JP2009156601A - 散乱型近接場顕微鏡用プローブの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン製のプローブを用意し、これに1100℃の蒸気雰囲気下で熱酸化処理を施すことで、プローブをSiO2に変質させる。これによって、シリコンを加工したときの形状を保ったまま、SiO2とすることができるので、先端が尖鋭なSiO2製のプローブを得ることができる。
【選択図】図1
Description
シリコンのラマン散乱が発生することを抑制できる。つまり、試料がシリコンである場合に、試料からのラマン散乱光のみを分離して観測することが可能となる。
102 プローブ
103 試料
104 油浸オイル
105 対物レンズ
106 励起レーザ
107 散乱光
Claims (2)
- Si製のプローブを用意する工程と、
前記Si製のプローブを熱酸化させる工程と、
を含む、散乱型近接場顕微鏡用プローブの製造方法。 - 前記熱酸化工程では、前記プローブの先端のうち、集光レーザによるプローブ部分への照射領域よりも大きい領域を熱酸化させる
ことを特徴とする請求項1に記載の散乱型近接場顕微鏡用プローブの製造方法。
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