JP2009168973A - 液晶表示パネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】液晶や周辺回路部に光照射の影響を与えることなく液晶を封止するシールを確実に光硬化させることができる液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも液晶を封止する第1のシールとして、所定光量の光を照射後、所定時間経過後に硬化を開始する遅延硬化性を有する光硬化樹脂材を適用し、該第1のシールに光照射した後に、第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下して前記第1及び第2の基板を貼り合わせて液晶表示パネルを形成する。
【選択図】図4
【解決手段】少なくとも液晶を封止する第1のシールとして、所定光量の光を照射後、所定時間経過後に硬化を開始する遅延硬化性を有する光硬化樹脂材を適用し、該第1のシールに光照射した後に、第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下して前記第1及び第2の基板を貼り合わせて液晶表示パネルを形成する。
【選択図】図4
Description
本発明は、互いに対向する第1の基板及び第2の基板の何れかの基板に、液晶を封止する第1のシールを画素の周囲に閉じた形状に形成すると共に、前記第1の基板及び第2の基板の何れかの基板に、内部を気密に保持する第2のシールを前記第1のシールを内包するように、且つ閉じた形状に形成し、前記第1及び第2の基板の何れか一方に前記第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下した後、第1及び第2の基板を真空雰囲気内で貼り合わせるようにした液晶表示パネルの製造方法に関する。
一般に、大型の液晶パネルにおいては、互いに対向する第1の基板及び第2の基板の何れか一方の基板に形成した第1のシールの内部に液晶を滴下した後に、他方の基板を真空雰囲気中で貼り合わせるODF(One Drop Fill)方式即ち液晶滴下貼り合わせ方式が採用されており、最近では一部の中小液晶パネルにおいても導入されつつある。
従来の液晶滴下貼り合わせ方式としては、例えば液晶を封止するシールとして紫外線硬化性樹脂を適用し、液晶を第1の基板又は第2の基板に滴下して、これら第1及び第2の基板を真空雰囲気内で貼り合わせてパネルを形成した後に紫外線を照射することにより光硬化させるものが知られている(例えば、特許文献1乃至3参照)。
特開昭64−54420号公報
特開平8−106101号公報
特開平11−326922号公報
しかしながら、上記特許文献1乃至3に記載された従来例にあっては、少なくとも液晶を封止するシール材が光硬化型樹脂材で形成されており、第1の基板及び第2の基板の一方にシール材を塗布した後、第1の基板又は第2の基板のシール材内となる領域に液晶を滴下し、その後第1の基板及び第2の基板を真空雰囲気内で貼り合わせてパネルを形成し、このパネルに光照射を行うことにより、シール材を光硬化させるようにしているので、液晶が光照射されることにより、液晶に悪影響を与えたり、第1の基板及び第2の基板に形成されている遮光膜や配線部等の遮光部分で光が遮られてシール材に照射光が届かず、未硬化部が残り、液晶の封止が不完全となって、シール材に液晶が差し込んでシールに悪影響を与えたりすることより、信頼性及び歩留りが低下するという未解決の課題がある。特に、狭額縁化が進む中小液晶表示パネルでは、遮光膜や配線とシール材とが重なる場合が大きくなり、シールの光硬化が不完全となる確率が高い。このため、第1及び第2の基板を貼り合わせたパネルの表裏両面から光照射を行うことにより、シール材の未硬化領域を少なくすることが考えられているが、周辺回路部周辺にシールを形成したTFT基板の裏面側から光を照射した場合TFT特性がシフトしてしまう可能性があり、好ましくない。
そこで、本発明は、上記従来例の未解決の課題に着目してなされたものであり、液晶や周辺回路部に光照射の影響を与えることなく液晶を封止するとともに、シールを確実に光硬化させることができる液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、第1の形態に係る液晶表示パネルの製造方法は、互いに対向する第1の基板及び第2の基板の何れかの基板に、液晶を封止する第1のシールを閉じた形状に形成すると共に、前記第1の基板及び第2の基板の何れかの基板に、内部を気密に保持する第2のシールを前記第1のシールを内包するように、且つ閉じた形状に形成し、前記第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下した後、前記第1及び第2の基板を真空雰囲気内で貼り合わせるようにした液晶表示パネルの製造方法であって、少なくとも前記第1のシールとして、所定光量の光を照射後、所定時間経過後に硬化を開始する遅延硬化性を有する光硬化樹脂材を適用し、該第1のシールに光照射した後に、第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下して前記第1及び第2の基板を貼り合わせることを特徴としている。
この第1の形態では、液晶を封止する第1のシールを、遅延硬化性を有する光硬化性樹脂材で形成するので、第1及び第2の基板の一方に第1のシール及びこれを内包する第2のシールを形成し、少なくとも第1のシールに対して光照射した後に、第1のシールの内側に液晶を滴下し、その後第1及び第2の基板を真空雰囲気内で貼り合わせパネルを形成するので、液晶を滴下して第1及び第2の基板を貼り合わせた後に第1のシールが光硬化を開始することになり、液晶が光照射されることはないと共に、第1及び第2の基板を貼り合わせる前であるので、第1のシールを隈なく光照射することができ、未硬化領域の発生を防止することができる。
また、第2の形態に係る液晶表示パネルの製造方法は、互いに対向する第1の基板及び第2の基板の何れかに、液晶を封止する第1のシールを閉じた形状に形成すると共に、前記第1の基板及び第2の基板の何れか一方の基板に、内部を気密に保持する第2のシールを前記第1のシールを内包するように、且つ閉じた形状に形成し、前記第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下した後、前記第1及び第2の基板を真空雰囲気内で貼り合わせるようにした液晶表示パネルの製造方法であって、少なくとも前記第1のシールとして、所定光量の光を照射後、所定時間経過後に硬化を開始する遅延硬化性を有する光硬化樹脂材を適用し、該第1のシールを形成していない基板の当該第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下し、該第1のシールに光照射した後に、前記第1及び第2の基板を貼り合わせることを特徴としている。
この第2の形態では、第1の基板及び第2の基板の一方の基板に、第1のシール及び第2のシールの双方を塗布した後光照射を行い、他方の基板の第1のシールの内側に対応する領域に液晶を滴下するので、この場合も液晶に紫外線等が影響を与えることはないと共に、少なくとも第1のシールを隈なく光照射することができ、未硬化領域の発生を防止することができる。
さらに、第3の形態に係る液晶表示パネルの製造方法は、上記第1又は第2の形態において、前記第1のシールとして前記遅延硬化性及び光照射後に光が照射されなくても硬化が進行する暗反応性を有する光硬化性樹脂材を適用したことを特徴としている。
この第3の形態では、第1のシールが遅延硬化性及び暗反応性を有する光硬化性樹脂材で形成されているので、第1のシールに対して一度光照射した後は所定時間が経過した後に硬化が開始され、再度光照射を行わなくても第1のシールの硬化を確実に完了させることができる。
この第3の形態では、第1のシールが遅延硬化性及び暗反応性を有する光硬化性樹脂材で形成されているので、第1のシールに対して一度光照射した後は所定時間が経過した後に硬化が開始され、再度光照射を行わなくても第1のシールの硬化を確実に完了させることができる。
さらにまた、第4の形態に係る液晶表示パネルの製造方法は、上記第1〜第3の形態の何れか1つにおいて、前記第1及び第2の基板の貼り合わせ後に、光照射、光照射及び加熱、光照射後に加熱の何れかの硬化促進処理を行うことを特徴としている。
この第4の形態では、第1及び第2の基板の貼り合わせ後に、光照射、光照射及び加熱、光照射後に加熱の何れかの硬化促進処理を行うので、遅延硬化性を有する光硬化性樹脂材の硬化を促進して未硬化領域の発生をより確実に防止することができる。
この第4の形態では、第1及び第2の基板の貼り合わせ後に、光照射、光照射及び加熱、光照射後に加熱の何れかの硬化促進処理を行うので、遅延硬化性を有する光硬化性樹脂材の硬化を促進して未硬化領域の発生をより確実に防止することができる。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明を適用し得る液晶パネルを示す断面図、図2は液晶パネルを構成する一方の基板におけるシールレイアウトを示す底面図、図3は本発明の第1の実施形態を示す液晶表示パネルの製造方法を示すフローチャートである。
液晶表示パネル1は、TFT(Thin Film Transistor)基板2と対向基板3とが両者間に液晶層4を形成するように貼り合わされた液晶パネル5を有する。
図1は、本発明を適用し得る液晶パネルを示す断面図、図2は液晶パネルを構成する一方の基板におけるシールレイアウトを示す底面図、図3は本発明の第1の実施形態を示す液晶表示パネルの製造方法を示すフローチャートである。
液晶表示パネル1は、TFT(Thin Film Transistor)基板2と対向基板3とが両者間に液晶層4を形成するように貼り合わされた液晶パネル5を有する。
TFT基板2には、液晶を駆動するスイッチング素子が配置されており、上面に周知の膜形成技術と、パターン形成技術によって、多層構造にパターン化された画素電極及び共通電極や配向膜を含む複数の膜が積層されている。
対向基板3は、下面にカラーフィルタ及び配向膜を有する透明基板で構成されている。
そして、TFT基板2の配向膜及び対向基板3の配向膜はラビングされ、液晶層4の液晶分子は、TFT基板2及び対向基板3の配向膜のラビング方向に応じて初期配向されている。
対向基板3は、下面にカラーフィルタ及び配向膜を有する透明基板で構成されている。
そして、TFT基板2の配向膜及び対向基板3の配向膜はラビングされ、液晶層4の液晶分子は、TFT基板2及び対向基板3の配向膜のラビング方向に応じて初期配向されている。
また、TFT基板2及び対向基板3の何れか一方の基板、例えば対向基板3に図2に示すように、シールがレイアウトされている。
このシールは、液晶を封止する第1のシールとしての前後及び左右方向に夫々所定間隔を保ってマトリックス状に整列され、閉じた形状に形成された複数のメインシール11と、これらメインシール11を内包し、且つ閉じた形状に形成された少なくとも内部を気密に保持する第2のシール21とで構成されている。
このシールは、液晶を封止する第1のシールとしての前後及び左右方向に夫々所定間隔を保ってマトリックス状に整列され、閉じた形状に形成された複数のメインシール11と、これらメインシール11を内包し、且つ閉じた形状に形成された少なくとも内部を気密に保持する第2のシール21とで構成されている。
メインシール11は、紫外線を照射することにより硬化し、遅延硬化性及び暗反応性を有するカチオン重合性紫外線硬化性樹脂材をスクリーン印刷技術やディスペンサ描画技術によって方形枠状に塗布することにより形成されている。ここで、遅延硬化性とは、図3に示すように、カチオン重合の反応制御により、所定光量の紫外線を照射後、即時硬化するのではなく、一定時間経過後硬化を開始して硬化を完了する特性を有するものであり、暗反応性とは、紫外線照射終了後、紫外線が当たらなくとも硬化が進行する特性を有するものである。
第2のシール21は、メインシール11と同様に、紫外線を照射することにより硬化し、遅延硬化性及び暗反応性を有する光硬化性樹脂材で形成され、マトリックス状に整列されたメインシール11を内包するように、これらメインシール11の外周側に対して所定距離を保って方形枠状に形成された外周シール部22と、この外周シール部22と外方側のメインシール11との間に形成されたダミーシール23とで構成されている。
ここで、ダミーシール23は、図2に示すように、TFT基板2の上面上に、各整列されたメインシール11の外側に外方側を開放したコ字状に形成された第1のダミーシール部23aと、整列されたメインシール11の四隅部に対向して形成されたL字状の第2のダミーシール部23bと、第1及び第2のダミーシール部23a及び23bを連結するように方形枠状に形成された第3のダミーシール部23cとで構成されている。
そして、上記構成を有する液晶表示パネル1を、図4に示す製造工程のフローチャートに従って製造する。
すなわち、TFT基板2については、ステップS1で、ラビング処理を行った後に洗浄処理を行い、次いでステップS2に移行して、液晶に影響を与える有機性揮発物を加熱除去するデガス処理を行い、次いでステップS3に移行して、導通材塗布処理を行い、次いでステップS4に移行して導通材を予備加熱するプリベーク処理を行ってからODF工程に移行する。
すなわち、TFT基板2については、ステップS1で、ラビング処理を行った後に洗浄処理を行い、次いでステップS2に移行して、液晶に影響を与える有機性揮発物を加熱除去するデガス処理を行い、次いでステップS3に移行して、導通材塗布処理を行い、次いでステップS4に移行して導通材を予備加熱するプリベーク処理を行ってからODF工程に移行する。
一方、対向基板3については、ステップS1′で、ステップS1と同様にラビング後洗浄処理を行い、次いでステップS2′でステップS2と同様にデガス処理を行い、次いでステップS3′に移行して、第1のシールとなるメインシール11及び第2のシール21をスクリーン印刷技術、ディスペンサ描画技術等によって塗布し、次いでステップS4′に移行してメインシール11及び第2のシール21に対して紫外線照射を行ってから真空貼り合せ処理に移行する。
この紫外線照射は、図5に示すように、ステージ31上に、貼り合わせ基板32を載置し、この貼り合わせ基板32に対向する上方位置に短波長UVカットフィルタ34、熱線カットフィルタ35及びUVランプ36が配置された光照射装置37を使用して行う。ここで、短波長UVカットフィルタ34、熱線カットフィルタ35の組合せは任意であり、貼り合わせ基板32の仕様に応じて適宜選択する。
ODF処理では、先ず、ステップS5で、シールを形成した対向基板3の下面を上にした状態で、マトリックス状の各メインシール11の内側に適量の液晶をディスペンス法やその他の滴下方法で滴下し、次いでステップS6に移行して、対向基板3上にTFT基板2を載置して、真空雰囲気中で貼り合わせて貼り合わせ基板を形成する。
次いで、ステップS7に移行して、大気圧に戻した状態で、TFT基板2及び対向基板3を貼り合わせた液晶パネルに対してメインシール11及び第2のシール21を光硬化させる紫外線を照射し、これによってメインシール11及び第2のシール21の光硬化を促進させる。
次いで、ステップS7に移行して、大気圧に戻した状態で、TFT基板2及び対向基板3を貼り合わせた液晶パネルに対してメインシール11及び第2のシール21を光硬化させる紫外線を照射し、これによってメインシール11及び第2のシール21の光硬化を促進させる。
次いで、ステップS8に移行して、液晶パネルを所定温度で加熱して第1のシールとしてのメインシール11を熱硬化させてメインシール11及び第2のシール21の光硬化をさらに促進させると共に液晶の等方性処理を行って、ODF工程を終了する。
次いで、ステップS9に移行して、液晶パネルをメカスクライブやレーザスクライブによってスクライブラインを形成するスクライブ処理を行った後、必要に応じスクライブライン位置を加圧して液晶パネルを分割するブレイク処理を行って、液晶パネルを所望領域で分割する。次いでステップS10に移行して、セル洗浄を行って、所望の液晶パネルを形成する。
次いで、ステップS9に移行して、液晶パネルをメカスクライブやレーザスクライブによってスクライブラインを形成するスクライブ処理を行った後、必要に応じスクライブライン位置を加圧して液晶パネルを分割するブレイク処理を行って、液晶パネルを所望領域で分割する。次いでステップS10に移行して、セル洗浄を行って、所望の液晶パネルを形成する。
このように、上記第1の実施形態によると、液晶を封止する第1のシールとしてのメインシール11及び第2のシール21を遅延硬化性及び暗反応性を有する光硬化性樹脂材で形成し、これらメインシール11及び第2のシール21を塗布工程で、対向基板3にスクリーン印刷やディスペンサ描画技術を使用して同時塗布するので、対向基板3へのシール材の塗布を容易に行うことができる。
その後、真空貼り合せ処理を行う前に、紫外線照射装置37で、第1のシールとしてのメインシール11及び第2のシール21に紫外線を照射する。このようにメインシール11及び第2のシール21に対して所定光量の紫外線を照射しても、図3に示すように、メインシール11及び第2のシール21が直ちに硬化するわけではなく、所定時間経過後に硬化を開始することになる。
このため、メインシール11及び第2のシール21に紫外線を照射してから、対向基板3を上向きとしてメインシール11の内側に液晶を滴下した後、対向基板3上にTFT基板2を載置して、真空雰囲気内でTFT基板2及び対向基板3を貼り合わせる。
このTFT基板2及び対向基板3の貼り合わせを、図3に示すように、メインシール11及び第2シール21の粘着強度が増加して硬化完了する前の間に完了させることにより、TFT基板2及び対向基板3の貼り合わせが完了した後に、メインシール11及び第2のシール21の粘着強度が増加して完全に貼り合わせることができる。
このTFT基板2及び対向基板3の貼り合わせを、図3に示すように、メインシール11及び第2シール21の粘着強度が増加して硬化完了する前の間に完了させることにより、TFT基板2及び対向基板3の貼り合わせが完了した後に、メインシール11及び第2のシール21の粘着強度が増加して完全に貼り合わせることができる。
TFT基板11及び対向基板12の貼り合わせ後に、大気圧下で光照射または加熱処理,あるいは光照射及び加熱処理の両方を行って光硬化を促進させることにより、短時間でメインシール11及び第2シール21の硬化を完了させることができる。
このように、第1の実施形態によると、メインシール11及び第2のシール21を塗布した対向基板3に紫外線照射装置37で紫外線を照射するので、メインシール11及び第2のシール21の全域に確実に紫外線を照射することができる。このため、遅延硬化性によってメインシール11及び第2のシール21が硬化したときに、未硬化領域が残ることはなく、メインシール11及び第2のシールの全ての領域を確実に光硬化させることができる。
このように、第1の実施形態によると、メインシール11及び第2のシール21を塗布した対向基板3に紫外線照射装置37で紫外線を照射するので、メインシール11及び第2のシール21の全域に確実に紫外線を照射することができる。このため、遅延硬化性によってメインシール11及び第2のシール21が硬化したときに、未硬化領域が残ることはなく、メインシール11及び第2のシールの全ての領域を確実に光硬化させることができる。
その後、対向基板3のメインシール11の内側に液晶を滴下した後に、TFT基板2及び対向基板3を真空雰囲気中で貼り合わせるので、メインシール11及び第2のシール21を光硬化させる所定光量の紫外線が液晶に照射されることを確実に防止することができ、TFT基板2及び対向基板3を貼り合わせた後に照射する紫外線は遅延硬化性を促進するための補助的なものであり、液晶に与える影響は無視できる程度の光量である。
次に、本発明の第2の実施形態を図6について説明する。
この第2の実施形態は、液晶の滴下を、シールを形成した対向基板3に代えてシールを形成していないTFT基板2に滴下するようにしたものである。
すなわち、第2の実施形態では、図6に示すように、ODF処理工程のステップS5で、TFT基板2の上面における対向基板3のメインシール11の内側となる領域に液晶を滴下してから、このTFT基板2上にメインシール11及び第2のシール21をTFT基板2側として載置してから真空雰囲気内でTFT基板2及び対向基板3を貼り合わせるようにしたことを除いては上述した第1の実施形態と同様の工程で、液晶表示パネルを形成する。
この第2の実施形態は、液晶の滴下を、シールを形成した対向基板3に代えてシールを形成していないTFT基板2に滴下するようにしたものである。
すなわち、第2の実施形態では、図6に示すように、ODF処理工程のステップS5で、TFT基板2の上面における対向基板3のメインシール11の内側となる領域に液晶を滴下してから、このTFT基板2上にメインシール11及び第2のシール21をTFT基板2側として載置してから真空雰囲気内でTFT基板2及び対向基板3を貼り合わせるようにしたことを除いては上述した第1の実施形態と同様の工程で、液晶表示パネルを形成する。
この第2の実施形態によると、メインシール11及び第2のシール21を形成した対向基板3とは異なるTFT基板2に液晶を滴下するので、対向基板3のメインシール11及び第2のシール21に紫外線を照射している状態で、TFT基板2に液晶を滴下することができ、製造工程を短縮することができる。
なお、上記第1及び第2の実施形態においては、TFT基板2及び対向基板3を貼り合わせてパネルを形成した後に、紫外線照射処理及び加熱処理を行って遅延硬化性を有する光硬化性樹脂材の光硬化を促進させる場合について説明したが、これに限定されるものではなく、紫外線照射処理及び加熱処理の何れか一方又は双方を省略することができる。
なお、上記第1及び第2の実施形態においては、TFT基板2及び対向基板3を貼り合わせてパネルを形成した後に、紫外線照射処理及び加熱処理を行って遅延硬化性を有する光硬化性樹脂材の光硬化を促進させる場合について説明したが、これに限定されるものではなく、紫外線照射処理及び加熱処理の何れか一方又は双方を省略することができる。
また、上記第1及び第2の実施形態においては、シールを遅延硬化性及び暗反応性を有する光硬化性樹脂材で形成した場合について説明したが、これに限定されるものではなく、シールを遅延硬化性のみを有する光硬化性樹脂材で形成するようにしてもよい。
さらに、上記第1及び第2の実施形態においては、第2のシール21も遅延硬化性を有する光硬化性樹脂材で形成する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、第2のシール21については光熱硬化性樹脂材や熱硬化性樹脂材を適用することができる。
さらに、上記第1及び第2の実施形態においては、第2のシール21も遅延硬化性を有する光硬化性樹脂材で形成する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、第2のシール21については光熱硬化性樹脂材や熱硬化性樹脂材を適用することができる。
さらにまた、上記第1及び第2の実施形態においては、液晶表示パネルの製造工程で、TFT基板2及び対向基板3の双方にデガス処理を行う場合について説明したが、これに限定されるものではなく、何れか一方又は双方のデガス処理を省略するようにしてもよい。
なおさらに、上記第1及び第2の実施形態においては、対向基板3に第1のシールとなるメインシール11及び第2のシール21を形成する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、TFT基板3にメインシール11及び第2のシール21を形成するようにしてもよく、さらにはTFT基板2及び対向基板3の何れか一方にメインシール11を形成し、他方に第2のシール21を形成するようにしてもよい。
なおさらに、上記第1及び第2の実施形態においては、対向基板3に第1のシールとなるメインシール11及び第2のシール21を形成する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、TFT基板3にメインシール11及び第2のシール21を形成するようにしてもよく、さらにはTFT基板2及び対向基板3の何れか一方にメインシール11を形成し、他方に第2のシール21を形成するようにしてもよい。
また、上記第1及び第2の実施形態においては、TFT基板2に導通材を塗布する場合について説明したが、IPS(In-Plain Switching)モードやFFS(Fringe-Field Switching)モードで動作する液晶表示パネルの場合には、導通材塗布を省略することができる。また、導通材を塗布した後の導通材のプリベーク処理も省略することができる。
さらに、上記第1及び第2の実施形態においては、第2のシール21を構成するダミーシール部23がコ字状の第1のダミーシール部23a、L字状の第2のダミーシール部23b及び方形枠状の第3のダミーシール部23cで構成されている場合について説明したが、これに限定されるものではなく、第2及び第3のダミーシール部23b及び23cの何れか一方又は双方を省略したり、第1のダミーシール23aを方形枠状に形成したりすることができ、さらには、マトリックス状に配列されたメインシール11の隣接するシール間に線状のダミーシール部を形成するようにしてもよい。
さらに、上記第1及び第2の実施形態においては、第2のシール21を構成するダミーシール部23がコ字状の第1のダミーシール部23a、L字状の第2のダミーシール部23b及び方形枠状の第3のダミーシール部23cで構成されている場合について説明したが、これに限定されるものではなく、第2及び第3のダミーシール部23b及び23cの何れか一方又は双方を省略したり、第1のダミーシール23aを方形枠状に形成したりすることができ、さらには、マトリックス状に配列されたメインシール11の隣接するシール間に線状のダミーシール部を形成するようにしてもよい。
1…液晶表示パネル、2…TFT基板、3…対向基板、4…液晶層、5…、11…メインシール、21…第2のシール、22…外周シール部、23…ダミーシール部、23a…第1のダミーシール部、23b…第2のダミーシール部、23c…第3のダミーシール部
Claims (4)
- 互いに対向する第1の基板及び第2の基板の何れかの基板に、液晶を封止する第1のシールを閉じた形状に形成すると共に、前記第1の基板及び第2の基板の何れかの基板に、内部を気密に保持する第2のシールを前記第1のシールを内包するように、且つ閉じた形状に形成し、前記第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下した後、前記第1及び第2の基板を真空雰囲気内で貼り合わせるようにした液晶表示パネルの製造方法であって、
少なくとも前記第1のシールとして、所定光量の光を照射後、所定時間経過後に硬化を開始する遅延硬化性を有する光硬化樹脂材を適用し、該第1のシールに光照射した後に、第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下して前記第1及び第2の基板を貼り合わせることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 - 互いに対向する第1の基板及び第2の基板の何れかに、液晶を封止する第1のシールを閉じた形状に形成すると共に、前記第1の基板及び第2の基板の何れか一方の基板に、内部を気密に保持する第2のシールを前記第1のシールを内包するように、且つ閉じた形状に形成し、前記第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下した後、前記第1及び第2の基板を真空雰囲気内で貼り合わせるようにした液晶表示パネルの製造方法であって、
少なくとも前記第1のシールとして、所定光量の光を照射後、所定時間経過後に硬化を開始する遅延硬化性を有する光硬化樹脂材を適用し、該第1のシールを形成していない基板の当該第1のシールの内側となる領域に液晶を滴下し、該第1のシールに光照射した後に、前記第1及び第2の基板を貼り合わせることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。 - 前記第1のシールとして前記遅延硬化性及び光照射後に光が照射されなくても硬化が進行する暗反応性を有する光硬化性樹脂材を適用したことを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示パネルの製造方法。
- 前記第1及び第2の基板の貼り合わせ後に、光照射、光照射及び加熱、光照射後に加熱の何れかの硬化促進処理を行うことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
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JP2008005313A JP2009168973A (ja) | 2008-01-15 | 2008-01-15 | 液晶表示パネルの製造方法 |
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2008
- 2008-01-15 JP JP2008005313A patent/JP2009168973A/ja active Pending
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CN103412443A (zh) * | 2013-07-22 | 2013-11-27 | 北京京东方光电科技有限公司 | 显示面板的对盒方法 |
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