JP2009135179A - はんだボールの半導体製品基板への接合状態検査方法及びその検査システム - Google Patents
はんだボールの半導体製品基板への接合状態検査方法及びその検査システム Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】
はんだボールの半導体製品基板への接合状態検査システムは、はんだボール搭載基板面を加熱する加熱手段と、加熱されたはんだボール搭載基板面を冷却する冷却手段と、冷却中のはんだボール及びはんだボール近傍の基板上の赤外線を検出する検出手段と、検出した赤外線量に基づく熱エネルギー分布データによりはんだボールの基板への接合状態の良否を判定する良否判定手段と、を有する。さらに、加熱工程においてはんだボール搭載基板面を加熱後、冷却させる前に、はんだボール搭載基板面に着脱自在に被覆される耐熱性薄膜を含む着脱式赤外線高放射生成手段と、を備える。耐熱性薄膜を着脱自在に加熱したボール搭載基板面に被覆することで、検査効率と検査精度を向上させる。
【選択図】図1
Description
加熱時の熱風発生器の仕様
加熱温度:吹出口から120℃以上の熱風を発生させ加熱させることができる機能を有し、被検体表面を5秒以内で80℃以上に熱することができる機能を有する。定格流量:100L/分。口径・距離:被検体全体を偏りなく加熱できる口径・距離を有する。吹出口から被検体までの距離は4cm程度に設定した。
冷却時の冷却機器の仕様
圧力:0.5MPa以上の圧力を維持することができるコンプレッサで、外気をそのまま圧縮した空気を冷却に使用した。吹出口:赤外線カメラ視野範囲を一度に冷却できる形状のもので、赤外線カメラ視野内で冷却の偏りができない程度まで離した位置に設定して行った。被検体からの距離は1cm程度に設定した。
赤外線カメラ
検出波長:8〜14μm
検出温度範囲:少なくとも20〜150℃を検出可能なものを用いた。
設置条件:被検体からレンズまで5.6cm(固定)、視野範囲、256(縦)×324(横)、空間分解能が少なくとも0.1mm(1画素あたり)のものを用いた。
被検体試料製品は、ボール数400個程度の製品を用い、赤外線カメラの1視野に収まるものを対象としている。
[計測手順]
吹出口温度120℃で5秒間、被検体表面から熱風吹き付け加熱を行い、耐熱性薄膜を被覆させて冷却、計測位置まで搬送し、減圧ポンプを駆動させて耐熱性薄膜を吸引密着させた状態で圧力が一定値以下になったら、吸引をし続けたままの状態で温度計測を行った。比較例は0.6秒間、実施例は0.4秒間冷却し、冷却終了後所要時間にわたって冷却開始からの時間帯で3個のボールと、基板全体についてそれぞれの温度計測を行った。
[グラフによる評価]
この実施例で接合良品ボールの検出温度が概して不良品ボールのそれより高く現れている。図12〜図14の比較例計測値では、検出による温度領域が32℃〜36℃程度であるのに対し、実施例計測値では、68℃〜78℃程度の領域で検出しており、赤外線エネルギーレベルと表面温度との相関より、耐熱性薄膜使用による場合に大きな赤外線放射率向上があったことが分かる。図12〜図14の比較例試料製品では、良品ボールと不良品ボールの検出温度差の変化が大きく、大きなバラツキがあったり、誤測定と想定される温度の反転状態が見られる部分が存在するのに対し、図15〜図17の実施例試料製品では良品ボールと不良品ボールの検出温度差は極めて緩やかな変化となって、ほぼ一定差で推移している。これによって、検出温度領域が高くなることも相まって、接合良、不良検出分解能が向上し、高精度に良否判定を行えることが理解される。すなわち、はんだボール搭載製品のボール搭載面を加熱直後に冷却する際に、加熱後に実施例のように、耐熱性薄膜を被着させた状態で冷却しその際のボール搭載面側の温度変化を検出することにより、その検出データを基にして所要の基準値を設定し、それとの比較によりボール接合部分の良否を高精度に判定する。複数のはんだボール搭載製品の判定処理を行う場合には、上記の実施形態の加熱工程、耐熱性薄膜の着脱工程、冷却工程、検出工程について各装置を並列配置させて、工程を進めるように同時に移動させるようにすることができる。
12 加熱装置
13 着脱式赤外線高放射生成装置
14 冷却装置
16 検出装置
18 制御判定装置
22 検査対象製品
22A 製品基板
24 はんだボール
241 接合良好はんだボール
243 接合不良はんだボール
32 制御装置
34 ディスプレイ装置
36 着脱式赤外線高放射生成装置
38 耐熱性薄膜
40 基台装置
42 負圧吸引装置
46 台本体
48 凹部
50 環状パッキン
52 基台内吸引経路
54 隙間
H はんだボール搭載面
G 耐熱性薄膜と各はんだボールとの間の空隙
Claims (8)
- 半導体製品基板に形成されたはんだボールの製品基板への接合状態検査方法であり、
はんだボール搭載基板面を加熱する加熱工程と、
加熱されたはんだボール搭載基板面を冷却する冷却工程と、
冷却中のはんだボール及びはんだボール近傍の基板上の赤外線を検出する検出工程と、
検出した赤外線量に基づく熱エネルギー分布データによりはんだボールの基板への接合状態の良否を判定する良否判定工程と、を含み、
加熱工程においてはんだボール搭載基板面を加熱後、冷却工程に移行する前に、耐熱性の薄膜からなる赤外線高放射率媒体をはんだボール搭載基板面に着脱自在に被覆し負圧圧着させる工程を備えたことを特徴とするはんだボールの半導体製品基板への接合状態検査方法。 - 半導体製品基板に形成されたはんだボールの製品基板への接合状態検査システムであり、
はんだボール搭載基板面を加熱する加熱手段と、
加熱されたはんだボール搭載基板面を冷却する冷却手段と、
冷却中のはんだボール及びはんだボール近傍の基板上の赤外線を検出する検出手段と、
検出した赤外線量に基づく熱エネルギー分布データによりはんだボールの基板への接合状態の良否を判定する良否判定手段と、を含み、
加熱工程においてはんだボール搭載基板面を加熱後、冷却させる前に、はんだボール搭載基板面に着脱自在に被覆される耐熱性薄膜を含む着脱式赤外線高放射生成手段と、を備えたことを特徴とするはんだボールの半導体製品基板への接合状態検査システム。 - はんだボール搭載基板を基台本体に保持した状態でその上から耐熱性薄膜を被覆し、その状態で、はんだボール搭載基板面の凹凸部分全体について負圧吸引手段により耐熱性薄膜を密着状に負圧圧着させる基台装置を有することを特徴とする請求項2記載のはんだボールの半導体製品基板への接合状態検査システム。
- 基台装置は、はんだボール搭載基板面全体を覆うように耐熱性薄膜を載置させた状態で基台本体46とはんだボール搭載基板との間の隙間を介して負圧駆動源によりはんだボール搭載基板面の凹凸部分全体について耐熱性薄膜を密着状に負圧圧着させる基台内吸引経路を有することを特徴とする請求項2または3記載のはんだボールの半導体製品基板への接合状態検査システム。
- 基台内吸引経路は、耐熱性薄膜をはんだボール搭載基板面に載置させた状態で、該耐熱性薄膜とはんだボール搭載基板面との隙間に連通するように設けられていることを特徴とする請求項4記載のはんだボールの半導体製品基板への接合状態検査システム。
- 基台本体に半導体製品基板を保持させた状態ではんだボール搭載基板全体をその内側に収容させるように環状の気密部材を基台本体から上方に突設させたことを特徴とする請求項2ないし5のいずれかに記載のはんだボールの半導体製品基板への接合状態検査システム。
- 耐熱性薄膜の膜厚が0.02mm〜0.1mmであることを特徴とする請求項2ないし6のいずれかに記載のはんだボールの半導体製品基板への接合状態検査システム。
- 耐熱性薄膜が少なくとも90℃に耐えうる耐熱特性を有することを特徴とする請求項2ないし7のいずれかに記載のはんだボールの半導体製品基板への接合状態検査システム。
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