JP2009166345A - 吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ばらつきが少ない安定した吐出特性が得られる吐出ヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の吐出ヘッドの製造方法は、液状体が充填される複数の流路と、複数の流路のそれぞれに連通するノズルとを有する吐出ヘッドの製造方法であって、複数の流路を1つの単位とする流路基板を、フォトリソグラフィ法を用いてマザー基板103に16個形成する流路形成工程を備え、露光工程において、露光中心E0を中心とする仮想同心円R1,R2,R3の円周上に流路基板に対応する流路露光パターンC1〜C16を配分して配置したマスク200を用いて、マザー基板103を一括露光した。
【選択図】図11
【解決手段】本適用例の吐出ヘッドの製造方法は、液状体が充填される複数の流路と、複数の流路のそれぞれに連通するノズルとを有する吐出ヘッドの製造方法であって、複数の流路を1つの単位とする流路基板を、フォトリソグラフィ法を用いてマザー基板103に16個形成する流路形成工程を備え、露光工程において、露光中心E0を中心とする仮想同心円R1,R2,R3の円周上に流路基板に対応する流路露光パターンC1〜C16を配分して配置したマスク200を用いて、マザー基板103を一括露光した。
【選択図】図11
Description
本発明は、液状体を液滴として吐出可能な吐出ヘッドの製造方法に関する。
吐出ヘッドの製造方法としては、液体を吐出するノズル開口に連通する圧力発生室が画成される流路形成基板と、該流路形成基板の一方の面側に振動板を介して設けられた圧電素子と、該圧電素子を密封可能な空間を有する封止基板とを備えた液体噴射ヘッドの製造方法が知られている(特許文献1)。
上記液体噴射ヘッドの製造方法は、流路形成基板用ウェハに形成された位置決め孔と封止基板用ウェハに形成された位置決め孔とに位置決めピンを挿入して流路形成基板用ウェハと封止基板用ウェハとを位置決めした状態で接合する工程を備えている。
これにより、流路形成基板と封止基板とを高精度且つ容易に位置決めして接合することができるとしている。
これにより、流路形成基板と封止基板とを高精度且つ容易に位置決めして接合することができるとしている。
しかしながら、上記液体噴射ヘッドの製造方法では、個々の流路形成基板が流路形成基板用ウェハ上において、どのような精度で形成されているかについて言及されていない。
上記位置決めピンを用いて流路形成基板用ウェハと封止基板用ウェハとを位置決めした状態で接合したとしても、個々の流路形成基板における流路の寸法精度がばらつくと、不良が発生するおそれがあるという課題を有している。
上記位置決めピンを用いて流路形成基板用ウェハと封止基板用ウェハとを位置決めした状態で接合したとしても、個々の流路形成基板における流路の寸法精度がばらつくと、不良が発生するおそれがあるという課題を有している。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例の吐出ヘッドの製造方法は、液状体が充填される複数の流路と、前記複数の流路のそれぞれに連通するノズルとを有する吐出ヘッドの製造方法であって、前記複数の流路を1つの単位とする流路基板を、フォトリソグラフィ法を用いてマザー基板にm個形成する流路形成工程を備え、前記流路形成工程は、前記マザー基板の露光中心を中心とした仮想円の円周上に前記m個の流路基板のうちの少なくとも一部を形成することを特徴とする。
フォトリソグラフィ法を用いる場合、露光時の露光精度のばらつきの影響を無視できない。露光精度のばらつきの因子としては、露光装置の光学系における露光光の光学軸に対するコリメイトや色収差が挙げられる。これらの因子は、露光中心を基準とするばらつきを有している。この方法によれば、流路形成工程では、マザー基板の露光中心を中心とした仮想円の円周上にm個の流路基板のうちの少なくとも一部を形成する。したがって、当該少なくとも一部の流路基板は、フォトリソグラフィ法における露光精度のばらつきの影響をほぼ一定した傾向で受けることになる。ゆえに、m個の流路基板間における複数の流路の寸法精度のばらつきが低減される。また、当該少なくとも一部の流路基板間では、ほぼ安定した寸法精度で複数の流路を形成することができる。なお、mは2以上の整数である。
[適用例2]上記適用例の吐出ヘッドの製造方法において、前記流路形成工程は、前記マザー基板の露光中心を中心とした複数の仮想同心円の円周上に前記m個の流路基板を配分して形成することが好ましい。
この方法によれば、複数の仮想同心円のうち少なくとも同一の仮想円上に形成された流路基板間では、ほぼ安定した寸法精度で複数の流路を形成することができる。結果的に、m個の流路基板間における複数の流路の寸法精度のばらつきがより低減される。
この方法によれば、複数の仮想同心円のうち少なくとも同一の仮想円上に形成された流路基板間では、ほぼ安定した寸法精度で複数の流路を形成することができる。結果的に、m個の流路基板間における複数の流路の寸法精度のばらつきがより低減される。
[適用例3]上記適用例の吐出ヘッドの製造方法において、前記流路形成工程は、前記m個の流路基板のうちの(m−n)個を前記マザー基板の露光中心を基準としてマトリクス状に形成し、前記(m−n)個の流路基板がマトリクス状に形成された領域の外周領域において、前記露光中心を中心とした仮想円の円周上にn個の流路基板を形成するとしてもよい。
露光精度のばらつきの因子としての露光光の光学軸に対するコリメイトや色収差は、露光中心から遠ざかる程、そのばらつきを抑えることが難しい。この方法によれば、露光精度のばらつきの影響を最も受けやすい上記外周領域において、m個のうちn個の流路基板が露光中心を中心とした仮想円の円周上に形成される。したがって、マザー基板において効率的に流路基板を配置し、且つm個の流路基板間における複数の流路の寸法精度のばらつきを低減することができる。なお、nは1以上の整数である。
露光精度のばらつきの因子としての露光光の光学軸に対するコリメイトや色収差は、露光中心から遠ざかる程、そのばらつきを抑えることが難しい。この方法によれば、露光精度のばらつきの影響を最も受けやすい上記外周領域において、m個のうちn個の流路基板が露光中心を中心とした仮想円の円周上に形成される。したがって、マザー基板において効率的に流路基板を配置し、且つm個の流路基板間における複数の流路の寸法精度のばらつきを低減することができる。なお、nは1以上の整数である。
[適用例4]上記適用例の吐出ヘッドの製造方法において、前記仮想円または前記仮想同心円の円周上に形成された前記流路基板は、前記流路基板の中心が前記仮想円または前記仮想同心円の円周上に位置していることを特徴とする。
この方法によれば、流路基板の中心が仮想円または仮想同心円の円周上に位置しているので、複数の流路間における寸法精度のばらつきを均等化することができる。
この方法によれば、流路基板の中心が仮想円または仮想同心円の円周上に位置しているので、複数の流路間における寸法精度のばらつきを均等化することができる。
[適用例5]上記適用例の吐出ヘッドの製造方法において、前記流路基板は、前記複数の流路の配列方向と前記仮想円または前記仮想同心円の接線方向とが合致するように位置していることが好ましい。
この方法によれば、複数の流路ごとの露光中心からの距離の変動が抑制されるので、複数の流路間における寸法精度のばらつきをより低減することができる。
この方法によれば、複数の流路ごとの露光中心からの距離の変動が抑制されるので、複数の流路間における寸法精度のばらつきをより低減することができる。
[適用例6]上記適用例の吐出ヘッドの製造方法において、前記流路形成工程は、前記流路基板に対応する流路露光パターンを有するマスクを用いて前記マザー基板を一括露光する露光工程を含み、前記流路露光パターンは、前記複数の流路の設計上の基準寸法に対して、前記マスク上の露光中心を基準とする座標に応じた寸法補正が施されていることが好ましい。
この方法によれば、マスクの露光中心を基準とする座標に応じて複数の流路露光パターンの寸法補正が施されている。したがって、少なくとも露光装置の光学系に起因する寸法精度のばらつきをより低減して、複数の流路が設計上の基準寸法に対してばらつきが少ない状態で形成された流路基板を有する吐出ヘッドを製造することができる。よって、所望の吐出特性を有する吐出ヘッドを製造することができる。
この方法によれば、マスクの露光中心を基準とする座標に応じて複数の流路露光パターンの寸法補正が施されている。したがって、少なくとも露光装置の光学系に起因する寸法精度のばらつきをより低減して、複数の流路が設計上の基準寸法に対してばらつきが少ない状態で形成された流路基板を有する吐出ヘッドを製造することができる。よって、所望の吐出特性を有する吐出ヘッドを製造することができる。
[適用例7]上記適用例の吐出ヘッドの製造方法において、前記マスク上において前記仮想円または前記仮想同心円の円周上に形成された前記流路露光パターンは、前記露光中心からの距離に応じた寸法補正が施されていることを特徴とする。
この方法によれば、マスク上において仮想円または仮想同心円の円周上に形成された流路露光パターンは、露光中心からの距離が一定となるので、一定の補正量に基づいた寸法補正が可能となる。したがって、個々の流路露光パターンに補正量を設定する場合に比べて、寸法補正作業を軽減できる。
この方法によれば、マスク上において仮想円または仮想同心円の円周上に形成された流路露光パターンは、露光中心からの距離が一定となるので、一定の補正量に基づいた寸法補正が可能となる。したがって、個々の流路露光パターンに補正量を設定する場合に比べて、寸法補正作業を軽減できる。
[適用例8]上記適用例の吐出ヘッドの製造方法において、前記流路露光パターンは、前記複数の流路において前記ノズルと連通する圧力発生室を形成するパターン部と、前記圧力発生室に前記液状体を導く液状体供給路を形成するパターン部とを有し、前記寸法補正は、少なくとも前記液状体供給路を形成するパターン部に対して施されているとしてもよい。
圧力発生室に液状体を導く液状体供給路の寸法精度は、ノズルから吐出される液状体の吐出特性に影響を及ぼす。この方法によれば、少なくとも液状体供給路を形成するパターン部に対して寸法補正が施されているので、安定した吐出特性が得られる。
圧力発生室に液状体を導く液状体供給路の寸法精度は、ノズルから吐出される液状体の吐出特性に影響を及ぼす。この方法によれば、少なくとも液状体供給路を形成するパターン部に対して寸法補正が施されているので、安定した吐出特性が得られる。
[適用例9]上記適用例の吐出ヘッドの製造方法において、前記寸法補正は、複数の前記圧力発生室の前記液状体供給路を形成するパターン部ごとに施されていることが好ましい。
この方法によれば、複数のノズル間において吐出特性のばらつきが少なく安定した品質を有する吐出ヘッドを製造することができる。
この方法によれば、複数のノズル間において吐出特性のばらつきが少なく安定した品質を有する吐出ヘッドを製造することができる。
[適用例10]上記適用例の吐出ヘッドの製造方法において、前記マザー基板の前記流路基板の外周に沿ってレーザ光を照射して切断するレーザスクライブ工程を備えることが好ましい。
この方法によれば、ダイシング法などの直線的に切断する方法に比べて、マザー基板における流路基板の配置の仕方に依存することなく流路基板を切断して取り出すことができる。
この方法によれば、ダイシング法などの直線的に切断する方法に比べて、マザー基板における流路基板の配置の仕方に依存することなく流路基板を切断して取り出すことができる。
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。
<吐出ヘッド>
まず、本実施形態の吐出ヘッドについて説明する。図1は、吐出ヘッドの構造を示す要部分解斜視図である。
まず、本実施形態の吐出ヘッドについて説明する。図1は、吐出ヘッドの構造を示す要部分解斜視図である。
図1に示すように、本実施形態の吐出ヘッド10は、複数のノズル4aを有するノズル基板4と、複数の圧力発生室3aを含む複数の流路が形成された流路基板3と、流路基板3の複数の圧力発生室3aに対応して設けられた圧電素子6と、圧電素子6側に面して窪んだ封止室1aを有する封止基板1と、圧電素子6を駆動する駆動回路120とを備えている。吐出ヘッド10は、駆動回路120により圧電素子6が駆動されることにより、圧力発生室3aを加圧して、圧力発生室3aに充填された液状体を圧力発生室3aに連通したノズル4aから吐出するものである。
ノズル基板4は、例えば、厚さが0.01〜1mmのガラス、セラミックス、シリコン単結晶基板またはステンレス鋼などからなる。本実施形態では、ステンレス鋼を用いた。複数のノズル4aは、一定の方向に所定のピッチで穿孔されている。ノズル径は、およそ27μmである。
流路基板3は、例えば、シリコン単結晶基板であって、隔壁3bによって区画された略矩形状の複数の圧力発生室3aが複数のノズル4aの配列方向に並設されている。圧力発生室3aの長手方向と直交する方向に連通部3cが形成され、連通部3cと各圧力発生室3aとが、液状体供給路3eを介して連通されている。連通部3cは、後述する封止基板1のリザーバ部1bと連通して各圧力発生室3aの共通リザーバ3dの一部を構成する。流路基板3のノズル基板4に面する側の一方の表面は、窒化膜3fで覆われている。
圧電素子6は、一対の電極6b,6dと、一対の電極6b,6dに挟まれた圧電体6aとからなり、流路基板3の上記一方の表面に対して反対側の他方の表面に形成されるものである。まず、流路基板3の上記他方の表面に熱酸化により厚さおよそ1〜2μmのシリコン酸化膜からなる弾性膜2aを形成する。その上に、厚さが、およそ0.3〜0.4μmの酸化ジルコニウム(ZrO2)などからなる絶縁体膜2bを積層形成する。絶縁体膜2b上に、厚さが、およそ0.1〜0.2μmの白金からなる導電膜を成膜してパターニングすることにより下電極6dを形成する。次に、厚さが、およそ0.5〜5μmのチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)からなる圧電体層を形成し、さらに厚さ0.1μmの白金からなる導電膜を成膜してパターニングすることにより、圧電体6aと上電極6bとを形成する。すなわち、圧電素子6は、白金からなる下電極6dと、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)からなる圧電体6aと、白金からなる上電極6bとが順に弾性膜2a上に積層形成されたものである。弾性膜2aは、圧力発生室3aの一部を構成し振動板として機能する。すなわち、振動板としての弾性膜2aと圧電素子6とにより圧力発生室3aの体積を変動させるアクチュエータを構成するものである。
下電極6dは、圧電素子6の共通電極の機能を果たしている。その上に積層される圧電体6aと上電極6bは、流路基板3に形成される複数の圧力発生室3aに対応してパターニング形成されている。また、連通部3cと封止基板1のリザーバ部1bとに連通する連通部2cがパターニング形成され開口している。そして、上電極6bには、金などからなるリード電極6cが連通部2c側に向かって延設されている。
封止基板1は、流路基板3の熱膨張率とほぼ同一の材料を用いることが好ましく、本実施形態では、厚みおよそ400μmの面方位(110)のシリコン単結晶基板を用いた。圧電素子6側に臨む一方の表面をエッチングして窪むように形成された封止室1aと、厚み方向に貫通するリザーバ部1bと貫通孔1cとを有している。
封止基板1のリザーバ部1bが開口する他方の表面1dには、可撓性材料からなる封止膜5aとリザーバ部1bに対応した開口部5cを有する固定板5bとにより構成されたコンプライアンス基板5が接合されている。
図2は、吐出ヘッドの構造を示す要部平面図である。図2に示すように、封止基板1の封止室1aは、複数の圧電素子6が配列する領域を封止するように設けられている。封止基板1の貫通孔1c内には、圧電素子6の上電極6bに接続したリード電極6cと共通電極である下電極6dの一部が露出している。圧力発生室3aに繋がる液状体供給路3eは、開口部5c(流路基板3の連通部3c)側に延びている。液状体供給路3eは、圧力発生室3aよりも狭い幅3gで形成されており、連通部3cから圧力発生室3aに流入する液状体の流路抵抗を一定とする機能を有している。そのため、本実施形態では、液状体供給路3eの幅3gにおける設計上の基準寸法に対して、流路基板3の製造工程を考慮したマザー基板に対する流路基板の配置と、これに対応した寸法補正が施されている(詳細は吐出ヘッドの製造方法において説明する)。なお、圧力発生室3aに繋がる液状体供給路3eは、1条に限定されず、複数条設ける構成としてもよい。
図3は、吐出ヘッドの構造を示す概略断面図である。詳しくは、図2のA−A'線で切った断面図である。
図3に示すように、吐出ヘッド10は、複数のノズル4aからなる所謂2連のノズル列4b(図4参照)を有しており、ノズル列4bに対して図2で示した構成を線対称な位置に備えている。また、封止基板1、流路基板3、ノズル基板4、コンプライアンス基板5の4つの基板を接合することで構成されている。ノズル基板4は、複数のノズル4aが流路基板3の圧力発生室3aに連通するように接合されている。封止基板1は、圧電素子6を封止すると共に、リザーバ部1bが流路基板3の連通部3cに連通して共通リザーバ3dを構成するように接着層1eを介して流路基板3に接合されている。
駆動回路120の各出力端子と貫通孔1c内の圧電素子6の各リード電極6cおよび下電極6dとは、接続配線121を用いたワイヤボンディングにより電気的に接続されている。
このような吐出ヘッド10は、封止膜5aと固定板5bとからなるコンプライアンス基板5の一部に配管(図示省略)が接続され、リザーバ部1bに配管を通じて液状体が導入される。導入された液状体は、連通部2c、連通部3c、液状体供給路3eを経由して各圧力発生室3aに充填される。駆動回路120から圧電素子6に駆動電圧が印加されると、圧電素子6が撓むことにより圧力発生室3aの体積が変化し、充填された液状体に圧力が加わってノズル4aから液状体が液滴として吐出される。液状体供給路3eの幅3gの寸法に対して、流路基板3の製造工程を考慮したマザー基板に対する流路基板3の配置と、これに対応した寸法補正とが施されているので、液状体の流路抵抗が、圧力発生室3aごとにほぼ一定となっている。したがって、安定した液滴の吐出特性(吐出量、吐出速度など)が得られる。
<吐出ヘッドの製造方法>
次に、本実施形態の吐出ヘッド10の製造方法について図を参照して説明する。図4は積層構造体における吐出ヘッドの配置を示す概略平面図、図5は吐出ヘッドの製造方法を示すフローチャート、図6〜図9は吐出ヘッドの製造方法を示す概略断面図である。
次に、本実施形態の吐出ヘッド10の製造方法について図を参照して説明する。図4は積層構造体における吐出ヘッドの配置を示す概略平面図、図5は吐出ヘッドの製造方法を示すフローチャート、図6〜図9は吐出ヘッドの製造方法を示す概略断面図である。
図4に示すように、上記吐出ヘッド10は、積層構造体100に面付けされた状態で製造される。積層構造体100は、複数の封止基板1が面付けされたマザー基板101と、複数の流路基板3が面付けされたマザー基板103と、2連のノズル列4bを有する複数のノズル基板4と、複数のコンプライアンス基板5(図示の都合上背面側となるので省略した)とが積層されたものである。
本実施形態では、積層構造体100に合計16個の吐出ヘッド10(H1〜H16)が露光の中心(以降、露光中心と呼ぶ)E0を中心とした仮想同心円R1,R2,R3上に面付けされている。また、例えば、吐出ヘッドH16を見てわかるとおり、吐出ヘッド10は平面視で矩形状であるため、矩形状の中心E16が仮想円R1の円周上に位置するように配置されている。さらに、2連のノズル列4bにおける複数のノズル4aの配列方向が、仮想円R1の接線方向と合致するように配置されている。なお、吐出ヘッドH1〜H16の配置は、これに限定されるものではなく、構成材料の無駄を極力省いて配置することは言うまでもない。
各マザー基板101,103には、平面的な方向を規定するオリフラが設けられている。この場合、各マザー基板101,103は、シリコン単結晶基板(ウェハ)からなるため、オリフラは結晶方位に基づいて設けられている。
図5に示すように、本実施形態の吐出ヘッド10の製造方法は、アクチュエータ形成工程(ステップS1)と、封止基板接合工程(ステップS2)と、流路形成工程(ステップS3)と、ノズル基板接合工程(ステップS4)と、コンプライアンス基板接合工程(ステップS5)と、分断工程(ステップS6)とを備えている。
図5のステップS1は、アクチュエータ形成工程である。ステップS1では、図6(a)に示すように、まず、シリコン単結晶基板(ウェハ)であるマザー基板103を約1100℃の拡散炉で熱酸化し、その表面に二酸化シリコン膜(弾性膜2a)を形成する。なお、本実施形態では、マザー基板103として、厚みが約625μmと比較的厚く剛性の高いウェハを用いた。
次に、図6(b)に示すように、二酸化シリコン膜(弾性膜2a)上に、酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜2bを形成する。具体的には、スパッタ法などによりジルコニウム(Zr)層を形成後、このジルコニウム層を、500〜1200℃の拡散炉で熱酸化することにより酸化ジルコニウム(ZrO2)からなる絶縁体膜2bを形成する。
次に、図6(c)に示すように、白金を絶縁体膜2b上に積層することにより導電膜を形成した後、この導電膜をフォトリソグラフィ法により所定形状にパターニングして下電極6dを形成する。
次に、図6(d)に示すように、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)などからなる圧電体層と、白金からなる導電膜とを下電極6dが形成された表面に積層形成する。続いて、各圧力発生室3aに対向する領域に対応させてパターニングして圧電体6a、上電極6bを形成する。圧電素子6を構成する圧電体6aの材料としては、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)などの強誘電性圧電性材料や、これにニオブ、ニッケル、マグネシウム、ビスマスまたはイットリウムなどの金属を添加したリラクサ強誘電体などが用いられる。また、圧電体層の形成方法は、特に限定されないが、例えば、本実施形態では、金属有機物を触媒に溶解・分散した所謂ゾルを塗布乾燥してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化物からなる圧電体層を得る、所謂ゾル−ゲル法を用いて圧電体層を形成した。
次に、図6(e)に示すように、マザー基板103の複数の圧電素子6が形成された表面に、例えば、金(Au)などからなる金属層91を形成し、その後、フォトリソグラフィ法により金属層91を圧電素子6ごとにパターニングすることによってリード電極6cを形成する。また、同時にマザー基板103の所定位置に金属層91を残留させることで、後の工程で位置決め用に用いられるアライメントマーク92を形成する。アライメントマーク92を形成する位置は、特に限定されないが、本実施形態では、吐出ヘッド10が区画形成される領域以外の位置に設けた。また、アライメントマーク92は、位置決め用に2つ以上設けるのが好ましい。なお、上記パターニングにおけるマザー基板103の位置決めは、前述したオリフラを基準としている。そして、ステップS2へ進む。
図5のステップS2は、封止基板接合工程である。ステップS2では、図7(f)に示すように、マザー基板103の圧電素子6側に、シリコン単結晶基板(ウェハ)であり複数の封止基板1が形成されたマザー基板101を接着層1eを介して接合する。これにより、各圧電素子6は、封止室1a内に収容され封止される。なお、マザー基板101は、400μm程度の厚さを有するため、マザー基板101とマザー基板103とが接合された積層構造体100の剛性は著しく向上することになる。なお、マザー基板101における複数の封止基板1の形成方法は、フォトリソグラフィによる異方性エッチング法やドライエッチング法を用いることができる。
次いで、図7(g)に示すように、マザー基板103をある程度の厚さとなるまで研磨した後、さらにフッ酸と硝酸の混合液に浸漬することによってウェットエッチングする。本実施形態では、厚みがおよそ70μmになるようにマザー基板103をエッチング加工した。そして、ステップS3へ進む。
図5のステップS3は、流路形成工程である。ステップS3では、マザー基板103をエッチングすることにより、圧力発生室3a、連通部3cおよび液状体供給路3eを形成する。詳しくは、まず図7(h)に示すように、マザー基板103の一方の面に亘って、窒化シリコン(SiN)からなる窒化膜3fを新たに形成する。窒化膜3fは、例えば、スパッタリング法などにより形成することができる。次に、図8(i)に示すように、窒化膜3f上に亘って感光性樹脂をスピンコートなどの方法により塗布して、フォトレジスト110を形成する。
続いて、図8(j)に示すように、流路露光パターンを有するマスク200を用いて、フォトレジスト110を露光する。マスク200には位置決め用のアライメントマーク201が形成されている。まず、このアライメントマーク201とマザー基板103に形成したアライメントマーク92とを光学系210により観察することにより、位置決めを行う。光学系210は、CCDなどの撮像素子を備えたカメラと拡大用の光学レンズとを備えている。
次に、マスク200とマザー基板103とを所定の間隔をおいた状態で、露光を行う。図10は、露光装置の構成を示す概略図である。図10に示すように、露光装置300は、一括露光装置と呼ばれるものであって、露光光源301と、光学レンズ302と、ミラー303と、ワークWを吸着して載置するテーブル304とを備えている。
露光光源301は、例えば、超高圧水銀灯などである。露光光源301から発した露光光は、光学レンズ302により光軸に対して略平行光に変換されてミラー303に入射する。ミラー303は、入射した露光光がマスク200の露光面に対して垂直に入射するように配置されている。ミラー303によって反射した露光光は、テーブル304に載置されたワークWにマスク200を介して入射する。ワークWの表面には感光性樹脂材料からなる所謂フォトレジストが塗布されており、マスク200を介して入射した露光光により、露光される。
マスク200には、上記フォトレジストの露光タイプ(ポジ型またはネガ型)に対応した所望の露光パターンが形成されている。露光によって、上記フォトレジストが感光して所望の露光パターンが転写される。以降、本実施形態では、ポジ型のフォトレジストを用いた場合を例にして説明する。
露光光源301は、厳密には点光源と言えず、光学レンズ302により変換された露光光は、必ずしも光軸に対してコリメイトした平行光とは言い切れない。また、露光光は必ずしも単一波長ではないため、光学レンズ302の色収差などの特性により、マスク200の露光面の平面的な位置(座標)によっては、露光光の入射角度が露光面に対して垂直な90度からわずかにずれていることがある。
図11(a)はマスクにおける流路露光パターンの配置を示す概略平面図、同図(b)は同図(a)の要部詳細図である。
図11(a)に示すように、マスク200は、16個の流路露光パターンCn(nは1〜16)が方形のブランクス(透明なマスク基材)の1点を中心とする仮想同心円R1,R2,R3の円周上に形成されている。また、該1点を基準としてY軸に沿った位置に2つのアライメントマーク201が設けられている。これらの流路露光パターンC1〜C16、アライメントマーク201を形成する方法としては、ブランクスの表面にCrなどの金属薄膜を形成して、これをパターニングする方法、あるいはブランクスの表面に描画装置を用いて、直接、所望の露光パターンを描画する方法が挙げられる。
1つの流路露光パターンは、破線で示した略矩形状の範囲に形成されており、各流路露光パターンC1〜C16ごとに、マスク200上における座標が与えられている。これらの座標は、前述した吐出ヘッド10の中心であり、例えば、流路露光パターンC16の場合は、中心E16により座標を規定することができる。以降、座標E16と呼ぶこともある。
マスク200は、露光装置300にセットされる場合、露光面における露光中心E0とブランクスの上記1点とが合致するように位置決めされる。ワークWは、位置決めされたマスク200に対して、テーブル304をX軸、Y軸によって規定される平面内で移動させることにより位置決めされる。よって、以降、ブランクスの上記1点を露光中心E0として説明する。
図11(b)に示すように、流路露光パターンC16における露光パターンは、圧力発生室3aを形成する複数のパターン部Can(nは1〜180)と、連通部3cを形成するパターン部3c16と、これらを結ぶ液状体供給路3eを形成する複数のパターン部Cen(nは1〜180)とを有している。これらのパターン部は、いずれも露光光が透過するように開口している。本実施形態の吐出ヘッド10は、前述したように2連のノズル列4bを有しているので、実際の流路露光パターンC16は、複数のパターン部Ca1〜Ca180の配列方向に平行な軸を基準として、図11(b)に示した各パターン部をほぼ左右対称な状態で一対備えている。
圧力発生室3aを形成する複数のパターン部Ca1〜Ca180は、長手方向の長さがおよそ1mm、その幅daがおよそ100μmである。また、その配列方向における配置ピッチは、複数のノズル4aの配置ピッチと等しく、およそ141μmである。
液状体供給路3eを形成する複数のパターン部Ce1〜Ce180は、長手方向の長さがおよそ300μm、その幅dgがおよそ20μmである。
圧力発生室3aを形成する複数のパターン部Ca1〜Ca180および液状体供給路3eを形成する複数のパターン部Ce1〜Ce180の配列方向は、マスク200上の仮想同心円R1,R2,R3の接線方向と平行である。
図12は、流路露光パターンの露光状態を示す概略断面図である。図12に示すように、マスク200とマザー基板103とを所定の位置および間隔を置いて対向させた状態で露光すると、フォトレジスト110に感光転写された流路露光パターンC1〜C16の幅dは、ばらつき±Δdを有することが予測される。ばらつきの要因は、前述したように露光光の光軸に対するコリメイトや、光学レンズ302の色収差などに起因する。そこで、設計上の基準寸法に基づいて流路露光パターンC1〜C16を形成した試験マスクを用いて露光し、現像することによって、転写された流路露光パターンC1〜C16の寸法を計測した。
そして、計測結果から得られた情報を基に、各流路露光パターンC1〜C16の寸法補正を施した。前述したように、液状体供給路3eは、圧力発生室3aに流入する液状体の流路抵抗を一定とする機能を有している。本実施形態では、液状体供給路3eを形成する複数のパターン部Ce1〜Ce180の幅dgに対して寸法補正を施した。
本実施形態において、マスク200における流路露光パターンC1〜C16は、露光中心E0を中心とする仮想同心円R1,R2,R3の円周上に配置されている。したがって、例えば、仮想円R1の円周上に配置された流路露光パターンC9〜C16は、露光中心E0からの距離Lが等しく、配置角度θによって規定される座標En(nは9〜16)の関係から、ほぼ同程度の寸法ばらつきを有する。
ゆえに、流路露光パターンC9〜C16に対する寸法補正の補正量を一定とすることができる。また、液状体供給路3eを形成する複数のパターン部Ce1〜Ce180の配列方向が該当する仮想円R1の接線方向と合致しているので、複数のパターン部Ce1〜Ce180間における座標En(nは9〜16)の違いが最小となり、代表的な上記補正量を各パターン部Ce1〜Ce180に適用することができる。
幅dgに対する寸法補正は、露光によって転写された複数のパターン部Ce1〜Ce180の幅dgが設計上の基準寸法に対して大きければマイナス補正し、小さければプラス補正することは言うまでもない。さらに、複数のパターン部Ce1〜Ce180のそれぞれに対して施すことがより好ましい。
もちろん、このような寸法補正は、他の仮想同心円R2,R3の円周上に配置された流路露光パターンC1〜C4、および流路露光パターンC5〜C8の組においても適用できる。すなわち、流路露光パターンC1〜C16に対して個々に補正量を設定する煩雑さを軽減することができる。
もちろん、このような寸法補正は、他の仮想同心円R2,R3の円周上に配置された流路露光パターンC1〜C4、および流路露光パターンC5〜C8の組においても適用できる。すなわち、流路露光パターンC1〜C16に対して個々に補正量を設定する煩雑さを軽減することができる。
次に、図8(k)に示すように、上記のように寸法補正が施された流路露光パターンを有するマスク200を用いて露光する。続いて、露光されたフォトレジスト110を現像することにより、図9(l)に示すように流路露光パターンが転写されたフォトレジスト110が得られる。そして、マザー基板103の表面を覆う窒化膜3fをウェットエッチングすることにより、流路露光パターンが転写された窒化膜3fが得られる。このパターニングされた窒化膜3fをマスクとしてシリコン単結晶基板であるマザー基板103をドライエッチングする。これにより、図9(m)に示すような断面形状を有する複数の流路としての圧力発生室3a、共通リザーバ3d、液状体供給路3eを形成することができる。そして、ステップS4へ進む。
図5のステップS4は、ノズル基板接合工程である。ステップS4では、図9(n)に示すように、複数の流路が形成されたマザー基板103の表面に、ノズル基板4を接合する。マザー基板103には、16個分の吐出ヘッド10に対応する流路基板3が形成されているので、16個のノズル基板4をそれぞれ接合する。接合方法としては、例えば、エポキシ系の接着剤を用いて熱圧着する方法などが挙げられる。ノズル基板4は複数のノズル4aを有し、各ノズル4aが各圧力発生室3aのそれぞれに連通するように位置決めして接合する。マザー基板103とノズル基板4との接合により、複数の流路としての圧力発生室3a、共通リザーバ3d、液状体供給路3eが完成する。そして、ステップS5へ進む。
図5のステップS5は、コンプライアンス基板接合工程である。ステップS5では、図3に示すように、コンプライアンス基板5をリザーバ部1bが形成された封止基板1の表面1dに接合する。コンプライアンス基板5は、封止膜5aを接合側として、リザーバ部1bと開口部5cとが合致するように位置決めして封止基板1に接合する。接合方法としては、ノズル基板接合工程と同様にエポキシ系の接着剤を用いて熱圧着する方法などが挙げられる。以上の製造工程を経ることにより、図4に示した複数の吐出ヘッド10が面付けされた積層構造体100ができあがる。そして、ステップS6へ進む。
図5のステップS6は、分断工程である。ステップS6では、図4に示すように、積層構造体100に形成された各吐出ヘッド10の外周に沿って、レーザ光を照射するレーザスクライブ法を用いて、積層構造体100を切断し、面付けされた個々の吐出ヘッド10を取り出す。レーザスクライブ法を用いれば、積層構造体100において吐出ヘッド10がどのように配置されていても、直線的に切断するダイシング法に比べて分断が容易である。
上記吐出ヘッド10の製造方法によれば、ステップS3の流路形成工程では、16個の流路露光パターンC1〜C16が露光中心E0を中心とする仮想同心円R1,R2,R3の円周上に配分して配置され、露光中心E0に対する座標En(nは1〜16)に応じて寸法補正が施されたマスク200を用いて、複数の流路を形成するための露光を行う。寸法補正は、少なくとも液状体供給路3eを形成する複数のパターン部Cen(nは1〜180)に対して施されている。
したがって、高い寸法精度で液状体供給路3eを形成することができる。特に、液状体供給路3eの幅dgの寸法ばらつきが、ノズル列ごとに低減される。ゆえに、複数のノズル4aから吐出される液状体の吐出特性(例えば、液滴の吐出量や吐出速度など)がノズル4aごとに安定する。すなわち、ばらつきが少ない安定した吐出特性を有する吐出ヘッド10を製造することができる。
したがって、高い寸法精度で液状体供給路3eを形成することができる。特に、液状体供給路3eの幅dgの寸法ばらつきが、ノズル列ごとに低減される。ゆえに、複数のノズル4aから吐出される液状体の吐出特性(例えば、液滴の吐出量や吐出速度など)がノズル4aごとに安定する。すなわち、ばらつきが少ない安定した吐出特性を有する吐出ヘッド10を製造することができる。
上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
(変形例1)上記実施形態の吐出ヘッド10の製造方法において、積層構造体100における吐出ヘッド10の配置は、これに限定されない。図13は、変形例の積層構造体における吐出ヘッドの配置を示す概略平面図である。図13に示すように、積層構造体400には、露光中心E0を基準として格子状に19個の吐出ヘッド10(H1〜H19)が形成されている。また、その外周領域において、8個の吐出ヘッド10(H20〜H27)が仮想円R1の円周上の配置されている。露光装置300の光学系によれば、露光精度のばらつきが積層構造体400(言い換えれば、マザー基板403)の外周に向かうに連れて、大きくなることが考えられる。このような吐出ヘッド10(言い換えれば、流路露光パターン)の配置によれば、合計27個のうち積層構造体400の外周に近い8個の吐出ヘッド10を、仮想円R1の円周上に配置しているので、当該8個の吐出ヘッド10間における複数の流路の寸法ばらつきをほぼ一定とすることができる。また、27個の吐出ヘッド10間において複数の流路の寸法ばらつきを低減することができる。
そして、各吐出ヘッド10の配置に対応した流路露光パターンに対して、それぞれの座標En(nは1〜27)に応じた寸法補正を施せば、高い寸法精度で液状体供給路3eを形成することができる。
また、変形例の積層構造体400によれば、ウェハ径がマザー基板101,103と同じマザー基板401,403でも、積層構造体100に比べて吐出ヘッド10の面付け数を増やすことができ、より効率的に吐出ヘッド10を製造することができる。
そして、各吐出ヘッド10の配置に対応した流路露光パターンに対して、それぞれの座標En(nは1〜27)に応じた寸法補正を施せば、高い寸法精度で液状体供給路3eを形成することができる。
また、変形例の積層構造体400によれば、ウェハ径がマザー基板101,103と同じマザー基板401,403でも、積層構造体100に比べて吐出ヘッド10の面付け数を増やすことができ、より効率的に吐出ヘッド10を製造することができる。
(変形例2)上記実施形態の吐出ヘッド10の製造方法において、流路露光パターンC1〜C16の寸法補正の方法は、これに限定されない。例えば、寸法補正は、個々の流路露光パターンの寸法補正だけでなく、流路露光パターン間の相対的な位置の補正を含んでいてもよい。
(変形例3)上記実施形態の吐出ヘッド10の製造方法において、流路露光パターンC1〜C16のマスク200上における配置と寸法補正の方法は、流路露光パターンのみに適用することに限定されない。例えば、圧電素子6を構成する圧電体6aや上電極6bのパターニングなどにも適用することができる。精度よく位置および形状が形成された圧電素子6を有する吐出ヘッド10を製造することができる。
(変形例4)上記実施形態の吐出ヘッド10の製造方法において、製造工程の順番は、これに限定されない。例えば、マザー基板103にアクチュエータとしての圧電素子6や弾性膜2a、複数の流路を形成した後に、マザー基板101(封止基板1)とマザー基板103とを接合してもよい。
(変形例5)上記実施形態の吐出ヘッド10の製造方法において、露光装置300の構成は、これに限定されない。例えば、光学系の色収差を改善するために、複数の光学レンズを組み合わせることが考えられる。そのような場合においても、試験マスクを用いて露光し、転写された流路露光パターンを計測することによって、その位置や寸法のばらつきを入手する。そのばらつきを分析することにより、光学系の露光精度における傾向を掴むことができる。また、その傾向に則って露光中心E0を基準する流路露光パターンの位置や寸法を補正することが望ましい。
(変形例6)上記実施形態の吐出ヘッド10の製造方法を適用可能な吐出ヘッドは、圧電素子6を利用したアクチュエータを備えるものに限定されない。例えば、アクチュエータとして静電方式の電気機械変換素子や、電気熱変換素子を備えた吐出ヘッドの製造方法にも適用することができる。
3…流路基板、3a…圧力発生室、3e…液状体供給路、4a…ノズル、10…吐出ヘッド、103…マザー基板、200…マスク、Cn…流路露光パターン、Can…圧力発生室を形成するパターン部、Cen…液状体供給路を形成するパターン部、En…座標、E0…露光中心。
Claims (10)
- 液状体が充填される複数の流路と、前記複数の流路のそれぞれに連通するノズルとを有する吐出ヘッドの製造方法であって、
前記複数の流路を1つの単位とする流路基板を、フォトリソグラフィ法を用いてマザー基板にm個形成する流路形成工程を備え、
前記流路形成工程は、前記マザー基板の露光中心を中心とした仮想円の円周上に前記m個の流路基板のうちの少なくとも一部を形成することを特徴とする吐出ヘッドの製造方法。 - 前記流路形成工程は、前記マザー基板の露光中心を中心とした複数の仮想同心円の円周上に前記m個の流路基板を配分して形成することを特徴とする請求項1に記載の吐出ヘッドの製造方法。
- 前記流路形成工程は、前記m個の流路基板のうちの(m−n)個を前記マザー基板の露光中心を基準としてマトリクス状に形成し、前記(m−n)個の流路基板がマトリクス状に形成された領域の外周領域において、前記露光中心を中心とした仮想円の円周上にn個の流路基板を形成することを特徴とする請求項1に記載の吐出ヘッドの製造方法。
- 前記仮想円または前記仮想同心円の円周上に形成された前記流路基板は、前記流路基板の中心が前記仮想円または前記仮想同心円の円周上に位置していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の吐出ヘッドの製造方法。
- 前記流路基板は、前記複数の流路の配列方向と前記仮想円または前記仮想同心円の接線方向とが合致するように位置していることを特徴とする請求項4に記載の吐出ヘッドの製造方法。
- 前記流路形成工程は、前記流路基板に対応する流路露光パターンを有するマスクを用いて前記マザー基板を一括露光する露光工程を含み、
前記流路露光パターンは、前記複数の流路の設計上の基準寸法に対して、前記マスク上の露光中心を基準とする座標に応じた寸法補正が施されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の吐出ヘッドの製造方法。 - 前記マスク上において前記仮想円または前記仮想同心円の円周上に配置された前記流路露光パターンは、前記露光中心からの距離に応じた寸法補正が施されていることを特徴とする請求項6に記載の吐出ヘッドの製造方法。
- 前記流路露光パターンは、前記複数の流路において前記ノズルと連通する圧力発生室を形成するパターン部と、前記圧力発生室に前記液状体を導く液状体供給路を形成するパターン部とを有し、
前記寸法補正は、少なくとも前記液状体供給路を形成するパターン部に対して施されていることを特徴とする請求項6または7に記載の吐出ヘッドの製造方法。 - 前記寸法補正は、複数の前記圧力発生室の前記液状体供給路を形成するパターン部ごとに施されていることを特徴とする請求項8に記載の吐出ヘッドの製造方法。
- 前記マザー基板の前記流路基板の外周に沿ってレーザ光を照射して切断するレーザスクライブ工程を備えたことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の吐出ヘッドの製造方法。
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