JP2009146696A - Composition for forming outer edge prescribing film, manufacturing method of functional film, organic electroluminescent device, its manufacturing method, and image display device - Google Patents

Composition for forming outer edge prescribing film, manufacturing method of functional film, organic electroluminescent device, its manufacturing method, and image display device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a material and a process for eliminating a complicated and constrained process on patterning a functional film, and for specifying the position of the outer edge in the patterned functional film at a low cost with a simple configuration, and further to provide the organic electroluminescent element of high capability using these material and process at a low cost. <P>SOLUTION: The composition for forming the outer edge specifying film is formed in the adjoining position to the functional film to constitute the outer edge of the functional film, wherein the composition includes a surfactant and a solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、機能膜の外縁部の位置を規定するための組成物に関し、より詳しくは、有機電界発光素子の有機層の外縁部の位置を規定するための組成物に関する。   The present invention relates to a composition for defining the position of an outer edge portion of a functional film, and more particularly to a composition for defining the position of an outer edge portion of an organic layer of an organic electroluminescent element.

基材表面への光学的、電気的など様々な機能をもつ膜の形成プロセスは、今日の多くのデバイスの実現を支える重要な要素技術となっている。これら機能膜は、基材表面の所定の位置に、所定の精度で配置されることで、その機能を適切に発現されるよう設計されている。   The process of forming a film having various functions such as optical and electrical on the surface of a substrate has become an important elemental technology that supports the realization of many devices today. These functional films are designed to appropriately express their functions by being arranged with a predetermined accuracy at a predetermined position on the surface of the substrate.

膜を所定の位置に配置すること、すなわちパターンニングの方法としては、マスクとレジストを使った露光・現像プロセスを含むフォトリソグラフィー技術がその高い精度と信頼性から、広く用いられている。しかしながら、フォトリソグラフィー技術は、高価な導入装置や複雑なプロセスに起因するコスト増の観点から、機能膜を直接基材にパターンニングする方法も多数提案、実施されている。   As a patterning method for arranging a film at a predetermined position, a photolithography technique including an exposure / development process using a mask and a resist is widely used because of its high accuracy and reliability. However, in the photolithography technique, many methods for patterning a functional film directly on a substrate have been proposed and implemented from the viewpoint of cost increase caused by expensive introduction apparatuses and complicated processes.

基材表面に直接パターンニングを行う方法として、版を用いた凸版印刷、グラビア印刷や、マスクを用いたスクリーン印刷、スプレー塗布や、さらにはインクジェット装置を用いる方法などが検討されている。   As a method for directly patterning the substrate surface, a relief printing using a plate, a gravure printing, a screen printing using a mask, a spray coating, and a method using an ink jet apparatus are being studied.

ところが、上記の直接、機能膜を印刷、塗布を行う方法は、パターン外縁部の位置精度が低い傾向がある。即ち、パターンエッジにてにじみ(パターン外部への液の塗れ広がり)が発生し、パターン形状精度の低下、及びパターンエッジ付近での膜厚ムラが発生する。
原因と一つとして、基材上に形成された膜の乾燥の進行とともに誘発される流動が考えられる。この流動は、乾燥時の膜表面に発生する表面張力の不均一に起因するマランゴニ流が大きな原因の一つであるといわれている。
また、基材上への膜の均一な付着を目的として、膜を形成するための塗布液の表面張力を低めに設定することが、流動・にじみの原因ともなっている。
However, the method of directly printing and applying the functional film described above tends to have a low position accuracy of the pattern outer edge. That is, bleeding (spreading of the liquid spreads outside the pattern) occurs at the pattern edge, the pattern shape accuracy decreases, and film thickness unevenness occurs near the pattern edge.
One possible cause is the flow induced as the film formed on the substrate progresses. This flow is said to be one of the major causes of Marangoni flow caused by non-uniform surface tension generated on the film surface during drying.
In addition, setting the surface tension of the coating solution for forming a film low for the purpose of uniform adhesion of the film on the substrate is a cause of fluidization and bleeding.

このような膜の流動を抑え、パターン外縁部の位置精度を高めるために利用できる方法として、膜の形成パターンに合わせて、基材に撥液部や親液部をあらかじめ形成しておく方法が公開されている。   As a method that can be used to suppress the flow of such a film and increase the position accuracy of the outer edge of the pattern, there is a method in which a lyophobic part or a lyophilic part is formed in advance on the substrate in accordance with the film formation pattern. It has been published.

例えば、機能膜を形成しない領域を撥液化することで、機能膜のパターンが撥液処理パターンに従って形成される方法(特許文献1)が公開されている。   For example, a method (Patent Document 1) is disclosed in which a functional film pattern is formed in accordance with a liquid repellent treatment pattern by making a region where a functional film is not formed lyophobic.

一方、機能膜である電界発光層の塗布パターンの外縁部を規定する方法として、電界発光層形成液と隔離液とを同時に塗布する方法(特許文献2)が公開されている。   On the other hand, as a method for defining the outer edge portion of the coating pattern of the electroluminescent layer, which is a functional film, a method (Patent Document 2) in which an electroluminescent layer forming liquid and a separating liquid are simultaneously applied is disclosed.

特開2005−149767号公報JP 2005-149767 A 特開2001−267068号公報JP 2001-267068 A

しかしながら、特許文献1の方法では、機能膜を形成する領域以外を撥液処理する必要があり、処理機構が大掛かりになったり、処理時間が大きくなったりするなど、コスト増大する傾向にある。
また、特許文献1に例示される基材の処理プロセスの一つに、マスクを使用した表面処理、撥液性材料塗布などがあるが、撥液処理パターンエッジ自体の位置や形状の精度を保証するものではなく、従って続いて形成される機能膜のパターン外縁部の位置精度の向上は期待できない。
However, in the method disclosed in Patent Document 1, it is necessary to perform a liquid repellent treatment on the region other than the region where the functional film is formed, and the cost tends to increase because the processing mechanism becomes large and the processing time increases.
In addition, as one of the substrate processing processes exemplified in Patent Document 1, there are surface treatment using a mask and application of a liquid repellent material, but the position and shape accuracy of the liquid repellent pattern edge itself are guaranteed. Therefore, it is not expected to improve the position accuracy of the pattern outer edge portion of the functional film to be subsequently formed.

さらに、特許文献2の方法においては、電界発光層形成液と隔離液とが混合しないことが必要であり、隔離液の種類が著しく限定される。また、同時に塗布することも必要であり、塗布ノズル機構の複雑化を招く傾向にある。   Furthermore, in the method of Patent Document 2, it is necessary that the electroluminescent layer forming liquid and the separating liquid are not mixed, and the kind of the separating liquid is remarkably limited. Moreover, it is also necessary to apply at the same time, and the application nozzle mechanism tends to be complicated.

本発明は、以上の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、機能膜をパターンニングする際に、プロセスの複雑化や制約を低減し、パターン形成される機能膜の外縁部の位置を低コストかつ簡便に規定するための材料及びプロセスを提供し、さらにはそれらを用いて低コストで高性能の有機電界発光素子を提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to reduce the complexity and restrictions of the process when patterning the functional film, and to position the outer edge of the functional film to be patterned. It is to provide a material and a process for simply and simply defining the cost, and further to provide a low-cost and high-performance organic electroluminescence device using them.

本発明者らが鋭意検討した結果、機能材料を基材上にパターン塗布をする際に、界面活性剤を含有する溶液をパターン外縁部に塗布しておくと、塗布パターンのエッジでのにじみが抑制され、パターン形状が安定することを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies by the present inventors, when a functional material is applied to a pattern on a substrate, if a solution containing a surfactant is applied to the outer edge of the pattern, bleeding at the edge of the applied pattern may occur. It was found that the pattern shape was suppressed and the present invention was completed.

すなわち本発明の要旨は、機能膜に隣接して形成され、該機能膜の外縁を規定する外縁規定膜を形成する組成物であって、界面活性剤と溶剤とを含有することを特徴とする、外縁規定膜形成用組成物に存する(請求項1)。   That is, the gist of the present invention is a composition that is formed adjacent to a functional film and forms an outer edge defining film that defines the outer edge of the functional film, and includes a surfactant and a solvent. In the composition for forming an outer edge regulating film (claim 1).

このとき、該外縁規定膜形成用組成物のガラス基材への接触角が、18°以上であることが好ましい(請求項2)。   At this time, it is preferable that the contact angle of the composition for forming an outer edge regulating film to the glass substrate is 18 ° or more (Claim 2).

また、該外縁規定膜形成用組成物は、該界面活性剤を0.001重量%以上0.1重量%以下含有することが好ましい(請求項3)。   The outer edge regulating film forming composition preferably contains 0.001% by weight or more and 0.1% by weight or less of the surfactant.

さらに、該界面活性剤が、フッ素系界面活性剤またはシリコーン系界面活性剤であることが好ましい(請求項4)。   Furthermore, it is preferable that the surfactant is a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant.

また、該外縁規定膜形成用組成物が、該機能膜に含有される材料を含有することが好ましい(請求項5)。   Moreover, it is preferable that this composition for outer edge regulation film | membrane formation contains the material contained in this functional film (Claim 5).

また、該機能膜が、有機電界発光素子の有機層であることが好ましく(請求項6)、該有機層が、正孔注入層であることが好ましい(請求項7)。   The functional film is preferably an organic layer of an organic electroluminescence device (Claim 6), and the organic layer is preferably a hole injection layer (Claim 7).

本発明の別の要旨は、基材上に、上記の外縁規定膜形成用組成物を用いて外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜に隣接して機能膜を形成することを特徴とする、機能膜の製造方法に存する(請求項8)。   Another gist of the present invention is characterized in that an outer edge defining film is formed on a base material using the above-described outer edge defining film forming composition, and then a functional film is formed adjacent to the outer edge defining film. The functional film manufacturing method (claim 8).

本発明の別の要旨は、基材上に、上記の外縁規定膜形成用組成物を用いて外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜に隣接して有機層を形成することを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法に存する(請求項9)。   Another gist of the present invention is characterized in that an outer edge defining film is formed on a substrate using the above-mentioned composition for forming an outer edge defining film, and then an organic layer is formed adjacent to the outer edge defining film. The present invention resides in a method for manufacturing an organic electroluminescent element.

このとき、有機電界発光素子の製造方法において、該外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜が乾燥する前に、該有機層を形成することが好ましく(請求項10)、該有機層が正孔注入層であることが好ましい(請求項11)。   In this case, in the method for manufacturing an organic electroluminescent element, it is preferable that the organic layer is formed after the outer edge defining film is formed and before the outer edge defining film is dried (claim 10). A hole injection layer is preferred (claim 11).

また、該正孔注入層が、下記式(1)で表わされる繰り返し単位を含むポリマーを含有することも好ましい(請求項12)。

Figure 2009146696
Moreover, it is also preferable that this hole injection layer contains the polymer containing the repeating unit represented by following formula (1) (Claim 12).
Figure 2009146696

本発明の別の要旨は、基材上に、界面活性剤を含有する外縁規定膜、及び該外縁規定膜に隣接して形成された有機層を有することを特徴とする、有機電界発光素子に存する(請求項13)。   Another gist of the present invention is an organic electroluminescent device comprising an outer edge defining film containing a surfactant and an organic layer formed adjacent to the outer edge defining film on a substrate. (Claim 13).

このとき、該外縁規定膜が、上記の外縁規定膜形成用組成物を用いて形成された膜であることが好ましく(請求項14)、また該有機層が正孔注入層であることが好ましい(請求項15)。   At this time, the outer edge defining film is preferably a film formed using the above-described outer edge defining film forming composition (Claim 14), and the organic layer is preferably a hole injection layer. (Claim 15).

本発明の別の要旨は、上記の有機電界発光素子を集合させ、画像を表示することを特徴とする画像表示デバイスに存する(請求項16)。   Another gist of the present invention resides in an image display device characterized in that the organic electroluminescent elements are assembled to display an image.

機能材料を基材上にパターン塗布をする際に、界面活性剤を含有した外縁規定膜形成用組成物をパターン境界外部に塗布しておくことで、塗布パターン外縁部でのにじみが抑制され、安定したパターン形状が得られる。   When applying a pattern to the functional material on the substrate, by applying the outer edge regulating film forming composition containing a surfactant outside the pattern boundary, bleeding at the outer edge of the coating pattern is suppressed, A stable pattern shape can be obtained.

以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下に説明する例示物などに限定されるものではなく、その要旨の範囲内において種々に変更して実施することができる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the examples described below, and can be implemented with various modifications within the scope of the gist thereof.

本発明は、機能膜に隣接して形成され、該機能膜の外縁を規定する外縁規定膜を形成する組成物であって、界面活性剤と溶剤とを含有することを特徴とする、外縁規定膜形成用組成物に関する。また、該外縁規定膜形成用組成物を用いた機能膜の製造方法、有機電界発光素子及びその製造方法、並びに画像表示デバイスに関する。   The present invention relates to a composition for forming an outer edge defining film which is formed adjacent to a functional film and which defines the outer edge of the functional film, comprising a surfactant and a solvent. The present invention relates to a film forming composition. The present invention also relates to a method for producing a functional film, an organic electroluminescent element, a method for producing the same, and an image display device using the outer edge defining film forming composition.

本発明の外縁規定膜形成用組成物を用いることによって、上記の機能膜のパターン外縁部の位置精度を良好にすることができる。以下、該外縁規定膜形成用組成物について説明した後、それを用いて形成した機能膜及びその形成方法、並びに該機能膜を有する有機電界発光素子、及び画像表示デバイスについて説明する。   By using the composition for forming an outer edge defining film of the present invention, the position accuracy of the pattern outer edge portion of the functional film can be improved. Hereinafter, after describing the composition for forming an outer edge defining film, a functional film formed using the composition, a method for forming the functional film, an organic electroluminescent element having the functional film, and an image display device will be described.

なお、本発明において「基材」とは、外縁規定膜及び機能膜を形成する対象物のことをいう。一方「基板」とは、有機電界発光素子を形成するのに土台となる部品のことをいう。例えば、本発明の有機電界発光素子の製造方法において、基材として基板を選択してもよいし、基板上の構造体を選択してもよい。後者の場合、該外縁規定膜と該機能膜とは、該構造体の上に形成されることになる。有機電界発光素子につき詳しくは後述する。   In the present invention, the “base material” refers to an object on which the outer edge defining film and the functional film are formed. On the other hand, the “substrate” refers to a component that serves as a basis for forming an organic electroluminescent element. For example, in the method for manufacturing an organic electroluminescent element of the present invention, a substrate may be selected as the base material, or a structure on the substrate may be selected. In the latter case, the outer edge defining film and the functional film are formed on the structure. Details of the organic electroluminescent device will be described later.

また、本発明において「パターン」とは、機能膜を形成するように設計された領域のことである。この領域の外側を「パターン外部」といい、パターンとパターン外部との境界を「パターン境界」という。
「パターン外縁部」とは、パターンのパターン境界に近傍の部分をいい、特にパターン境界に接する部分を指す。
「パターン境界外部」とは、パターン境界に近傍のパターン外部をいい、特にパターン境界に接する部分を指す。
これらを図5に図示して説明すると、機能膜を実線で囲まれた領域に形成するように設計したとすると、「パターン」とは実線で囲まれた部分の符合100で表わされた領域であり、「パターン外部」とは実線で囲まれた部分100の外部の符合103で表わされた領域であり、「パターン境界」とは実線で書かれた境界線を指す。また、「パターン外縁部」とはパターン100のうち特に符合101で表わされる部分をいい、「パターン境界外部」とはパターン外部103のうち特に符合102で表わされる部分をいう。
In the present invention, the “pattern” refers to a region designed to form a functional film. The outside of this area is called “pattern outside”, and the boundary between the pattern and the outside of the pattern is called “pattern boundary”.
The “pattern outer edge portion” refers to a portion near the pattern boundary of the pattern, and particularly refers to a portion in contact with the pattern boundary.
“Outside pattern boundary” refers to the outside of the pattern adjacent to the pattern boundary, and particularly refers to a portion in contact with the pattern boundary.
These will be described with reference to FIG. 5. Assuming that the functional film is designed to be formed in a region surrounded by a solid line, a “pattern” is a region represented by reference numeral 100 in a part surrounded by a solid line. The “outside pattern” is an area represented by the reference numeral 103 outside the portion 100 surrounded by a solid line, and the “pattern boundary” indicates a boundary line written by a solid line. The “pattern outer edge portion” refers to a portion of the pattern 100 particularly represented by reference numeral 101, and the “outside of the pattern boundary” refers to a portion of the pattern outer portion 103 particularly represented by reference numeral 102.

[1.外縁規定膜形成用組成物]
外縁規定膜とは、機能膜に隣接して設けることで、機能膜の外縁部のにじみ(パターン外部に塗れ広がり)を防止し、機能膜外縁部の位置を規定する膜のことをいう。
機能膜を単に塗布形成した場合には、塗布後、乾燥の経過にあわせてにじみが発生する傾向にある。このにじみによって、パターン形状の精度は低下する。さらににじみの部分は、本来のパターン内に形成された部分に比較して厚さが一定ではなくなり、パターンエッジ付近で膜厚のムラが発生する傾向にある。膜厚のムラが発生すると、例えば機能膜が導電体であった場合には導電率が異なったり、機能膜が有機電界発光素子の発光層であった場合には発光の強度が異なったりするため、機能膜の品質が低下する傾向にある。
[1. Composition for forming outer edge regulating film]
The outer edge defining film refers to a film that is provided adjacent to the functional film to prevent the outer edge of the functional film from bleeding (spreading outside the pattern) and to define the position of the outer edge of the functional film.
When the functional film is simply formed by coating, bleeding tends to occur with the progress of drying after coating. Due to this bleeding, the accuracy of the pattern shape decreases. Further, the thickness of the blurred portion is not constant as compared with the portion formed in the original pattern, and the film thickness tends to be uneven near the pattern edge. When unevenness of the film thickness occurs, for example, when the functional film is a conductor, the conductivity is different, and when the functional film is a light emitting layer of an organic electroluminescent element, the intensity of light emission is different. The quality of the functional film tends to be lowered.

本発明の外縁規定膜形成用組成物は、界面活性剤と溶剤とを含有した組成物であり、機能膜を形成する前に、そのパターン外縁部に該組成物を塗布して外縁規定膜を形成することによって、機能膜のにじみを防止することができる。以下、外縁規定膜形成用組成物について説明する。   The composition for forming an outer edge regulating film of the present invention is a composition containing a surfactant and a solvent. Before forming a functional film, the composition is applied to the outer edge of the pattern to form an outer edge regulating film. By forming, bleeding of the functional film can be prevented. Hereinafter, the composition for forming an outer edge regulating film will be described.

(界面活性剤)
本発明の外縁規定膜形成用組成物は界面活性剤を含有する。本発明に言う界面活性剤とは、親油基(低極性)と親水基(高極性)とを備えた分子のことをいう。
(Surfactant)
The outer edge regulating film forming composition of the present invention contains a surfactant. The surfactant referred to in the present invention refers to a molecule having a lipophilic group (low polarity) and a hydrophilic group (high polarity).

界面活性剤は、上記の定義に沿った化合物であれば公知の何れの界面活性剤を用いることもできる。具体例としては、親油基がフッ化炭素基のフッ素系界面活性剤、親油基がシロキサン鎖のシリコーン系界面活性剤、親油基がアルキル基の界面活性剤等が挙げられる。中でもフッ素系界面活性剤(中でもパーフルオロアルキル基を含有するもの)、及びシリコーン系界面活性剤(中でもシロキサン結合を含有するもの)が好ましく、フッ素系界面活性剤(中でもパーフルオロアルキル基を含有するもの)が特に好ましい。
これらの界面活性剤の親水基は、例えば、水酸基、カルボニル基、カルボキシル基等が好ましい。またポリエーテル、ポリグリセリン等も好ましい。
これらの界面活性剤は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
As the surfactant, any known surfactant can be used as long as the compound meets the above definition. Specific examples include fluorine-based surfactants whose lipophilic group is a fluorocarbon group, silicone-based surfactants whose lipophilic group is a siloxane chain, surfactants whose lipophilic group is an alkyl group, and the like. Of these, fluorine surfactants (especially those containing perfluoroalkyl groups) and silicone surfactants (especially those containing siloxane bonds) are preferred, and fluorine surfactants (especially those containing perfluoroalkyl groups). Are particularly preferred.
The hydrophilic group of these surfactants is preferably, for example, a hydroxyl group, a carbonyl group, a carboxyl group or the like. Polyether, polyglycerin and the like are also preferable.
One of these surfactants may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio.

(溶剤)
外縁規定膜形成用組成物に含有される溶剤は、上述の界面活性剤を溶解できれば制限はない。中でも、外縁規定膜形成用組成物を塗布するときの作業性の観点から、揮発速度が極端に速かったり、遅かったりしない方が好ましい。また、基材、及びその表面に形成される構造物を腐食しないことが好ましい。
(solvent)
The solvent contained in the composition for forming an outer edge regulating film is not limited as long as the above-described surfactant can be dissolved. Among these, from the viewpoint of workability when applying the outer edge regulating film forming composition, it is preferable that the volatilization rate is not extremely fast or slow. Moreover, it is preferable not to corrode a base material and the structure formed in the surface.

そのような溶剤としては、例えば、炭化水素、アルコール、エーテル、ケトン、エステル等が挙げられる。   Examples of such a solvent include hydrocarbons, alcohols, ethers, ketones, esters and the like.

炭化水素としては、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、テトラリン、ブチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン等が挙げられる。   Examples of the hydrocarbon include toluene, xylene, ethylbenzene, trimethylbenzene, tetralin, butylbenzene, cyclohexylbenzene, and the like.

アルコールとしては、例えば、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、ペンチルアルコール、アミルアルコール、ヘキシルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等が挙げられる。   Examples of the alcohol include ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, pentyl alcohol, amyl alcohol, hexyl alcohol, benzyl alcohol, and cyclohexanol.

エーテルとしては、例えば、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アニソール、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、メチルアニソール、エチルベンジルエーテル、ジフェニルエーテル、ジメトキシベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。   Examples of the ether include dibutyl ether, dihexyl ether, anisole, phenetole, butyl phenyl ether, methyl anisole, ethyl benzyl ether, diphenyl ether, dimethoxybenzene, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono Examples include butyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether.

ケトンとしては、例えば、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルペンチルケトン、ジプロピルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン、メチルフェニルケトン等が挙げられる。   Examples of the ketone include methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, diethyl ketone, butyl methyl ketone, methyl pentyl ketone, dipropyl ketone, isophorone, cyclohexanone, and methyl phenyl ketone.

エステルとしては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、メトキシブチルアセタート、エチルブチルアセタート、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセタート等が挙げられる。   Examples of the ester include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, pentyl acetate, methoxybutyl acetate, ethyl butyl acetate, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, methyl benzoate, and ethyl benzoate. , Propyl benzoate, butyl benzoate, γ-butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, etc. Is mentioned.

また、外縁規定膜形成用組成物に使用される溶剤の少なくとも一種は、機能膜を形成するのに使用される溶剤のうち少なくとも一種と同じものであることが好ましい。機能膜の形成方式と同じ方法で外縁規定膜を形成することができ、機能膜を乾燥するプロセスにて同時に外縁規定膜も乾燥することができるためである。   Moreover, it is preferable that at least 1 type of the solvent used for the composition for outer edge regulation film | membrane formation is the same as at least 1 type among the solvents used for forming a functional film. This is because the outer edge defining film can be formed by the same method as the functional film forming method, and the outer edge defining film can be simultaneously dried in the process of drying the functional film.

また、これらの溶剤は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   In addition, these solvents may be used alone or in combinations of two or more in any ratio.

溶剤の沸点は、通常60℃以上、好ましくは80℃以上、さらに好ましくは100℃以上、また、通常300℃以下、好ましくは250℃以下、さらに好ましくは200℃以下である。この範囲を下回ると、揮発性が高いため塗布形成の作業性が低下する可能性がある。また、この範囲を上回ると、乾燥のために高い温度にする必要があり、機能膜が変性しやすくなる傾向にある。   The boiling point of the solvent is usually 60 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and usually 300 ° C. or lower, preferably 250 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower. Below this range, the workability of coating formation may be reduced due to high volatility. Further, if it exceeds this range, it is necessary to raise the temperature for drying, and the functional film tends to be easily denatured.

(その他の含有物)
本発明の外縁規定膜形成用組成物は、本発明の効果を著しく損なわない限り、上記の界面活性剤や溶剤の他に、他の化合物を含有していてもよい。例えば、機能膜に含有される材料等を含有させてもよい。これにより、機能膜を塗布形成する時に外縁規定膜形成用組成物と接触し混合した場合でも、機能膜外縁部の組成の変化を低減させ、機能膜の品質を維持できるためである。機能膜に含有される材料は、以下機能膜の材料として例示するものである。
(Other contents)
The composition for forming an outer edge regulating film of the present invention may contain other compounds in addition to the surfactant and the solvent as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, a material contained in the functional film may be included. This is because, even when the functional film is applied and formed, even when it contacts and mixes with the outer edge regulating film forming composition, the change in the composition of the outer edge of the functional film can be reduced and the quality of the functional film can be maintained. The materials contained in the functional film are exemplified as the functional film materials below.

また、外縁規定膜の形成を確認しやすくするために、色素などを含有していてもよい。   Moreover, in order to make it easy to confirm the formation of the outer edge regulating film, a pigment or the like may be contained.

(外縁規定膜形成用組成物の物性)
外縁規定膜形成用組成物の界面活性剤の含有量は、通常0.001重量%以上、好ましくは0.002重量%以上、さらに好ましくは0.005重量%以上、また、通常0.1重量%以下、好ましくは0.05重量%以下、さらに好ましくは0.02重量%以下である。
この範囲を外れると、外縁規定膜表面の界面活性剤の量が過剰となったり不足したりするために、外縁規定膜形成用組成物のにじみが発生する傾向にある。ゆえに外縁規定膜の位置精度が低下し、それにより機能膜の位置精度も低下する可能性がある。
(Physical properties of the outer edge regulating film forming composition)
The content of the surfactant in the composition for forming the outer edge regulating film is usually 0.001% by weight or more, preferably 0.002% by weight or more, more preferably 0.005% by weight or more, and usually 0.1% by weight. % Or less, preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.02% by weight or less.
Outside this range, the amount of surfactant on the surface of the outer edge defining film becomes excessive or insufficient, and the composition for forming the outer edge defining film tends to bleed. Therefore, the positional accuracy of the outer edge defining film is lowered, and there is a possibility that the positional accuracy of the functional film is also lowered.

外縁規定膜形成用組成物のガラス基材における接触角は、通常18°以上、好ましくは25°以上、さらに好ましくは30°以上、また、通常60°以下である。この値が高いほど、外縁規定膜形成用組成物を塗布するときの位置精度が向上し、それにより機能膜のにじみが低下する。   The contact angle of the composition for forming an outer edge regulating film on the glass substrate is usually 18 ° or more, preferably 25 ° or more, more preferably 30 ° or more, and usually 60 ° or less. The higher this value, the higher the positional accuracy when applying the outer edge defining film forming composition, thereby reducing the bleeding of the functional film.

ここでガラス基材への接触角とは、ガラス基材(ホウケイ酸(クラウン)ガラスの板ガラス)に、外縁規定膜形成用組成物0.3μLをアプライし、該組成物とガラス基材との接触角を接触角測定装置(協和界面科学株式会社製(CA−DT型))を用いて測定した値である。   Here, the contact angle to the glass substrate means that 0.3 μL of the composition for forming an outer edge regulating film is applied to a glass substrate (a sheet glass of borosilicate (crown) glass), and the composition and the glass substrate It is the value which measured the contact angle using the contact angle measuring apparatus (Kyowa Interface Science Co., Ltd. product (CA-DT type | mold)).

[2.機能膜]
本発明に係る機能膜とは、例えば、エネルギー変換膜(光電変換膜、電界発光膜)、電荷伝導・絶縁膜(電極、正孔輸送層、電荷注入層、電気絶縁膜、電気抵抗膜)、光学膜(偏向フィルター膜、カラーフィルター膜、光遮断膜(マスク))、保護膜、平滑化膜、接着膜等、特定の機能を発現することを目的とする膜のことをいう。
[2. Functional membrane]
The functional film according to the present invention includes, for example, an energy conversion film (photoelectric conversion film, electroluminescent film), a charge conduction / insulation film (electrode, hole transport layer, charge injection layer, electrical insulation film, electrical resistance film), An optical film (a deflection filter film, a color filter film, a light blocking film (mask)), a protective film, a smoothing film, an adhesive film, or the like is intended to express a specific function.

本発明に係る機能膜は、本発明の外縁規定膜形成用組成物を用いて外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜に隣接して形成されることを特徴とする。従って、機能膜の材料は、目的の機能を発現するための材料もしくは機能膜の形状を保持するための材料であって、有機溶剤もしくは水等に容易に溶解もしくは分散する材料であれば、制限はない。
以下、機能膜について説明する。
The functional film according to the present invention is characterized by being formed adjacent to the outer edge defining film after the outer edge defining film is formed using the outer edge defining film forming composition of the present invention. Therefore, the material of the functional film is not limited as long as it is a material for expressing the target function or a material for maintaining the shape of the functional film and can be easily dissolved or dispersed in an organic solvent or water. There is no.
Hereinafter, the functional film will be described.

(材料)
本発明に係る機能膜は、上述のように様々な機能を有する膜の総称である。従って、その材料としては、その目的に従って、電荷輸送材料、電荷発生材料、電界発光材料、電気絶縁材料、偏光材料、及びバインダー材料などが挙げられる。
また、材料の形態で分類すると、有機高分子材料、有機低分子材料、有機顔料、無機顔料、有機染料、無機染料、及び無機粒子などが挙げられる。
(material)
The functional film according to the present invention is a general term for films having various functions as described above. Accordingly, examples of the material include a charge transport material, a charge generation material, an electroluminescent material, an electrically insulating material, a polarizing material, and a binder material according to the purpose.
Further, when classified by the form of the material, organic polymer materials, organic low molecular materials, organic pigments, inorganic pigments, organic dyes, inorganic dyes, inorganic particles, and the like can be given.

これらの中でも、本発明に係る機能膜は有機電界発光素子の有機層であることが好ましい。中でも正孔注入層であることが好ましい。有機電界発光素子の有機層の材料等については後述する。   Among these, the functional film according to the present invention is preferably an organic layer of an organic electroluminescent element. Among these, a hole injection layer is preferable. The material of the organic layer of the organic electroluminescent element will be described later.

(溶剤)
上述のように、機能膜の材料は、溶剤(有機溶剤もしくは水)に容易に溶解若しくは分散する材料である。
ここで、有機溶剤としては、[1.外縁規定膜形成用組成物]の(溶剤)で説明した溶剤が好ましい。また、機能膜を形成するのに使用される溶剤のうち少なくとも一種は、外縁規定膜形成用組成物に使用される溶剤の少なくとも一種と同じものであることが好ましい。
これらの溶剤は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
(solvent)
As described above, the functional film material is a material that is easily dissolved or dispersed in a solvent (organic solvent or water).
Here, as an organic solvent, [1. The solvent described in (solvent) of the outer edge regulating film forming composition] is preferable. Moreover, it is preferable that at least one of the solvents used for forming the functional film is the same as at least one of the solvents used in the outer edge defining film forming composition.
One of these solvents may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio.

(その他の含有物)
本発明に係る機能膜は、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の化合物を含有していてもよい。例えば、酸化防止剤や分散助剤等を混合することができる。機能膜を形成する材料の安定性を保持できる。
これらの化合物の混合方法には制限はなく、機能膜を塗布形成後に該機能膜に含浸させてもよいし、塗布形成するための機能膜材料の溶液若しくは分散液に含有させてもよい。
(Other contents)
The functional film according to the present invention may contain any compound as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, an antioxidant or a dispersion aid can be mixed. The stability of the material forming the functional film can be maintained.
There is no limitation on the method of mixing these compounds, and the functional film may be impregnated in the functional film after coating formation, or may be contained in a solution or dispersion of the functional film material for coating formation.

(機能膜の材料の含有率)
機能膜の材料の溶液若しくは分散液(以下、適宜「機能膜形成用組成物」ということがある。)において、機能膜の材料の含有率は、所望の機能膜の厚さに依存する。例えば、機能膜の厚さが1μm以下の薄膜である場合は、通常20重量%以下、好ましくは15重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下である。機能膜の所望の厚さが大きくなるほど、該含有率が大きいほど効率のよい膜形成が可能となる。また、該含有率の上限は、通常70重量%以下、好ましくは50重量%以下、さらに好ましくは30重量%以下である。機能膜の材料の溶剤への溶解度や、塗布形成の方法の種類に適した含有率の範囲によって決定すればよい。
(Content rate of functional membrane materials)
In a functional film material solution or dispersion (hereinafter sometimes referred to as “functional film-forming composition” as appropriate), the functional film material content depends on the desired functional film thickness. For example, when the functional film is a thin film having a thickness of 1 μm or less, it is usually 20% by weight or less, preferably 15% by weight or less, and more preferably 10% by weight or less. As the desired thickness of the functional film increases and the content rate increases, the film can be formed more efficiently. The upper limit of the content is usually 70% by weight or less, preferably 50% by weight or less, and more preferably 30% by weight or less. What is necessary is just to determine by the range of the content rate suitable for the solubility to the solvent of the material of a functional film, and the kind of method of application | coating formation.

(機能膜形成用組成物の物性)
本発明に係る機能膜形成用組成物は、外縁規定膜形成用組成物と混合し難いことが好ましい。具体的には、ガラス基材上に機能膜形成用組成物0.5μL(マイクロリットル)と外縁規定膜形成用組成物0.5μLとを2mmの間隔で滴下塗布した場合に、互いの組成物の混合しない時間が、通常1分以上、好ましくは3分以上、特に好ましくは10分以上であり、中でも全く混合しないことが好ましい。容易に混合すると、機能膜の外縁部において外縁規定膜形成用組成物との混合による組成の変化が生じ、均質な機能膜が得にくくなる傾向にあるためである。
(Physical properties of functional film forming composition)
The composition for forming a functional film according to the present invention is preferably difficult to mix with the composition for forming an outer edge defining film. Specifically, when 0.5 μL (microliter) of the functional film forming composition and 0.5 μL of the outer edge regulating film forming composition are dropped onto the glass substrate at intervals of 2 mm, the compositions of each other are formed. The time for not mixing is usually 1 minute or longer, preferably 3 minutes or longer, particularly preferably 10 minutes or longer. This is because, when mixed easily, a composition change occurs due to mixing with the outer edge defining film forming composition at the outer edge portion of the functional film, and it tends to be difficult to obtain a homogeneous functional film.

[3.機能膜の製造方法]
本発明の機能膜の形成方法は、基材上に、本発明の外縁規定膜形成用組成物を用いて外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜に隣接して機能膜を形成することを特徴とする。また、このとき機能膜が有機層であることも好ましい。
以下、本発明の機能膜の製造方法について説明する。
[3. Functional membrane production method]
According to the method for forming a functional film of the present invention, an outer edge defining film is formed on a substrate using the outer edge defining film forming composition of the present invention, and then a functional film is formed adjacent to the outer edge defining film. It is characterized by. At this time, it is also preferable that the functional film is an organic layer.
Hereafter, the manufacturing method of the functional film of this invention is demonstrated.

(外縁規定膜の形成)
外縁規定膜は、機能層のパターン外部において、パターンに隣接するように外縁規定膜形成用組成物を塗布して形成する。
該塗布方法は、本発明の効果を著しく損なわない限り制限はない。例えば、スプレーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、ノズルプリンティング法、オフセット印刷法、エアロゾル法、エアロゾルジェット法等、パターンニングができれば接触塗布、非接触塗布のいずれでもよい。
また、これらの方法のうち1種類を単独で行なってもよく、また2種類以上を任意の組み合わせで行なってもよい。2種類以上の場合には、同時に行なってもよいし、順次行なってもよい。
(Formation of outer edge regulation film)
The outer edge defining film is formed by applying the outer edge defining film forming composition so as to be adjacent to the pattern outside the pattern of the functional layer.
The coating method is not limited as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, the spray coating method, the ink jet method, the screen printing method, the flexographic printing method, the nozzle printing method, the offset printing method, the aerosol method, the aerosol jet method, and the like may be any of contact coating and non-contact coating as long as patterning is possible.
In addition, one of these methods may be performed alone, or two or more may be performed in any combination. In the case of two or more types, they may be performed simultaneously or sequentially.

外縁規定膜形成用組成物の塗布後、機能膜の形成前に乾燥を行なってもよい。
乾燥の方法としては、例えば、真空乾燥、熱風乾燥、赤外線乾燥、ホットプレート乾燥等が挙げられる。
また、これらの方法のうち1種類を単独で行なってもよく、また2種類以上を任意の組み合わせで行なってもよい。2種類以上の場合には、同時に行なってもよいし、順次行なってもよい。
You may dry after application | coating of the composition for outer edge regulation film formation, and before formation of a functional film.
Examples of the drying method include vacuum drying, hot air drying, infrared drying, hot plate drying, and the like.
In addition, one of these methods may be performed alone, or two or more may be performed in any combination. In the case of two or more types, they may be performed simultaneously or sequentially.

機能材料を形成する際の、外縁規定膜形成用組成物の乾燥の状態は、完全に乾燥していてもよいし、乾燥が未完了の状態でもよいし、乾燥を行なっていなくてもよい。ただし、界面活性剤の種類によっては、乾燥が未完了の状態、若しくは乾燥を行なっていない状態だと、外縁規定膜形成用組成物の安定性が低下する可能性がある。従って、外縁規定膜形成用組成物の組成によって、適宜、乾燥の状態を選択すればよい。   When the functional material is formed, the outer edge regulating film forming composition may be completely dried, may not be completely dried, or may not be dried. However, depending on the type of the surfactant, if the drying is not completed or is not performed, the stability of the outer edge regulating film forming composition may be lowered. Therefore, the dry state may be appropriately selected depending on the composition of the outer edge regulating film forming composition.

乾燥が未完了の場合、若しくは乾燥を行なわない場合、外縁規定膜の厚さは、通常1μm以上、好ましくは5μm以上、また、通常500μm以下、好ましくは200μm以下である。この範囲を下回ると、外縁規定膜が不連続化する可能性がある。また、この範囲を上回ると、外縁規定膜の面積が増大して他の機能膜の配置に障害となる可能性がある。
また、完全に乾燥させた外縁規定膜の厚さは、通常100μm以下、好ましくは20μm以下である。この範囲を上回ると、機能膜を含む素子の厚みを増大させてしまう可能性がある。
When drying is not completed or when drying is not performed, the thickness of the outer edge regulating film is usually 1 μm or more, preferably 5 μm or more, and usually 500 μm or less, preferably 200 μm or less. Below this range, the outer edge defining membrane may become discontinuous. On the other hand, if it exceeds this range, the area of the outer edge defining film may increase, which may hinder the arrangement of other functional films.
Further, the thickness of the outer edge regulating film that has been completely dried is usually 100 μm or less, preferably 20 μm or less. If it exceeds this range, the thickness of the element including the functional film may be increased.

(機能膜の形成)
外縁規定膜を形成した後、外縁規定膜で縁取られたパターンに、機能膜を形成する。有機膜を形成する場合には、前記した機能膜の材料のうち有機膜の材料を用いて形成する。
機能膜の形成は塗布法で行なうことが好ましく、スプレーコート法、インクジェット法、ノズルプリンティング法、エアロゾル法、エアロゾルジェット法等の基材と非接触塗布によって形成することが好ましい。中でもインクジェット法、ノズルプリンティング法、エアロゾルジェット法が好ましい。マスクを用いることなく位置決めを行って塗布パターンを形成することができるためである。
また、これらの方法のうち1種類を単独で行なってもよく、また2種類以上を任意の組み合わせで行なってもよい。2種類以上の場合には、同時に行なってもよいし、順次行なってもよい。
(Formation of functional film)
After forming the outer edge defining film, a functional film is formed in a pattern bordered by the outer edge defining film. In the case of forming an organic film, the organic film material is used among the functional film materials described above.
The functional film is preferably formed by a coating method, and preferably formed by non-contact coating with a substrate such as a spray coating method, an ink jet method, a nozzle printing method, an aerosol method, an aerosol jet method or the like. Of these, the inkjet method, the nozzle printing method, and the aerosol jet method are preferable. This is because a coating pattern can be formed by positioning without using a mask.
In addition, one of these methods may be performed alone, or two or more may be performed in any combination. In the case of two or more types, they may be performed simultaneously or sequentially.

機能膜の形成を塗布法で行なった場合には、乾燥を行なうことが好ましい。乾燥の方法としては、真空乾燥、熱風乾燥、赤外線乾燥、ホットプレート乾燥等が挙げられる。
また、これらの方法のうち1種類を単独で行なってもよく、また2種類以上を任意の組み合わせで行なってもよい。2種類以上の場合には、同時に行なってもよいし、順次行なってもよい。
When the functional film is formed by a coating method, it is preferable to perform drying. Examples of the drying method include vacuum drying, hot air drying, infrared drying, and hot plate drying.
In addition, one of these methods may be performed alone, or two or more may be performed in any combination. In the case of two or more types, they may be performed simultaneously or sequentially.

ただし、形成した機能膜の種類によっては、乾燥をするときの温度で変成する場合がある。このときは、上記乾燥方法のうち非加熱で行なうものを選択したり、自然乾燥を選択したり、又は変成しない温度で乾燥することが好ましい。   However, depending on the type of the functional film formed, it may be transformed at the temperature used for drying. In this case, it is preferable to select a drying method that is performed without heating, to select natural drying, or to dry at a temperature that does not change.

[4.有機電界発光素子及びその製造方法]
本発明の有機電界発光素子は、基材上に、界面活性剤を含有する外縁規定膜、及び該外縁規定膜に隣接して形成された有機層を有することを特徴とする。このとき該外縁規定膜が、本発明の外縁規定膜形成用組成物を用いて形成されることが好ましい。
[4. Organic electroluminescent device and method for producing the same]
The organic electroluminescent element of the present invention is characterized by having, on a base material, an outer edge defining film containing a surfactant and an organic layer formed adjacent to the outer edge defining film. At this time, it is preferable that the outer edge regulating film is formed using the outer edge regulating film forming composition of the present invention.

本発明の有機電界発光素子は、上記の特徴を有していれば、本発明の効果を著しく損なわない限り制限はなく、その構造、層構成、及び大きさ等は、公知の何れの形態を有してもよい。即ち、有機電界発光素子として、少なくとも2つの電極の間に発光層を有している構成であればよく、有機電界発光素子の設計によって正孔注入層等の他の層を有していてもよい。また、2つ以上の有機電界発光素子が一部の層を共有するような構成(例えば、1つの基板、電極、正孔注入層の積層体の上に、有機電界発光素子の区画ごとに発光層等形成するような構成)を有していてもよい。   The organic electroluminescent element of the present invention is not limited as long as it has the above-described characteristics, as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, and the structure, layer structure, size, etc. thereof are any known form. You may have. In other words, the organic electroluminescent element may be configured to have a light emitting layer between at least two electrodes, and may have other layers such as a hole injection layer depending on the design of the organic electroluminescent element. Good. In addition, a configuration in which two or more organic electroluminescent elements share a part of the layer (for example, light emission for each section of the organic electroluminescent element on a laminate of one substrate, an electrode, and a hole injection layer) A structure in which layers and the like are formed).

本発明においては、上述の有機電界発光素子の一例として、図1〜図4の模式図を用いて、該図面に表現されている有機電界発光素子について説明する。   In the present invention, as an example of the above-described organic electroluminescent element, the organic electroluminescent element represented in the drawing will be described with reference to the schematic diagrams of FIGS.

図1は、上記実施形態における有機電界発光素子の構造を模式的に示す断面図である。図1に示す有機電界発光素子10aは、基板1の上に、陽極2、正孔注入層3、正孔輸送層4、発光層5、及び陰極6を有する。
本発明の有機電界発光素子の有する有機層は、公知の有機電界発光素子が有する有機層であれば何れの層であってもよいが、中でも正孔注入層であることが好ましい。
以下、まず本発明の有機電界発光素子の製造方法につき説明した上で、上記各層について説明する。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the organic electroluminescent element in the embodiment. An organic electroluminescent element 10 a shown in FIG. 1 has an anode 2, a hole injection layer 3, a hole transport layer 4, a light emitting layer 5, and a cathode 6 on a substrate 1.
The organic layer of the organic electroluminescent element of the present invention may be any layer as long as it is an organic layer of a known organic electroluminescent element, but is preferably a hole injection layer.
In the following, the method for producing the organic electroluminescent element of the present invention is described first, and then each of the above layers is described.

<4−1.本発明の有機電界発光素子の製造方法>
本発明の有機電界発光素子の製造方法は、基材上に、本発明の外縁規定膜形成用組成物を用いて外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜に隣接して有機層を形成することを特徴とする。該有機層は、少なくとも有機電界発光素子の有機層のうち、何れか1層であればよく、2層以上であってもよく、全ての有機層であってもよい。ただし、中でも該有機層が正孔注入層であることが好ましい。正孔注入層は、複数の有機電界発光素子を含めた領域をその形成パターンとすることが多く、したがってパターン境界の形状が単純でその長さも基板外周長と同等オーダーで大きくないため、外縁規定膜の形成が容易であるにもかかわらず十分な効果を得ることができるためである。
<4-1. Manufacturing method of organic electroluminescent element of the present invention>
In the method for producing an organic electroluminescent element of the present invention, an outer edge defining film is formed on a substrate using the outer edge defining film forming composition of the present invention, and then an organic layer is formed adjacent to the outer edge defining film. It is characterized by doing. The organic layer may be at least one of the organic layers of the organic electroluminescent element, may be two or more layers, or may be all organic layers. However, among these, the organic layer is preferably a hole injection layer. The hole injection layer often has an area including a plurality of organic electroluminescent elements as its formation pattern. Therefore, the shape of the pattern boundary is simple and the length is not as large as the outer peripheral length of the substrate. This is because a sufficient effect can be obtained even though the formation of the film is easy.

例えば、該有機層が、図1の有機電界発光素子の正孔注入層3である場合だと、基材(即ち、陽極2)上の、正孔注入層3のパターン境界外部に、本発明の外縁規定膜形成用組成物を塗布し、外縁規定膜を形成する。   For example, when the organic layer is the hole injection layer 3 of the organic electroluminescence device of FIG. 1, the present invention is provided outside the pattern boundary of the hole injection layer 3 on the base material (that is, the anode 2). The outer edge regulating film forming composition is applied to form an outer edge regulating film.

(外縁規定膜の形成)
外縁規定膜形成用組成物の塗布方法としては、[3.機能膜の製造方法]で説明した何れの方法を用いて行なってもよい。ただし、有機電界発光素子の製造するときには、インクジェット法、オフセット印刷法、エアロゾルジェット法が好ましい。塗布方法としては、1種類を単独で行なってもよく、また2種類以上を任意の組み合わせで行なってもよい。2種類以上の場合には、同時に行なってもよいし、順次行なってもよい。
(Formation of outer edge regulation film)
As a method for applying the outer edge regulating film forming composition, [3. Any of the methods described in “Method for producing functional film” may be used. However, when manufacturing an organic electroluminescent element, an inkjet method, an offset printing method, and an aerosol jet method are preferable. As a coating method, one type may be performed alone, or two or more types may be performed in any combination. In the case of two or more types, they may be performed simultaneously or sequentially.

外縁規定膜形成用組成物の塗布後、有機層(上述の例なら、正孔注入層3)の形成前に乾燥を行なってもよい。
乾燥の方法としては、[3.機能膜の製造方法]で説明した何れの方法を用いて行なってもよい。
塗布方法としては、1種類を単独で行なってもよく、また2種類以上を任意の組み合わせで行なってもよい。2種類以上の場合には、同時に行なってもよいし、順次行なってもよい。
You may dry after application | coating of the composition for outer edge regulation film formation, and before formation of an organic layer (in the above-mentioned example, hole injection layer 3).
As a drying method, [3. Any of the methods described in “Method for producing functional film” may be used.
As a coating method, one type may be performed alone, or two or more types may be performed in any combination. In the case of two or more types, they may be performed simultaneously or sequentially.

有機層(上述の例なら、正孔注入層3)を形成する際の、外縁規定膜形成用組成物の乾燥の状態は、完全に乾燥していてもよいし、乾燥が未完了の状態でもよいし、乾燥を行なっていなくてもよい。中でも、外縁規定膜が乾燥する前に、有機層を形成することが好ましい。したがって、外縁規定膜の塗布後、乾燥プロセスを経ることなく、ただちに有機層を塗布することができ、これにより製造プロセスの簡素化が可能となる。また、有機層を塗布するプロセス中に外縁規定膜の一部が乾燥しても効果が得られるため、外縁規定膜の乾燥速度を制御する特別な手段は用いなくてもよい。   When the organic layer (in the above example, the hole injection layer 3) is formed, the outer edge regulating film forming composition may be completely dried or may not be completely dried. It does not have to be dry. In particular, it is preferable to form the organic layer before the outer edge regulating film is dried. Therefore, the organic layer can be applied immediately after the outer edge regulating film is applied without passing through a drying process, thereby simplifying the manufacturing process. In addition, since an effect can be obtained even if a part of the outer edge defining film is dried during the process of applying the organic layer, a special means for controlling the drying rate of the outer edge defining film may not be used.

乾燥が未完了の場合、若しくは乾燥を行なわない場合、外縁規定膜の厚さは、通常1μm以上、好ましくは5μm以上、また、通常500μm以下、好ましくは200μm以下である。この範囲を下回ると、外縁規定膜が不連続化する可能性がある。また、この範囲を上回ると、外縁規定膜の面積が増大し他の有機膜の配置に障害となる可能性がある。
また、完全に乾燥させた外縁規定膜の厚さは、通常20μm以下、好ましくは5μm以下である。この範囲を上回ると、有機電界発光デバイスの他の構造体(電極など)の配置に障害となる可能性がある。
When drying is not completed or when drying is not performed, the thickness of the outer edge regulating film is usually 1 μm or more, preferably 5 μm or more, and usually 500 μm or less, preferably 200 μm or less. Below this range, the outer edge defining membrane may become discontinuous. On the other hand, if it exceeds this range, the area of the outer edge defining film increases, which may hinder the arrangement of other organic films.
Further, the thickness of the outer edge regulating film that has been completely dried is usually 20 μm or less, preferably 5 μm or less. Beyond this range, there is a possibility that the arrangement of other structures (electrodes, etc.) of the organic electroluminescent device will be an obstacle.

(有機層の形成)
外縁規定膜で縁取られたパターンに、有機層(上述の例なら、正孔注入層3)を形成する。機能膜の形成は塗布法で行なうことが好ましく、具体的には、[3.機能膜の製造方法]で説明した何れの方法を用いて行なってもよい。ただし、有機電界発光素子の製造するときには、インクジェット法、ノズルプリンティング法、エアロゾルジェット法が好ましい。塗布方法としては、1種類を単独で行なってもよく、また2種類以上を任意の組み合わせで行なってもよい。2種類以上の場合には、同時に行なってもよいし、順次行なってもよい。
(Formation of organic layer)
An organic layer (in the above example, hole injection layer 3) is formed in the pattern bordered by the outer edge defining film. The functional film is preferably formed by a coating method. Specifically, [3. Any of the methods described in “Method for producing functional film” may be used. However, when manufacturing an organic electroluminescent element, an inkjet method, a nozzle printing method, and an aerosol jet method are preferable. As a coating method, one type may be performed alone, or two or more types may be performed in any combination. In the case of two or more types, they may be performed simultaneously or sequentially.

機能膜の形成を塗布法で行なった場合には、乾燥を行なうことが好ましい。乾燥の方法としては、[3.機能膜の製造方法]で説明した何れの方法を用いて行なってもよい。
乾燥方法としては、1種類を単独で行なってもよく、また2種類以上を任意の組み合わせで行なってもよい。2種類以上の場合には、同時に行なってもよいし、順次行なってもよい。
When the functional film is formed by a coating method, it is preferable to perform drying. As a drying method, [3. Any of the methods described in “Method for producing functional film” may be used.
As a drying method, one type may be performed alone, or two or more types may be performed in any combination. In the case of two or more types, they may be performed simultaneously or sequentially.

ただし、形成した機能膜の種類によっては、乾燥をするときの温度で変成する場合がある。このときは、上記乾燥方法のうち非加熱で行なうものを選択したり、自然乾燥を選択したり、又は変成しない温度で乾燥することが好ましい。   However, depending on the type of the functional film formed, it may be transformed at the temperature used for drying. In this case, it is preferable to select a drying method that is performed without heating, to select natural drying, or to dry at a temperature that does not change.

<4−2.基板>
基板1は有機電界発光素子10aの支持体となるものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシート等が用いられる。特にガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホン等の透明な合成樹脂の板等、汎用材料からなる透明基板を用いることが好ましい。
<4-2. Substrate>
The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescent element 10a, and a quartz or glass plate, a metal plate or a metal foil, a plastic film, a sheet, or the like is used. In particular, it is preferable to use a transparent substrate made of a general-purpose material such as a glass plate, a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, or polysulfone.

基板1の材料の例としては、BK7、SF11、LaSFN9、BaK1、F2などの各種ショットガラス、合成フェーズドシリカガラス、光学クラウンガラス、低膨張ボロシリケートガラス、サファイヤガラス、ソーダガラス、無アルカリガラスなどのガラス、TFTが形成されたガラス、高分子材料としては、ポリメチルメタクリレートや架橋アクリレートなどのアクリル樹脂、ピスフェノールAポリカーボネートなどの芳香族ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリシクロオレフィンなどの非晶性ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレンなどのスチレン樹脂、ポリエーテルスルホンなどのポリスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂などの合成樹脂、等が挙げられる。また、これらのうち2種以上の積層体であってもよい。目的と用途に応じて、これらの基板の上に反射防止フィルム、円偏光フィルム、位相差フィルムなどの光学フィルムを形成、若しくは貼り合わせてもよい。   Examples of the material of the substrate 1 include various types of shot glass such as BK7, SF11, LaSFN9, BaK1, and F2, synthetic phased silica glass, optical crown glass, low expansion borosilicate glass, sapphire glass, soda glass, and alkali-free glass. Glass, TFT-formed glass, and polymer materials include acrylic resins such as polymethylmethacrylate and cross-linked acrylate, aromatic polycarbonate resins such as bisphenol A polycarbonate, polyester resins such as polyethylene terephthalate, and polycycloolefins. Examples thereof include crystalline polyolefin resins, epoxy resins, styrene resins such as polystyrene, polysulfone resins such as polyethersulfone, and synthetic resins such as polyetherimide resin. Moreover, 2 or more types of laminated bodies may be sufficient among these. Depending on the purpose and application, an optical film such as an antireflection film, a circularly polarizing film, or a retardation film may be formed on or bonded to these substrates.

ただし、合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意することが好ましい。基板1のガスバリア性が小さすぎると、基板1を通過した外気により有機電界発光素子10aが劣化する可能性があるからである。このため、合成樹脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つである。   However, it is preferable to pay attention to gas barrier properties when using a synthetic resin substrate. This is because if the gas barrier property of the substrate 1 is too small, the organic electroluminescent element 10a may be deteriorated by the outside air that has passed through the substrate 1. For this reason, a method of providing a gas barrier property by providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate is also a preferable method.

<4−3.陽極>
基板1上には、例えば陽極2が設けられる。陽極2は、発光層5側への正孔注入の役割を果たすものである。
この陽極2は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属;インジウム及び/またはスズの酸化物等の金属酸化物;ヨウ化銅等のハロゲン化金属;カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等により構成される。なお、陽極2の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
<4-3. Anode>
On the substrate 1, for example, an anode 2 is provided. The anode 2 plays the role of hole injection into the light emitting layer 5 side.
This anode 2 is usually made of a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, or platinum; a metal oxide such as an oxide of indium and / or tin; a metal halide such as copper iodide; a carbon black, or It is composed of a conductive polymer such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, or polyaniline. In addition, only 1 type may be used for the material of the anode 2, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.

陽極2の形成方法に制限は無いが、通常、スパッタリング法、蒸着法等により行われる。また、銀等の金属微粒子、ヨウ化銅等の微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末等を用いて陽極2を形成する場合には、適当なバインダ樹脂溶液にそれらを分散させて、基板1上に塗布することにより陽極2を形成することもできる。さらに、導電性高分子の場合は、電解重合により直接基板1上に薄膜を形成したり、基板1上に導電性高分子を塗布して陽極2を形成することもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。
また、陽極2は通常は単層構造であるが、所望により複数の材料からなる積層構造とすることも可能である。
Although there is no restriction | limiting in the formation method of the anode 2, Usually, it carries out by sputtering method, a vapor deposition method, etc. In addition, when forming the anode 2 using fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, and conductive polymer fine powder, an appropriate binder resin solution is used. The anode 2 can also be formed by dispersing them and applying them onto the substrate 1. Furthermore, in the case of a conductive polymer, a thin film can be directly formed on the substrate 1 by electrolytic polymerization, or the anode 2 can be formed by applying a conductive polymer on the substrate 1 (Appl. Phys. Lett. 60, 2711, 1992).
In addition, the anode 2 is usually a single layer structure, but may be a laminated structure made of a plurality of materials if desired.

陽極2の厚みは、必要とする透明性により異なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率を、通常60%以上、中でも80%以上とすることが好ましく、この場合、陽極2の厚みは、通常5nm以上、中でも10nm以上が好ましく、また、通常1000nm以下、中でも500nm以下が好ましい。一方、陽極2が不透明でよい場合、陽極2の厚みは任意であり、陽極2は基板1と同一でもよい。さらに、上記の陽極2の上に異なる導電材料を積層することも可能である。   The thickness of the anode 2 varies depending on the required transparency. When transparency is required, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode 2 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more. Also, it is usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less. On the other hand, when the anode 2 may be opaque, the thickness of the anode 2 is arbitrary, and the anode 2 may be the same as the substrate 1. Further, it is possible to laminate different conductive materials on the anode 2.

また、陽極2に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させることを目的として、陽極2の表面を紫外線(UV)/オゾン処理したり、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ処理したりすることが好ましい。
さらに、正孔注入の効率を更に向上させ、かつ、正孔注入層3の陽極2への付着力を改善させる目的で、正孔注入層3と陽極2との間に公知の陽極バッファ層を挿入してもよい。
Further, for the purpose of removing impurities adhering to the anode 2 and adjusting the ionization potential to improve the hole injection property, the surface of the anode 2 is subjected to ultraviolet (UV) / ozone treatment, oxygen plasma, argon plasma. It is preferable to process.
Further, for the purpose of further improving the efficiency of hole injection and improving the adhesion of the hole injection layer 3 to the anode 2, a known anode buffer layer is provided between the hole injection layer 3 and the anode 2. It may be inserted.

<4−4.正孔注入層>
正孔注入層3は、陽極2から発光層5側へ正孔を輸送する層である。以下、まず正孔注入層3に含有される成分を説明し、次に正孔注入層3の形成方法について説明する。
<4-4. Hole injection layer>
The hole injection layer 3 is a layer that transports holes from the anode 2 to the light emitting layer 5 side. Hereinafter, components contained in the hole injection layer 3 will be described first, and then a method for forming the hole injection layer 3 will be described.

〔4−4−1.正孔注入層の材料〕
正孔注入層3の材料は、正孔を注入可能なものであれば特に制限はない。正孔注入層3を湿式成膜法で形成する場合は、本発明の外縁規定膜形成用組成物を用いて外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜に隣接して、正孔注入層の材料を含有する正孔注入層用の塗布用組成物(以下、適宜「正孔注入層用組成物」ということがある。)を用いて形成することが好ましい。この正孔注入層の材料は、正孔注入層3を形成しうるものであれば特に制限は無い。通常は、正孔注入層3の材料として、高分子化合物(以下、適宜ポリマーともいう)及び電子受容性化合物を用いる。さらに、正孔注入層3の材料として、それ以外の成分を用いてもよい。以下、これらの正孔注入層3の材料について説明する。
[4-4-1. (Material for hole injection layer)
The material of the hole injection layer 3 is not particularly limited as long as it can inject holes. When the hole injection layer 3 is formed by a wet film formation method, after forming the outer edge defining film using the outer edge defining film forming composition of the present invention, the hole injecting layer is adjacent to the outer edge defining film. It is preferable to form using a coating composition for a hole injection layer containing the above material (hereinafter also referred to as “hole injection layer composition” as appropriate). The material of the hole injection layer is not particularly limited as long as it can form the hole injection layer 3. Usually, as a material for the hole injection layer 3, a polymer compound (hereinafter also referred to as a polymer as appropriate) and an electron-accepting compound are used. Furthermore, other components may be used as the material for the hole injection layer 3. Hereinafter, the material of these hole injection layers 3 will be described.

(4−4−1−1.ポリマー)
正孔注入層3の材料として用いられるポリマーの種類は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、その中でも、正孔輸送性を有するポリマー(高分子量の正孔輸送性化合物(以下適宜、「正孔輸送性ポリマー」という。)が好ましく、この観点から、4.5eV〜5.5eVのイオン化ポテンシャルを有する化合物であることが好ましい。なお、イオン化ポテンシャルは物質のHOMO(最高被占分子軌道)レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義され、光電子分光法で直接測定されるか、電気化学的に測定した参加電位を基準電極に対して補正して求められる。後者の方法の場合は、例えば、飽和甘コウ電極(SCE)を基準電極として用いたとき、下記式で表される(”Molecular Semiconductors”, Springer−Verlag, 1985年, pp.98)。
イオン化ポテンシャル = 酸化電位(vs.SCE)+4.3eV
(4-4-1-1. Polymer)
The kind of the polymer used as the material for the hole injection layer 3 is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. However, among them, a polymer having a hole transporting property (a high molecular weight hole transporting compound (hereinafter, appropriately referred to as “hole transporting polymer”) is preferable, and from this viewpoint, it is 4.5 eV to 5.5 eV. Preferably, the compound has an ionization potential, which is defined by the energy required to emit electrons at the HOMO (highest occupied molecular orbital) level of the material to the vacuum level. In the case of the latter method, for example, when a saturated sweet potato electrode (SCE) is used as a reference electrode, it is obtained by correcting the participation potential measured directly or electrochemically with respect to the reference electrode. It is represented by the following formula ("Molecular Semiconductors", Springer-Verlag, 1985, pp. 98).
Ionization potential = oxidation potential (vs. SCE) + 4.3 eV

前記正孔輸送性ポリマーの例としては、芳香族アミン化合物、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体等が挙げられる。中でも、非晶質性、溶剤への溶解度、可視光の透過率の点から、芳香族アミン化合物が好ましい。   Examples of the hole transporting polymer include aromatic amine compounds, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, oligothiophene derivatives, and the like. Of these, aromatic amine compounds are preferred from the viewpoints of amorphousness, solubility in solvents, and visible light transmittance.

芳香族アミン化合物の中でも、特に芳香族三級アミン化合物が好ましい。なお、ここでいう芳香族三級アミン化合物とは、芳香族三級アミン構造を有する化合物であって、芳香族三級アミン由来の基を有する化合物も含む。
芳香族三級アミン化合物の種類は特に制限されないが、表面平滑化効果の点から、重量平均分子量が1000以上、100万以下の高分子化合物が更に好ましい。
Of the aromatic amine compounds, aromatic tertiary amine compounds are particularly preferable. In addition, the aromatic tertiary amine compound here is a compound having an aromatic tertiary amine structure, and includes a compound having a group derived from an aromatic tertiary amine.
The type of the aromatic tertiary amine compound is not particularly limited, but a polymer compound having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less is more preferable from the viewpoint of the surface smoothing effect.

芳香族三級アミン高分子化合物の好ましい例として、下記式(I)で表わされる繰り返し単位を有する高分子化合物が挙げられる。

Figure 2009146696
Preferable examples of the aromatic tertiary amine polymer compound include a polymer compound having a repeating unit represented by the following formula (I).
Figure 2009146696

(式(I)中、Ar1及びAr2は各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、又は、置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表わす。Ar3〜Ar5は各々独立して、置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基、又は、置換基を有していてもよい2価の芳香族複素環基を表わす。Xは、下記の連結基群X1の中から選ばれる連結基を表わす。) (In the formula (I), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Ar 3 to Ar 5 each independently represents a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or a divalent aromatic heterocyclic group which may have a substituent. X represents a linking group selected from the following linking group group X1.)

・連結基群X1:

Figure 2009146696
Linking group group X1:
Figure 2009146696

(式中、Ar11〜Ar28は各々独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表わす。R1及びR2は各々独立して、水素原子又は任意の置換基を表わす。) (In the formula, each of Ar 11 to Ar 28 independently represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group. R 1 and R 2 each independently represents hydrogen. Represents an atom or any substituent.)

前記式(I)において、Ar1〜Ar5及びAr11〜Ar28としては、任意の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環由来の、1価又は2価の基が適用可能である。即ち、Ar1、Ar2、Ar16、Ar21及びAr26は、それぞれ1価の基が適用可能であり、Ar3〜Ar5、Ar11〜Ar15、Ar17〜Ar20、Ar22〜Ar25、Ar27及びAr28は、それぞれ2価の基が適用可能である。これらは各々同一であっても、互いに異なっていてもよい。また、任意の置換基を有していてもよい。 In the formula (I), as Ar 1 to Ar 5 and Ar 11 to Ar 28 , any monovalent or divalent group derived from any aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring is applicable. That is, each of Ar 1 , Ar 2 , Ar 16 , Ar 21, and Ar 26 can be a monovalent group. Ar 3 to Ar 5 , Ar 11 to Ar 15 , Ar 17 to Ar 20 , Ar 22 to A divalent group can be applied to each of Ar 25 , Ar 27, and Ar 28 . These may be the same or different from each other. Moreover, you may have arbitrary substituents.

前記の芳香族炭化水素環としては、例えば、5又は6員環の単環又は2〜5縮合環が挙げられる。その具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などが挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a 5- or 6-membered monocyclic ring or a 2-5 condensed ring. Specific examples thereof include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, acenaphthene ring, fluoranthene ring, and fluorene ring.

前記の芳香族複素環としては、例えば、5又は6員環の単環又は2〜4縮合環が挙げられる。その具体例としては、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などが挙げられる。   Examples of the aromatic heterocycle include a 5- or 6-membered monocyclic ring or a 2-4 condensed ring. Specific examples thereof include furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring. , Thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline Ring, cinolin ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, benzimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring and the like.

また、Ar3〜Ar5、Ar11〜Ar15、Ar17〜Ar20、Ar22〜Ar25、Ar27、Ar28としては、上に例示した1種類又は2種類以上の芳香族炭化水素環及び/又は芳香族複素環由来の2価の基を2つ以上連結して用いることもできる。 Ar 3 to Ar 5 , Ar 11 to Ar 15 , Ar 17 to Ar 20 , Ar 22 to Ar 25 , Ar 27 , Ar 28 may be one type or two or more types of aromatic hydrocarbon rings exemplified above. And / or two or more divalent groups derived from an aromatic heterocycle may be linked and used.

さらに、Ar1〜Ar5及びAr11〜Ar28の芳香族炭化水素環及び/又は芳香族複素環由来の基は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、更に置換基を有していてもよい。置換基の分子量としては、通常400以下、中でも250以下程度が好ましい。置換基の種類は特に制限されないが、例としては、下記の置換基群Wから選ばれる1種又は2種以上が挙げられる。なお、置換基は、1個が単独で置換していてもよく、2個以上が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。 Furthermore, the group derived from the aromatic hydrocarbon ring and / or aromatic heterocycle of Ar 1 to Ar 5 and Ar 11 to Ar 28 may further have a substituent unless it is contrary to the gist of the present invention. Good. The molecular weight of the substituent is usually 400 or less, preferably about 250 or less. The type of the substituent is not particularly limited, and examples thereof include one or more selected from the following substituent group W. In addition, as for a substituent, 1 piece may be substituted independently and 2 or more may be substituted by arbitrary combinations and ratios.

[置換基群W]
メチル基、エチル基等の、炭素数が通常1以上、通常10以下、好ましくは8以下のアルキル基;ビニル基等の、炭素数が通常2以上、通常11以下、好ましくは5以下のアルケニル基;エチニル基等の、炭素数が通常2以上、通常11以下、好ましくは5以下のアルキニル基;メトキシ基、エトキシ基等の、炭素数が通常1以上、通常10以下、好ましくは6以下のアルコキシ基;フェノキシ基、ナフトキシ基、ピリジルオキシ基等の、炭素数が通常4以上、好ましくは5以上、通常25以下、好ましくは14以下のアリールオキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の、炭素数が通常2以上、通常11以下、好ましくは7以下のアルコキシカルボニル基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等の、炭素数が通常2以上、通常20以下、好ましくは12以下のジアルキルアミノ基;ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、N−カルバゾリル基等の、炭素数が通常10以上、好ましくは12以上、通常30以下、好ましくは22以下のジアリールアミノ基;フェニルメチルアミノ基等の、炭素数が通常6以上、好ましくは7以上、通常25以下、好ましくは17以下のアリールアルキルアミノ基;アセチル基、ベンゾイル基等の、炭素数が通常2以上、通常10以下、好ましくは7以下のアシル基;フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子;トリフルオロメチル基等の、炭素数が通常1以上、通常8以下、好ましくは4以下のハロアルキル基;メチルチオ基、エチルチオ基等の、炭素数が通常1以上、通常10以下、好ましくは6以下のアルキルチオ基;フェニルチオ基、ナフチルチオ基、ピリジルチオ基等の、炭素数が通常4以上、好ましくは5以上、通常25以下、好ましくは14以下のアリールチオ基;トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基等の、炭素数が通常2以上、好ましくは3以上、通常33以下、好ましくは26以下のシリル基;トリメチルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基等の、炭素数が通常2以上、好ましくは3以上、通常33以下、好ましくは26以下のシロキシ基;シアノ基;フェニル基、ナフチル基等の、炭素数が通常6以上、通常30以下、好ましくは18以下の芳香族炭化水素環基;チエニル基、ピリジル基等の、炭素数が通常3以上、好ましくは4以上、通常28以下、好ましくは17以下の芳香族複素環基。
[Substituent group W]
An alkyl group having usually 1 or more, usually 10 or less, preferably 8 or less, such as a methyl group or an ethyl group; an alkenyl group having 2 or more, usually 11 or less, preferably 5 or less carbon atoms, such as a vinyl group. An alkynyl group having usually 2 or more, usually 11 or less, preferably 5 or less, such as an ethynyl group; an alkoxy having a carbon number of usually 1 or more, usually 10 or less, preferably 6 or less, such as a methoxy group or an ethoxy group; A group; an aryloxy group such as a phenoxy group, a naphthoxy group, a pyridyloxy group, etc., usually 4 or more, preferably 5 or more, usually 25 or less, preferably 14 or less; a carbon such as a methoxycarbonyl group or an ethoxycarbonyl group An alkoxycarbonyl group having a number of usually 2 or more, usually 11 or less, preferably 7 or less; a dimethylamino group, a diethylamino group or the like, and usually having 2 or more carbon atoms Usually 20 or less, preferably 12 or less dialkylamino group; diphenylamino group, ditolylamino group, N-carbazolyl group, etc., and usually diarylamino having 10 or more carbon atoms, preferably 12 or more, usually 30 or less, preferably 22 or less Group: an arylalkylamino group having 6 or more carbon atoms, preferably 7 or more, usually 25 or less, preferably 17 or less, such as a phenylmethylamino group; an acetyl group, a benzoyl group or the like, and usually having 2 or more carbon atoms, Usually an acyl group of 10 or less, preferably 7 or less; a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom; a haloalkyl group having a carbon number of usually 1 or more, usually 8 or less, preferably 4 or less, such as a trifluoromethyl group; An alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 6 or less, preferably 6 or less; An arylthio group having usually 4 or more, preferably 5 or more, usually 25 or less, preferably 14 or less, such as a ruthio group, a naphthylthio group, or a pyridylthio group; Or more, preferably 3 or more, usually 33 or less, preferably 26 or less silyl group; trimethylsiloxy group, triphenylsiloxy group, etc., the carbon number is usually 2 or more, preferably 3 or more, usually 33 or less, preferably 26 or less. A siloxy group; a cyano group; an aromatic hydrocarbon ring group having usually 6 or more, usually 30 or less, preferably 18 or less, such as a phenyl group or a naphthyl group; a carbon number such as a thienyl group or a pyridyl group. An aromatic heterocyclic group of 3 or more, preferably 4 or more, usually 28 or less, preferably 17 or less.

上述したものの中でも、Ar1及びAr2としては、高分子化合物の溶解性、耐熱性、正孔注入・輸送性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、チオフェン環、ピリジン環由来の1価の基が好ましく、フェニル基、ナフチル基が更に好ましい。 Among those described above, Ar 1 and Ar 2 are 1 derived from a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, a thiophene ring, and a pyridine ring from the viewpoint of the solubility, heat resistance, and hole injection / transport properties of the polymer compound. Is more preferably a phenyl group or a naphthyl group.

また、上述したものの中でも、Ar3〜Ar5としては、耐熱性、酸化還元電位を含めた正孔注入・輸送性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環由来の2価の基が好ましく、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基が更に好ましい。 Among the above, Ar 3 to Ar 5 are divalent benzene rings, naphthalene rings, anthracene rings, and phenanthrene rings from the viewpoint of heat resistance and hole injection / transport properties including redox potential. Group is preferable, and a phenylene group, a biphenylene group, and a naphthylene group are more preferable.

前記式(I)において、R1及びR2としては、水素原子又は任意の置換基が適用可能である。これらは互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。置換基の種類は、本発明の趣旨に反しない限り特に制限されないが、適用可能な置換基を例示するならば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、シリル基、シロキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基が挙げられる。これらの具体例としては、先に置換基群Wにおいて例示した各基が挙げられる。 In the formula (I), as R 1 and R 2 , a hydrogen atom or an arbitrary substituent is applicable. These may be the same or different from each other. The type of the substituent is not particularly limited as long as it is not contrary to the gist of the present invention. However, if applicable substituents are exemplified, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, a silyl group, a siloxy group, an aromatic group A hydrocarbon group and an aromatic heterocyclic group are mentioned. Specific examples thereof include the groups exemplified above in the substituent group W.

上記のポリマーの中でも、下記式(1)で表わされる繰り返し単位を含むポリマーが好ましい。

Figure 2009146696
Among the above polymers, a polymer containing a repeating unit represented by the following formula (1) is preferable.
Figure 2009146696

正孔注入層3の材料として用いられる正孔輸送性ポリマーの重量平均分子量は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常1000以上、好ましくは2000以上、より好ましくは3000以上、また、通常50万以下、好ましくは20万以下、より好ましくは10万以下である。   The weight average molecular weight of the hole transporting polymer used as the material of the hole injection layer 3 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 1000 or more, preferably 2000 or more, more preferably 3000 or more, Usually, it is 500,000 or less, preferably 200,000 or less, more preferably 100,000 or less.

正孔注入層3中のポリマーの割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、正孔注入層3全体に対する重量比の値で、通常10重量%以上、好ましくは30重量%以上、また、通常99.9重量%以下、好ましくは99重量%以下である。なお、2種以上のポリマーを併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにすることが好ましい。   The ratio of the polymer in the hole injection layer 3 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10% by weight or more, preferably 30% by weight in terms of the weight ratio with respect to the whole hole injection layer 3. In addition, it is usually 99.9% by weight or less, preferably 99% by weight or less. In addition, when using 2 or more types of polymers together, it is preferable that these total content is contained in the said range.

(4−4−1−2.電子受容性化合物)
正孔注入層3の材料として用いられる電子受容性化合物の種類は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。その例としては、4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンダフルオロフェニル)ボラート、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート等の有機基の置換したオニウム塩;塩化鉄(III)(特開平11−251067号公報)、ペルオキソ二硫酸アンモニウム等の高原子価の無機化合物;テトラシアノエチレン等のシアノ化合物、トリス(ペンダフルオロフェニル)ボラン(特開2003−31365号公報)等の芳香族ホウ素化合物;フラーレン誘導体;ヨウ素等が挙げられる。上記の化合物のうち、強い酸化力を有する点で、有機基の置換したオニウム塩、高原子価の無機化合物が好ましく、種々の溶剤に可溶である点で、有機基の置換したオニウム塩、シアノ化合物、芳香族ホウ素化合物が好ましい。さらに、強い酸化力と高い溶解性とを両立する点から、有機基の置換したオニウム塩が特に好ましく、下記式(II−1)〜(II−3)で表わされる化合物であることが特に好ましい。
(4-4-1-2. Electron-accepting compound)
The kind of the electron-accepting compound used as the material for the hole injection layer 3 is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples thereof include onium salts substituted with an organic group such as 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium tetrakis (pendafluorophenyl) borate and triphenylsulfonium tetrafluoroborate; No. 251067), high-valent inorganic compounds such as ammonium peroxodisulfate; cyano compounds such as tetracyanoethylene; aromatic boron compounds such as tris (pentafluorophenyl) borane (JP-A-2003-31365); fullerene derivatives ; Iodine etc. are mentioned. Of the above compounds, an onium salt substituted with an organic group is preferable in terms of having strong oxidizing power, and an inorganic compound having a high valence is preferable, and an onium salt substituted with an organic group in terms of being soluble in various solvents, A cyano compound and an aromatic boron compound are preferable. Furthermore, an onium salt substituted with an organic group is particularly preferable from the viewpoint of achieving both strong oxidizing power and high solubility, and particularly preferably a compound represented by the following formulas (II-1) to (II-3). .

Figure 2009146696
Figure 2009146696

(上記式(II−1)〜(II−3)中、R11、R21及びR31は、各々独立に、A1〜A3と炭素原子で結合する有機基を表わす。R12、R22、R23及びR32〜R34は、各々独立に、任意の基を表わす。R11〜R34のうち隣接する2以上の基が、互いに結合して環を形成していてもよい。A1〜A3は何れも長周期型周期表(以下、特に断り書きの無い限り「周期表」という場合には、長周期型周期表を指すものとする。)第3周期以降の元素であって、A1は周期表の第17族に属する元素を表わし、A2は周期表の第16族に属する元素を表わし、A3は周期表の第15族に属する元素を表わす。Z1 n1-〜Z3 n3-は、各々独立に、対アニオンを表わす。n1〜n3は、各々独立に、対アニオンのイオン価を表わす。) (In the above formulas (II-1) to (II-3), R 11 , R 21 and R 31 each independently represents an organic group bonded to A 1 to A 3 via a carbon atom. R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 each independently represents an arbitrary group, and two or more adjacent groups of R 11 to R 34 may be bonded to each other to form a ring. A 1 -A 3 are all elements in the long period type periodic table (hereinafter, unless otherwise specified, the term “periodic table” refers to the long period type periodic table). there are, a 1 represents an element belonging to group 17 of the periodic table, a 2 represents an element belonging to group 16 of the periodic table, a 3 is .Z 1 representing an element belonging to group 15 of the periodic table n1- to Z 3 n3- each independently represents a counter anion, and n 1 to n 3 each independently represents an ionic value of the counter anion.)

上記式(II−1)〜(II−3)中、R11、R21及びR31は、各々独立に、A1〜A3と炭素原子で結合する有機基を表わす。したがって、R11、R21及びR31としては、A1〜A3との結合部分に炭素原子を有する有機基であれば、本発明の趣旨に反しない限り、その種類は特に制限されない。 In the above formulas (II-1) to (II-3), R 11 , R 21 and R 31 each independently represents an organic group bonded to A 1 to A 3 via a carbon atom. Therefore, as R 11 , R 21, and R 31 , the type is not particularly limited as long as it is an organic group having a carbon atom at the bond portion with A 1 to A 3 unless it is contrary to the gist of the present invention.

11、R21及びR31の分子量は、それぞれ、その置換基を含めた値で、通常1000以下、好ましくは500以下の範囲である。
11、R21及びR31の好ましい例としては、正電荷を非局在化させる点から、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基が挙げられる。中でも、正電荷を非局在化させるとともに熱的に安定であることから、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基が好ましい。
The molecular weights of R 11 , R 21 and R 31 are each a value including the substituent, and are usually 1000 or less, preferably 500 or less.
Preferred examples of R 11 , R 21 and R 31 include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aromatic hydrocarbon groups, and aromatic heterocyclic groups from the viewpoint of delocalizing positive charges. Among them, an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group is preferable because it delocalizes positive charges and is thermally stable.

アルキル基としては、例えば、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基であって、その炭素数が通常1以上、また、通常12以下、好ましくは6以下のものが挙げられる。具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、2−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。   The alkyl group includes, for example, a linear, branched or cyclic alkyl group having a carbon number of usually 1 or more and usually 12 or less, preferably 6 or less. Specific examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, 2-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group and the like.

アルケニル基としては、例えば、炭素数が通常2以上、通常12以下、好ましくは6以下のものが挙げられる。具体例としては、ビニル基、アリル基、1−ブテニル基等が挙げられる。   Examples of the alkenyl group include those having usually 2 or more, usually 12 or less, preferably 6 or less carbon atoms. Specific examples include a vinyl group, an allyl group, and a 1-butenyl group.

アルキニル基としては、例えば、炭素数が通常2以上、通常12以下、好ましくは6以下のものが挙げられる。具体例としては、エチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。   Examples of the alkynyl group include those having usually 2 or more, usually 12 or less, preferably 6 or less. Specific examples include ethynyl group and propargyl group.

芳香族炭化水素基としては、例えば、5又は6員環の単環又は2〜5縮合環由来の1価の基であり、正電荷を当該基上により非局在化させられる基が挙げられる。その具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオレン環等の由来の一価の基が挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon group include a monovalent group derived from a 5- or 6-membered monocyclic ring or a 2 to 5 condensed ring, and a group in which a positive charge is delocalized on the group. . Specific examples thereof include monovalent groups derived from a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, acenaphthene ring, fluorene ring, and the like. Can be mentioned.

芳香族複素環基としては、例えば、5又は6員環の単環又は2〜4縮合環由来の1価の基であり、正電荷を当該基上により非局在化させられる基が挙げられる。その具体例としては、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環等の由来の一価の基が挙げられる。   Examples of the aromatic heterocyclic group include a monovalent group derived from a 5- or 6-membered monocyclic ring or a 2-4 condensed ring, and a group in which a positive charge is delocalized on the group. . Specific examples thereof include furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, triazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, Pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzisoxazole ring, benzisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline And monovalent groups derived from a ring, an isoquinoline ring, a sinoline ring, a quinoxaline ring, a phenanthridine ring, a benzimidazole ring, a perimidine ring, a quinazoline ring, a quinazolinone ring, an azulene ring, and the like.

上記式(II−1)〜(II−3)中、R12、R22、R23及びR32〜R34は、各々独立に、任意の置換基を表わす。したがって、R12、R22、R23及びR32〜R34の種類は、本発明の趣旨に反しない限り特に制限されない。
12、R22、R23及びR32〜R34の分子量は、それぞれ、その置換基を含めた値で、通常1000以下、好ましくは500以下の範囲である。
In the above formulas (II-1) to (II-3), R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 each independently represents an arbitrary substituent. Accordingly, the types of R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 are not particularly limited as long as they are not contrary to the spirit of the present invention.
The molecular weights of R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 are each a value including the substituent, and are usually 1000 or less, preferably 500 or less.

12、R22、R23及びR32〜R34の例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、シアノ基、水酸基、チオール基、シリル基等が挙げられる。中でも、R11、R21及びR31と同様、電子受容性が大きい点から、A1〜A3との結合部分に炭素原子を有する有機基が好ましく、例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基が好ましい。特に、電子受容性が大きいとともに熱的に安定であることから、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基が好ましい。 Examples of R 12 , R 22 , R 23 and R 32 to R 34 are alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aromatic hydrocarbon groups, aromatic heterocyclic groups, amino groups, alkylamino groups, arylamino groups. , Acylamino group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylcarbonyloxy group, alkylthio group, arylthio group, sulfonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfonyloxy group, cyano Group, hydroxyl group, thiol group, silyl group and the like. Among them, like R 11 , R 21, and R 31 , an organic group having a carbon atom at the bond portion with A 1 to A 3 is preferable from the viewpoint of high electron acceptability. Examples include an alkyl group, an alkenyl group, Alkynyl groups, aromatic hydrocarbon groups, and aromatic heterocyclic groups are preferred. In particular, an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group is preferable because it has a large electron accepting property and is thermally stable.

アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基としては、R11、R21及びR31について先に説明したものと同様のものが挙げられる。 Examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group are the same as those described above for R 11 , R 21 and R 31 .

以上、R11、R21、R31、R12、R22、R23、及びR32〜R34として例示した基は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、更に他の置換基によって置換されていてもよい。置換基の種類は特に制限されないが、例としては、上記R11、R21、R31、R12、R22、R23、及びR32〜R34としてそれぞれ例示した基の他、ハロゲン原子、シアノ基、チオシアノ基、ニトロ基等が挙げられる。中でも、耐熱性及び電子受容性の妨げにならない観点から、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基が好ましい。なお、前記の更に置換する置換基は、1個のみで置換していてもよく、2個以上が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。 As described above, the groups exemplified as R 11 , R 21 , R 31 , R 12 , R 22 , R 23 , and R 32 to R 34 are further substituted with other substituents unless they are contrary to the spirit of the present invention. It may be. The type of the substituent is not particularly limited, and examples thereof include a halogen atom in addition to the groups exemplified as R 11 , R 21 , R 31 , R 12 , R 22 , R 23 , and R 32 to R 34 . A cyano group, a thiocyano group, a nitro group, etc. are mentioned. Among these, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aromatic hydrocarbon group, and an aromatic heterocyclic group are preferable from the viewpoint of not hindering heat resistance and electron accepting property. In addition, the substituent to be further substituted may be substituted with only one, or two or more may be substituted with any combination and ratio.

また、上記式(II−1)〜(II−3)中、R11〜R34のうち隣接する2以上の基は、互いに結合して環を形成していてもよい。 In the formulas (II-1) to (II-3), two or more adjacent groups out of R 11 to R 34 may be bonded to each other to form a ring.

式(II−1)〜(II−3)中、A1〜A3は、何れも周期表第3周期以降(第3〜第6周期)の元素であって、A1は、長周期型周期表の第17族に属する元素を表わし、A2は、第16族に属する元素を表わし、A3は、第15族に属する元素を表わす。 In formulas (II-1) to (II-3), A 1 to A 3 are all elements after the third period (third to sixth periods) of the periodic table, and A 1 is a long period type An element belonging to Group 17 of the periodic table is represented, A 2 represents an element belonging to Group 16 and A 3 represents an element belonging to Group 15.

中でも、電子受容性及び入手容易性の観点から、周期表の第5周期以前(第3〜第5周期)の元素が好ましい。即ち、A1としてはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子のうち何れかが好ましく、A2としてはテルル原子、セレン原子、硫黄原子のうち何れかが好ましく、A3としてはアンチモン原子、ヒ素原子、リン原子のうち何れかが好ましい。 Among these, from the viewpoint of electron acceptability and availability, elements before the fifth period (third to fifth periods) of the periodic table are preferable. That is, A 1 is preferably any one of an iodine atom, a bromine atom, and a chlorine atom, A 2 is preferably any one of a tellurium atom, a selenium atom, and a sulfur atom, and A 3 is preferably an antimony atom, an arsenic atom, Any of the phosphorus atoms is preferred.

特に、電子受容性、化合物の安定性の面から、式(II−1)におけるA1が臭素原子又はヨウ素原子である化合物、又は、式(II−2)におけるA2がセレン原子又は硫黄原子である化合物が好ましく、中でも、式(II−1)におけるA1がヨウ素原子である化合物が特に好ましい。 In particular, from the viewpoint of electron acceptability and compound stability, a compound in which A 1 in formula (II-1) is a bromine atom or an iodine atom, or A 2 in formula (II-2) is a selenium atom or a sulfur atom. The compound which is is preferable, and especially the compound whose A < 1 > in Formula (II-1) is an iodine atom is especially preferable.

式(II−1)〜(II−3)中、Z1 n1-〜Z3 n3-は、各々独立に、対アニオンを表わす。対アニオンの種類は特に制限されず、単原子イオンであっても錯イオンであってもよい。但し、対アニオンのサイズが大きいほど負電荷が非局在化し、それに伴い正電荷も非局在化して電子受容能が大きくなるため、単原子イオンよりも錯イオンの方が好ましい。 In the formulas (II-1) to (II-3), Z 1 n1 to Z 3 n3 each independently represents a counter anion. The type of the counter anion is not particularly limited, and may be a monoatomic ion or a complex ion. However, the larger the size of the counter anion, the more the negative charge is delocalized, and the positive charge is also delocalized thereby increasing the electron accepting ability. Therefore, the complex ion is preferable to the monoatomic ion.

式(II−1)〜(II−3)中、n1〜n3は、各々独立に、対アニオンZ1 n1-〜Z3 n3-のイオン価に相当する任意の正の整数である。n1〜n3の値は特に制限されないが、何れも1又は2であることが好ましく、1であることが特に好ましい。 In formulas (II-1) to (II-3), n 1 to n 3 are each independently any positive integer corresponding to the ionic valence of counter anions Z 1 n1 to Z 3 n3− . The values of n 1 to n 3 are not particularly limited, but all are preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.

1 n1-〜Z3 n3-の具体例としては、水酸化物イオン、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、シアン化物イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、過塩素酸イオン、過臭素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、次亜塩素酸イオン、リン酸イオン、亜リン酸イオン、次亜リン酸イオン、ホウ酸イオン、イソシアン酸イオン、水硫化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサクロロアンチモン酸イオン;酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、安息香酸イオン等のカルボン酸イオン;メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等のスルホン酸イオン;メトキシイオン、t−ブトキシイオン等のアルコキシイオンなどが挙げられる。 Specific examples of Z 1 n1- to Z 3 n3- include hydroxide ion, fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion, cyanide ion, nitrate ion, nitrite ion, sulfate ion, sulfite. Ion, perchlorate ion, perbromate ion, periodate ion, chlorate ion, chlorite ion, hypochlorite ion, phosphate ion, phosphite ion, hypophosphite ion, borate ion , Isocyanate ion, hydrosulfide ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexachloroantimonate ion; carboxylate ion such as acetate ion, trifluoroacetate ion, benzoate ion; methanesulfonate ion, trifluoro Sulfonate ions such as romethanesulfonate ion; Alkoxy ions such as methoxy ion and t-butoxy ion For example.

特に、対アニオンZ1 n1-〜Z3 n3-としては、化合物の安定性、溶剤への溶解性の点で、下記式(II−4)〜(II−6)で表わされる錯イオンが好ましく、サイズが大きいという点で、負電荷が非局在化し、それに伴い正電荷も非局在化して電子受容能が大きくなるため、下記式(II−6)で表わされる錯イオンが更に好ましい。 In particular, the counter anions Z 1 n1 to Z 3 n3 are preferably complex ions represented by the following formulas (II-4) to (II-6) from the viewpoint of the stability of the compound and the solubility in a solvent. In view of the large size, the negative charge is delocalized, and the positive charge is also delocalized to increase the electron accepting ability. Therefore, a complex ion represented by the following formula (II-6) is more preferable.

Figure 2009146696
Figure 2009146696

式(II−4)及び(II−6)中、E1及びE3は、各々独立に、長周期型周期表の第13族に属する元素を表わす。中でもホウ素原子、アルミニウム原子、ガリウム原子が好ましく、化合物の安定性、合成及び精製のし易さの点から、ホウ素原子が好ましい。 In formulas (II-4) and (II-6), E 1 and E 3 each independently represent an element belonging to Group 13 of the long-period periodic table. Of these, a boron atom, an aluminum atom, and a gallium atom are preferable, and a boron atom is preferable from the viewpoint of stability of the compound and ease of synthesis and purification.

式(II−5)中、E2は、長周期型周期表の第15族に属する元素を表わす。中でもリン原子、ヒ素原子、アンチモン原子が好ましく、化合物の安定性、合成及び精製のし易さ、毒性の点から、リン原子が好ましい。 In formula (II-5), E 2 represents an element belonging to Group 15 of the long-period periodic table. Among these, a phosphorus atom, an arsenic atom and an antimony atom are preferable, and a phosphorus atom is preferable from the viewpoint of stability of the compound, ease of synthesis and purification, and toxicity.

式(II−4)及び(II−5)中、Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子を表わし、化合物の安定性、合成及び精製のし易さの点からフッ素原子、塩素原子であることが好ましく、フッ素原子であることが特に好ましい。   In the formulas (II-4) and (II-5), X represents a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom, and is a fluorine atom from the viewpoint of stability of the compound, ease of synthesis and purification, A chlorine atom is preferable, and a fluorine atom is particularly preferable.

式(II−6)中、Ar61〜Ar64は、各々独立に、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表わす。芳香族炭化水素基、芳香族複素環基の例示としては、R11、R21及びR31について先に例示したものと同様の、5又は6員環の単環又は2〜4縮合環由来の1価の基が挙げられる。中でも、化合物の安定性、耐熱性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環由来の1価の基が好ましい。 In the formula (II-6), Ar 61 to Ar 64 each independently represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group. Examples of the aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group are derived from the same 5- or 6-membered monocyclic ring or 2-4 condensed ring as those exemplified above for R 11 , R 21 and R 31 . A monovalent group is mentioned. Among these, a monovalent group derived from a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a quinoline ring, or an isoquinoline ring is preferable from the viewpoint of stability and heat resistance of the compound.

Ar61〜Ar64として例示した芳香族炭化水素基、芳香族複素環基は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、更に別の置換基によって置換されていてもよい。置換基の種類は特に制限されず、任意の置換基が適用可能であるが、電子吸引性の基であることが好ましい。 The aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic group exemplified as Ar 61 to Ar 64 may be further substituted with another substituent as long as not departing from the gist of the present invention. The type of the substituent is not particularly limited, and any substituent can be applied, but an electron-withdrawing group is preferable.

Ar61〜Ar64が有してもよい置換基として好ましい電子吸引性の基を例示するならば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;シアノ基;チオシアノ基;ニトロ基;メシル基等のアルキルスルホニル基;トシル基等のアリールスルホニル基;ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等の、炭素数が通常1以上、通常12以下、好ましくは6以下のアシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等の、炭素数が通常2以上、通常10以下、好ましくは7以下のアルコキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基等の、炭素数が通常3以上、好ましくは4以上、通常25以下、好ましくは15以下の芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を有するアリールオキシカルボニル基;アミノカルボニル基;アミノスルホニル基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等の、炭素数が通常1以上、通常10以下、好ましくは6以下の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基にフッ素原子、塩素原子などのハロゲン原子が置換したハロアルキル基、などが挙げられる。 Examples of preferable electron-withdrawing groups as the substituent that Ar 61 to Ar 64 may have include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; cyano group; thiocyano group; nitro group; mesyl group Alkylsulfonyl groups such as tosyl group; arylsulfonyl groups such as tosyl group; acyl groups such as formyl group, acetyl group, benzoyl group and the like, usually having 1 or more, usually 12 or less, preferably 6 or less; methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl An alkoxycarbonyl group having 2 or more carbon atoms, usually 10 or less, preferably 7 or less; a phenoxycarbonyl group, a pyridyloxycarbonyl group or the like, and usually having 3 or more carbon atoms, preferably 4 or more and usually 25 or less. An aryloxycarbonyl group having an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group of preferably 15 or less; Bonyl group; aminosulfonyl group; trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, etc., a fluorine atom in a linear, branched or cyclic alkyl group having usually 1 or more, usually 10 or less, preferably 6 or less carbon atoms And a haloalkyl group substituted with a halogen atom such as a chlorine atom.

中でも、Ar61〜Ar64のうち少なくとも1つの基が、フッ素原子又は塩素原子を置換基として1つ又は2つ以上有することがより好ましい。特に、負電荷を効率よく非局在化する点、及び、適度な昇華性を有する点から、Ar61〜Ar64の水素原子がすべてフッ素原子で置換されたパーフルオロアリール基であることが特に好ましい。パーフルオロアリール基の具体例としては、ペンタフルオロフェニル基、ヘプタフルオロ−2−ナフチル基、テトラフルオロ−4−ピリジル基等が挙げられる。
なお、前記の置換基は、1個のみが置換していてもよく、2個以上が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。
Especially, it is more preferable that at least one group among Ar 61 to Ar 64 has one or two or more fluorine atoms or chlorine atoms as substituents. In particular, it is particularly a perfluoroaryl group in which all the hydrogen atoms of Ar 61 to Ar 64 are substituted with fluorine atoms from the viewpoint of efficiently delocalizing negative charges and having a suitable sublimation property. preferable. Specific examples of the perfluoroaryl group include a pentafluorophenyl group, a heptafluoro-2-naphthyl group, and a tetrafluoro-4-pyridyl group.
In addition, as for the said substituent, only one may be substituted and two or more may be substituted by arbitrary combinations and ratios.

式(II−4)〜(II−6)で表わされる錯イオンの式量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常100以上、好ましくは300以上、更に好ましくは400以上、また、通常5000以下、好ましくは3000以下、更に好ましくは2000以下の範囲である。該錯イオンの式量が小さ過ぎると、正電荷及び負電荷の非局在化が不十分なため、電子受容能が低下する場合があり、また、該錯イオンの式量が大き過ぎると、該化合物自体が電荷輸送の妨げとなる場合がある。   The formula amount of the complex ions represented by the formulas (II-4) to (II-6) is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 100 or more, preferably 300 or more, more preferably 400 or more. Moreover, it is usually 5000 or less, preferably 3000 or less, more preferably 2000 or less. If the formula amount of the complex ion is too small, delocalization of the positive charge and the negative charge is insufficient, so that the electron accepting ability may be decreased, and if the formula amount of the complex ion is too large, The compound itself may interfere with charge transport.

正孔注入層3の材料としては、上に説明した各種の電子受容性化合物のうち、何れか1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で用いてもよい。2種以上の電子受容性化合物を用いる場合には、上記式(II−1)〜(II−3)のうち何れか1つの式に該当する電子受容性化合物を2種以上組み合わせてもよく、それぞれ異なる式に該当する2種以上の電子受容性化合物を組み合わせてもよい。   As a material for the hole injection layer 3, any one of the various electron accepting compounds described above may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio. When two or more kinds of electron accepting compounds are used, two or more kinds of electron accepting compounds corresponding to any one of the formulas (II-1) to (II-3) may be combined. Two or more electron-accepting compounds corresponding to different formulas may be combined.

正孔注入層3及び正孔注入層用組成物中における電子受容性化合物の含有量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、ポリマー及び後述の正孔輸送性化合物に対する値で、通常0.1重量%以上、好ましくは1重量%以上、また、通常100重量%以下、好ましくは60重量%以下、更に好ましくは50重量%以下である。電子受容性化合物の量は多い方が不溶化しやすいため好ましく、加熱時間が短時間で不溶化することができる。なお、2種以上の電子受容性化合物を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The content of the electron-accepting compound in the hole-injecting layer 3 and the composition for the hole-injecting layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is a value with respect to the polymer and the hole-transporting compound described later. The amount is usually 0.1% by weight or more, preferably 1% by weight or more, and usually 100% by weight or less, preferably 60% by weight or less, more preferably 50% by weight or less. A larger amount of the electron-accepting compound is preferable because it is easier to insolubilize, and the heating time can be insolubilized in a short time. In addition, when using together 2 or more types of electron-accepting compounds, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

なお、正孔注入層3の形成時或いは形成後に、上記の正孔輸送性を有するポリマー或いは下記の正孔輸送性化合物が、この電子受容性化合物と反応することにより、形成後の正孔注入層3中では、正孔輸送性ポリマー或いは正孔輸送性化合物のカチオンラジカル及びイオン化合物が生成している場合がある。   In addition, when the hole injection layer 3 is formed or after the formation, the above hole transporting polymer or the following hole transporting compound reacts with the electron accepting compound, so that the hole injection after the formation is performed. In the layer 3, a cation radical and an ionic compound of a hole transporting polymer or a hole transporting compound may be generated.

(4−4−1−3.低分子量の正孔輸送性化合物)
正孔注入層3の材料としては、必要に応じて低分子量の正孔輸送性化合物を用いることが好ましい。
低分子量の正孔輸送性化合物は、従来、有機電界発光素子における正孔注入・輸送性の薄膜形成材料として利用されてきた各種の化合物の中から、適宜選択することが可能である。中でも、溶剤溶解性の高いものが好ましい。
(4-4-1-3. Low molecular weight hole transporting compound)
As a material for the hole injection layer 3, it is preferable to use a low molecular weight hole transporting compound as necessary.
The low molecular weight hole transporting compound can be appropriately selected from various compounds conventionally used as a hole injecting / transporting thin film forming material in an organic electroluminescence device. Among them, those having high solvent solubility are preferable.

低分子量の正孔輸送性化合物の好ましい例としては、芳香族アミン化合物が挙げられる。中でも、芳香族三級アミン化合物が特に好ましい。   Preferable examples of the low molecular weight hole transporting compound include aromatic amine compounds. Of these, aromatic tertiary amine compounds are particularly preferred.

なお、低分子量の正孔輸送性化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常200以上、好ましくは400以上、より好ましくは600以上、また、通常5000以下、好ましくは3000以下、より好ましくは2000以下、更に好ましくは1700以下、特に好ましくは1400以下の範囲である。分子量が小さ過ぎると耐熱性が低くなる傾向がある一方で、低分子量の正孔輸送性化合物の分子量が大き過ぎると合成及び精製が困難となる傾向がある。   The molecular weight of the low molecular weight hole transporting compound is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 200 or more, preferably 400 or more, more preferably 600 or more, and usually 5000 or less, preferably Is not more than 3000, more preferably not more than 2000, still more preferably not more than 1700, particularly preferably not more than 1400. If the molecular weight is too small, the heat resistance tends to be low, whereas if the molecular weight of the low molecular weight hole transporting compound is too large, synthesis and purification tend to be difficult.

なお、低分子量の正孔輸送性化合物は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。   In addition, a low molecular weight hole transportable compound may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

(4−4−1−4.その他の成分)
正孔注入層3の材料としては、本発明の効果を著しく損なわない限り、上述したポリマー、電子受容性化合物及び正孔輸送性化合物に加えて、さらに、その他の成分を含有させても良い。その他の成分の例としては、各種の発光材料、電子輸送性化合物、バインダ樹脂、塗布性改良剤などが挙げられる。なお、その他の成分は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
(4-4-1-4. Other components)
As a material of the hole injection layer 3, other components may be further contained in addition to the above-described polymer, electron accepting compound and hole transporting compound as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples of other components include various light emitting materials, electron transporting compounds, binder resins, coatability improving agents, and the like. In addition, only 1 type may be used for another component and it may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.

〔4−4−2.正孔注入層の形成〕
正孔注入層3の形成方法は特に限定されるものではなく、上述の材料に応じて適宜選択することができる。例えば湿式成膜法により正孔注入層3を形成する場合は、正孔注入層用組成物を用いて<4−1.本発明の有機電界発光素子の製造方法>で説明した手順で形成することが好ましい。すなわち、形成する有機層が正孔注入層である場合における本発明の有機電界発光素子の製造方法を用いることが好ましい。
以下、特に湿式成膜法により正孔注入層3を形成する方法について説明するが、外縁規定膜を形成する手順までは同様なので、有機層である正孔注入層3を形成する部分のみ説明する。
[4-4-2. Formation of hole injection layer]
The formation method of the positive hole injection layer 3 is not specifically limited, It can select suitably according to the above-mentioned material. For example, when the hole injection layer 3 is formed by a wet film formation method, <4-1. It is preferably formed by the procedure described in the method for producing an organic electroluminescent element of the present invention>. That is, it is preferable to use the method for producing an organic electroluminescent element of the present invention when the organic layer to be formed is a hole injection layer.
Hereinafter, a method for forming the hole injection layer 3 by the wet film forming method will be described. However, the procedure up to the formation of the outer edge defining film is the same, so only the portion for forming the hole injection layer 3 which is an organic layer will be described. .

正孔注入層用組成物に含有させる正孔注入層用溶剤としては、正孔注入層3の形成が可能である限り任意のものを用いることができる。ただし、前述のポリマー、電子受容性化合物及び低分子量の正孔輸送性化合物のうち、少なくとも1種、中でも2種以上、特には3種全てを、溶解することが可能なものが好ましい。具体的な溶解性としては、常温・常圧下で、ポリマーを通常0.005重量%以上、中でも0.5重量%以上、特には1重量%以上溶解することが好ましく、電子受容性化合物を通常0.001重量%以上、中でも0.1重量%以上、特には0.2重量%以上溶解することが好ましい。   As the hole injection layer solvent to be contained in the composition for hole injection layer, any solvent can be used as long as the hole injection layer 3 can be formed. However, among the aforementioned polymers, electron-accepting compounds, and low-molecular-weight hole-transporting compounds, those capable of dissolving at least one, particularly two or more, and particularly all three are preferable. Specifically, the solubility of the polymer is usually 0.005% by weight or more, particularly 0.5% by weight or more, particularly 1% by weight or more at room temperature and normal pressure. It is preferable to dissolve 0.001% by weight or more, especially 0.1% by weight or more, particularly 0.2% by weight or more.

また、正孔注入層用溶剤としては、ポリマー、電子受容性化合物、低分子量の正孔輸送性化合物及びそれらの混合から生じるフリーキャリア(カチオンラジカル)を失活させる可能性のある失活物質又は失活物質を発生させるものを含まない溶剤が好ましい。   In addition, as the solvent for the hole injection layer, a polymer, an electron-accepting compound, a low-molecular-weight hole-transporting compound, and an inactive substance that can deactivate a free carrier (cation radical) generated from a mixture thereof, or A solvent that does not contain a substance that generates a deactivating substance is preferred.

正孔注入層用溶剤としては、本発明の効果を著しく損なわない限り制限はないが、例えば、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、アミド系溶剤、等が挙げられる。   The solvent for the hole injection layer is not limited as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, and examples thereof include ether solvents, ester solvents, aromatic hydrocarbon solvents, amide solvents, and the like.

エーテル系溶剤としては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル、等が挙げられる。   Examples of ether solvents include aliphatic ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA); 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole , Phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, aromatic ethers such as 2,4-dimethylanisole, and the like.

エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル等の脂肪族エステル;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル、等が挙げられる。   Examples of the ester solvent include aliphatic esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, ethyl lactate, and n-butyl lactate; phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, and benzoic acid. and aromatic esters such as n-butyl.

芳香族炭化水素系溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、等が挙げられる。アミド系溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、等が挙げられる。その他、ジメチルスルホキシド、等も用いることができる。これらの溶剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で用いてもよい。   Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include benzene, toluene, xylene, and the like. Examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and the like. In addition, dimethyl sulfoxide and the like can also be used. These solvent may use only 1 type and may use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

ただし、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤は、酸化剤とポリマーを溶解する能力が低いため、エーテル系溶剤及びエステル系溶剤と混合して用いることが好ましい。   However, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene have a low ability to dissolve the oxidant and the polymer, and are therefore preferably used in a mixture with an ether solvent and an ester solvent.

正孔注入層用組成物に対する正孔注入層用溶剤の比率は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10重量%以上、好ましくは30重量%以上、より好ましくは50%重量以上、また、通常99.999重量%以下、好ましくは99.99重量%以下、更に好ましくは99.9重量%以下の範囲である。なお、正孔注入層用溶剤として2種以上の溶剤を混合して用いる場合には、これらの溶剤の合計がこの範囲を満たすようにする。   The ratio of the hole injection layer solvent to the hole injection layer composition is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, but is usually 10% by weight or more, preferably 30% by weight or more, more preferably 50%. It is in the range of not less than weight, usually not more than 99.999% by weight, preferably not more than 99.99% by weight, and more preferably not more than 99.9% by weight. In addition, when mixing and using 2 or more types of solvents as a solvent for positive hole injection layers, it is made for the sum total of these solvents to satisfy | fill this range.

正孔注入層用組成物の塗布・成膜後、得られた塗膜を乾燥し、正孔注入層用溶剤を除去することにより、正孔注入層3が形成される。成膜の方式は、パターニングが可能な方法であれば、本発明の効果を著しく損なわない限り制限はない。例えば、スプレーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、ノズルプリンティング法、オフセット印刷法、エアロゾル法、エアロゾルジェット法等の湿式成膜法が挙げられる。   After the application / film formation of the composition for hole injection layer, the obtained coating film is dried, and the hole injection layer 3 is formed by removing the solvent for hole injection layer. The method of film formation is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired as long as patterning is possible. For example, a wet film forming method such as a spray coating method, an ink jet method, a screen printing method, a gravure printing method, a flexographic printing method, a nozzle printing method, an offset printing method, an aerosol method, an aerosol jet method, and the like can be given.

これらの成膜方法の中でも、インクジェット法、ノズルプリンティング法、エアロゾルジェット法が好ましい。これらの成膜方法は版材を使用しないため、正孔注入層用組成物中の正孔注入層用溶剤に版材成分が溶解し、結果的に版材成分が膜中に混入する等の問題が起こらない利点がある。   Among these film forming methods, an ink jet method, a nozzle printing method, and an aerosol jet method are preferable. Since these film forming methods do not use a plate material, the plate material component is dissolved in the solvent for the hole injection layer in the composition for the hole injection layer, and as a result, the plate material component is mixed into the film. There is an advantage that no problem occurs.

なお、乾燥の手法は例えば、プレート(ホットプレート)上に基板を搭載しそのプレートを介して塗布膜を加熱させるホットプレート方式、前記基板の上面側及び/又は下面側にヒーターを配置し、ヒーターから電磁波(例えば赤外線)を照射して、薄膜を加熱する方式、等を用いることができる。加熱手段は1つでもよく、また2つ以上を任意の組み合わせ及び比率で用いてもよい。   The drying method is, for example, a hot plate method in which a substrate is mounted on a plate (hot plate) and a coating film is heated through the plate, a heater is disposed on the upper surface side and / or the lower surface side of the substrate, and the heater A method of heating the thin film by irradiating electromagnetic waves (for example, infrared rays) from, etc. can be used. One heating means may be used, or two or more heating means may be used in any combination and ratio.

なお、正孔注入層3の膜厚は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常5nm以上、好ましくは10nm以上、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下の範囲である。   The thickness of the hole injection layer 3 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less.

<4−5.正孔輸送層>
正孔輸送層4は、正孔注入層3側から発光層5側へ正孔を輸送する層である。正孔輸送層4を形成する材料としては、上記正孔注入層3に混合して用いてもよい正孔輸送化合物として例示した化合物と同様なものが挙げられる。
<4-5. Hole transport layer>
The hole transport layer 4 is a layer that transports holes from the hole injection layer 3 side to the light emitting layer 5 side. Examples of the material for forming the hole transport layer 4 include the same compounds as those exemplified as the hole transport compound that may be used by mixing with the hole injection layer 3.

また、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルトリフェニルアミン、テトラフェニルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホン等の高分子材料も用いることができる。なお、正孔輸送層4の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。   In addition, for example, polymer materials such as polyarylene ether sulfone containing polyvinyl carbazole, polyvinyl triphenylamine, and tetraphenylbenzidine can be used. In addition, the material of the positive hole transport layer 4 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

また正孔輸送層4は、その他の層(特に、正孔輸送層4に直接積層する層)の形成に使用する溶剤に溶解しないことが好ましい。
このため、架橋基を有する正孔輸送性化合物を用いたり、架橋基を有する添加物を含有させ、正孔輸送層4の形成後に熱、光などの活性エネルギー線照射により不溶化させたりすることが好ましい。
The hole transport layer 4 is preferably not dissolved in a solvent used for forming other layers (particularly, a layer directly laminated on the hole transport layer 4).
For this reason, a hole transporting compound having a crosslinking group may be used, or an additive having a crosslinking group may be contained and insolubilized by irradiation with active energy rays such as heat and light after the formation of the hole transport layer 4. preferable.

架橋基を有する正孔輸送性化合物は、モノマー、オリゴマー或いはポリマーのいずれであってもよい。架橋基としては、オキセタン、エポキシなどの環状エーテル;ビニル基、トリフルオロビニル基、スチリル基、アクリル基、メタクリロイル、シンナモイル等の不飽和二重結合;ベンゾシクロブタンなどが挙げられる。
架橋基を有する正孔輸送性化合物は、上記の架橋基を、1種のみを有していてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で有していてもよい。
架橋基を有する正孔輸送性化合物の例を挙げると、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、カルバゾール誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体等の含窒素芳香族化合物誘導体;トリフェニルアミン誘導体;シロール誘導体;オリゴチオフェン誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが挙げられる。その中でも、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、フェナントロリン誘導体、カルバゾール誘導体等の含窒素芳香族誘導体;トリフェニルアミン誘導体、シロール誘導体、縮合多環芳香族誘導体、金属錯体などが好ましく、特に、トリフェニルアミン誘導体がより好ましい。
なお、ここで「誘導体」とは当該用語を付された化合物を排除するものではなく、例えば「トリフェニルアミン誘導体」は、トリフェニルアミンと、トリフェニルアミンから誘導して得られる化合物との両方を含むものとする。
The hole transporting compound having a crosslinking group may be any of a monomer, an oligomer, or a polymer. Examples of the crosslinking group include cyclic ethers such as oxetane and epoxy; unsaturated double bonds such as vinyl group, trifluorovinyl group, styryl group, acrylic group, methacryloyl and cinnamoyl; benzocyclobutane and the like.
The hole transporting compound having a crosslinking group may have only one type of the above-mentioned crosslinking group, or may have two or more types in any combination and ratio.
Examples of hole transporting compounds having a crosslinking group include nitrogen-containing aromatic compound derivatives such as pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, carbazole derivatives, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives; Examples include triphenylamine derivatives; silole derivatives; oligothiophene derivatives, condensed polycyclic aromatic derivatives, metal complexes, and the like. Among them, nitrogen-containing aromatic derivatives such as pyridine derivatives, pyrazine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, phenanthroline derivatives, carbazole derivatives; triphenylamine derivatives, silole derivatives, condensed polycyclic aromatic derivatives, metal complexes, etc. Particularly preferred are triphenylamine derivatives.
Here, the term “derivative” does not exclude a compound to which the term is attached. For example, a “triphenylamine derivative” refers to both triphenylamine and a compound derived from triphenylamine. Shall be included.

正孔輸送層4の形成方法は特に限定されるものではなく、上述の材料に応じて適宜選択することができる。例えば湿式成膜法により正孔輸送層4を形成する場合は、上述の材料を適切な溶剤に溶解させた正孔輸送層用組成物を用いて<4−1.本発明の有機電界発光素子の製造方法>で説明した手順で形成することが好ましい。すなわち、形成する有機層が正孔輸送層である場合における本発明の有機電界発光素子の製造方法を用いることが好ましい。
以下、特に湿式成膜法により正孔輸送層4を形成する方法について説明するが、これらの詳細は、先の〔4−4−2.正孔注入層の形成〕の欄で説明した内容と同様である。以下、特に違いがある部分について説明する。
The formation method of the positive hole transport layer 4 is not specifically limited, It can select suitably according to the above-mentioned material. For example, when the hole transport layer 4 is formed by a wet film forming method, a composition for a hole transport layer in which the above-described material is dissolved in an appropriate solvent is used <4-1. It is preferably formed by the procedure described in the method for producing an organic electroluminescent element of the present invention>. That is, it is preferable to use the method for producing an organic electroluminescent element of the present invention when the organic layer to be formed is a hole transport layer.
Hereinafter, a method of forming the hole transport layer 4 by a wet film forming method will be described in detail. The details of these methods are described in [4-4-2. This is the same as described in the section “Formation of hole injection layer”. Hereinafter, the part which has a difference especially is demonstrated.

湿式成膜法により正孔輸送層4を形成する場合は、上述の材料を適切な溶剤に溶解させて塗布用組成物を調製し、それを用いて成膜工程、乾燥工程を経ることにより形成する。これらの詳細は、先の〔4−4−2.正孔注入層の形成〕の欄で説明した内容と同様である。以下、特に湿式成膜法について説明する。   When the hole transport layer 4 is formed by a wet film formation method, a coating composition is prepared by dissolving the above materials in an appropriate solvent, and the film is formed by using a film formation process and a drying process. To do. These details are described in [4-4-2. This is the same as described in the section “Formation of hole injection layer”. Hereinafter, the wet film forming method will be described in particular.

正孔輸送層4を製造するための塗布用組成物に含有させる正孔輸送層用溶剤としては、正孔輸送層4の形成が可能である限り任意のものを用いることができる。ただし、前述の正孔輸送性化合物や高分子材料を溶解することが可能なものが好ましい。また、正孔注入層3を溶解しない溶剤を用いることがより好ましい。   As the hole transport layer solvent to be contained in the coating composition for producing the hole transport layer 4, any solvent can be used as long as the hole transport layer 4 can be formed. However, those capable of dissolving the above-described hole transporting compound and polymer material are preferable. It is more preferable to use a solvent that does not dissolve the hole injection layer 3.

また、正孔輸送層用溶剤としては、ポリマー、電子受容性化合物、正孔輸送性化合物及びそれらの混合から生じるフリーキャリア(カチオンラジカル)を失活させる可能性のある失活物質又は失活物質を発生させるものを含まない溶剤が好ましい。   Moreover, as a solvent for hole transport layers, a deactivated substance or a deactivated substance that may deactivate a polymer, an electron accepting compound, a hole transporting compound, and a free carrier (cation radical) generated from a mixture thereof. Solvents that do not contain those that generate are preferred.

正孔輸送層4を製造するための塗布用組成物の塗布・成膜後、得られた塗膜を乾燥し、正孔輸送層用溶剤を除去することにより、正孔輸送層4が形成される。湿式成膜の方式は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されず、〔4−4−2.正孔注入層の形成〕の欄で説明した、いかなる方式も用いることができる。   After coating / deposition of the coating composition for producing the hole transport layer 4, the obtained coating film is dried and the hole transport layer solvent is removed, whereby the hole transport layer 4 is formed. The The method of wet film formation is not limited as long as the effects of the present invention are not significantly impaired, and [4-4-2. Any method described in the section “Formation of hole injection layer” can be used.

なお、乾燥の手法は、〔4−4−2.正孔注入層の形成〕の欄で説明した手法と同様であれば、他に制限はない。   The drying method is [4-4-2. There is no other limitation as long as it is the same as the method described in the section “Formation of hole injection layer”.

なお、正孔輸送層4の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10nm以上、好ましくは30nm以上、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。   The film thickness of the hole transport layer 4 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10 nm or more, preferably 30 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less.

<4−6.発光層>
発光層5は、電界を与えられた電極間において、陽極2から正孔注入層3等を通じて注入された正孔と、陰極6から注入された電子との再結合により励起されて、主たる発光源となる層である。
<4-6. Light emitting layer>
The light emitting layer 5 is excited by recombination of holes injected from the anode 2 through the hole injection layer 3 and the like and electrons injected from the cathode 6 between the electrodes to which an electric field is applied. Is the layer.

〔4−6−1.発光層の材料〕
発光層5は、その構成材料として、少なくとも、発光の性質を有する材料(発光材料)を含有するとともに、好ましくは、正孔輸送の性質を有する化合物(正孔輸送性化合物)、あるいは、電子輸送の性質を有する化合物(電子輸送性化合物)を含有する。発光材料については特に限定はなく、所望の発光波長で発光し、発光効率が良好である物質を用いればよい。また、電荷輸送性化合物を2成分以上含有していることが好ましい。更に、発光層5は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、その他の成分を含有していてもよい。なお、本発明においては、何れも低分子化合物を使用することが好ましい。なお、低分子化合物とは、重量平均分子量が、通常6000以下、好ましくは5000以下、より好ましくは1500以下の化合物をいう。
[4-6-1. (Light emitting layer material)
The light emitting layer 5 contains at least a material having a light emitting property (light emitting material) as a constituent material, and preferably a compound having a hole transporting property (hole transporting compound) or an electron transport. A compound (electron transporting compound) having the following properties: There is no particular limitation on the light-emitting material, and a material that emits light at a desired light emission wavelength and has favorable light emission efficiency may be used. Moreover, it is preferable to contain two or more charge transport compounds. Furthermore, the light emitting layer 5 may contain other components as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In the present invention, it is preferable to use a low molecular weight compound. In addition, a low molecular compound means the compound whose weight average molecular weight is 6000 or less normally, Preferably it is 5000 or less, More preferably, it is 1500 or less.

(4−6−1−1.発光材料)
発光材料としては、任意の公知の材料を適用可能である。例えば、蛍光発光材料であってもよく、燐光発光材料であってもよいが、内部量子効率の観点から、好ましくは燐光発光材料である。
なお、溶剤への溶解性を向上させる目的で、発光材料の分子の対称性や剛性を低下させたり、或いはアルキル基などの親油性置換基を導入したりすることが好ましい。
(4-6-1-1. Light-Emitting Material)
Any known material can be applied as the light emitting material. For example, a fluorescent material or a phosphorescent material may be used, but a phosphorescent material is preferable from the viewpoint of internal quantum efficiency.
For the purpose of improving the solubility in a solvent, it is preferable to reduce the symmetry and rigidity of the molecules of the luminescent material, or to introduce a lipophilic substituent such as an alkyl group.

以下、発光材料のうち蛍光色素の例を挙げるが、蛍光色素は以下の例示物に限定されるものではない。
青色発光を与える蛍光色素(青色蛍光色素)としては、例えば、ペリレン、ピレン、アントラセン、クマリン、p−ビス(2−フェニルエテニル)ベンゼン及びそれらの誘導体等が挙げられる。
緑色発光を与える蛍光色素(緑色蛍光色素)としては、例えば、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体等が挙げられる。
黄色発光を与える蛍光色素(黄色蛍光色素)としては、例えば、ルブレン、ペリミドン誘導体等が挙げられる。
赤色発光を与える蛍光色素(赤色蛍光色素)としては、例えば、DCM(4−(dicyanomethylene)−2−methyl−6−(p−dimethylaminostyryl)−4H−pyran)系化合物、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサンテン等が挙げられる。
Hereinafter, although the example of a fluorescent dye is mentioned among light emitting materials, a fluorescent dye is not limited to the following illustrations.
Examples of the fluorescent dye that gives blue light emission (blue fluorescent dye) include perylene, pyrene, anthracene, coumarin, p-bis (2-phenylethenyl) benzene, and derivatives thereof.
Examples of fluorescent dyes that give green light emission (green fluorescent dyes) include quinacridone derivatives and coumarin derivatives.
Examples of fluorescent dyes that give yellow light (yellow fluorescent dyes) include rubrene and perimidone derivatives.
Examples of fluorescent dyes that give red luminescence (red fluorescent dyes) include DCM (4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran) compounds, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzoates. Examples thereof include thioxanthene derivatives and azabenzothioxanthene.

次に、発光材料のうち、燐光発光材料について説明する。燐光発光材料としては、例えば、周期表第7〜11族から選ばれる金属を含む有機金属錯体が挙げられる。   Next, phosphorescent materials among the light emitting materials will be described. Examples of the phosphorescent material include an organometallic complex containing a metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table.

燐光性有機金属錯体に含まれる、周期表第7〜11族から選ばれる金属として、好ましいもの例を挙げると、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金等が挙げられる。これらの有機金属錯体として、好ましくは下記式(V)又は式(VI)で表わされる化合物が挙げられる。   Preferred examples of the metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table contained in the phosphorescent organometallic complex include ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum, and gold. . Preferred examples of these organometallic complexes include compounds represented by the following formula (V) or formula (VI).

Figure 2009146696
{式(V)中、Mは金属を表わし、qは上記金属の価数を表わす。また、L及びL’は二座配位子を表わす。jは0、1又は2の数を表わす。}
Figure 2009146696
{In Formula (V), M represents a metal, and q represents the valence of the metal. L and L ′ represent bidentate ligands. j represents a number of 0, 1 or 2. }

Figure 2009146696
{式(VI)中、M7は金属を表わし、Tは炭素原子又は窒素原子を表わす。R92〜R95は、それぞれ独立に置換基を表わす。但し、Tが窒素原子の場合は、R94及びR95は無い。}
Figure 2009146696
{In Formula (VI), M 7 represents a metal, and T represents a carbon atom or a nitrogen atom. R 92 to R 95 each independently represents a substituent. However, when T is a nitrogen atom, R 94 and R 95 are absent. }

以下、まず、式(V)で表わされる化合物について説明する。
式(V)中、Mは任意の金属を表わし、好ましいものの具体例としては、周期表第7〜11族から選ばれる金属として前述した金属が挙げられる。
Hereinafter, the compound represented by the formula (V) will be described first.
In formula (V), M represents an arbitrary metal, and specific examples of preferable ones include the metals described above as metals selected from Groups 7 to 11 of the periodic table.

また、式(V)中、二座配位子Lは、以下の部分構造を有する配位子を示す。

Figure 2009146696
上記Lの部分構造において、環A1”は、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表わす。 In the formula (V), the bidentate ligand L represents a ligand having the following partial structure.
Figure 2009146696
In the partial structure of L, ring A1 ″ represents an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent.

環A1”を構成する芳香族炭化水素基としては、例えば、5又は6員環の単環又は2〜5縮合環が挙げられる。その具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環由来の1価の基などが挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon group constituting the ring A1 ″ include a 5- or 6-membered monocyclic ring or a 2-5 condensed ring. Specific examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a phenanthrene. And a monovalent group derived from a ring, a perylene ring, a tetracene ring, a pyrene ring, a benzpyrene ring, a chrysene ring, a triphenylene ring, an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring.

環A1”を構成する芳香族複素環基としては、例えば、5又は6員環の単環又は2〜4縮合環が挙げられる。その具体例としては、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環由来の1価の基などが挙げられる。   Examples of the aromatic heterocyclic group constituting the ring A1 ″ include a 5- or 6-membered monocyclic ring or a 2-4 condensed ring. Specific examples thereof include a furan ring, a benzofuran ring, a thiophene ring, and a benzoic ring. Thiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring , Benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, cinnoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, benzimidazole ring , Perimidine ring, key Gelsolin ring, quinazolinone ring, and a monovalent group derived from azulene ring.

また、上記Lの部分構造において、環A2は、置換基を有していてもよい、含窒素芳香族複素環基を表わす。
環A2を構成する含窒素芳香族複素環基としては、例えば、5又は6員環の単環又は2〜4縮合環が挙げられる。その具体例としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、フロピロール環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環由来の1価の基などが挙げられる。
In the partial structure of L, ring A2 represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group which may have a substituent.
Examples of the nitrogen-containing aromatic heterocyclic group constituting the ring A2 include a 5- or 6-membered monocyclic ring or a 2-4 condensed ring. Specific examples thereof include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, furopyrrole ring, thienofuran ring, benzoisoxazole Ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine ring, benzimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, And monovalent group derived from a quinazolinone ring.

環A1”又は環A2がそれぞれ有していてもよい置換基の例としては、フッ素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基等のアルキル基;ビニル基等のアルケニル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのアリールオキシ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基;ジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ基;カルバゾリル基;アセチル基等のアシル基;トリフルオロメチル基等のハロアルキル基;シアノ基;フェニル基、ナフチル基、フェナンチル基等の芳香族炭化水素基等が挙げられる。
なお、前記置換基は、1個のみが置換していてもよく、2個以上が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。
Examples of the substituent that each ring A1 ″ or ring A2 may have include: a halogen atom such as a fluorine atom; an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group; an alkenyl group such as a vinyl group; a methoxycarbonyl group and an ethoxy group Alkoxycarbonyl groups such as carbonyl groups; alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups; aryloxy groups such as phenoxy groups and benzyloxy groups; dialkylamino groups such as dimethylamino groups and diethylamino groups; diarylamino groups such as diphenylamino groups Carbazolyl group; acyl group such as acetyl group; haloalkyl group such as trifluoromethyl group; cyano group; aromatic hydrocarbon group such as phenyl group, naphthyl group, phenanthyl group and the like.
In addition, as for the said substituent, only 1 may be substituted and 2 or more may be substituted by arbitrary combinations and ratios.

また、式(V)中、二座配位子L’は、以下の部分構造のうちの少なくともいずれかを有する配位子を示す。但し、以下の式において、「Ph」はフェニル基を表わす。

Figure 2009146696
In formula (V), bidentate ligand L ′ represents a ligand having at least one of the following partial structures. In the following formulae, “Ph” represents a phenyl group.
Figure 2009146696

中でも、L’としては、錯体の安定性の観点から、以下に挙げる配位子が好ましい。

Figure 2009146696
Among these, as L ′, the following ligands are preferable from the viewpoint of the stability of the complex.
Figure 2009146696

式(V)で表わされる化合物として、更に好ましくは、下記式(Va)、(Vb)及び(Vc)の少なくともいずれかで表わされる化合物が挙げられる。   More preferred examples of the compound represented by the formula (V) include compounds represented by at least one of the following formulas (Va), (Vb) and (Vc).

Figure 2009146696
Figure 2009146696

{式(Va)中、M4は、Mと同様の金属を表わし、wは、上記金属の価数を表わし、環A1”は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わし、環A2は、置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環基を表わす。} {In Formula (Va), M 4 represents the same metal as M, w represents the valence of the metal, and ring A1 ″ represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Ring A2 represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group which may have a substituent.}

Figure 2009146696
Figure 2009146696

{式(Vb)中、M5は、Mと同様の金属を表わし、wは、上記金属の価数を表わし、環A1”は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表わし、環A2は、置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環基を表わす。} {In Formula (Vb), M 5 represents the same metal as M, w represents the valence of the metal, and ring A1 ″ represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent or Represents an aromatic heterocyclic group, and ring A2 represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group which may have a substituent.}

Figure 2009146696
Figure 2009146696

{式(Vc)中、M6は、Mと同様の金属を表わし、wは、上記金属の価数を表わし、jは、0、1又は2を表わし、環A1”及び環A1’は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表わし、環A2及び環A2’は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい含窒素芳香族複素環基を表わす。} {In the formula (Vc), M 6 represents the same metal as M, w represents the valence of the metal, j represents 0, 1 or 2, ring A1 "and ring A1 'represent Each independently represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group, and ring A2 and ring A2 ′ are each independently a nitrogen-containing optionally substituted group. Represents an aromatic heterocyclic group.}

上記式(Va)、(Vb)及び(Vc)において、環A1”及び環A1’の好ましい例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、チエニル基、フリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフリル基、ピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、カルバゾリル基等が挙げられる。   In the above formulas (Va), (Vb) and (Vc), preferred examples of the ring A1 ″ and the ring A1 ′ include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a thienyl group, a furyl group, a benzothienyl group, A benzofuryl group, a pyridyl group, a quinolyl group, an isoquinolyl group, a carbazolyl group, and the like can be given.

上記式(Va)、(Vb)及び(Vc)において、環A2及び環A2’の好ましい例としては、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、ベンゾチアゾール基、ベンゾオキサゾール基、ベンゾイミダゾール基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フェナントリジル基等が挙げられる。   In the above formulas (Va), (Vb) and (Vc), preferred examples of ring A2 and ring A2 ′ include pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, benzothiazole group, benzoxazole group, and benzimidazole group. Quinolyl group, isoquinolyl group, quinoxalyl group, phenanthridyl group and the like.

上記式(Va)、(Vb)及び(Vc)のいずれかで表わされる化合物が有していてもよい置換基としては、例えば、フッ素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基等のアルキル基;ビニル基等のアルケニル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;フェノキシ基、ベンジルオキシ基などのアリールオキシ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ基;ジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ基;カルバゾリル基;アセチル基等のアシル基;トリフルオロメチル基等のハロアルキル基;シアノ基等が挙げられる。   Examples of the substituent that the compound represented by any one of the formulas (Va), (Vb), and (Vc) may have include a halogen atom such as a fluorine atom; an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group Alkenyl groups such as vinyl groups; alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl groups and ethoxycarbonyl groups; alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups; aryloxy groups such as phenoxy groups and benzyloxy groups; dimethylamino groups and diethylamino groups A diarylamino group such as a diphenylamino group; a carbazolyl group; an acyl group such as an acetyl group; a haloalkyl group such as a trifluoromethyl group; a cyano group and the like.

また、前記置換基の炭素数は本発明の効果を著しく損なわない限り任意である。ただし、置換基がアルキル基である場合は、その炭素数は通常1以上6以下である。また、置換基がアルケニル基である場合は、その炭素数は通常2以上6以下である。また、置換基がアルコキシカルボニル基である場合、その炭素数は通常2以上6以下である。また、置換基がアルコキシ基である場合は、その炭素数は通常1以上6以下である。また、置換基がアリールオキシ基である場合は、その炭素数は通常6以上14以下である。また、置換基がジアルキルアミノ基である場合は、その炭素数は通常2以上24以下である。また、置換基がジアリールアミノ基である場合、その炭素数は通常12以上28以下である。また、置換基がアシル基である場合は、その炭素数は通常1以上14以下である。また、置換基がハロアルキル基である場合は、その炭素数は通常1以上12以下である。   The carbon number of the substituent is arbitrary as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. However, when the substituent is an alkyl group, the carbon number is usually 1 or more and 6 or less. When the substituent is an alkenyl group, the carbon number is usually 2 or more and 6 or less. When the substituent is an alkoxycarbonyl group, the carbon number is usually 2 or more and 6 or less. Moreover, when a substituent is an alkoxy group, the carbon number is 1 or more and 6 or less normally. Moreover, when a substituent is an aryloxy group, the carbon number is 6 or more and 14 or less normally. Moreover, when a substituent is a dialkylamino group, the carbon number is 2 or more and 24 or less normally. Moreover, when a substituent is a diarylamino group, the carbon number is 12 or more and 28 or less normally. When the substituent is an acyl group, the carbon number is usually 1 or more and 14 or less. Moreover, when a substituent is a haloalkyl group, the carbon number is 1 or more and 12 or less normally.

なお、前記の置換基は互いに連結して環を形成してもよい。具体例としては、環A1”が有する置換基と環A2が有する置換基とが結合するか、又は、環A1’が有する置換基と環A2’が有する置換基とが結合するかして、一つの縮合環を形成してもよい。このような縮合環としては、例えば7,8−ベンゾキノリン基等が挙げられる。   The above substituents may be linked to each other to form a ring. As a specific example, whether the substituent of the ring A1 ″ and the substituent of the ring A2 are bonded, or the substituent of the ring A1 ′ and the substituent of the ring A2 ′ are bonded, One condensed ring may be formed, and examples of such a condensed ring include a 7,8-benzoquinoline group.

上述した置換基の中でも、環A1”、環A1’、環A2及び環A2’の置換基として、より好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、芳香族炭化水素基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロアルキル基、ジアリールアミノ基、カルバゾリル基が挙げられる。なお、環A1”、環A1’、環A2及び環A2’の置換基は、1個のみが置換していてもよく、2個以上が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。   Among the above-described substituents, the substituents of ring A1 ″, ring A1 ′, ring A2 and ring A2 ′ are more preferably alkyl groups, alkoxy groups, aromatic hydrocarbon groups, cyano groups, halogen atoms, haloalkyl groups. , Diarylamino group and carbazolyl group. In addition, as for the substituents of ring A1 ″, ring A1 ′, ring A2 and ring A2 ′, only one may be substituted or two or more may be in any combination. And may be substituted by a ratio.

また、式(Va)、(Vb)及び(Vc)におけるM4〜M6の好ましい例としては、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金又は金が挙げられる。 Further, the formula (Va), as preferred examples of M 4 ~M 6 in (Vb) and (Vc) include ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum or gold.

上記式(V)、(Va)、(Vb)及び(Vc)のいずれかで示される有機金属錯体の具体例を以下に示す。但し、下記の化合物に限定されるものではない。   Specific examples of the organometallic complex represented by any one of the above formulas (V), (Va), (Vb) and (Vc) are shown below. However, it is not limited to the following compounds.

Figure 2009146696
Figure 2009146696

Figure 2009146696
Figure 2009146696

さらに、上記式(V)で表わされる有機金属錯体の中でも、特に、配位子L及び/又はL’として2−アリールピリジン系配位子(即ち、2−アリールピリジン、これに任意の置換基が結合したもの、及び、これに任意の基が縮合してなるもの)を有する化合物が好ましい。   Further, among the organometallic complexes represented by the above formula (V), in particular, as the ligand L and / or L ′, a 2-arylpyridine-based ligand (that is, 2-arylpyridine, an arbitrary substituent group) And a compound having an arbitrary group condensed thereto) are preferable.

また、国際公開第2005/019373号パンフレットに記載の化合物も、発光材料として使用することが可能である。   The compounds described in International Publication No. 2005/019373 pamphlet can also be used as the light emitting material.

次に、式(VI)で表わされる化合物について説明する。
式(VI)中、M7は金属を表わす。具体例としては、周期表第7〜11族から選ばれる金属として前述した金属が挙げられる。中でも好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金又は金が挙げられ、特に好ましくは、白金、パラジウム等の2価の金属が挙げられる。
Next, the compound represented by formula (VI) will be described.
In formula (VI), M 7 represents a metal. Specific examples include the metals described above as the metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table. Among these, ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum or gold is preferable, and divalent metals such as platinum and palladium are particularly preferable.

また、式(VI)において、R92及びR93は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、シアノ基、アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、ハロアルキル基、水酸基、アリールオキシ基、芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種を表わす。なお、各R92及びR93はそれぞれ同じでもよく異なっていても良い。 In the formula (VI), R 92 and R 93 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, a cyano group, an amino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, It represents at least one selected from the group consisting of an alkoxy group, an alkylamino group, an aralkylamino group, a haloalkyl group, a hydroxyl group, an aryloxy group, an aromatic hydrocarbon group, and an aromatic heterocyclic group. Each R 92 and R 93 may be the same or different.

更に、式(VI)においてTが炭素原子である場合、R94及びR95は、それぞれ独立に、R92及びR93と同様の例示物で表わされる置換基を表わす。また、式(VI)においてTが窒素原子である場合は、R94及びR95は無い。なお、各Tは同じでもよく異なっていても良い。 Further, in the formula (VI), when T is a carbon atom, R 94 and R 95 each independently represent a substituent represented by the same examples as R 92 and R 93 . Also, if T in formula (VI) is a nitrogen atom, R 94 and R 95 do not. Each T may be the same or different.

また、式(VI)においてR92〜R95は、更に置換基を有していてもよい。置換基を有する場合、その種類に特に制限はなく、任意の基を置換基とすることができる。また、その置換基は、1個のみが置換していてもよく、2個以上が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。
さらに、式(VI)においてR92〜R95のうち任意の2つ以上の基が互いに連結して環を形成してもよい。
In the formula (VI), R 92 to R 95 may further have a substituent. When it has a substituent, there is no restriction | limiting in particular in the kind, Arbitrary groups can be made into a substituent. Moreover, as for the substituent, only 1 may be substituted and 2 or more may be substituted by arbitrary combinations and ratios.
Furthermore, in the formula (VI), any two or more groups of R 92 to R 95 may be connected to each other to form a ring.

式(VI)で表わされる有機金属錯体の具体例(T−1〜T−7)を以下に示す。但し、下記の例示物に限定されるものではない。また、以下の化学式において、Meはメチル基を表わし、Etはエチル基を表わす。   Specific examples (T-1 to T-7) of the organometallic complex represented by the formula (VI) are shown below. However, it is not limited to the following examples. In the following chemical formulae, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group.

Figure 2009146696
Figure 2009146696

発光材料として用いる化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10000以下、好ましくは5000以下、より好ましくは4000以下、更に好ましくは3000以下、また、通常100以上、好ましくは200以上、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上の範囲である。分子量が小さ過ぎると、耐熱性が著しく低下したり、ガス発生の原因となったり、層を形成した際の層の質の低下を招いたり、或いはマイグレーションなどによる有機電界発光素子のモルフォロジー変化を来したりする場合がある。一方、分子量が大き過ぎると、有機化合物の精製が困難となってしまったり、溶剤に溶解させる際に時間を要したりする傾向がある。   The molecular weight of the compound used as the light emitting material is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less, still more preferably 3000 or less, and usually 100 or more, Preferably it is 200 or more, More preferably, it is 300 or more, More preferably, it is the range of 400 or more. If the molecular weight is too small, the heat resistance is remarkably reduced, gas generation is caused, the quality of the layer is lowered when the layer is formed, or the morphology of the organic electroluminescent device is changed due to migration or the like. There is a case to do. On the other hand, if the molecular weight is too large, it tends to be difficult to purify the organic compound, or it may take time to dissolve in the solvent.

なお、上述した発光材料は、いずれか1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。   In addition, any 1 type may be used for the luminescent material mentioned above, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.

発光層5における発光材料の割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意である
が、通常0.05重量%以上、好ましくは0.3重量%以上、より好ましくは0.5重量%以上、また、通常35重量%以下、好ましくは25重量%以下、更に好ましくは20重量%以下である。発光材料が少なすぎると発光ムラを生じる可能性があり、多すぎると発光効率が低下する可能性がある。なお、2種以上の発光材料を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。
The ratio of the light emitting material in the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.05% by weight or more, preferably 0.3% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more. In addition, it is usually 35% by weight or less, preferably 25% by weight or less, and more preferably 20% by weight or less. If the amount of the light emitting material is too small, uneven light emission may occur. If the amount is too large, the light emission efficiency may be reduced. In addition, when using together 2 or more types of luminescent material, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

(4−6−1−2.正孔輸送性化合物)
また、発光層5には、構成材料として、正孔輸送性化合物を含有させてもよい。ここで、正孔輸送性化合物のうち、低分子量の正孔輸送性化合物の例としては、前述の〔4−4−1−3.低分子量の正孔輸送性化合物〕の欄で例示した各種の化合物のほか、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルに代表される、2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族ジアミン(特開平5−234681号公報)、4,4’,4”−トリス(1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のスターバースト構造を有する芳香族アミン化合物(Journal of Luminescence, 1997年, Vol.72−74, pp.985)、トリフェニルアミンの四量体から成る芳香族アミン化合物(Chemical Communications, 1996年, pp.2175)、2,2’,7,7’−テトラキス−(ジフェニルアミノ)−9,9’−スピロビフルオレン等のスピロ化合物(Synthetic Metals, 1997年, Vol.91, pp.209)等が挙げられる。なお、発光層5において、正孔輸送性化合物は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
(4-6-1-2. Hole transporting compound)
Further, the light emitting layer 5 may contain a hole transporting compound as a constituent material. Here, of the hole transporting compounds, examples of the low molecular weight hole transporting compound include the above-mentioned [4-4-1-3. In addition to the various compounds exemplified in the column of “low molecular weight hole transporting compound”, for example, two represented by 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl Aromatic diamines containing the above tertiary amines and having two or more condensed aromatic rings substituted with nitrogen atoms (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234861), 4,4 ′, 4 ″ -tris (1-naphthylphenylamino) Aromatic amine compounds having a starburst structure such as triphenylamine (Journal of Luminescence, 1997, Vol. 72-74, pp. 985), aromatic amine compounds composed of tetramers of triphenylamine (Chemical Communications, 1996, pp. 2175), 2,2 ′, 7,7′-tetrakis- (diphenylamino) -9. Spiro compounds such as 9′-spirobifluorene (Synthetic Metals, 1997, Vol. 91, pp. 209), etc. In the light emitting layer 5, only one kind of hole transporting compound is used. Two or more kinds may be used in any combination and ratio.

発光層5における正孔輸送性化合物の割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.1重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上、また、通常65重量%以下、好ましくは50重量%以下、更に好ましくは40重量%以下である。正孔輸送性化合物が少なすぎると短絡の影響を受けやすくなる可能性があり、多すぎると膜厚ムラを生じる可能性がある。なお、2種以上の正孔輸送性化合物を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The ratio of the hole transporting compound in the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight. In addition, it is usually 65% by weight or less, preferably 50% by weight or less, and more preferably 40% by weight or less. If the amount of the hole transporting compound is too small, it may be easily affected by a short circuit, and if it is too large, the film thickness may be uneven. In addition, when using together 2 or more types of hole transportable compounds, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

(4−6−1−3.電子輸送性化合物)
発光層5には、構成材料として、電子輸送性化合物を含有させてもよい。ここで、電子輸送性化合物のうち、低分子量の電子輸送性化合物の例としては、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール(BND)や、2,5−ビス(6’−(2’,2”−ビピリジル))−1,1−ジメチル−3,4−ジフェニルシロール(PyPySPyPy)や、バソフェナントロリン(BPhen)や、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP、バソクプロイン)、2−(4−ビフェニリル)−5−(p−ターシャルブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(tBu−PBD)や、4,4’−ビス(9−カルバゾール)−ビフェニル(CBP)等が挙げられる。なお、発光層5において、電子輸送性化合物は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
(4-6-1-3. Electron transporting compound)
The light emitting layer 5 may contain an electron transporting compound as a constituent material. Here, among the electron transporting compounds, examples of low molecular weight electron transporting compounds include 2,5-bis (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole (BND), 2,5, -Bis (6 '-(2', 2 "-bipyridyl))-1,1-dimethyl-3,4-diphenylsilole (PyPySPyPy), bathophenanthroline (BPhen), 2,9-dimethyl-4,7 -Diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP, bathocuproin), 2- (4-biphenylyl) -5- (p-tertiarybutylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (tBu-PBD), 4 , 4′-bis (9-carbazole) -biphenyl (CBP), etc. In the light emitting layer 5, only one type of electron transporting compound may be used, or two or more types may be combined arbitrarily. It may be used in combination with not proportion.

発光層5における電子輸送性化合物の割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.1重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上、また、通常65重量%以下、好ましくは50重量%以下、更に好ましくは40重量%以下である。電子輸送性化合物が少なすぎると短絡の影響を受けやすくなる可能性があり、多すぎると膜厚ムラを生じる可能性がある。なお、2種以上の電子輸送性化合物を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The ratio of the electron transporting compound in the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.1% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more. In addition, it is usually 65% by weight or less, preferably 50% by weight or less, and more preferably 40% by weight or less. If the amount of the electron transporting compound is too small, it may be easily affected by a short circuit, and if it is too large, the film thickness may be uneven. In addition, when using together 2 or more types of electron transport compounds, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

〔4−6−2.発光層の形成〕
上記発光層5の形成方法は特に限定されるものではなく、上述の材料に応じて適宜選択することができ、例えば湿式成膜法、真空蒸着法が挙げられる。湿式成膜法により発光層5を形成する場合は、上述の材料を適切な溶剤に溶解させた発光層用組成物を用いて<4−1.本発明の有機電界発光素子の製造方法>で説明した手順で形成することが好ましい。すなわち、形成する有機層が発光層である場合における本発明の有機電界発光素子の製造方法を用いることが好ましい。
以下、特に湿式成膜法により発光層5を形成する方法について説明するが、外縁規定膜を形成する手順までは同様なので、有機層である発光層5を形成する部分のみ説明する。
[4-6-2. Formation of light emitting layer)
The formation method of the said light emitting layer 5 is not specifically limited, According to the above-mentioned material, it can select suitably, For example, a wet film-forming method and a vacuum evaporation method are mentioned. When the light emitting layer 5 is formed by a wet film forming method, a light emitting layer composition in which the above-described materials are dissolved in an appropriate solvent is used, and <4-1. It is preferably formed by the procedure described in the method for producing an organic electroluminescent element of the present invention>. That is, it is preferable to use the method for producing an organic electroluminescent element of the present invention when the organic layer to be formed is a light emitting layer.
Hereinafter, a method for forming the light emitting layer 5 by the wet film forming method will be described in particular. However, the procedure up to the formation of the outer edge defining film is the same.

発光層5を製造するための塗布用組成物に含有させる発光層用溶剤としては、発光層5の形成が可能である限り任意のものを用いることができる。ただし、前述の発光材料、正孔輸送性化合物、及び、電子輸送性化合物を溶解することが可能なものが好ましい。具体的な溶解性としては、常温・常圧下で、発光材料、正孔輸送性化合物、あるいは電子輸送性化合物を、通常0.01重量%以上、中でも0.05重量%以上、特には0.1重量%以上溶解することが好ましい。発光層用溶剤の好適な例は、上述した〔4−4−2.正孔注入層の形成〕の欄で説明した溶剤と同様である。   As the light emitting layer solvent to be contained in the coating composition for producing the light emitting layer 5, any solvent can be used as long as the light emitting layer 5 can be formed. However, those capable of dissolving the light-emitting material, the hole transporting compound, and the electron transporting compound described above are preferable. Specifically, the solubility of the light emitting material, the hole transporting compound, or the electron transporting compound is usually 0.01% by weight or more, particularly 0.05% by weight or more, and particularly preferably 0.00% at room temperature and normal pressure. It is preferable to dissolve 1% by weight or more. Suitable examples of the solvent for the light emitting layer are those described in [4-4-2. This is the same as the solvent described in the section “Formation of hole injection layer”.

発光層5を製造するための塗布用組成物に対する発光層用溶剤の比率は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.01重量%以上、好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは0.5重量%以上、また、通常70重量%以下、好ましくは60重量%以下、更に好ましくは50重量%以下の範囲である。なお、発光層用溶剤として2種以上の溶剤を混合して用いる場合には、これらの溶剤の合計がこの範囲を満たすようにする。   The ratio of the solvent for the light emitting layer to the coating composition for producing the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.1% by weight. Above, more preferably 0.5% by weight or more, and usually 70% by weight or less, preferably 60% by weight or less, more preferably 50% by weight or less. In addition, when mixing and using 2 or more types of solvents as a solvent for light emitting layers, it is made for the sum total of these solvents to satisfy | fill this range.

発光層5を製造するための湿式成膜法の方式は、本発明の効果を著しく損なわない限り限定されず、例えば上記〔4−4−2.正孔注入層の形成〕の欄で説明した、いかなる方式も用いることができる。なお、乾燥の手法についても、〔4−4−2.正孔注入層の形成〕の欄で説明した手法と同様とすることができ、他に制限はない。   The method of the wet film-forming method for manufacturing the light emitting layer 5 is not limited as long as the effect of the present invention is not significantly impaired. For example, the above [4-4-2. Any method described in the section “Formation of hole injection layer” can be used. The drying method is also described in [4-4-2. The method can be the same as that described in the section “Formation of hole injection layer”, and there is no other limitation.

なお、発光層5は単一の層からなる構成としてもよいが、複数の層が積層された構成としてもよい。後者の場合、複数の層は同一の材料からなる層であってもよいが、異なる材料からなる層であってもよい。   The light emitting layer 5 may have a single layer structure, or may have a structure in which a plurality of layers are stacked. In the latter case, the plurality of layers may be layers made of the same material, but may be layers made of different materials.

発光層5の膜厚は本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常3nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常200nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。発光層5の膜厚が、薄すぎると発光層に欠陥が生じる可能性があり、厚すぎると有機電界発光素子の駆動電圧が上昇する可能性がある。   The thickness of the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 3 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less. If the thickness of the light emitting layer 5 is too thin, defects may occur in the light emitting layer, and if it is too thick, the driving voltage of the organic electroluminescent element may increase.

<4−7.陰極>
陰極6は、発光層5側の層に電子を注入する役割を果たすものである。陰極6の材料としては、前記の陽極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効率良く電子注入を行なうには、仕事関数の低い金属が好ましく、例えば、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属又はそれらの合金が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。なお、陰極6の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
<4-7. Cathode>
The cathode 6 serves to inject electrons into the layer on the light emitting layer 5 side. As the material of the cathode 6, the material used for the anode 2 can be used. However, in order to perform electron injection efficiently, a metal having a low work function is preferable, for example, tin, magnesium, indium, A suitable metal such as calcium, aluminum, silver, or an alloy thereof is used. Specific examples include low work function alloy electrodes such as magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy. In addition, the material of the cathode 6 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

陰極6の膜厚は、通常、陽極2と同様である。
さらに、低仕事関数金属から成る陰極6を保護する目的で、この上に更に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層すると、素子の安定性が増すので好ましい。この目的のために、例えば、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が使われる。なお、これらの材料は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
The film thickness of the cathode 6 is usually the same as that of the anode 2.
Further, for the purpose of protecting the cathode 6 made of a low work function metal, it is preferable to further stack a metal layer having a high work function and stable to the atmosphere because the stability of the device is increased. For this purpose, for example, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold and platinum are used. In addition, these materials may be used only by 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

<4−8.その他の層>
以上、図1に示す層構成の有機電界発光素子を中心に説明してきたが、本発明に係る有機電界発光素子は、その趣旨を逸脱しない範囲において、別の構成を有していてもよい。例えば、陽極2と陰極6との間に、上記説明にある層の他に任意の層を有していてもよく、また、任意の層が省略されていてもよい。
<4-8. Other layers>
The organic electroluminescent element having the layer configuration shown in FIG. 1 has been mainly described above, but the organic electroluminescent element according to the present invention may have another configuration without departing from the gist thereof. For example, an arbitrary layer may be provided between the anode 2 and the cathode 6 in addition to the layers described above, and an arbitrary layer may be omitted.

例えば図2に示すように、有機電界発光素子10bとして、発光層5と陰極6との間に電子注入層7及び電子輸送層8を有する構成等とすることもできる。なお、図2においては、図1と同様の構成要素について同一の符号を付して表わし、その説明は省略する。また、例えば図3に示すように、有機電界発光素子10cとして、第1電荷輸送層を正孔注入層3とし、第2電荷輸送層を電子阻止層9とした構成等も可能である。なお、図3においては、図1及び図2と同様の構成要素について同一の符号を付して表わし、その説明は省略する。   For example, as shown in FIG. 2, the organic electroluminescent element 10 b may have a configuration having an electron injection layer 7 and an electron transport layer 8 between the light emitting layer 5 and the cathode 6. In FIG. 2, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. For example, as shown in FIG. 3, the organic electroluminescent element 10 c may have a configuration in which the first charge transport layer is the hole injection layer 3 and the second charge transport layer is the electron blocking layer 9. In FIG. 3, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

また例えば基板の上の層の天地を逆転させ、陰極から積層してもよい。この場合、例えば図4に示すように、有機電界発光素子10dは、基板1の上に、陰極6、電子注入層7、電子輸送層8、発光層5、及び陽極2を有する構成等とすることができる。なお、図4においては、図1〜図3と同様の構成要素について同一の符号を付して表わし、その説明は省略する。   For example, the top and bottom layers of the substrate may be reversed and stacked from the cathode. In this case, for example, as shown in FIG. 4, the organic electroluminescent element 10 d has a configuration including a cathode 6, an electron injection layer 7, an electron transport layer 8, a light emitting layer 5, and an anode 2 on the substrate 1. be able to. 4, the same components as those in FIGS. 1 to 3 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

〔4−8−1.電子輸送層〕
電子輸送層8は、素子の発光効率を更に向上させることを目的として設けられるもので、電界を与えられた電極間において陰極6から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送することができる化合物より形成される。
[4-8-1. (Electron transport layer)
The electron transport layer 8 is provided for the purpose of further improving the light emission efficiency of the device, and efficiently transports electrons injected from the cathode 6 between the electrodes to which an electric field is applied in the direction of the light emitting layer 5. Formed from a compound capable of

電子輸送層8に用いられる電子輸送性化合物としては、通常、陰極6又は後述する電子注入層7からの電子注入効率が高く、かつ、高い電子移動度を有し注入された電子を効率よく輸送することができる化合物を用いる。このような条件を満たす化合物としては、例えば、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−ヒドロキシフラボン金属錯体、5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第5645948号明細書)、キノキサリン化合物(特開平6−207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラキノンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛などが挙げられる。なお、電子輸送層8の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。   The electron transporting compound used for the electron transport layer 8 usually has high electron injection efficiency from the cathode 6 or the electron injection layer 7 described later, and efficiently transports the injected electrons with high electron mobility. A compound that can be used is used. Examples of the compound satisfying such conditions include metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline (Japanese Patent Laid-Open No. 59-194393), metal complexes of 10-hydroxybenzo [h] quinoline, oxadiazole derivatives , Distyrylbiphenyl derivatives, silole derivatives, 3-hydroxyflavone metal complexes, 5-hydroxyflavone metal complexes, benzoxazole metal complexes, benzothiazole metal complexes, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948), quinoxaline compounds ( JP-A-6-207169), phenanthroline derivative (JP-A-5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N'-dicyanoanthraquinonediimine, n-type hydrogenated amorphous silicon carbide , N-type zinc sulfide, n-type zinc Such as emissions of zinc, and the like. In addition, the material of the electron carrying layer 8 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

電子輸送層8の形成方法に制限はなく、例えば湿式成膜法(電子輸送層用の材料を溶剤に溶解した組成物を用いて<4−1.本発明の有機電界発光素子の製造方法>で説明した手順)により形成してもよいが、真空蒸着法により形成することが特に好ましい。
電子輸送層8の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下の範囲である。
There is no restriction | limiting in the formation method of the electron carrying layer 8, For example, the wet film-forming method (Using the composition which melt | dissolved the material for electron carrying layers in the solvent <4-1. Manufacturing method of the organic electroluminescent element of this invention> However, it is particularly preferable to form by the vacuum evaporation method.
Although the film thickness of the electron carrying layer 8 is arbitrary unless the effect of this invention is impaired remarkably, it is 1 nm or more normally, Preferably it is 5 nm or more, and is 300 nm or less normally, Preferably it is the range of 100 nm or less.

〔4−8−2.電子阻止層〕
電子阻止層9は、発光層5から移動してくる電子が正孔注入層3に到達するのを阻止することで、発光層5内で正孔と電子との再結合確率を上げ、生成した励起子を発光層5
内に閉じこめる役割と、正孔注入層3から注入された正孔を効率よく発光層5の方向に輸送する役割とがある。特に、発光材料として燐光材料を用いたり、青色発光材料を用いたりする場合は効果的である。
[4-8-2. (Electron blocking layer)
The electron blocking layer 9 is generated by preventing electrons moving from the light emitting layer 5 from reaching the hole injection layer 3, thereby increasing the recombination probability of holes and electrons in the light emitting layer 5. Exciton as emission layer 5
There are a role of confining it inside and a role of efficiently transporting holes injected from the hole injection layer 3 in the direction of the light emitting layer 5. In particular, it is effective when a phosphorescent material or a blue light emitting material is used as the light emitting material.

電子阻止層9に求められる特性としては、正孔輸送性が高く、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いこと等が挙げられる。更に、本発明において、発光層5を湿式成膜法で作製する場合には、電子阻止層9に湿式成膜の適合性があることが好ましい。このような電子阻止層9に用いられる材料としては、F8−TFBに代表されるジオクチルフルオレンとトリフェニルアミンの共重合体(国際公開第2004/084260号公報記載)等が挙げられる。なお、電子阻止層9の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。   The characteristics required for the electron blocking layer 9 include high hole transportability, a large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and a high excited triplet level (T1). Furthermore, in the present invention, when the light emitting layer 5 is produced by a wet film formation method, the electron blocking layer 9 is preferably compatible with the wet film formation. Examples of the material used for the electron blocking layer 9 include a copolymer of dioctylfluorene and triphenylamine typified by F8-TFB (described in International Publication No. 2004/084260). In addition, the material of the electron blocking layer 9 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.

電子阻止層9の形成方法に制限はない。例えば湿式成膜法(電子阻止層用の材料を溶剤に溶解した組成物を用いて<4−1.本発明の有機電界発光素子の製造方法>で説明した手順)により形成してもよく、またその他の方法で正孔注入層3等の上に積層することにより形成してもよい。   There is no restriction | limiting in the formation method of the electron blocking layer 9. FIG. For example, it may be formed by a wet film-forming method (procedure described in <4-1. Manufacturing method of organic electroluminescence device of the present invention> using a composition in which a material for an electron blocking layer is dissolved in a solvent) Moreover, you may form by laminating | stacking on the hole injection layer 3 grade | etc., By another method.

〔4−8−3.電子注入層〕
電子注入層7は、陰極6から注入された電子を効率良く発光層5へ注入する役割を果たす。電子注入を効率よく行なうため、電子注入層7を形成する材料は、仕事関数の低い金属が好ましい。例としては、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属等が用いられる。その膜厚は通常0.1nm以上、5nm以下が好ましい。
[4-8-3. Electron injection layer
The electron injection layer 7 plays a role of efficiently injecting electrons injected from the cathode 6 into the light emitting layer 5. In order to perform electron injection efficiently, the material for forming the electron injection layer 7 is preferably a metal having a low work function. Examples include alkali metals such as sodium and cesium, and alkaline earth metals such as barium and calcium. The film thickness is usually preferably from 0.1 nm to 5 nm.

更に、バソフェナントロリン等の含窒素複素環化合物や8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体に代表される有機電子輸送化合物に、ナトリウム、カリウム、セシウム、リチウム、ルビジウム等のアルカリ金属をドープする(特開平10−270171号公報、特開2002−100478号公報、特開2002−100482号公報などに記載)ことにより、電子注入・輸送性が向上し優れた膜質を両立させることが可能となるため好ましい。この場合の膜厚は、通常5nm以上、中でも10nm以上が好ましく、また、通常200nm以下、中でも100nm以下が好ましい。
なお、電子注入層7の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
Furthermore, an organic electron transport compound represented by a metal complex such as a nitrogen-containing heterocyclic compound such as bathophenanthroline or an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is doped with an alkali metal such as sodium, potassium, cesium, lithium or rubidium ( (As described in JP-A-10-270171, JP-A-2002-1000047, JP-A-2002-1000048, etc.), it is possible to improve the electron injection / transport properties and achieve excellent film quality. preferable. In this case, the film thickness is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 200 nm or less, preferably 100 nm or less.
In addition, the material of the electron injection layer 7 may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

電子注入層7の形成方法に制限はない。例えば湿式成膜法(電子注入層用の材料を溶剤に溶解した組成物を用いて<4−1.本発明の有機電界発光素子の製造方法>で説明した手順)により形成してもよく、またその他の方法で発光層5上に積層することにより形成することができる。   There is no restriction | limiting in the formation method of the electron injection layer 7. FIG. For example, it may be formed by a wet film-forming method (procedure described in <4-1. Manufacturing method of organic electroluminescence device of the present invention> using a composition in which a material for an electron injection layer is dissolved in a solvent) Moreover, it can form by laminating | stacking on the light emitting layer 5 with another method.

〔4−8−4.正孔阻止層〕
また、例えば、発光層5と電子輸送層8との間に、正孔阻止層を設けてもよい。正孔阻止層は、発光層5の上に、発光層5の陰極6側の界面に接するように積層される層である。この正孔阻止層は、陽極2から移動してくる正孔が陰極6に到達するのを阻止する役割と、陰極6から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送する役割とを有する。
[4-8-4. Hole blocking layer)
Further, for example, a hole blocking layer may be provided between the light emitting layer 5 and the electron transport layer 8. The hole blocking layer is a layer laminated on the light emitting layer 5 so as to be in contact with the interface of the light emitting layer 5 on the cathode 6 side. The hole blocking layer has a role of blocking holes moving from the anode 2 from reaching the cathode 6 and a role of efficiently transporting electrons injected from the cathode 6 toward the light emitting layer 5. Have.

正孔阻止層を構成する材料に求められる物性としては、電子移動度が高く正孔移動度が低いこと、エネルギーギャップ(HOMO、LUMOの差)が大きいこと、励起三重項準位(T1)が高いことが挙げられる。このような条件を満たす正孔阻止層の材料としては、例えば、ビス(2−メチル−8−キノリノラト),(フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト),(トリフェニルシラノラト)アルミニウム等の混合配位子錯体、ビス(2−メチル−8−キノラト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−8−キノリラト)アルミニウム二核金属錯体等の金属錯体、ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開平11−242996号公報)、3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7−41759号公報)、バソクプロイン等のフェナントロリン誘導体(特開平10−79297号公報)などが挙げられる。更に、国際公開第2005−022962号パンフレットに記載の2,4,6位が置換されたピリジン環を少なくとも1個有する化合物も、正孔阻止層の材料として好ましい。なお、正孔阻止層の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。   The physical properties required for the material constituting the hole blocking layer include high electron mobility, low hole mobility, large energy gap (difference between HOMO and LUMO), and excited triplet level (T1). It is expensive. As a material for the hole blocking layer satisfying such conditions, for example, bis (2-methyl-8-quinolinolato), (phenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato), (triphenylsilanolato) Mixed ligand complexes such as aluminum, metal complexes such as bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolinato) aluminum binuclear metal complexes, distyrylbiphenyl derivatives Styryl compounds such as JP-A-11-242996 and triazole derivatives such as 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5 (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole Kaihei 7-41759) and phenanthroline derivatives such as bathocuproine (Japanese Patent Laid-Open No. 10-79297). It is. Further, a compound having at least one pyridine ring substituted at the 2,4,6-positions described in International Publication No. 2005-022962 is also preferable as a material for the hole blocking layer. In addition, the material of a hole-blocking layer may use only 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and ratios.

正孔阻止層の形成方法に制限はなく、例えば湿式成膜法(正孔阻止層用の材料を溶剤に溶解した組成物を用いて<4−1.本発明の有機電界発光素子の製造方法>で説明した手順)により形成してもよいが、真空蒸着法で形成することが特に好ましい。
正孔阻止層の膜厚は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.3nm以上、好ましくは0.5nm以上、また、通常100nm以下、好ましくは50nm以下である。
There is no restriction | limiting in the formation method of a hole-blocking layer, For example, it uses the film-forming method (The composition which dissolved the material for hole-blocking layers in the solvent <4-1. Manufacturing method of the organic electroluminescent element of this invention. > May be formed by a vacuum vapor deposition method.
The thickness of the hole blocking layer is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.3 nm or more, preferably 0.5 nm or more, and usually 100 nm or less, preferably 50 nm or less.

〔4−8−5.その他〕
陰極6と発光層5又は電子輸送層8との界面に、例えばフッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF2)、酸化リチウム(Li2O)、炭酸セシウム(II)(CsCO3)等で形成された極薄絶縁膜(0.1〜5nm)を挿入することも、素子の効率を向上させる有効な方法である(Applied Physics Letters, 1997年, Vol.70, pp.152;特開平10−74586号公報;IEEE Transactions on Electron Devices, 1997年, Vol.44, pp.1245;SID 04 Digest, pp.154等参照)。
[4-8-5. Others]
At the interface between the cathode 6 and the light emitting layer 5 or the electron transport layer 8, for example, lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), lithium oxide (Li 2 O), cesium carbonate (II) (CsCO 3 ), etc. It is also an effective method to improve the efficiency of the element (Applied Physics Letters, 1997, Vol. 70, pp. 152; 10-74586 gazette; IEEE Transactions on Electron Devices, 1997, Vol.44, pp.1245; SID 04Digest, pp.154 etc.).

更には、少なくとも一方が透明性を有する2枚の基板の間に、基板以外の構成要素を積層することにより、本発明の有機電界発光素子を構成することも可能である。   Furthermore, the organic electroluminescent element of the present invention can be configured by laminating components other than the substrate between two substrates, at least one of which is transparent.

また、基板以外の構成要素(発光ユニット)を複数段重ねた構造(発光ユニットを複数積層させた構造)とすることも可能である。その場合には、各段間(発光ユニット間)の界面層(陽極がITO、陰極がAlの場合は、それら2層)の代わりに、例えば五酸化バナジウム(V25)等からなる電荷発生層(Carrier Generation Layer:CGL)を設けると、段間の障壁が少なくなり、発光効率・駆動電圧の観点からより好ましい。 In addition, a structure in which a plurality of components (light emitting units) other than the substrate are stacked in a plurality of layers (a structure in which a plurality of light emitting units are stacked) may be employed. In that case, instead of the interface layer between the steps (between the light emitting units) (when the anode is ITO and the cathode is Al, these two layers), for example, a charge made of vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) or the like. When a generation layer (Carrier Generation Layer: CGL) is provided, a barrier between steps is reduced, which is more preferable from the viewpoint of light emission efficiency and driving voltage.

更には、本発明の有機電界発光素子は、単一の有機電界発光素子として構成してもよく、複数の有機電界発光素子がアレイ状に配置された構成に適用してもよく、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構成に適用してもよい。   Furthermore, the organic electroluminescent device of the present invention may be configured as a single organic electroluminescent device, or may be applied to a configuration in which a plurality of organic electroluminescent devices are arranged in an array, and an anode and a cathode May be applied to a configuration in which are arranged in an XY matrix.

また、上述した各層には、本発明の効果を著しく損なわない限り、材料として説明した以外の成分が含まれていても良い。   In addition, each layer described above may contain components other than those described as materials as long as the effects of the present invention are not significantly impaired.

[5.画像表示デバイス]
本発明の画像表示装置は、本発明の有機電界発光素子を集合させ、画像を表示することを特徴とする。上記有機電界発光素子を用いていることから、色ムラ等がなく、発光領域及び非発光領域の境界が明瞭な画像表示装置とすることができるという利点を有する。
中でも、本発明の有機電界発光素子の製造方法において、形成される有機層が正孔注入層である場合、外縁規定膜の形成が容易であるにもかかわらず十分な効果を得ることができるため、特に好ましく画像表示デバイスがえられる。
[5. Image display device]
The image display device of the present invention is characterized in that the organic electroluminescent elements of the present invention are assembled to display an image. Since the organic electroluminescent element is used, there is an advantage that an image display device can be provided in which there is no color unevenness and the boundary between the light emitting region and the non-light emitting region is clear.
In particular, in the method for manufacturing an organic electroluminescent element of the present invention, when the organic layer to be formed is a hole injection layer, a sufficient effect can be obtained even though the outer edge defining film is easily formed. Particularly preferred is an image display device.

このような有機電界発光素子を備えた画像表示デバイスとしては、例えばパッシブマトリクス駆動有機電界発光ディスプレイ及び/またはアクティブマトリクス駆動有機電界発光ディスプレイを用いたテレビ、携帯電話用モニタ、携帯端末用モニタ、PC用モニタ、公衆向け情報表示装置等とすることができる。   As an image display device including such an organic electroluminescent element, for example, a television, a mobile phone monitor, a mobile terminal monitor, a PC using a passive matrix driven organic electroluminescent display and / or an active matrix driven organic electroluminescent display. Monitor, public information display device, and the like.

[6.機能膜がにじみなく得られるメカニズム]
本発明の機能膜の製造方法に依れば、機能膜の材料を基材上にパターン塗布をする際に、本発明の外縁規定膜形成用組成物をパターン境界外部に塗布しておくことで、塗布パターン外縁部でのにじみが抑制され、安定したパターン形状が得られる。なぜ、斯かる効果が得られるかは、以下のように推測される。
[6. Mechanism for obtaining functional membranes without blurring]
According to the method for producing a functional film of the present invention, when the functional film material is applied to a pattern on a substrate, the outer edge defining film forming composition of the present invention is applied to the outside of the pattern boundary. The bleeding at the outer edge of the coating pattern is suppressed, and a stable pattern shape can be obtained. The reason why such an effect is obtained is estimated as follows.

界面活性剤を含有していない溶液を塗布した場合、液膜の乾燥の進行とともに膜表面に発生する表面張力の不均一に起因するマランゴニ流が発生し、それが主たる原因となって流動が誘発され、塗布した領域から塗れ広がりが起こると考えられている。
通常、液膜はパターン外縁部から乾燥が進行するため、パターン内部に正確に塗布しても、パターンの外部に塗れ広がるという課題を有していた。
When a solution that does not contain a surfactant is applied, a Marangoni flow is generated due to non-uniform surface tension that occurs on the surface of the film as the liquid film is dried, which induces flow mainly. It is thought that spreading spread occurs from the applied area.
Usually, since the liquid film is dried from the outer edge of the pattern, there is a problem that even if the liquid film is applied accurately inside the pattern, the liquid film spreads outside the pattern.

一方、界面活性剤を含有する溶液を塗布した場合、液膜の外縁部において界面活性剤が基材に付着することで、液膜の基材への接触角が増大し、塗れ広がりが抑制されると考えられる。
本発明の外縁規定膜形成用組成物は、界面活性剤を含有するため、パターンの境界外部に塗布すると、パターンを縁取るように安定した外縁部を有する外縁規定膜を形成することができる。
On the other hand, when a solution containing a surfactant is applied, the surfactant adheres to the substrate at the outer edge of the liquid film, thereby increasing the contact angle of the liquid film to the substrate and suppressing spreading. It is thought.
Since the composition for forming an outer edge defining film of the present invention contains a surfactant, an outer edge defining film having a stable outer edge portion can be formed so as to frame the pattern when applied to the outside of the pattern boundary.

さらには、パターン内部に機能膜形成用組成物(界面活性剤を含有しない溶液)を塗布すると、パターン境界外部には安定した外縁部を有する界面活性剤を含有した外縁規定膜が存在するため、パターン外縁部における機能膜形成用組成物の基材への接触角が増大し、塗れ広がりが抑制され、にじみのない機能膜(安定したパターン外縁部を有する機能膜)を得ることができると考えられる。   Furthermore, when a composition for forming a functional film (solution containing no surfactant) is applied to the inside of the pattern, an outer edge defining film containing a surfactant having a stable outer edge is present outside the pattern boundary. The contact angle to the substrate of the composition for forming a functional film at the outer edge of the pattern is increased, the spread of spreading is suppressed, and a functional film having no bleeding (functional film having a stable outer edge of the pattern) can be obtained. It is done.

また、この効果は外縁規定膜の乾燥の状態には大きく依存せず、何れも効果が得られる。寧ろ、外縁規定膜がパターン境界外部に安定した外縁部を有するほど、高い効果が得られるものと考えられる。   In addition, this effect does not greatly depend on the dried state of the outer edge defining film, and any effect can be obtained. On the contrary, it is considered that a higher effect is obtained as the outer edge defining film has a more stable outer edge portion outside the pattern boundary.

従って、斯かる外縁規定膜を形成すれことができればその形成方法に制限はないが、中でも界面活性剤の濃度が0.001重量%以上0.1重量%以下の溶液を塗布することによって外縁規定膜を形成することが好ましい。
塗布法はコスト面でも有利であるし、また、上記濃度範囲だと基材に対する接触角が高く、安定した外縁部を有する外縁規定膜が得られるためである。
Therefore, if such an outer edge regulating film can be formed, the forming method is not limited, but among them, by applying a solution having a surfactant concentration of 0.001% by weight to 0.1% by weight, the outer edge regulating film is formed. It is preferable to form a film.
This is because the coating method is advantageous in terms of cost, and when the concentration is within the above range, the contact angle with respect to the substrate is high, and an outer edge defining film having a stable outer edge portion can be obtained.

ここで、機能膜をにじみなく形成するために、機能膜形成用組成物に界面活性剤を含有させることも考えられる。しかし、機能膜はその性質上、なるべく不純物を含有しない方が好ましい。本発明の機能膜の製造方法は、このような高純度な機能膜が要求される場合には、特に好ましく適用できる。   Here, in order to form a functional film without bleeding, it is also conceivable to add a surfactant to the functional film-forming composition. However, it is preferable that the functional film contains as little impurities as possible. The method for producing a functional film of the present invention can be particularly preferably applied when such a high-purity functional film is required.

[7.本発明の利点]
本発明の外縁規定膜形成用組成物、及びそれを用いた機能膜の製造方法によれば、基材上に塗布された機能膜のパターン外縁部での塗れ広がり(にじみ)が抑制され、安定したパターン形状を得ることができる。本発明は、機能膜に界面活性剤が含有しないほうが好ましいときに、特に有効である。
[7. Advantages of the present invention]
According to the composition for forming an outer edge defining film of the present invention and the method for producing a functional film using the same, spread of spreading (bleeding) at the outer edge of the pattern of the functional film applied on the substrate is suppressed and stable. Pattern shape can be obtained. The present invention is particularly effective when it is preferable that the functional film does not contain a surfactant.

また本発明を、有機電界発光素子を構成する有機層の形成に適用すれば、複雑で高コストなプロセスを用いることなく、ムラが少ない均一な発光パターンが実現できる。   Further, when the present invention is applied to the formation of the organic layer constituting the organic electroluminescence device, a uniform light emission pattern with less unevenness can be realized without using a complicated and expensive process.

以下、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に説明する。なお、以下の実施例は本発明を詳細に説明するために示すものであり、本発明はその趣旨に反しない限り以下の実施例に制限されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In addition, the following examples are shown in order to explain the present invention in detail, and the present invention is not limited to the following examples unless it is contrary to the gist thereof.

[実施例1]
(機能膜形成用組成物)
機能膜形成用塗布液として、下記式(2)の芳香族アミノ基を有する高分子化合物を、固形分濃度2重量%となるように安息香酸エチルに溶解させた。次いで、下記式(3)の電子受容性化合物を、固形分濃度0.8重量%となるように上述の溶液に溶解させ、孔径0.2μmのPTFE(テフロン(登録商標))製フィルタでろ過を行い、得られた溶液を使用した。
[Example 1]
(Functional film forming composition)
As a functional film-forming coating solution, a polymer compound having an aromatic amino group represented by the following formula (2) was dissolved in ethyl benzoate so as to have a solid content concentration of 2% by weight. Next, an electron-accepting compound of the following formula (3) is dissolved in the above solution so as to have a solid content concentration of 0.8% by weight, and filtered with a PTFE (Teflon (registered trademark)) filter having a pore size of 0.2 μm. And the resulting solution was used.

Figure 2009146696
Figure 2009146696
Figure 2009146696
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(外縁規定膜形成用組成物)
機能膜の外縁規定膜形成用組成物として、パーフルオロ基含有界面活性剤(AGCセイミケミカル製 S−393)を、濃度0.1重量%となるように安息香酸エチルに溶解させた。
洗浄したガラス基材上での外縁規定膜形成用組成物の接触角を測定したところ、36.8゜であり、液滴の外縁部はほとんど流動せず安定していた。
(Composition for forming outer edge regulation film)
As a composition for forming an outer edge regulating film of a functional film, a perfluoro group-containing surfactant (S-393 manufactured by AGC Seimi Chemical) was dissolved in ethyl benzoate so as to have a concentration of 0.1% by weight.
When the contact angle of the composition for forming the outer edge regulating film on the washed glass substrate was measured, it was 36.8 °, and the outer edge portion of the liquid droplets was hardly flowed and was stable.

(境界形成テスト)
次に、洗浄したガラス基材上に、上記の外縁規定膜形成用組成物0.5μL(マイクロリットル)を孔径約500μmのノズルから吐出して塗布し、続けて上記の機能膜形成用塗布液0.5μLを外縁規定膜に隣接して同様に塗布して、塗布後1分の時点での両塗布液膜の境界の状態を確認した。各液膜の中心点間距離は約2mmとした。
5組の塗布膜についての観察の結果、4組については、塗布膜が混合せず、外縁規定膜に接触した機能膜の外縁部は安定して保たれていた。一方で、外縁規定膜に接触していない機能膜の外縁部は、ノズルを用いて塗布を行った時点から流動してにじんだ。
(Boundary formation test)
Next, 0.5 μL (microliter) of the above-mentioned outer edge regulating film forming composition is applied by being discharged from a nozzle having a pore diameter of about 500 μm on the cleaned glass substrate, and then the above functional film forming coating solution is applied. 0.5 μL was applied in the same manner adjacent to the outer edge regulating film, and the state of the boundary between the two coating liquid films at 1 minute after application was confirmed. The distance between the center points of each liquid film was about 2 mm.
As a result of observing the five sets of coating films, the coating films were not mixed in the four groups, and the outer edge portion of the functional film in contact with the outer edge defining film was stably maintained. On the other hand, the outer edge portion of the functional film that is not in contact with the outer edge defining film flowed and blotted from the time of application using the nozzle.

[実施例2]
外縁規定膜形成用組成物が含有する界面活性剤の濃度を0.01重量%とした以外は、実施例1と同様にして、接触角の測定と境界形成テストを行った。
外縁規定膜形成用組成物のガラス基材に対する接触角は、45.0゜であり、液滴の外縁部はほとんど流動せず安定していた。
5組の塗布膜についての境界形成テストの結果、混合は1組も見られず、外縁規定膜に接触した機能膜の外縁部は安定して保たれていた。
[Example 2]
A contact angle measurement and a boundary formation test were performed in the same manner as in Example 1 except that the concentration of the surfactant contained in the outer edge regulating film forming composition was 0.01% by weight.
The contact angle of the composition for forming the outer edge regulating film with respect to the glass substrate was 45.0 °, and the outer edge portion of the droplet did not flow and was stable.
As a result of the boundary formation test with respect to five sets of coating films, no mixing was observed, and the outer edge portion of the functional film in contact with the outer edge defining film was stably maintained.

[実施例3]
外縁規定膜形成用組成物が含有する界面活性剤の濃度を0.005重量%とした以外は、実施例1と同様にして、接触角の測定と境界形成テストを行った。
外縁規定膜形成用組成物のガラス基材に対する接触角は、36.8゜であり、液滴の外縁部はほとんど流動せず安定していた。
5組の塗布膜についての境界形成テストの結果、混合は1組も見られず、外縁規定膜に接触した機能膜の外縁部は安定して保たれていた。
[Example 3]
A contact angle measurement and a boundary formation test were performed in the same manner as in Example 1 except that the concentration of the surfactant contained in the outer edge regulating film forming composition was 0.005% by weight.
The contact angle of the composition for forming the outer edge defining film with respect to the glass substrate was 36.8 °, and the outer edge portion of the liquid droplets hardly flowed and was stable.
As a result of the boundary formation test on five sets of coating films, no mixing was observed, and the outer edge portion of the functional film in contact with the outer edge defining film was stably maintained.

[実施例4]
外縁規定膜形成用組成物が含有する界面活性剤の濃度を0.001重量%とした以外は、実施例1と同様にして、接触角の測定と境界形成テストを行った。
外縁規定膜形成用組成物のガラス基材に対する接触角は、27.0゜であり、液滴の外縁部はほとんど流動せず安定していた。
5組の塗布膜についての境界形成テストの結果、混合は1組も見られず、外縁規定膜に接触した機能膜の外縁部は安定して保たれていた。
[Example 4]
A contact angle measurement and a boundary formation test were performed in the same manner as in Example 1 except that the concentration of the surfactant contained in the outer edge regulating film forming composition was 0.001% by weight.
The contact angle of the composition for forming the outer edge regulating film with respect to the glass substrate was 27.0 °, and the outer edge portion of the droplet did not flow and was stable.
As a result of the boundary formation test with respect to five sets of coating films, no mixing was observed, and the outer edge portion of the functional film in contact with the outer edge defining film was stably maintained.

[実施例5]
外縁規定膜形成用組成物が含有する界面活性剤を、ポリシロキサン構造をもつ界面活性剤(ビックケミー・ジャパン製 BYK(登録商標)−333)とし、濃度を0.1重量%とした以外は、実施例1と同様にして、接触角測定と境界形成テストを行った。
外縁規定膜形成用組成物のガラス基材に対する接触角は、27.4゜であり、液滴の外縁部はほとんど流動せず安定していた。
5組の塗布膜についての境界形成テストの結果、3組が混合を起こさず、これらの組においては、外縁規定膜に接触した機能膜の外縁部は安定して保たれていた。
[Example 5]
The surfactant contained in the composition for forming the outer edge regulation film is a surfactant having a polysiloxane structure (BYK (registered trademark) -333 manufactured by Big Chemie Japan), and the concentration is 0.1% by weight, In the same manner as in Example 1, contact angle measurement and boundary formation test were performed.
The contact angle of the composition for forming the outer edge regulating film with respect to the glass substrate was 27.4 °, and the outer edge portion of the droplet did not flow and was stable.
As a result of the boundary formation test on five sets of coating films, the three sets did not cause mixing, and in these sets, the outer edge portion of the functional film in contact with the outer edge defining film was stably maintained.

[実施例6]
外縁規定膜形成用組成物が含有する界面活性剤の濃度を0.01重量%とした以外は、実施例5と同様にして、接触角の測定と境界形成テストを行った。
外縁規定膜形成用組成物のガラス基材に対する接触角は、27.7゜であり、液滴の外縁部はほとんど流動せず安定していた。
5組の塗布膜についての境界形成テストの結果、混合は1組も見られず、外縁規定膜に接触した機能膜の外縁部は安定して保たれていた。
[Example 6]
A contact angle measurement and a boundary formation test were performed in the same manner as in Example 5 except that the concentration of the surfactant contained in the outer edge regulating film forming composition was 0.01% by weight.
The contact angle of the composition for forming the outer edge defining film with respect to the glass substrate was 27.7 °, and the outer edge portion of the droplet did not flow and was stable.
As a result of the boundary formation test on five sets of coating films, no mixing was observed, and the outer edge portion of the functional film in contact with the outer edge defining film was stably maintained.

[実施例7]
外縁規定膜形成用組成物が含有する界面活性剤の濃度を0.005重量%とした以外は、実施例5と同様にして、接触角の測定と境界形成テストを行った。
外縁規定膜形成用組成物のガラス基材に対する接触角は、26.2゜であり、液滴の外縁部はほとんど流動せず安定していた。
5組の塗布膜についての境界形成テストの結果、混合は1組も見られず、外縁規定膜に接触した機能膜の外縁部は安定して保たれていた。
[Example 7]
A contact angle measurement and a boundary formation test were performed in the same manner as in Example 5 except that the concentration of the surfactant contained in the outer edge regulating film forming composition was 0.005% by weight.
The contact angle of the composition for forming the outer edge defining film with respect to the glass substrate was 26.2 °, and the outer edge portion of the droplet did not flow and was stable.
As a result of the boundary formation test with respect to five sets of coating films, no mixing was observed, and the outer edge portion of the functional film in contact with the outer edge defining film was stably maintained.

[実施例8]
外縁規定膜形成用組成物が含有する界面活性剤の濃度を0.001重量%とした以外は、実施例5と同様にして、接触角の測定と境界形成テストを行った。
外縁規定膜形成用組成物のガラス基材に対する接触角は、18.0゜であり、液滴の外縁部はほとんど流動せず安定していた。
5組の塗布膜についての境界形成テストの結果、混合は1組も見られず、外縁規定膜に接触した機能膜の外縁部は安定して保たれていた。
[Example 8]
A contact angle measurement and a boundary formation test were performed in the same manner as in Example 5 except that the concentration of the surfactant contained in the outer edge regulating film forming composition was 0.001% by weight.
The contact angle of the composition for forming the outer edge regulating film with respect to the glass substrate was 18.0 °, and the outer edge portion of the droplet did not flow and was stable.
As a result of the boundary formation test with respect to five sets of coating films, no mixing was observed, and the outer edge portion of the functional film in contact with the outer edge defining film was stably maintained.

[比較例1]
界面活性剤を含有しない安息香酸エチルを外縁規定膜形成用組成物として用いたこと以外は、実施例1と同様にして、接触角の測定と機能膜との境界形成テストを行った。
外縁規定膜形成用組成物のガラス基材に対する接触角は4.0゜であった。接触角が小さいために、塗れ広がりが起こり、外縁規定膜の外縁部自体が安定しなかった。
5組の塗布膜についての境界形成テストの結果、全ての組において混合が発生し、機能膜の外縁部形状の安定化が見られなかった。
[Comparative Example 1]
A contact angle measurement and a boundary formation test with a functional film were performed in the same manner as in Example 1 except that ethyl benzoate containing no surfactant was used as the composition for forming an outer edge regulating film.
The contact angle of the outer edge regulating film forming composition with respect to the glass substrate was 4.0 °. Since the contact angle was small, spreading spread occurred and the outer edge portion of the outer edge defining film itself was not stable.
As a result of the boundary formation test for five sets of coating films, mixing occurred in all the sets, and stabilization of the outer edge shape of the functional film was not observed.

[結果]
これらの実施例、比較例の結果を下記表にまとめる。

Figure 2009146696
[result]
The results of these examples and comparative examples are summarized in the following table.
Figure 2009146696

本発明は、機能膜を用いる分野に広く応用することができ、具体的には、エネルギー変換膜(光電変換膜、電界発光膜)、電荷伝導・絶縁膜(電極、正孔輸送層、電荷注入層、電気絶縁膜、電気抵抗膜)、光学膜(偏向フィルター膜、カラーフィルター膜、光遮断膜(マスク))、保護膜、平滑化膜、接着膜等、特定の機能を発現することを目的とする膜を用いる技術分野に広く用いることができる。中でも、有機電界発光素子が使用される各種の分野、例えば、フラットパネル・ディスプレイ(例えばOAコンピュータ用や壁掛けテレビ)や面発光体としての特徴を生かした光源(例えば、複写機の光源、液晶ディスプレイや計器類のバックライト光源)、表示板、標識灯等の分野において、好適に使用することが出来る。   The present invention can be widely applied to the field using functional films. Specifically, energy conversion films (photoelectric conversion films, electroluminescent films), charge conduction / insulating films (electrodes, hole transport layers, charge injection) Layer, electrical insulation film, electrical resistance film), optical film (deflection filter film, color filter film, light blocking film (mask)), protective film, smoothing film, adhesive film, etc. It can be widely used in the technical field using the film. In particular, various fields where organic electroluminescent elements are used, such as flat panel displays (for example, for OA computers and wall-mounted televisions) and light sources that make use of characteristics as surface emitters (for example, light sources for copiers, liquid crystal displays) And back light sources for measuring instruments), display panels, marker lamps, and the like.

本発明の有機電界発光素子の構造の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the structure of the organic electroluminescent element of this invention. 本発明の有機電界発光素子の構造の別の例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another example of the structure of the organic electroluminescent element of this invention. 本発明の有機電界発光素子の構造の更に別の例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another example of the structure of the organic electroluminescent element of this invention. 本発明の有機電界発光素子の構造の更に別の例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another example of the structure of the organic electroluminescent element of this invention. パターン、パターン外縁部、パターン境界、パターン境界外部、及びパターン外部を説明するための模式的な平面図である。It is a typical top view for explaining a pattern, a pattern outer edge part, a pattern boundary, a pattern boundary outside, and a pattern outside.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 陽極
3 正孔注入層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 陰極
7 電子注入層
8 電子輸送層
9 電子阻止層
10a〜10d 有機電界発光素子
100 パターン
101 パターン外縁部
102 パターン境界外部
103 パターン外部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode 3 Hole injection layer 4 Hole transport layer 5 Light emitting layer 6 Cathode 7 Electron injection layer 8 Electron transport layer 9 Electron blocking layers 10a to 10d Organic electroluminescent device 100 Pattern 101 Pattern outer edge 102 Pattern boundary outer 103 Pattern Outside

Claims (16)

機能膜に隣接して形成され、該機能膜の外縁を規定する外縁規定膜を形成する組成物であって、
界面活性剤と溶剤とを含有する
ことを特徴とする、外縁規定膜形成用組成物。
A composition that is formed adjacent to a functional film and forms an outer edge defining film that defines an outer edge of the functional film,
A composition for forming an outer edge regulating film, comprising a surfactant and a solvent.
ガラス基材への接触角が、18°以上である
ことを特徴とする、請求項1に記載の外縁規定膜形成用組成物。
2. The composition for forming an outer edge regulating film according to claim 1, wherein the contact angle to the glass substrate is 18 ° or more.
該界面活性剤を0.001重量%以上0.1重量%以下含有する
ことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の外縁規定膜形成用組成物。
The composition for forming an outer edge regulating film according to claim 1, wherein the surfactant is contained in an amount of 0.001% by weight to 0.1% by weight.
該界面活性剤が、フッ素系界面活性剤またはシリコーン系界面活性剤である
ことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の外縁規定膜形成用組成物。
The composition for forming an outer edge regulating film according to any one of claims 1 to 3, wherein the surfactant is a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant.
該機能膜に含有される材料を含有する
ことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の外縁規定膜形成用組成物。
The composition for forming an outer edge regulating film according to any one of claims 1 to 4, further comprising a material contained in the functional film.
該機能膜が、有機電界発光素子の有機層である
ことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の外縁規定膜形成用組成物。
The composition for forming an outer edge regulating film according to any one of claims 1 to 5, wherein the functional film is an organic layer of an organic electroluminescence device.
該有機層が、正孔注入層である
ことを特徴とする、請求項6に記載の外縁規定膜形成用組成物。
The composition for forming an outer edge regulating film according to claim 6, wherein the organic layer is a hole injection layer.
基材上に、請求項1〜7のいずれか一項に記載の外縁規定膜形成用組成物を用いて外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜に隣接して機能膜を形成する
ことを特徴とする、機能膜の製造方法。
Forming an outer edge defining film on the substrate using the outer edge defining film forming composition according to any one of claims 1 to 7, and then forming a functional film adjacent to the outer edge defining film. A method for producing a functional film.
基材上に、請求項1〜7のいずれか一項に記載の外縁規定膜形成用組成物を用いて外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜に隣接して有機層を形成する
ことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。
After forming an outer edge regulating film on the substrate using the outer edge regulating film forming composition according to any one of claims 1 to 7, an organic layer is formed adjacent to the outer edge regulating film. A method for producing an organic electroluminescent element, characterized by comprising:
該外縁規定膜を形成した後、該外縁規定膜が乾燥する前に、該有機層を形成する
ことを特徴とする、請求項9に記載の有機電界発光素子の製造方法。
10. The method of manufacturing an organic electroluminescent element according to claim 9, wherein the organic layer is formed after the outer edge defining film is formed and before the outer edge defining film is dried.
該有機層が正孔注入層である
ことを特徴とする、請求項9または請求項10に記載の有機電界発光素子の製造方法。
The method for producing an organic electroluminescent element according to claim 9 or 10, wherein the organic layer is a hole injection layer.
該正孔注入層が、下記式(1)で表わされる繰り返し単位を含むポリマーを含有する
ことを特徴とする、請求項11に記載の有機電界発光素子の製造方法。
Figure 2009146696
The method for producing an organic electroluminescent element according to claim 11, wherein the hole injection layer contains a polymer containing a repeating unit represented by the following formula (1).
Figure 2009146696
基材上に、界面活性剤を含有する外縁規定膜、及び該外縁規定膜に隣接して形成された有機層を有する
ことを特徴とする、有機電界発光素子。
An organic electroluminescence device comprising an outer edge defining film containing a surfactant and an organic layer formed adjacent to the outer edge defining film on a substrate.
該外縁規定膜が、請求項1〜7のいずれか一項に記載の外縁規定膜形成用組成物を用いて形成された膜である
ことを特徴とする、請求項13に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescence according to claim 13, wherein the outer edge defining film is a film formed by using the outer edge defining film forming composition according to any one of claims 1 to 7. element.
該有機層が正孔注入層である
ことを特徴とする、請求項14に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent device according to claim 14, wherein the organic layer is a hole injection layer.
請求項13〜15のいずれか一項に記載の有機電界発光素子を集合させ、画像を表示する
ことを特徴とする、画像表示デバイス。
An image display device comprising the organic electroluminescent elements according to claim 13 assembled to display an image.
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