JP2009147171A5 - - Google Patents

Description

このプラズマ処理装置において、前記保持部材は、前記処理容器の内面に固定されたバッフル用保持部材と、前記バッフル用保持部材に対して離脱自在に支持されたバッフル板からなり、前記ステージが、前記待機位置から前記処理位置に上昇させられる際に、前記バッフル板が前記バッフル用保持部材から前記ステージ上に受け渡されても良い。この場合、前記バッフル板は、前記処理容器の内面に対して位置決めされて支持されても良い。

このプラズマ処理装置において、前記位置決め機構は、前記ステージの上面に設けられたテーパーピンと、前記テーパーピンが挿入される、前記マスクに設けられたガイド孔であっても良い。また、前記ガイド孔を複数有し、少なくとも一部のガイド孔は長孔形状であっても良い。また、前記マスクは、分割された複数のマスク部材で構成されても良い。この場合、前記分割された複数のマスク部材の端部は、上下に互いに重なり合うように配置されても良い。

また、前記保持部材は、前記処理容器の内面に固定されていても良い。

Claims (10)

1. 処理容器内に供給された処理ガスがプラズマ化されて、ステージ上に載置された基板にプラズマ処理が施されるプラズマ処理装置であって、
   前記処理容器内において、非プラズマ処理時には前記ステージを待機位置に下降させ、プラズマ処理時には前記ステージを処理位置に上昇させる昇降機構と、
   前記待機位置と前記処理位置の間において、基板の外周縁部分を覆うマスクを離脱自在に保持する保持部材と、
   前記ステージ上において前記マスクを位置決めさせる位置決め機構を備え、
   前記マスクは、前記保持部材によって位置決めされず、かつ、水平方向に移動自在に保持され、
   前記ステージが、前記待機位置から前記処理位置に上昇させられる際に、前記マスクが前記保持部材から前記ステージ上に受け渡され、かつ、前記ステージ上において前記マスクが前記位置決め機構により位置決めされることを特徴とする、プラズマ処理装置。
2. 前記保持部材は、前記処理容器の内面に固定されたバッフル用保持部材と、前記バッフル用保持部材に対して離脱自在に支持されたバッフル板からなり、
   前記ステージが、前記待機位置から前記処理位置に上昇させられる際に、前記バッフル板が前記バッフル用保持部材から前記ステージ上に受け渡されることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
3. 前記バッフル板は、前記処理容器の内面に対して位置決めされて支持されることを特徴とする、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
4. 前記位置決め機構は、前記ステージの上面に設けられたテーパーピンと、前記テーパーピンが挿入される、前記マスクに設けられたガイド孔であることを特徴とする、請求項１〜３に記載のプラズマ処理装置。
5. 前記ガイド孔を複数有し、少なくとも一部のガイド孔は長孔形状であることを特徴とする、請求項４に記載のプラズマ処理装置。
6. 前記マスクは、分割された複数のマスク部材で構成されることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
7. 前記分割された複数のマスク部材の端部は、上下に互いに重なり合うように配置されることを特徴とする、請求項６に記載のプラズマ処理装置。
8. 前記保持部材は、前記処理容器の内面に固定されていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
9. 前記ステージの上面に基板を載置させる凹部が形成されていることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
10. 前記凹部には、基板を位置決めするための突起が設けられていることを特徴とする、請求項９に記載のプラズマ処理装置。