KR20080077442A - 기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법 - Google Patents

기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20080077442A
KR20080077442A KR1020070016964A KR20070016964A KR20080077442A KR 20080077442 A KR20080077442 A KR 20080077442A KR 1020070016964 A KR1020070016964 A KR 1020070016964A KR 20070016964 A KR20070016964 A KR 20070016964A KR 20080077442 A KR20080077442 A KR 20080077442A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
damage
repair
damaged
photosensitive composition
Prior art date
Application number
KR1020070016964A
Other languages
English (en)
Inventor
이수용
김영철
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020070016964A priority Critical patent/KR20080077442A/ko
Publication of KR20080077442A publication Critical patent/KR20080077442A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306—Details
    • G02F1/1309—Repairing; Testing
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/13625—Patterning using multi-mask exposure
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements
    • G02F2201/506—Repairing, e.g. with redundant arrangement against defective part

Abstract

기판 상에 발생된 미세 균열이나 스크래치 등의 손상을 효율적으로 리페어하여 수율을 높이고, 생산 비용을 절감할 수 있는 기판 리페어 시스템 및 기판 리페어 방법이 제공된다. 기판 리페어 시스템은 기판의 손상 여부를 검출하는 손상 검출부, 기판의 손상이 검출되면, 연마 공정을 통해 기판의 손상 부위를 연마하는 연마부, 연마된 기판의 손상 부위에 감광성 조성물을 도포하는 도포부, 도포된 감광성 조성물에 자외선을 조사하여 광 경화시키는 자외선 경화부를 포함한다. 기판 리페어 방법은 기판의 손상 여부를 검출하는 단계, 기판의 손상이 검출되면, 연마 공정을 통해 기판의 손상 부위를 연마하는 단계, 연마된 기판의 손상 부위에 감광성 조성물을 도포하는 단계, 도포된 감광성 조성물에 자외선을 조사하여 광 경화시키는 단계를 포함한다.
Figure P1020070016964
기판, 리페어, 파손, 경화

Description

기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법{Repair system of glass and repair method of glass using the same }
도 1은 종래의 기판 손상을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 리페어 시스템의 개략적 구성도이다.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 리페어 방법의 각 단계를 설명하기 위한 도면이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
110: 손상 검출부 120: 연마부
130: 도포부 140: 자외선 경화부
210: 기판(glass) 220: 마스크(mask)
230: 감광성 조성물
본 발명은 기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정 표시 장치(LCD: Liquid Crystal Display)는 상부의 투명 절연 기판과 하부의 투명 절연 기판 사이에 이방성 유전율을 갖는 액정 물질을 주입해 놓고, 액정 물질에 형성되는 전계의 세기를 조정하여 액정 물질의 분자 배열을 변경시킴으로써, 투명 절연 기판에 투과되는 빛의 양을 조절하여 원하는 화상을 표시하는 표시 장치이다.
이러한 액정 표시 장치는 세부적으로 영상을 표시하는 액정 패널, 액정 패널의 하부에 설치되어 액정 패널로 빛을 방출하는 백라이트 유닛(back light unit), 백라이트 유닛과 액정 패널을 결합하여 보호하는 커버(cover) 등으로 구성된다.
그리고, 액정 패널은 구동 회로부를 포함하는 어레이 기판, 컬러 필터 기판, 어레이 기판과 컬러 필터 기판 사이에 형성된 액정층으로 이루어지며, 어레이 기판은 복수 개의 화소 영역을 정의하는 게이트 라인과 데이터 라인, 게이트 라인과 데이터 라인의 교차 영역에 마련된 박막 트랜지스터(TFT: Thin Film Transistor)를 구비한다.
이러한 액정 표시 장치는 여러 공정 단계를 거쳐 제조되는데, 일반적으로, 어레이 기판과 컬러 필터 기판이 완성되면, 두 기판을 합착시키기 위하여 셀 공정을 진행하고, 두 기판이 합착되면 전원과 비디오 신호 등을 인가하기 위하여 구동 회로부가 형성되어 있는 인쇄 회로 기판을 조립하는 공정이 진행된다.
이와 같이, 액정 표시 장치를 제조하는 공정은 각각의 단계별로 세분화되어 있고, 각 공정 단계가 완료되면 다음 공정 단계로 기판을 이동하여 다음 공정으로 이송하게 된다. 그러므로, 제조 공정이나 이송 도중에 도 1에 도시된 것처럼, 기판에 균열(crack)이나 스크래치(scratch) 등의 손상이 발생할 위험이 높다.
도 1은 종래의 기판 손상을 나타낸 도면이다.
또한, 기판이나 액정 셀을 이동하기 위해서는 다수 개의 기판들을 적재하는 카세트 속에 기판들을 적층하여 탑재시킨 다음, 로봇을 이용하여 기판을 카세트로부터 각 공정 챔버로 로딩시키거나 언로딩 시킨다.
이때, 각각의 공정은 온도, 압력 등 공정 조건이 상이하지만 일반적으로 공정 챔버 내에서는 열과 압력을 가하여 공정을 진행한다.
그러므로, 기판 상에 미세 균열이나 스크래치 등의 손상이 있는 경우에는 공정을 진행하는 챔버 내에서 전체가 파손되는 문제가 발생할 수 있다.
따라서, 이를 리페어(repair)할 수 있는 리페어 공정이 필요하나, 효율적인 리페어 공정이 부족하고, 리페어 공정이 제대로 수행되지 않는 경우, 손상이 발생한 기판들을 전량 폐기하여야 하는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 기판 상에 발생된 미세 균열이나 스크래치 등의 손상을 효율적으로 리페어하여 수율을 높이고, 생산 비용을 절감할 수 있는 기판 리페어 시스템 및 기판 리페어 방법을 제공하는데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 리페어 시스템은 기판의 손상 여부를 검출하는 손상 검출부와, 상기 기판의 손상이 검출되면, 연마 공정을 통해 상기 기판의 손상 부위를 연마하는 연마부와, 상기 연마된 기판의 손상 부위에 감광성 조성물을 도포하는 도포부와, 상기 도포된 감광성 조성물에 자외선을 조사하여 광 경화시키는 자외선 경화부를 포함한다.
본 발명에 따른 기판 리페어 방법은 기판의 손상 여부를 검출하는 단계와, 상기 기판의 손상이 검출되면, 연마 공정을 통해 상기 기판의 손상 부위를 연마하는 단계와, 상기 연마된 기판의 손상 부위에 감광성 조성물을 도포하는 단계와, 상기 도포된 감광성 조성물에 자외선을 조사하여 광 경화시키는 단계를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법에 대하여 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 리페어 시스템의 개략적 구성도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 리페어 시스템은 손상 검출부(110), 연마부(120), 도포부(130), 자외선 경화부(140)를 포함한다.
손상 검출부(110)는 기판(210)을 검사 대상으로 하여 미세 균열이나 스크래치 등의 손상 여부를 검출하고, 기판(210)에 생긴 손상 정도가 화상 품질을 크게 저하시키지 않는 범위 내에서 리페어가 가능한 수준인지, 즉, 기판(210)의 손상 면적이 기판(210)의 전체 면적과 대비하여 리페어가 가능한 수준인지 여부를 판단한다.
일례로, 손상 여부의 검출은 기판(210)이 컨베이어(111)를 이동하는 도중에 컨베이어(111) 상에 기판(210)을 일정 해상도 이상으로 모니터링할 수 있는 카메라(112)를 두고, 검사 담당자나 카메라(112)에 연결된 컨트롤러가 카메라(112)의 촬영 화면을 분석하는 방식을 이용할 수 있다.
손상 검출부(110)에서 기판(210)의 손상이 검출되면, 해당 기판(210)이 연마부(120)로 제공되고, 연마부(120)는 기판(210)의 손상 부위를 연마하여 이후 리페어를 위한 감광성 조성물(230)을 채울 수 있도록 가공한다.
연마부(120)로는 엔드밀(Endmill)이나 드릴(Drill) 등의 장치가 이용될 수 있다. 기판(210)의 손상 부위가 연마부(120)에 의해 연마되는 정도는 기판(210)의 전체 두께에 비해 미세한 수준, 바람직하게는 ㎛ 단위의 두께 정도여야 한다.
도포부(130)는 연마부(120)를 거쳐 손상 부위가 연마된 기판(210)의 손상 부 위에 감광성 조성물(230)을 도포하여 채워 넣게 된다. 감광성 조성물(230)은 감광성 수지 성분, 차광 재료 등을 포함하는 것으로서, 컬러 필터 기판의 블랙 매트릭스 형성에 사용되는 것과 유사한 재료가 리페어를 위한 감광성 조성물(230)로 사용할 수 있다.
후속 공정을 수행하는 자외선 경화부(140)에 의해 빛이 조사되면, 이러한 감광성 조성물(230)은 광 경화되어 기판(210)의 강도를 높이게 된다.
차광 재료의 함유량이 높아지면, 광 경화 시 빛이 막, 예를 들면, 기판(210) 상부의 배향막의 깊숙이까지 도달하지 않아 광 경화가 충분히 진행되지 않을 수 있다. 그러므로, 기판(210)이 손상 부위에서 균열 등의 손상이 발생하기 이전과 같은 정도의 강도를 회복할 수 있도록 감광성 조성물(230) 내에 함유되는 차광 재료의 비율을 적절히 조절한다.
자외선 경화부(140)는 기판(210)의 손상 부위에 도포된 감광성 조성물(230)에 자외선을 조사하여 광 경화시킴으로써, 손상 부위가 위치한 기판(210)의 강도를 보다 강화한다.
여러 공정 단계나 기판(210)의 이송 중에 기판(210) 상에 균열이나 스크래치 등의 손상이 발생할 경우, 기판(210)의 강도 저하로 인해 기판(210) 전체가 부서져 폐기 처리될 수 있다.
따라서, 연마부(120)를 이용해 리페어를 수행할 손상 부위를 일정 깊이로 연마하고, 감광성 조성물(230)로 채운 후에 자외선으로 경화하여 리페어 공정의 효율을 높이는 것이다.
연마부(120)로 기판(210) 표면의 스크래치만을 리페어할 수도 있으나, 그보다 깊이가 깊은 손상은 연마 공정만으로는 리페어가 어렵다. 그러므로, 일정 깊이로 연마한 후, 감광성 조성물(230)을 채워 넣은 후에 경화하여 기판(210)의 손상을 리페어하고 강도를 높임으로써, 미세한 손상으로 인한 기판(210) 전체의 폐기 처리를 막는다.
여기서, 자외선 경화부(140)는 기판(210)의 상부에 마스크(220)를 위치시킨 후, 기판(210)의 손상 부위에 도포된 감광성 조성물(230)에 자외선을 조사한다.
마스크(220) 상에는 연마된 기판(210)의 손상 부위에 대응하는 패턴이 형성되어 있다. 여기서, 마스크(220) 상에 형성된 패턴은 자외선을 투과시키는 투과부와 자외선을 차단시키는 차단부로 이루어지며, 자외선을 투과시켜 손상 부위를 리페어하는 투과부는 기판(210)의 손상 부위에 대응하는 영역을 포함하게 된다.
마스크(220)를 사용하지 않고 기판(210)에 자외선을 조사하게 되면, 손상 부위와 인접한 다른 부분이 불필요하게 파손될 수 있으므로, 마스크(220)의 패턴을 적절히 설계하여 자외선이 조사되는 부분을 기판(210)의 손상 부위와 대응되는 범위 이내로 한정한다.
이러한 기판 리페어 시스템은 액정 표시 장치를 제조하기 위한 컬러 필터 기판이나 어레이 기판, 두 기판이 합착되어 있는 액정 셀에 모두 적용 가능하다. 컬러 필터 기판이나 어레이 기판 상태로 리페어가 수행되는 경우, 각 기판의 상부에 형성되는 배향막에 손상이 발생되면, 배향의 흐트러짐이나 얼룩을 유발할 수 있으므로, 배향막이 형성된 면이 상부를 향하도록 놓여진 상태에서 리페어를 수행하여 표시 품위의 향상을 도모할 수 있다.
이러한 구성은 일 예로 도시된 바에 한정되지는 않는다.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 리페어 방법의 각 단계를 설명하기 위한 도면으로서, 도 2에 도시된 기판 리페어 시스템을 이용한 기판 리페어 방법을 예시하고 있다.
먼저, 기판 리페어 시스템의 손상 검출부(110)가 도 3에 도시된 것처럼, 기판(210)의 손상 여부를 검출한다.
손상 검출부(110)를 거쳐 기판(210)의 손상이 검출되면, 연마부(120)가 도 4에 도시된 것처럼, 연마 공정을 수행하여 기판(210)의 손상 부위를 연마하게 된다.
다음으로, 도포부(130)가 도 5에 도시된 것처럼, 연마된 기판(210)의 손상 부위에 감광성 조성물(230)을 채우게 된다.
다음으로, 자외선 경화부(140)가 도 6에 도시된 것처럼, 기판(210)의 손상 부위를 덮도록 도포된 감광성 조성물(230)에 자외선을 조사하여 광 경화시켜 손상 부위의 강도를 손상 이전의 수준으로 강화시키게 된다.
기판(210) 상의 손상 부위에 채워진 감광성 조성물(230)에 자외선을 조사할 때에는 마스크(220)가 이용될 수 있으며, 이때 사용되는 마스크(220) 상에는 연마된 기판(210)의 손상 부위에 대응하는 패턴이 형성되어 있다.
여기서, 리페어가 가능한 수준을 고려하여 리페어 범위를 미리 설정하고, 그에 대응하는 형상과 면적으로 마스크(220)의 패턴을 형성한 후, 기판(210)의 손상 부위가 미리 정해진 범위에 속하는 경우에는 리페어를 수행하도록 하는 방법이 도입될 수 있다.
상술한 바와 같이, 마스크(220) 상에 형성된 패턴은 자외선을 투과시키는 투과부와 자외선을 차단시키는 차단부로 이루어지며, 자외선을 투과시켜 손상 부위를 리페어하는 투과부는 기판(210)의 손상 부위에 대응하는 영역을 포함하게 된다.
이와 같이, 연마 공정과 감광성 조성물(230)의 도포 공정을 이용하여 기판(210)의 손상 부위를 가공하고, 가공되어 감광성 조성물(230)이 채워진 손상 부위를 경화하여 강도를 증가시키기 위해 손상 부위와 그 주변에 자외선을 조사한다.
이때, 기판(210)이나 기판(210) 상의 배향막이 자외선에 의해 파손될 수 있으므로, 마스크(220)를 사용하여 자외선을 손상 부위에 집중시킴으로써 기판(210)이나 기판(210) 상에 형성된 배향막의 파손을 방지할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 따르면, 기판 상에 발생된 미세 균열이나 스크래치 등의 손상을 효율적으로 리페어하여 수율을 높이고, 생산 비용을 절감할 수 있다.

Claims (6)

  1. 기판의 손상 여부를 검출하는 손상 검출부;
    상기 기판의 손상이 검출되면, 연마 공정을 통해 상기 기판의 손상 부위를 연마하는 연마부;
    상기 연마된 기판의 손상 부위에 감광성 조성물을 도포하는 도포부; 및
    상기 도포된 감광성 조성물에 자외선을 조사하여 광 경화시키는 자외선 경화부;
    를 포함하는 기판 리페어 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 자외선 경화부는,
    상기 기판의 상부에 마스크를 위치시킨 후, 상기 기판의 손상 부위에 도포된 상기 감광성 조성물에 자외선을 조사하는 것을 특징으로 하는 기판 리페어 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 마스크는,
    상기 연마된 기판의 손상 부위에 대응하는 패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 리페어 시스템.
  4. 기판의 손상 여부를 검출하는 단계;
    상기 기판의 손상이 검출되면, 연마 공정을 통해 상기 기판의 손상 부위를 연마하는 단계;
    상기 연마된 기판의 손상 부위에 감광성 조성물을 도포하는 단계; 및
    상기 도포된 감광성 조성물에 자외선을 조사하여 광 경화시키는 단계
    를 포함하는 기판 리페어 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 도포된 감광성 조성물에 자외선을 조사하여 광 경화시키는 단계에서,
    상기 자외선을 조사할 때 마스크를 이용하는 것을 특징으로 하는 기판 리페어 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 마스크는,
    상기 연마된 기판의 손상 부위에 대응하는 패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 리페어 방법.
KR1020070016964A 2007-02-20 2007-02-20 기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법 KR20080077442A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070016964A KR20080077442A (ko) 2007-02-20 2007-02-20 기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070016964A KR20080077442A (ko) 2007-02-20 2007-02-20 기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080077442A true KR20080077442A (ko) 2008-08-25

Family

ID=39880033

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070016964A KR20080077442A (ko) 2007-02-20 2007-02-20 기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20080077442A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8665395B2 (en) 2010-04-23 2014-03-04 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US11232987B2 (en) 2018-09-20 2022-01-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for fabricating a semiconductor device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8665395B2 (en) 2010-04-23 2014-03-04 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US11232987B2 (en) 2018-09-20 2022-01-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for fabricating a semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100720414B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 방법
KR101135381B1 (ko) 평판 디스플레이 패널의 리페어 방법
EP2023185B1 (en) Process for manufacturing display panel, display panel manufacturing apparatus and display panel
JP2006064791A (ja) 液晶表示装置の製造装置及び製造方法
US20110139335A1 (en) Method of Fabricating LCD Panel
KR20060102145A (ko) 액정표시소자 및 그 휘점 리페어 방법
JP2003241389A (ja) Ｕｖ照射装置及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法
US20040227862A1 (en) Liquid crystal panel, apparatus for inspecting the same, and method of fabricating liquid crystal display thereof
KR100710169B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 라인 및 제조 방법
KR100672641B1 (ko) 액정표시소자 및 그 제조방법
US6859255B2 (en) Method of fabricating a liquid crystal liquid display panel
US7143493B2 (en) Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display device
KR20080077442A (ko) 기판 리페어 시스템 및 그를 이용한 기판 리페어 방법
KR101192773B1 (ko) 액정표시소자의 제조방법
JPH09316399A (ja) 基板貼合せ装置及び基板貼合せ方法
KR100720444B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 방법
KR100360160B1 (ko) 평면표시장치
KR100796494B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 방법
JP2002365652A (ja) 液晶パネルの製造方法及び装置
KR100510725B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 방법
KR100495056B1 (ko) 액정 디스플레이의 홀로그램 디퓨져 형성방법 및 그 장치
KR100769187B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 방법
KR100710153B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 방법
KR100769186B1 (ko) 액정 표시 장치의 제조 방법
KR100954328B1 (ko) 액정표시장치 및 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination