JP2009164642A - 液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】液浸露光技術のために高精度に温調された屈折率調整用液体を微少流または間欠流として供給するための屈折率調整用小流量液体の温調方法を提供する。
【解決手段】供給路3から供給された屈折率調整用液体を加圧して循環路5に導入し、その加圧状態でポンプ6により循環路5を循環させながら、循環路5中の温調器7で温調し、その液体を、循環路5から分岐させた吐出路9を通じて、吐出路9に設けた吐出弁10の調整により、少なくとも循環路5中の流量の1/2よりも小流量の微少連続流または微少間欠流として液浸露光装置に供給する。
【選択図】図1
【解決手段】供給路3から供給された屈折率調整用液体を加圧して循環路5に導入し、その加圧状態でポンプ6により循環路5を循環させながら、循環路5中の温調器7で温調し、その液体を、循環路5から分岐させた吐出路9を通じて、吐出路9に設けた吐出弁10の調整により、少なくとも循環路5中の流量の1/2よりも小流量の微少連続流または微少間欠流として液浸露光装置に供給する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体製造関連装置における液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法に関するものであり、特に、高精度に温調された液体を微少流または間欠流として供給する場合の屈折率調整用小流量液体の温調方法に関するものである。
従来から、半導体製造関連装置ばかりでなく、各種の技術分野において、高精度に温調された液体を供給する温調技術が開発されている(例えば、特許文献1参照)。
これらの技術は、定常的に温調された液体をほぼ一定の流量で定常的に供給することを前提とし、その流量も比較的大きいものである。
これらの技術は、定常的に温調された液体をほぼ一定の流量で定常的に供給することを前提とし、その流量も比較的大きいものである。
しかしながら、光学系の光路中に屈折率調整用の液体を介在させて屈折率を調整し、その状態で光路を対象物に対して移動させる液浸露光においては、液体を微少流または間欠流としてその光路中に供給し、しかも、その屈折率の変動を抑制するために高精度に温度制御(例えば、±1/100℃)された状態で供給する必要があり、このような微少流または間欠流の高精度の温度制御には、通常、上述した大きい流量を前提とする温調技術を適用することは困難である。
また、上記温調の対象となる液体は通常高価なものであるため、多量に排出して不要分を廃棄または汚染状態にすることもできず、その液体がたとえ水であったとしても、膜分離技術によって分離した純水あるいは超純水が用いられるので、比較的高価なものとなっていて、それを排出してしまうとコスト高になる。
また、上記温調の対象となる液体は通常高価なものであるため、多量に排出して不要分を廃棄または汚染状態にすることもできず、その液体がたとえ水であったとしても、膜分離技術によって分離した純水あるいは超純水が用いられるので、比較的高価なものとなっていて、それを排出してしまうとコスト高になる。
本発明の技術的課題は、上記半導体製造関連の液浸露光技術において用いる小流量の屈折率調整用の液体を高精度で温調する温調方法を提供することにある。
本発明の更に具体的な技術的課題は、上記小流量の屈折率調整用の液体を微少流または間欠流として供給する流量条件でありながら、高精度に温調された液体とすることができる温調方法を提供することにある。
本発明の他の具体的な技術的課題は、液体の高精度な温調を行い、しかもその温調を行う間に液体中に混入した不純物を排除できるようにした小流量液体の温調方法を提供することにある。
本発明の更に具体的な技術的課題は、上記小流量の屈折率調整用の液体を微少流または間欠流として供給する流量条件でありながら、高精度に温調された液体とすることができる温調方法を提供することにある。
本発明の他の具体的な技術的課題は、液体の高精度な温調を行い、しかもその温調を行う間に液体中に混入した不純物を排除できるようにした小流量液体の温調方法を提供することにある。
上記課題を解決するための本発明の液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法は、基本的には、供給路を通じて供給された液浸露光のための屈折率調整用液体を加圧して循環路に導入し、その加圧状態でポンプにより該循環路を循環させながら、該液体を該循環路中に介在させた温調器において温調し、温調された液体を、上記循環路から分岐させた吐出路を通じて、該吐出路に設けた吐出弁を通して、少なくとも上記循環路における流量の1/2よりも流量が小さい微少連続流または微少間欠流として液浸露光装置に供給することを特徴とするものである。
本発明に係る上記屈折率調整用小流量液体の温調方法の好ましい実施形態においては、上記循環路における供給路との接続点から吐出路との分岐点へと向かう往流路中に、その上流側から、タンク、循環流を形成させるためのポンプ、及び温調器を順次介在させ、上記タンクにおいて液量変動、温度変動の外乱を緩和させたうえで、上記ポンプにより、循環する液体の温度を一定に保つための温調器を通して、吐出路を分岐させている循環路に温調された液体を送るように構成される。
上記屈折率調整用小流量液体の温調方法の好ましい実施形態においては、上記供給路を通して供給される液体として、超純水を含む純水または高屈折率液体が用いられる。上記循環路における循環液流量は、吐出路からの吐出液流量の2〜20倍にするのが、液体温度の安定化のために望ましい。また、供給路を通して供給される液体中に不純物が存在したり、循環路において不純物を含む可能性がある場合には、上記循環路中に設けた不純物除去手段により、温調のために循環する液体中の不純物が除去される。
更に、上記吐出路が比較的長く、温調液体がその供給点にまで達する間に外気温の影響を受ける可能性がある場合には、該吐出路を二重管式熱交換器によって形成し、その外管に上記温調器と同温に温調した循環温調水または前記循環路を流れる液体の全部または一部を流して、上記吐出路での液温を維持させることができる。
上述した本発明の屈折率調整用小流量液体の温調方法によれば、レギュレータで加圧された液体を供給路を通じて循環路に導入し、その加圧状態を保ってポンプにより該循環路を循環させている屈折率調整用液体が、循環状態においてその循環路中に介在させた温調器において温調され、上記循環路から分岐させた吐出路の吐出弁により、上記循環路における流量よりも流量が小さい微少連続流または微少間欠流に調整されて、外部装置である液浸露光装置に供給される。
したがって、上記循環路において加圧されて温調された液体が絶えず安定して大量に循環することで、液温が正確に保たれ、その液体を微少連続流または微少間欠流にして外部装置である露光装置に供給しても、可及的に正確な温度に保たれた状態で供給することができる。
したがって、上記循環路において加圧されて温調された液体が絶えず安定して大量に循環することで、液温が正確に保たれ、その液体を微少連続流または微少間欠流にして外部装置である露光装置に供給しても、可及的に正確な温度に保たれた状態で供給することができる。
上述した本発明の液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法によれば、供給路と吐出路との間に介在させた循環路に、正確に温調された液体を加圧状態で循環させ、その温調された液体を、上記吐出路の吐出弁により、上記循環路における流量よりも流量が小さい微少連続流または微少間欠流として液浸露光装置に供給するようにしたため、循環により高精度に温調された屈折率調整用小流量液体を、上記吐出路から液浸露光装置に対して供給することが可能となる。
図1に、本発明に係る液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法を適用した温調システムの基本形態を示す。以下に、その構成と共に、本発明に係る屈折率調整用の小流量液体の温調方法について説明する。
この温調システムにおいては、温調すべき液体の供給源1に接続された供給路3に、該供給源1から供給された液体を加圧するレギュレータ2が設けられ、この供給路3の下流端には、上記レギュレータ2で加圧された液体をその加圧状態においてポンプ6により循環させる循環路5が接続され、具体的には循環路5中のタンク4が接続されている。このタンク4は、循環路5に作用する後述の種々の外乱を緩和するものである。
この温調システムにおいては、温調すべき液体の供給源1に接続された供給路3に、該供給源1から供給された液体を加圧するレギュレータ2が設けられ、この供給路3の下流端には、上記レギュレータ2で加圧された液体をその加圧状態においてポンプ6により循環させる循環路5が接続され、具体的には循環路5中のタンク4が接続されている。このタンク4は、循環路5に作用する後述の種々の外乱を緩和するものである。
上記タンク4を含む屈折率調整用液体の循環路5においては、上記供給路3と上記循環路5との接続点であるタンク4から後述の吐出路9との分岐点に向かう往流路中に、循環流を形成させるためのポンプ6と、循環する液体の温度を一定に保つための温調器7と、主として循環路5内で発生した不純物を除去するフィルタ8とを介在させている。そして、この循環路5のフィルタ8の下流側には、循環路5から分岐する吐出路9を設け、この吐出路9には、温調された屈折率調整用液体を微少連続流または微少間欠流として液出口11から液浸露光装置に供給する吐出弁10を設けている。
そして、上記吐出路9を分岐させた往流路は、それに続く還流路によって上記タンク4に接続され、この往流路及び還流路によって上記循環路5が形成されている。
そして、上記吐出路9を分岐させた往流路は、それに続く還流路によって上記タンク4に接続され、この往流路及び還流路によって上記循環路5が形成されている。
上記レギュレータ2は、供給路3を通して供給される屈折率調整用液体を加圧し、一定の加圧状態で循環路5に供給するもので、循環路5内は閉空間としてそこに充満する液体が加圧状態に保持され、その加圧により液体中の溶存ガスの発泡を防止すると共に、液浸露光装置への供給時の吐出圧力を一定に保持し、間欠的に吐出する場合においても安定した流量を維持できるようにしている。
また、上記タンク4は、往流路中における上記温調器7よりも上流側に位置させ、そこに充満する屈折率調整用液体の熱容量により液量変動、温度変動に伴う熱的外乱を緩和するためのもので、循環路5における循環流量との関係で熱的外乱へのフィルタの時定数が決定される。
上記ポンプ6は、屈折率調整用液体を循環させると共に、外部への吐出圧力を確保して安定した吐出を行うためのもので、循環させる液体中に不純物を放出させないために、インペラが磁気浮上して無接触回転する発塵の無い特殊ポンプが用いるのが望ましい。
また、上記タンク4は、往流路中における上記温調器7よりも上流側に位置させ、そこに充満する屈折率調整用液体の熱容量により液量変動、温度変動に伴う熱的外乱を緩和するためのもので、循環路5における循環流量との関係で熱的外乱へのフィルタの時定数が決定される。
上記ポンプ6は、屈折率調整用液体を循環させると共に、外部への吐出圧力を確保して安定した吐出を行うためのもので、循環させる液体中に不純物を放出させないために、インペラが磁気浮上して無接触回転する発塵の無い特殊ポンプが用いるのが望ましい。
上記温調器7は、図5に基本構成を模式的に示すような構成のものを用いるのが望ましい。この温調器7は、ペルチェ素子を用いて温度調節を行うもので、循環路5に連通する温調液入口7aと温調液出口7bとを備えた熱交換器30における熱交換面に、複数のペルチェ素子31の一面を接合すると共に、該ペルチェ素子31の他面を、放熱水入口32aから同出口32bに向けて放熱水が流される放熱用熱交換器32に接合し、また、上記温調液出口7bに温調液体の温度を検出する温度検出器36を設けて、該検出器36の出力を温度コントローラ37に導き、温度コントローラ37において、上記温度検出器36の出力に基づいて通電制御装置35に通電を制御するための信号を出力させるようにしている。循環液体の汚染防止のために、熱交換器30の内面は、必要に応じて、全てフッ素樹脂で被覆することができる。
そして、この温調器7により、温度検出器36において検出される循環液体の温度が、温度コントローラ37に設定されている設定温度に限りなく近づくように調節される。
そして、この温調器7により、温度検出器36において検出される循環液体の温度が、温度コントローラ37に設定されている設定温度に限りなく近づくように調節される。
不純物除去手段を構成する上記フィルタ8は、液浸露光において光透過の障害となる循環液体中のパーティクル等の不純物をろ過して取り除くもので、ここでは限外濾過膜式フィルタを用いるのが望ましい。供給路3を通して供給される超純水等の液体は、通常、上記不純物を含んでいないが、その液体中にパーティクルが含まれていたり、循環路5を循環する間に二次的にパーティクル等が発生したりする場合に、それらを含む不純物を取り除くためにこのフィルタ8は有効なものである。
上記吐出路9に設けた吐出弁10は、温調された屈折率調整用液体を微少連続流または微少間欠流として液出口11から液浸露光装置に供給するものであるが、この吐出路9から吐出させる温調液体の量は、少なくとも循環路5における流量の1/2よりも流量が小さく設定される。更に具体的には、液浸露光装置において要求される上記吐出弁10から吐出させるべき流量が決まったとき、上記循環路5の循環液流量は、吐出路9から吐出する吐出液流量の2〜20倍、好ましくは4〜10倍に設定される。
いま、図1と実質的に同じ純水温調システムのモデルとして、タンク4に流量Gs、温度θsの純水が流入し、吐出路9から流量Gs、温度θd(一定)で流出し、循環路5を純水が流量Grで循環する場合について考察するに、温調器7を通過した後の温度θdはタンク出口温度θmより変化が少なくなるので、循環系の評価としては、温度θsが変化したときのタンク出口温度θmの挙動に注目すればよい。
上記モデルにおいて、タンク4に流入する純水の温度変化に対するタンク4で混合された純水の温度変化の比は、次式で表される。
|θm/θs|=Gs/(Gr+Gs)
ここで、θs≒2℃、θm≒0.1〜0.5℃と設定し、上式から循環流量と吐出流量の比Gr/Gsを求めると、
Gr/Gs≒2〜20
となる。
つまり、上記設定例(好ましい設定例)では、前述したように、循環路5の循環液流量を吐出路9から吐出する吐出液流量の2〜20倍にすればよいことがわかる。なお、この数値範囲が適切であることは、本発明者の実験によっても確かめている。
上記モデルにおいて、タンク4に流入する純水の温度変化に対するタンク4で混合された純水の温度変化の比は、次式で表される。
|θm/θs|=Gs/(Gr+Gs)
ここで、θs≒2℃、θm≒0.1〜0.5℃と設定し、上式から循環流量と吐出流量の比Gr/Gsを求めると、
Gr/Gs≒2〜20
となる。
つまり、上記設定例(好ましい設定例)では、前述したように、循環路5の循環液流量を吐出路9から吐出する吐出液流量の2〜20倍にすればよいことがわかる。なお、この数値範囲が適切であることは、本発明者の実験によっても確かめている。
上述した循環液流量が吐出液流量の2〜20倍という数値は、θs≒2℃、θm≒0.1〜0.5℃という条件で求められたものであるが、上記θsは液浸露光装置の仕様により要求される値であり、また、上記θmは温調器7の性能によって決まる値である。従って、それらの値が決まれば、上式に基づいて循環液流量と吐出液流量の比Gr/Gsを求めることができる。
上記吐出路9は、循環路5から分岐して設けられ、液浸露光装置の仕様に応じて必要量の超純水を吐出するための流路で、そこに設けた吐出弁10は、上記吐出液流量を決定するものとなる。そのため、この吐出弁10は、少なくとも必要な範囲内で流量調整可能な調整弁とし、あるいは、間欠吐出も可能なものとして構成することもできるが、液浸露光装置の仕様に応じて、循環液流量と吐出液流量の比が、例えば2〜20倍の範囲内になるものとして構成することができる。
また、この吐出路9は、液浸露光装置に液体を供給するために必要な最小限の長さとし、吐出路9内を液体が流れる間に温度変化が生じるのを抑制する必要がある。更に、上記吐出弁10は、循環路5にできるだけ近い位置に設置し、吐出弁10の入口まで大流量の循環液が来るようにして、外気温等の影響を排除し、吐出液の温度を安定化するのが望ましい。
また、この吐出路9は、液浸露光装置に液体を供給するために必要な最小限の長さとし、吐出路9内を液体が流れる間に温度変化が生じるのを抑制する必要がある。更に、上記吐出弁10は、循環路5にできるだけ近い位置に設置し、吐出弁10の入口まで大流量の循環液が来るようにして、外気温等の影響を排除し、吐出液の温度を安定化するのが望ましい。
上記温調システムにおいて温調する液体としては、ここでは、超純水を含む純水や、光透過性においてすぐれたフッ素油等の高屈折率液体を用いることを前提にしているが、それらの液体に限るものではない。
上記構成を有する温調システムにおいては、液体の供給源1に接続された供給路3に、金属イオン、パーティクルや有機物の除去、及び脱気が行われた超純水等の液体が供給され、それがレギュレータ2により加圧されてタンク4に加圧液体として供給されて循環路5に導入され、温調に際しては温調器7を備えた循環路5においてポンプ6により循環流が形成される。
上記循環流の液温は、温調器7の下流側に設けた温度検出器36において検出し、その出力に基づいて温度コントローラ37により通電制御装置35が制御され、ペルチェ素子31への適切な通電により設定温度に調整される。
上記循環流の液温は、温調器7の下流側に設けた温度検出器36において検出し、その出力に基づいて温度コントローラ37により通電制御装置35が制御され、ペルチェ素子31への適切な通電により設定温度に調整される。
この状態において、吐出弁10を規定の微少流量の液体が吐出するように調整して開放すると、循環液体は温調器7により正確に温度調整され、しかも、上記循環路5には、吐出液流量に較べて2〜20倍、好ましくは4〜10倍という大量の屈折率調整用液体が循環しているので、一定温度に調整された微少量の屈折率調整用液体が循環路5から吐出路9を通して液浸露光装置に供給される。また、このように循環液流量を吐出液量に較べて大量にすることにより、熱交換率が向上し、温調器7の応答性が良好となり、温調器7の小型化が図られる。
液浸露光装置に超純水等の液体を供給することにより循環路5から排出された循環液体は、供給源1からタンク4への液体の供給により補われる。
液浸露光装置に超純水等の液体を供給することにより循環路5から排出された循環液体は、供給源1からタンク4への液体の供給により補われる。
また、上記タンク4は、循環路5内を含む液体の保有量に応じた大きな熱容量を持ち、この熱容量の効果で吐出液体の流量変動、温度の変動を短時間に緩和し、すぐれた温調機能を発揮させることができるものである。しかも、循環液体にわずかに温度変動が生じたとしても、タンク4の下流に位置する温調器7の能力を適切に設定することにより、極めて短時間に温度調整することができる。
図2は、上記図1の温調システムにおける還流路に不純物除去手段を構成する紫外線酸化装置15、イオン交換装置16、真空脱気装置17を付設した変形例を示している。この変形例における図1の温調システムと共通する構成については、図1の場合と同じ符号を付してその説明を省略する。
図2の循環路5に設けた紫外線酸化装置15は、循環液体に紫外線を照射して、供給路3を通して供給される液体に混入しあるいは循環路5中において発生した循環液体中の有機物(微生物等)を酸化分解させるためのものである。これは、有機物の種類によっては、例えば、液浸露光装置におけるレンズを汚すため、その原因を排除するために設けるものである。
上記イオン交換装置16は、液浸露光装置に供給される循環液中に含まれていると液浸露光装置での作業に悪影響を及ぼすイオン化物質を吸着ないしは捕捉することにより、除去するものである。
また、真空脱気装置17は、循環液中に溶存ないしは混入している気体を真空域に導いて脱気することにより除去するもので、液浸露光装置での作業によっては、気泡がその作業に悪影響を及ぼすため、その原因を排除するために設けるものである。
上記イオン交換装置16は、液浸露光装置に供給される循環液中に含まれていると液浸露光装置での作業に悪影響を及ぼすイオン化物質を吸着ないしは捕捉することにより、除去するものである。
また、真空脱気装置17は、循環液中に溶存ないしは混入している気体を真空域に導いて脱気することにより除去するもので、液浸露光装置での作業によっては、気泡がその作業に悪影響を及ぼすため、その原因を排除するために設けるものである。
なお、上記紫外線酸化装置15、イオン交換装置16及び真空脱気装置17は、循環路5中にそれらを単独で、あるいは、それらの複数を適宜選択して併設することができ、また、この温調システムにおける上記フィルタ8、それに加えて設けられる上記紫外線酸化装置15、イオン交換装置16、真空脱気装置17等の不純物除去手段は、循環路5における任意位置に、任意順序で設置することができる。
つぎに、図3に示す本発明の温調方法を適用した温調システムは、図1の温調システムにおける吐出路を二重管式熱交換器によって形成したものであり、図1と共通する構成については図1と同じ符号を付して、その説明を省略する。
この温調システムは、温調された循環液の供給先である液浸露光装置が循環路5から離れていて、吐出路9での液温の維持が困難な場合に適するもので、上記吐出路9を二重管式熱交換器20によって形成し、その内管内を吐出路9にすると共に、内管の周囲を同心状に囲む外管20aの両端部を、温調された保温水を供給するための温調水循環装置21に保温水循環路22を介して接続している。
温調水循環装置21は、上記保温水を前記温調器7により温調される循環液と同温度になるように温調し、それをポンプ(図示省略)により保温水循環路22を通して二重管式熱交換器20の外管20a内に循環させるもので、必要に応じて、図5により先に説明した温調器7と実質的に同じ構成のものを用いることができる。
温調水循環装置21は、上記保温水を前記温調器7により温調される循環液と同温度になるように温調し、それをポンプ(図示省略)により保温水循環路22を通して二重管式熱交換器20の外管20a内に循環させるもので、必要に応じて、図5により先に説明した温調器7と実質的に同じ構成のものを用いることができる。
図4に示す温調システムは、上記図3の温調システムと同様に、温調された循環液の供給先である液浸露光装置が循環路5から離れていて、吐出路9での液温の維持が困難な場合に適するものである。この図4の温調システムでは、図3の場合と同様に吐出路を二重管式熱交換器によって形成しているが、上記図3では、循環路5の温調器7とは別に二重管式熱交換器20のための温調水循環装置21を備えているのに対し、循環路5の温調器7を二重管式熱交換器20にも利用するようにしている。
なお、この温調システムにおける図1及び図3の温調システムと共通する構成については、それらと共通する符号を付して、その説明を省略する。
なお、この温調システムにおける図1及び図3の温調システムと共通する構成については、それらと共通する符号を付して、その説明を省略する。
上記図4の温調システムでは、上述したように、二重管式熱交換器20に上記循環路5の循環液を供給するため、循環路5における還流路から分岐する分岐配管25を設けて、それを二重管式熱交換器20の外管20aの一端部に連通させ、また、その外管20aの他端部を、還流配管26により、循環路5における上記分岐配管25の分岐点よりも下流側に連通させている。そして、上記分岐配管25の途中に第1のバルブ27を設け、上記循環路5における分岐配管25の分岐点と還流配管26の接続点との間に、第2のバルブ28を設けている。
この温調システムでは、吐出路9を保温するための二重管式熱交換器20の外管20aに、循環路5で温調された循環液体を供給するので、二重管式熱交換器20に供給する液体の温度調整が正確になる。
なお、この温調システムにおいても、温調された循環液体が二重管式熱交換器20の外管20a内に供給されるので、その流路の内面はフッ素樹脂で被覆しておくことが望ましい。
この温調システムでは、吐出路9を保温するための二重管式熱交換器20の外管20aに、循環路5で温調された循環液体を供給するので、二重管式熱交換器20に供給する液体の温度調整が正確になる。
なお、この温調システムにおいても、温調された循環液体が二重管式熱交換器20の外管20a内に供給されるので、その流路の内面はフッ素樹脂で被覆しておくことが望ましい。
この温調システムにおいては、上記第1のバルブ27を開放すると同時に第2のバルブ28を閉じることにより、循環路5の液体が全て二重管式熱交換器20の外管20aに流入し、逆に、上記第1のバルブ27を閉じると同時に第2のバルブ28を開放することにより、循環路5の液体が二重管式熱交換器20に流れなくなり、また、両バルブ27,28を開放するかそれらの流量を調整することにより、二重管式熱交換器20に流れる循環液の量を調整することができる。
1 供給源
2 レギュレータ
3 供給路
4 タンク
5 循環路
6 ポンプ
7 温調器
8 フィルタ
9 吐出路
10 吐出弁
20 二重管式熱交換器
20a 外管
21 温調水循環装置
30 熱交換器
2 レギュレータ
3 供給路
4 タンク
5 循環路
6 ポンプ
7 温調器
8 フィルタ
9 吐出路
10 吐出弁
20 二重管式熱交換器
20a 外管
21 温調水循環装置
30 熱交換器
Claims (6)
- 供給路を通じて供給された液浸露光のための屈折率調整用液体を加圧して循環路に導入し、
その加圧状態でポンプにより該循環路を循環させながら、該液体を該循環路中に介在させた温調器において温調し、
温調された液体を、上記循環路から分岐させた吐出路を通じて、該吐出路に設けた吐出弁を通して、少なくとも上記循環路における流量の1/2よりも流量が小さい微少連続流または微少間欠流として液浸露光装置に供給する、
ことを特徴とする液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法。 - 上記循環路における供給路との接続点から吐出路との分岐点へと向かう往流路中に、その上流側から、タンク、循環流を形成させるためのポンプ、及び温調器を順次介在させ、上記タンクにおいて液量変動、温度変動の外乱を緩和させたうえで、上記ポンプにより、循環する液体の温度を一定に保つための温調器を通して、吐出路を分岐させている循環路に温調された液体を送ることを特徴とする請求項1に記載の液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法。
- 上記供給路を通して供給される液体が超純水を含む純水または高屈折率液体である、
ことを特徴とする請求項1または2に記載の液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法。 - 上記循環路における循環液流量が、吐出路からの吐出液流量の2〜20倍である、
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法。 - 上記循環路中に設けた不純物除去手段により温調のために循環する液体中の不純物を除去する、
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法。 - 上記吐出路を二重管式熱交換器によって形成し、その外管に上記温調器と同温に温調した循環温調水または前記循環路を流れる液体の全部または一部を流して、上記吐出路での液温を維持させることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の液浸露光のための屈折率調整用小流量液体の温調方法。
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Cited By (1)
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JP2011258946A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-22 | Asml Netherlands Bv | 流体供給システム、リソグラフィ装置、流体流量の変更方法及びデバイス製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002036488A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | インクジェット式製版方法及び製版装置 |
JP2003086486A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-20 | Canon Inc | 露光装置 |
WO2005038888A1 (ja) * | 2003-10-22 | 2005-04-28 | Nikon Corporation | 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法 |
-
2009
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002036488A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | インクジェット式製版方法及び製版装置 |
JP2003086486A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-20 | Canon Inc | 露光装置 |
WO2005038888A1 (ja) * | 2003-10-22 | 2005-04-28 | Nikon Corporation | 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011258946A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-22 | Asml Netherlands Bv | 流体供給システム、リソグラフィ装置、流体流量の変更方法及びデバイス製造方法 |
US8848164B2 (en) | 2010-06-01 | 2014-09-30 | Asml Netherlands B.V. | Fluid supply system, a lithographic apparatus, a method of varying fluid flow rate and a device manufacturing method |
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