JP2009155716A - アトマイズ装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アトマイズ装置は、密閉容器1と、この密閉容器内に設置されたガスアトマイズユニット10及び遠心アトマイズユニット20と、予熱部材30と、予熱部材を移動する移動機構40とを備えている。予熱部材30はキャップ形状をなし、原料溶湯の噴霧供給前に、遠心アトマイズユニットの回転ディスク23に非接触状態で被せて回転ディスクを予熱する。移動機構40は、密閉容器を貫通する垂直シャフト42と、水平アーム43と、垂直シャフトを駆動する駆動機構44とを有する。予熱後、駆動機構44により垂直アーム42を上昇させ、次に回動させて予熱部材30を回転ディスク23から離れた位置に退避させる。その後、回転ディスク23を高速回転させた状態で回転ディスクにガスアトマイズユニット10からの原料溶湯の噴霧を供給し、遠心力で飛散させて微粉末を得る。
【選択図】図1
Description
高速回転する回転ディスクの表面温度が金属の融点以上の温度に保たれた状態で、ガスアトマイズ手段からの噴霧が供給されると、溶融金属の微細な液滴は回転ディスクの表面で薄膜状態となり、遠心力で飛散されて凝固し微粉末となる。この微粉末は、球形状をなし、粒径が10ミクロン以下で揃っている。
上記構成によれば、ガスアトマイズ手段と遠心アトマイズ手段を組み合わせたので、原料微粉末をより一層微細化したり、粒度を揃えたり、球形状にする等、上述したハイブリット構成の利点を、上記本発明の一態様による利点とともに得ることができる。
この構成によれば、予熱部材が回転ディスクの上方および周囲を囲むようにして予熱を行うので、効率良く予熱を行うことができる。具体的には短時間で回転ディスク全体を予熱することができる。
この構成によれば、予熱部材が回転ディスクの上方および周囲を囲むようにして予熱を行うので、効率良く予熱を行うことができる。具体的には短時間で回転ディスク全体を予熱することができる。
さらに好ましくは、上記加熱手段は、さらに上記本体の天井部に渦巻状をなして配置された他のコイルを含む。
この構成によれば、比較的簡単な移動機構で予熱部材の退避動作を行うことができる。
この構成によれば、垂直シャフト上下動の機能と回動の機能を分けたので、構成が簡単となり、制御も容易となる。
この構成によれば、予熱部材が退避する際に上方向への移動がなく水平移動のみとなるので、溶湯供給部またはガスアトマイズ手段と回転ディスクとの間を狭めることができ、溶湯の温度低下を抑えることができる。特に溶湯がガスアトマイズされる場合には、融点が高温で粘度の高い溶湯を回転ディスク上でより一層薄膜化できる。
この構成によれば、予熱部材の切欠による回転ディスクの温度むらを無くすことができる。
この構成によれば、移動機構の構成を簡略化することができる。
この構成によれば、密閉容器の密閉状態を維持し、駆動機構を密閉容器外に配置した状態で予熱部材の退避動作を行うことができる。
なお、上記密閉容器内を真空にするか不活性ガスを充填して低酸素にした状態で、不活性ガスで噴霧を行った時には、原料の微粉末の酸素濃度を低く抑えることができる。
上記方法によれば、予熱部材により回転ディスクの予熱を行うので、アトマイズの実行開始時点での回転ディスクと原料溶湯の温度差を小さくすることができ、これにより回転ディスクが受ける熱衝撃を小さくして、その寿命を長くしたり、ディスクの割れを防ぐことができる。また、予熱部材は予熱後に回転ディスクから離れた位置へ退避できるので、アトマイズ実行の邪魔にならない。
これによれば、ガスアトマイズと遠心アトマイズを組み合わせたので、原料微粉末をより一層微細化したり、粒度を揃えたり、球形状にする等の利点を得ることができる。
図1に示すように、アトマイズ装置は、密閉容器1と、この密閉容器1内に設置されたガスアトマイズユニット10(ガスアトマイズ手段;溶湯供給部)および遠心アトマイズユニット20(遠心アトマイズ手段)と、予熱部材30と、この予熱部材30を移動するための移動機構40とを主たる構成要素として備えている。
上記ガスアトマイズユニット10は、密閉容器1の装着口1xを塞ぐ有底円筒形状の容器11と、この容器11の上部開口を気密に閉じる蓋12とを有している。この容器11内も真空ポンプ2により所定の真空度を維持できるようになっている。
回転ディスク23の材質は、溶湯温度と原料溶湯との濡れ性などを考慮して決定する。例えば、原料が1,150℃程度の融点を持つFe基金属ガラスであれば、Si、Al、O、Nからなるファインセラミックスのサイアロン、融点が230℃のスズであれば炭素鋼S25Cなどが使用できる。
回転ディスク23は水平をなし、その上面は水平な平坦面でもよいし、円錐状好ましくは、頂角が170°以上180°未満の円錐形状をなしていてもよい。
上記電熱コイル33,34に接続された給電コード33a,34aおよび熱電対35に接続された信号コード35aは、途中まで後述する水平アーム43に支持され、上記密閉容器1に気密に装着されたサポート(図示しない)を、気密に貫通して外部に導出されている。
上記水平アーム43の他端には、L字形のブラケット43aを介して上記予熱部材30のキャップ31の天井部31bが固定されている。
なお、原料として金属ガラス、例えば1,150℃程度の融点を持つFe基金属ガラスの微粉末を作る場合には、溶湯温度は1,550℃程度で、また、銅(融点:1,08
3℃)の場合には、溶湯温度は1,400℃程度である。
その結果、この微粉末を球形にすることができ、その粒径は、遠心力により例えば10ミクロン程度あるいはそれ以下にすることができるとともに(場合によってはそれ以上の粒子径にしてもよい)、所定範囲に大部分が収まるように揃えることができる。
この実施形態でも第1実施形態と同様の移動機構が用いられるが、垂直シャフトを上下動する構成は省かれる。
予熱部材の本体の形状はキャップ形状が最適であるが、他の形状であってもよい。
噴射するガスは窒素等の他の不活性ガスを用いてもよい。
密閉容器内を真空にする代わりに不活性ガス雰囲気にしてアトマイズを実行してもよい。
本発明は、材料は金属以外であってもよい。
10 ガスアトマイズユニット(ガスアトマイズ手段;溶湯供給部)
15a ガスノズル穴
17a 溶湯ノズル穴
20 遠心アトマイズユニット(遠心アトマイズ手段)
22 回転駆動部
23 回転ディスク
30 予熱部材
31 キャップ(本体)
31a 周壁部
31b 天井部
31x 切欠
33,34 コイル(加熱手段)
40 移動機構
42 垂直シャフト
43 水平アーム
44 駆動機構
45 上下動用シリンダ(上下動手段)
46 回動用シリンダ(回動手段)
50 第1連結機構
60 第2連結機構
Claims (15)
- (ア)原料溶湯を滴下する溶湯供給部と、
(イ)溶湯供給部の下方に配置された回転ディスクと、この回転ディスクを高速回転させる回転駆動部とを有し、上記原料溶湯を回転ディスクの遠心力で吹き飛ばすことにより、微粉末を得る遠心アトマイズ手段と、
(ウ)上記遠心アトマイズ手段からの原料溶湯の滴下前に上記回転ディスクを予熱する予熱部材と、
(エ)上記予熱部材を、上記回転ディスクに近い予熱位置から、回転ディスクから離れた退避位置へと移動させる移動機構と、
を備えたことを特徴とするアトマイズ装置。 - (ア)ガスを噴射しながら原料溶湯を滴下することにより、原料溶湯を噴霧状にして下方に供給するガスアトマイズ手段と、
(イ)上記ガスアトマイズ手段の下方に配置された回転ディスクと、この回転ディスクを高速回転させる回転駆動部とを有し、上記噴霧状の原料溶湯を回転ディスクの遠心力で吹き飛ばすことにより、微粉末を得る遠心アトマイズ手段と、
を備えたアトマイズ装置において、さらに
(ウ)上記ガスアトマイズ手段からの原料溶湯の噴霧供給前に上記回転ディスクを予熱する予熱部材と、
(エ)上記予熱部材を、上記回転ディスクに近い予熱位置から、回転ディスクから離れた退避位置へと移動させる移動機構と、
を備えたことを特徴とするアトマイズ装置。 - 上記予熱部材は、上記回転ディスクの周囲の少なくとも一部を覆う周壁部と回転ディスクの上方を覆う天井部とを有し下側が開口した本体と、この本体に装備された加熱手段とを備えていることを特徴とする請求項1または2に記載のアトマイズ装置。
- 上記予熱部材は、上記回転ディスクの周囲を覆う周壁部と回転ディスクの上方を覆う天井部とを有し下側が開口した本体と、この本体に装備された加熱手段とを備え、
上記移動機構は、上記予熱部材を上記予熱位置からその上方位置へと移動させ、さらに当該上方位置から上記退避位置へと水平移動させることを特徴とする請求項1または2に記載のアトマイズ装置。 - 上記予熱部材の加熱手段は、上記本体の周壁部に螺旋状をなして配置されたコイルを含むことを特徴とする請求項4に記載のアトマイズ装置。
- 上記加熱手段は、さらに上記本体の天井部に渦巻状をなして配置された他のコイルを含むことを特徴とする請求項5に記載のアトマイズ装置。
- 上記移動機構は、垂直シャフトと、この垂直シャフトに一端が固定されて水平に延び他端に上記予熱部材の本体を取り付けた水平アームと、垂直シャフトを上下動させ回動させる駆動機構とを備えたことを特徴とする請求項4〜6のいずれかに記載のアトマイズ装置。
- 上記駆動機構は、垂直シャフトを上下動させる上下動手段と、垂直シャフトを回動させる回動手段と、垂直シャフトの回動を許容しながら垂直アームと上下動手段とを連結する第1連結機構と、垂直シャフトの上下動を許容しながら垂直アームと回動手段とを連結する第2連結機構とを備えていることを特徴とする請求項7に記載のアトマイズ装置。
- 上記予熱部材の本体の周壁部には、上記回転ディスクの径より大きい切欠が形成されており、
上記移動機構は、上記予熱部材を上記予熱位置から上記退避位置へと水平移動させ、この過程で回転ディスクが予熱部材の切欠を通ることを特徴とする請求項3に記載のアトマイズ装置。 - 上記予熱部材により回転ディスクを予熱している時に、上記回転駆動部が回転ディスクを低速回転させることを特徴とする請求項9に記載のアトマイズ装置
- 上記移動機構は、垂直シャフトと、この垂直シャフトに一端が固定されて水平に延び他端に上記予熱部材の本体を取り付けた水平アームと、垂直シャフトを回動させる駆動機構とを備えたことを特徴とする請求項9または10に記載のアトマイズ装置。
- さらに、上記ガスアトマイズ手段と上記遠心アトマイズ手段を収容する密閉容器を備え、上記垂直シャフトはこの密閉容器の上壁を気密に貫通して上方に突出し、上記水平アームは上記垂直シャフトの下端部に固定されて密閉容器内に配置され、上記垂直シャフトの密閉容器から突出した上端部に、上記駆動機構が連結されていることを特徴とする請求項7,8または11に記載のアトマイズ装置。
- 原料溶湯を滴下することにより、原料溶湯を下方の回転ディスクに供給し、この回転ディスクを高速回転させることにより、上記原料溶湯を遠心力で吹き飛ばして微粉末を得るアトマイズ方法において、
上記原料溶湯の供給前に予熱部材を近接させて上記回転ディスクを予熱し、予熱後にこの予熱部材を回転ディスクから離れた位置に退避させ、この状態で上記原料溶湯の供給と回転ディスクの高速回転を実行することを特徴とするアトマイズ方法。 - 上記原料溶湯をガスを噴射しながら滴下することにより、噴霧状にして回転ディスクに供給することを特徴とする請求項13に記載のアトマイズ方法。
- 上記予熱により上昇する回転ディスクの表面温度は、原料の溶湯温度未満であることを特徴とする請求項13または14に記載のアトマイズ方法。
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