転テーブル31Aは、180°回転により、マルチアーム30によって搬送されてきた2つのディスク基板105を、2つのスピンコート装置32A、32A内に搬送するとともに、2つのスピンコート装置32A、32A内のディスク基板105を、スピンコート装置32A,32A内から取り出す。
スピンコート装置32A,32Aでは、それぞれ搬入されたディスク基板105に対して紫外線硬化型樹脂のスピンコートを行う。紫外線硬化型樹脂は、それぞれ両脇に設置されている加圧タンク34A,34Aから供給される。
スピンコート装置32A、32Aから取り出された回転テーブル31A上の2つのディスク基板105は、マルチアーム30によって回転テーブル33に搬送される。
スピンコート装置32A,32Aでは、それぞれ搬入されたディスク基板105に対して紫外線硬化型樹脂のスピンコートを行う。紫外線硬化型樹脂は、それぞれ両脇に設置されている加圧タンク34A,34Aから供給される。
スピンコート装置32A、32Aから取り出された回転テーブル31A上の2つのディスク基板105は、マルチアーム30によって回転テーブル33に搬送される。
スピンコート装置32B,32B側についても同様である。
回転テーブル32Bは、180°回転により、マルチアーム30によって搬送されてきた2つのディスク基板105を、2つのスピンコート装置32B、32B内に搬送するとともに、2つのスピンコート装置32B、32B内のディスク基板105を、スピンコート装置32B,32B内から取り出す。
スピンコート装置32B,32Bでは、それぞれ搬入されたディスク基板105に対して紫外線硬化型樹脂のスピンコートを行う。紫外線硬化型樹脂は、それぞれ両脇に設置されている加圧タンク34B,34Bから供給される。
スピンコート装置32B、32Bから取り出された回転テーブル31B上の2つのディスク基板105は、マルチアーム30によって回転テーブル33に搬送される。
回転テーブル32Bは、180°回転により、マルチアーム30によって搬送されてきた2つのディスク基板105を、2つのスピンコート装置32B、32B内に搬送するとともに、2つのスピンコート装置32B、32B内のディスク基板105を、スピンコート装置32B,32B内から取り出す。
スピンコート装置32B,32Bでは、それぞれ搬入されたディスク基板105に対して紫外線硬化型樹脂のスピンコートを行う。紫外線硬化型樹脂は、それぞれ両脇に設置されている加圧タンク34B,34Bから供給される。
スピンコート装置32B、32Bから取り出された回転テーブル31B上の2つのディスク基板105は、マルチアーム30によって回転テーブル33に搬送される。
回転テーブル33上のディスク基板105は、アーム37AによってUV照射ユニット35Aに搬入される。
同じく回転テーブル33上のディスク基板105は、アーム37BによってUV照射ユニット35Bに搬入される。
UV照射ユニット35A、35Bは、それぞれ搬入されたディスク基板105、即ち未硬化の紫外線硬化型樹脂が展延されているディスク基板105に対して、瞬間的な紫外線照射を行い、紫外線硬化型樹脂を半硬化させる。
同じく回転テーブル33上のディスク基板105は、アーム37BによってUV照射ユニット35Bに搬入される。
UV照射ユニット35A、35Bは、それぞれ搬入されたディスク基板105、即ち未硬化の紫外線硬化型樹脂が展延されているディスク基板105に対して、瞬間的な紫外線照射を行い、紫外線硬化型樹脂を半硬化させる。
UV照射ユニット35Aで紫外線硬化型樹脂が半硬化されたディスク基板105はアーム37Aによって回転テーブル38に搬送される。
またUV照射ユニット35Bで紫外線硬化型樹脂が半硬化されたディスク基板105はアーム37Bによって回転テーブル38に搬送される。
回転テーブル38は、その回転により、搬送されてきたディスク基板105を順次UV照射ユニット39に搬送する。
UV照射ユニット39は、搬送されてきたディスク基板105に対して、例えば1.6〜1.8秒程度の紫外線照射を行い、紫外線硬化型樹脂を全硬化させる。
このUV照射ユニット39での紫外線照射により、カバー層107が形成されることになる。
またUV照射ユニット35Bで紫外線硬化型樹脂が半硬化されたディスク基板105はアーム37Bによって回転テーブル38に搬送される。
回転テーブル38は、その回転により、搬送されてきたディスク基板105を順次UV照射ユニット39に搬送する。
UV照射ユニット39は、搬送されてきたディスク基板105に対して、例えば1.6〜1.8秒程度の紫外線照射を行い、紫外線硬化型樹脂を全硬化させる。
このUV照射ユニット39での紫外線照射により、カバー層107が形成されることになる。
UV照射ユニット39でカバー層107が硬化されたディスク基板105は、マルチアーム50によって回転テーブル38からスピンコート装置51A、51A、及びスピンコート装置51B、51Bに順次振り分けられていく。
スピンコート装置51A、51A、及びスピンコート装置51B、51Bは、それぞれ搬送されてきたディスク基板105に対してハードコート層108のためのスピンコートを行う。
スピンコートされたディスク基板105は、マルチアーム50によって回転テーブル52に搬送される。
回転テーブル52は、その回転動作により、各ディスク基板105をUV照射ユニット53に搬送する。
UV照射ユニット53は、搬送されてきたディスク基板105に対して所定時間の紫外線照射を行い、紫外線硬化型樹脂を全硬化させ、ハードコート層108を形成する。
ハードコート層108が形成されたディスク基板105は、アーム55によって反転アーム54に送られ、反転アーム54によって図4に示した検査及びスタックユニット8側に送られる。
スピンコート装置51A、51A、及びスピンコート装置51B、51Bは、それぞれ搬送されてきたディスク基板105に対してハードコート層108のためのスピンコートを行う。
スピンコートされたディスク基板105は、マルチアーム50によって回転テーブル52に搬送される。
回転テーブル52は、その回転動作により、各ディスク基板105をUV照射ユニット53に搬送する。
UV照射ユニット53は、搬送されてきたディスク基板105に対して所定時間の紫外線照射を行い、紫外線硬化型樹脂を全硬化させ、ハードコート層108を形成する。
ハードコート層108が形成されたディスク基板105は、アーム55によって反転アーム54に送られ、反転アーム54によって図4に示した検査及びスタックユニット8側に送られる。
このような層形成ライン1におけるディスク基板105の搬送経路を図12に示す。矢印d1〜d24が、ディスク基板105の搬送経路を示している。
d1:射出成形機7で成形されたディスク基板105が搬送機構21により、層形成ライン1に搬入される。
d2:搬送機構21により、ディスク基板105が反転アーム54に受け渡される。
d3:反転アーム54によってディスク基板105が空冷塔23に載置される。
d4:アーム24により空冷塔23から取り出されたディスク基板105が第1水冷テーブル25に搬送される。
d5:第1水冷テーブル25の回転により、ディスク基板105が90°ずつ搬送される。この間、ディスク基板105は水冷される。
d6:アーム26により第1水冷テーブル25から取り出されたディスク基板105が第2水冷テーブル27に搬送される。
d2:搬送機構21により、ディスク基板105が反転アーム54に受け渡される。
d3:反転アーム54によってディスク基板105が空冷塔23に載置される。
d4:アーム24により空冷塔23から取り出されたディスク基板105が第1水冷テーブル25に搬送される。
d5:第1水冷テーブル25の回転により、ディスク基板105が90°ずつ搬送される。この間、ディスク基板105は水冷される。
d6:アーム26により第1水冷テーブル25から取り出されたディスク基板105が第2水冷テーブル27に搬送される。
d7:第2水冷テーブル27の回転によりディスク基板105が回転方向に搬送される。
ここで、図のように、第2水冷テーブル27の各基板プレート271の位置をP11〜P20で表すとする。
位置P11は、第2水冷テーブル27の搬入位置となる。アーム26は、位置P11にある基板プレート271に、ディスク基板105を載置する。
位置P18は、第2水冷テーブル27の搬出位置となる。アーム28は、位置P18にある基板プレート271上のディスク基板105を、回転テーブル36に搬送する。
位置P13は、スパッタ装置60との間のディスク基板105の送り/戻しを行う位置である。つまり回転アーム61がディスク基板105を着脱する位置である。
ここで、図のように、第2水冷テーブル27の各基板プレート271の位置をP11〜P20で表すとする。
位置P11は、第2水冷テーブル27の搬入位置となる。アーム26は、位置P11にある基板プレート271に、ディスク基板105を載置する。
位置P18は、第2水冷テーブル27の搬出位置となる。アーム28は、位置P18にある基板プレート271上のディスク基板105を、回転テーブル36に搬送する。
位置P13は、スパッタ装置60との間のディスク基板105の送り/戻しを行う位置である。つまり回転アーム61がディスク基板105を着脱する位置である。
本例では、第2水冷テーブル27の回転は、3ポジション(108°)ずつ行われるようにしている。つまり、位置P11にあってディスク基板105が載置された基板プレート271は、次のように移動していく。
P11→P14→P17→P20→P13→P16→P19→P12→P15→P18→P11・・・
従って、搬入位置P11に搬送されてきたディスク基板105は、4回の回動により、位置P13に達する。
P11→P14→P17→P20→P13→P16→P19→P12→P15→P18→P11・・・
従って、搬入位置P11に搬送されてきたディスク基板105は、4回の回動により、位置P13に達する。
d8:位置P3に達したディスク基板105が、回転テーブル61によってスパッタ装置60側に搬送される。
d9:スパッタ装置60内の搬送機構で、スパッタ空間に搬送されてスパッタリングが行われる。
d10:スパッタ空間から取り出される。
d11:反射膜106が形成されたディスク基板105が、回転テーブル61によって水冷テーブル27の位置P13に戻される。
d9:スパッタ装置60内の搬送機構で、スパッタ空間に搬送されてスパッタリングが行われる。
d10:スパッタ空間から取り出される。
d11:反射膜106が形成されたディスク基板105が、回転テーブル61によって水冷テーブル27の位置P13に戻される。
位置P13に戻されたディスク基板105は、その後、5回の回動により、搬出位置P18に達する。
ディスク基板105は、搬入位置P11から位置P13に運ばれるまでの期間と、位置P13から搬出位置P18に運ばれるまでの期間、水冷されることになる。
なお、ここでは第2水冷テーブル27は3ポジション(108°)ずつ回転が行われるものとしたが、1ポジション(36°)ずつ回転されるようにしてもよい。
ディスク基板105は、搬入位置P11から位置P13に運ばれるまでの期間と、位置P13から搬出位置P18に運ばれるまでの期間、水冷されることになる。
なお、ここでは第2水冷テーブル27は3ポジション(108°)ずつ回転が行われるものとしたが、1ポジション(36°)ずつ回転されるようにしてもよい。
d12:アーム28によって搬出位置P18のディスク基板105が回転テーブル36に搬送される。
d13:回転テーブル36の回転によって、ディスク基板105がマルチアーム30側に搬送される。
d14A:マルチアーム30によって回転テーブル36上の2つのディスク基板105が同時に、回転テーブル31Aに搬送される。
d14B:マルチアーム30によって回転テーブル36上の2つのディスク基板105が同時に、回転テーブル31Bに搬送される。
d15A:回転テーブル31Aの回転により、2つのディスク基板105のスピンコート装置32A,32Aへの搬入、及びスピンコート装置32A,32Aからのスピンコートを終えた2つのディスク基板105の取り出しが行われる。
d15B:回転テーブル31Bの回転により、2つのディスク基板105のスピンコート装置32B,32Bへの搬入、及びスピンコート装置32B,32Bからのスピンコートを終えた2つのディスク基板105の取り出しが行われる。
d16A:スピンコートを終えた2つのディスク基板105が、マルチアーム30によって回転テーブル31Aから回転テーブル33に搬送される。
d16B:スピンコートを終えた2つのディスク基板105が、マルチアーム30によって回転テーブル31Bから回転テーブル33に搬送される。
d17:回転テーブル33の回転によってディスク基板105が移動される。
d18A:アーム37Aによって回転テーブル33上のディスク基板105がUV照射ユニット35Aに搬送される。
d18B:アーム37Bによって回転テーブル33上のディスク基板105がUV照射ユニット35Bに搬送される。
d19A:UV照射ユニット35Aで光透過層107が半硬化されたディスク基板105が回転テーブル38に搬送される。
d19B:UV照射ユニット35Bで光透過層107が半硬化されたディスク基板105が回転テーブル38に搬送される。
d20:回転テーブル38の回転により、ディスク基板105がUV照射ユニット39に送られる。
d13:回転テーブル36の回転によって、ディスク基板105がマルチアーム30側に搬送される。
d14A:マルチアーム30によって回転テーブル36上の2つのディスク基板105が同時に、回転テーブル31Aに搬送される。
d14B:マルチアーム30によって回転テーブル36上の2つのディスク基板105が同時に、回転テーブル31Bに搬送される。
d15A:回転テーブル31Aの回転により、2つのディスク基板105のスピンコート装置32A,32Aへの搬入、及びスピンコート装置32A,32Aからのスピンコートを終えた2つのディスク基板105の取り出しが行われる。
d15B:回転テーブル31Bの回転により、2つのディスク基板105のスピンコート装置32B,32Bへの搬入、及びスピンコート装置32B,32Bからのスピンコートを終えた2つのディスク基板105の取り出しが行われる。
d16A:スピンコートを終えた2つのディスク基板105が、マルチアーム30によって回転テーブル31Aから回転テーブル33に搬送される。
d16B:スピンコートを終えた2つのディスク基板105が、マルチアーム30によって回転テーブル31Bから回転テーブル33に搬送される。
d17:回転テーブル33の回転によってディスク基板105が移動される。
d18A:アーム37Aによって回転テーブル33上のディスク基板105がUV照射ユニット35Aに搬送される。
d18B:アーム37Bによって回転テーブル33上のディスク基板105がUV照射ユニット35Bに搬送される。
d19A:UV照射ユニット35Aで光透過層107が半硬化されたディスク基板105が回転テーブル38に搬送される。
d19B:UV照射ユニット35Bで光透過層107が半硬化されたディスク基板105が回転テーブル38に搬送される。
d20:回転テーブル38の回転により、ディスク基板105がUV照射ユニット39に送られる。
d21A:光透過層107が全硬化されたディスク基板105が、マルチアーム50によって2つ同時に、スピンコート装置51A,51Aに搬送される。
d21B:光透過層107が全硬化されたディスク基板105が、マルチアーム50によって2つ同時に、スピンコート装置51B,51Bに搬送される。
d22A:ハードコート層108のスピンコートを終えた2つのディスク基板105が、マルチアーム50によってスピンコート装置51A,51Aから回転テーブル52に搬送される。
d22B:ハードコート層108のスピンコートを終えた2つのディスク基板105が、マルチアーム50によってスピンコート装置51B,51Bから回転テーブル52に搬送される。
d23:回転テーブル52の回転により、ディスク基板105がUV照射ユニット53に送られる。
d24:ハードコート層108が硬化されたディスク基板105が、アーム55により反転アーム54に受け渡される。
d25:反転アーム54によりディスク基板105が検査及びスタックユニット8に送られる。
d21B:光透過層107が全硬化されたディスク基板105が、マルチアーム50によって2つ同時に、スピンコート装置51B,51Bに搬送される。
d22A:ハードコート層108のスピンコートを終えた2つのディスク基板105が、マルチアーム50によってスピンコート装置51A,51Aから回転テーブル52に搬送される。
d22B:ハードコート層108のスピンコートを終えた2つのディスク基板105が、マルチアーム50によってスピンコート装置51B,51Bから回転テーブル52に搬送される。
d23:回転テーブル52の回転により、ディスク基板105がUV照射ユニット53に送られる。
d24:ハードコート層108が硬化されたディスク基板105が、アーム55により反転アーム54に受け渡される。
d25:反転アーム54によりディスク基板105が検査及びスタックユニット8に送られる。
本例では、層形成ライン1において、以上のようにディスク基板105が搬送されながら、上述のとおり、反射膜形成、光透過層形成、ハードコート層形成が行われる。
ここで、光透過層形成部5における4つのスピンコート装置32A、32A、32B、32Bに送られた段階で、ディスク基板105は適切な温度に制御されていることが、光透過層107の膜厚の安定化にとって重要となる。
ここで、光透過層形成部5における4つのスピンコート装置32A、32A、32B、32Bに送られた段階で、ディスク基板105は適切な温度に制御されていることが、光透過層107の膜厚の安定化にとって重要となる。
層形成ライン1においては、室温が空調ユニット71により一定にコントロールされると共に、ディスク基板105は、空冷塔23による空冷、第1水冷テーブル25及び第2水冷テーブル27による水冷が行われた後、スピンコート装置32A、32A、32B、32Bに送られることになるが、それまでのディスク基板105の温度変化は、ほぼ図13にK1〜K10として示すようになる。
例えば空調による室内温度や、冷却水温度が28℃程度に設定されているとする。
また、1枚のディスク基板105に対する空冷塔23による空冷時間は1.5分程度、第1水冷テーブル25及び第2水冷テーブル27による水冷時間は50秒程度とする。
例えば空調による室内温度や、冷却水温度が28℃程度に設定されているとする。
また、1枚のディスク基板105に対する空冷塔23による空冷時間は1.5分程度、第1水冷テーブル25及び第2水冷テーブル27による水冷時間は50秒程度とする。
K1:射出成形直後の時点で108℃。
K2:空冷塔23に搬入された時点で95℃。
K3:空冷塔23での空冷がなされた後では50℃。
K4:第1水冷テーブル25に搬入された時点で48℃。
K5:第1水冷テーブル25での水冷がなされた後では34℃。
K6:第2水冷テーブル27に搬入された時点で33℃。
K7:スパッタリング前の時点(位置P20にある時点)で28℃。
K8:スパッタリング後の時点(位置P16にある時点)で30℃。
K9:第2水冷テーブル27での水冷終了時点(位置P18にある時点)で28℃。
K10:スピンコート装置32A、32A、32B、32Bに搬入される時点で28℃。
K2:空冷塔23に搬入された時点で95℃。
K3:空冷塔23での空冷がなされた後では50℃。
K4:第1水冷テーブル25に搬入された時点で48℃。
K5:第1水冷テーブル25での水冷がなされた後では34℃。
K6:第2水冷テーブル27に搬入された時点で33℃。
K7:スパッタリング前の時点(位置P20にある時点)で28℃。
K8:スパッタリング後の時点(位置P16にある時点)で30℃。
K9:第2水冷テーブル27での水冷終了時点(位置P18にある時点)で28℃。
K10:スピンコート装置32A、32A、32B、32Bに搬入される時点で28℃。
例えばこのように、スピンコート装置32A、32A、32B、32Bでスピンコートが行われる際には、ほぼ28℃に制御できる。
このように、スピンコート段階でのディスク基板105の温度が、常に所定の温度(例えば28℃)となるようにコントロールすることができる。
このように、スピンコート段階でのディスク基板105の温度が、常に所定の温度(例えば28℃)となるようにコントロールすることができる。
また、スピンコートで用いる紫外線硬化型樹脂の温度も、ディスク基板105と同じ温度(例えば28℃)に調整しておくことが、より好適となる。
図14に、スピンコート装置32A、32A、32B、32Bに対する紫外線硬化型樹脂の供給経路を模式的に示している。
図14に、スピンコート装置32A、32A、32B、32Bに対する紫外線硬化型樹脂の供給経路を模式的に示している。
図14のようにメインベース70の上部空間において、ノズル80、スピンチャンバ81、加圧タンク34、フィルタ95、バルブ96,97が配置される。スピンチャンバ81は、スピンコート装置32A、32A、32B、32B内のスピンチャンバである。
また、メインベース71の下部空間において、遠心分離器82、レシーブタンク83、メインタンク84、脱泡タンク85、フィルタ91,ポンプ87、バルブ92,93,94が配置されている。
さらに、メインベース71の下部空間から上部空間にかけて、温調ジャケット86が設けられている。
なお図中、矢印は紫外線硬化型樹脂の経路を示している。
また、メインベース71の下部空間において、遠心分離器82、レシーブタンク83、メインタンク84、脱泡タンク85、フィルタ91,ポンプ87、バルブ92,93,94が配置されている。
さらに、メインベース71の下部空間から上部空間にかけて、温調ジャケット86が設けられている。
なお図中、矢印は紫外線硬化型樹脂の経路を示している。
メインタンク84に蓄えられているある程度の粘性を持った液体としての紫外線硬化型樹脂(以下、樹脂液)は、バルブ92を介して脱泡タンク85に送られる。なお、バルブ93はメインタンク84からの樹脂液の排出路のバルブである。
脱泡タンク85では、樹脂液に混入されている気泡が取り除かれる。そして脱泡タンク85で気泡が取り除かれた樹脂液は、温調ジャケット86を装着した流路を通してメインタンク84上の加圧タンク34に供給される。
脱泡タンク85では、樹脂液に混入されている気泡が取り除かれる。そして脱泡タンク85で気泡が取り除かれた樹脂液は、温調ジャケット86を装着した流路を通してメインタンク84上の加圧タンク34に供給される。
スピンコート時には、加圧タンク34からフィルタ95,バルブ96を介して樹脂液がノズル80に供給され、ノズル80からスピンチャンバ81内に搬送されているディスク基板105上に滴下される。
スピンチャンバ81内でのスピンコート時に落ちた樹脂液は、レシーブタンク83に集められる。
また、スピンコート時に空気に混ざって振り切られた樹脂液は、遠心分離器82に供給され、遠心分離された後にレシーブタンク83に集められる。
なお、バルブ97,94が開かれことで、加圧タンク34以降の樹脂液をレシーブタンク83に集めることもできる。
レシーブタンク83に集められた樹脂液は、フィルタ91を介した後,ポンプ87によりメインタンク84に供給される。
また、スピンコート時に空気に混ざって振り切られた樹脂液は、遠心分離器82に供給され、遠心分離された後にレシーブタンク83に集められる。
なお、バルブ97,94が開かれことで、加圧タンク34以降の樹脂液をレシーブタンク83に集めることもできる。
レシーブタンク83に集められた樹脂液は、フィルタ91を介した後,ポンプ87によりメインタンク84に供給される。
樹脂液は以上のような経路により、スピンコートに用いられるが、スピンコートのために加圧タンク34に供給される段階で、温調ジャケット86により樹脂液温度が調整される。この温調ジャケット86は、内部に所定温度の水が流れる状態で、樹脂液の流路配管の周囲を覆うものであり、樹脂液の温度を水により調整する。
これにより、例えば樹脂液の温度を、ディスク基板105と同程度、例えば28℃程度に調整する。
上述のようにメインベース70の上部空間は、空調ユニット71,72,73,74により一定温度に調整されており、例えば28℃程度の室温に管理されている。これにより樹脂液も、28℃程度の状態を保ったまま、同じく28℃程度とされたディスク基板105上に滴下されるようにすることができる。
特に光透過層形成のための紫外線硬化型樹脂は、高粘度特性の紫外線硬化性樹脂を使用するが、2段のフィルタリング機構(フィルタ95,91)を持ち、加圧タンク34、フィルタ95を、空調を効かせたメインベース70上に配置することと、紫外線硬化性樹脂の温度調整機構として温調ジャケット86を持つことにより、定量塗布・粘度特性安定化を実現できる。
これにより、例えば樹脂液の温度を、ディスク基板105と同程度、例えば28℃程度に調整する。
上述のようにメインベース70の上部空間は、空調ユニット71,72,73,74により一定温度に調整されており、例えば28℃程度の室温に管理されている。これにより樹脂液も、28℃程度の状態を保ったまま、同じく28℃程度とされたディスク基板105上に滴下されるようにすることができる。
特に光透過層形成のための紫外線硬化型樹脂は、高粘度特性の紫外線硬化性樹脂を使用するが、2段のフィルタリング機構(フィルタ95,91)を持ち、加圧タンク34、フィルタ95を、空調を効かせたメインベース70上に配置することと、紫外線硬化性樹脂の温度調整機構として温調ジャケット86を持つことにより、定量塗布・粘度特性安定化を実現できる。
なお、ここでは光透過層形成部5のスピンコート装置32A、32A、32B、32Bに対する紫外線硬化型樹脂の供給経路を示したが、ハードコート形成部6でのスピンコート装置51A,51A、51B、51Bについての紫外線硬化型樹脂の供給についても、図14と同様な配置及び経路で行えばよい。
以上、実施の形態を説明してきたが、実施の形態によれば、光透過層形成部5に搬送するディスク基板105に対して空冷部2及び水冷部3による冷却を行い、例えば28℃という所定の温度状態において光透過層形成のためのスピンコートが行われるようにしている。これにより、光透過層107の膜厚を安定化させることができる。
なお、本例では空冷部2及び水冷部3による冷却を行うようにしているが、水冷部3による冷却のみでも良い。
但し、水冷の前にある程度空冷しておくことで、急激な水冷によるディスク基板105のソリの発生を防止でき、生産性の向上には、より有効である。
なお、本例では空冷部2及び水冷部3による冷却を行うようにしているが、水冷部3による冷却のみでも良い。
但し、水冷の前にある程度空冷しておくことで、急激な水冷によるディスク基板105のソリの発生を防止でき、生産性の向上には、より有効である。
また、紫外線硬化型樹脂の温度や室温も一定温度とすることで、紫外線硬化型樹脂の定量塗布・粘度特性安定化を実現でき、より安定した膜厚での層形成を行うことができる。
これにより、製造される光ディスクの歩留まりの向上や製造コストの低減を実現できる。またラインの稼働率の向上やメンテナンス性の改善も実現される。
また、層形成ライン1の室温を管理することで、外気環境の影響を受けにくい。つまり設置場所による温度差を考えなくて良い。
これにより、製造される光ディスクの歩留まりの向上や製造コストの低減を実現できる。またラインの稼働率の向上やメンテナンス性の改善も実現される。
また、層形成ライン1の室温を管理することで、外気環境の影響を受けにくい。つまり設置場所による温度差を考えなくて良い。
また、図14に示したように、スピンチャンバー81で振り切られた紫外線硬化性樹脂のうち、空気に混ざった紫外線硬化型樹脂についても、遠心分離器82を介して回収することで、回収率を100%に近づけることができ、これもディスク製造工程のコストダウンに有効となる。
また、スパッタ装置60については、1チャンバータイプの汎用性の高いスパッタ装置を使用することで、独立して稼動・操作できる。
また、紫外線硬化性樹脂の硬化には、UV照射ユニット35A、35Bで半硬化させた後、UV照射ユニット39で全硬化させることで、サイクル短縮を可能とすることができる。
また、スパッタ装置60については、1チャンバータイプの汎用性の高いスパッタ装置を使用することで、独立して稼動・操作できる。
また、紫外線硬化性樹脂の硬化には、UV照射ユニット35A、35Bで半硬化させた後、UV照射ユニット39で全硬化させることで、サイクル短縮を可能とすることができる。
なお実施の形態では信号読出面において記録層(情報ピットパターン105aの層)として1層構造の光ディスクの例を挙げたが、もちろん記録層が2層以上の多層ディスクの製造工程においても本発明は好適である。即ち工程上でスピンコートを行う光ディスク製造ラインにおいて、ディスク基板105に対する水冷/空冷工程を設けることは広く適用できる。
また光ディスクとして、ブルーレイディスク、DVD(Digital Versatile Disc)方式のディスク、CD(Compact Disc)方式のディスクなど、多様なディスクの製造に本発明を適用できる。
また光ディスクとして、ブルーレイディスク、DVD(Digital Versatile Disc)方式のディスク、CD(Compact Disc)方式のディスクなど、多様なディスクの製造に本発明を適用できる。
1 層形成ライン、2 空冷部、3 水冷部、4 反射膜形成部、5 光透過層形成部、6 ハードコート形成部、7 射出成形機、8 検査及びスタックユニット、10 制御ユニット、23 空冷塔、25 第1水冷テーブル、27 第2水冷テーブル、32A,32B,51A,51B スピンコート装置、35A,35B,39,53 UV照射ユニット、60 スパッタ装置、70 メインベース、71,72,73,74 空調ユニット、105 ディスク基板、106 反射膜、107 光透過層、108 ハードコート層
Claims (5)
- 射出成形されたディスク基板を、内部に冷却水の水路が形成された基板プレート上に配置して搬送することで水冷する水冷部と、
上記水冷部での冷却過程のディスク基板を取り出して、ディスク基板の信号面側に反射膜を成膜し、上記反射膜を成膜したディスク基板を上記水冷部に戻す反射膜形成部と、
上記水冷部で所定の温度状態にまで冷却された後のディスク基板が搬入され、該ディスク基板の信号面側に光透過層を形成する光透過層形成部と、
ディスク基板の信号面側に保護膜を形成する保護層形成部と、
を備えることを特徴とするディスク製造装置。 - 射出成形されたディスク基板を空冷する空冷部をさらに備え、
上記空冷部で空冷されたディスク基板が、上記水冷部に搬送される構成とされていることを特徴とする請求項1に記載のディスク製造装置。 - 上記光透過層形成部では、紫外線硬化型樹脂のスピンコート及び紫外線照射により、上記光透過層を形成するとともに、
上記スピンコートに用いる紫外線硬化型樹脂の温度を、上記水冷部で冷却されたディスク基板の温度と略同一の温度に調整する温度調整部が設けられていることを特徴とする請求項2に記載のディスク製造装置。 - 上記空冷部、上記水冷部、上記反射膜形成部、上記光透過層形成部、及び上記保護層形成部は、空調器により一定温度に保たれた室内に配置されることを特徴とする請求項3に記載のディスク製造装置。
- 射出成形されたディスク基板を、内部に冷却水の水路が形成された基板プレート上に配置して搬送することで水冷する水冷工程と、
上記水冷工程での冷却過程のディスク基板を取り出して、ディスク基板の信号面側に反射膜を成膜し、上記反射膜を成膜したディスク基板を上記水冷工程に戻す反射膜形成工程と、
上記水冷工程で所定の温度状態にまで冷却された後のディスク基板が搬入され、該ディスク基板の信号面側に光透過層を形成する光透過層形成工程と、
ディスク基板の信号面側に保護膜を形成する保護層形成工程と、
を備えることを特徴とするディスク製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008009307A JP2009170055A (ja) | 2008-01-18 | 2008-01-18 | ディスク製造装置、ディスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2009170055A true JP2009170055A (ja) | 2009-07-30 |
Family
ID=40971055
Family Applications (1)
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JP2008009307A Pending JP2009170055A (ja) | 2008-01-18 | 2008-01-18 | ディスク製造装置、ディスク製造方法 |
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Country | Link |
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2008
- 2008-01-18 JP JP2008009307A patent/JP2009170055A/ja active Pending
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