JP2009135028A - 挿入光源用架台、挿入光源、磁場測定方法 - Google Patents

Abstract

【課題】上部ビームと下部ビームの間の距離の不連続変化を防ぐことができる挿入光源用架台を提供する。
【解決手段】本発明の挿入光源用架台は、ギャップを介して対向配置された上部磁石列及び下部磁石列を備え前記上部磁石列と下部磁石列の間に入射された電子ビームに蛇行運動させることによってシンクロトロン光を発生させる挿入光源用の架台であって、前記上部磁石列を支持する上部ビームと、前記下部磁石列を支持する下部ビームと、前記下部ビームに対して前記上部ビームを上下移動させる第１移動機構と、前記下部ビームを上下移動させる第２移動機構とを備え、第１移動機構は、前記上部ビームに加わる力が前記下部ビームに伝達されるように構成されることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、挿入光源（例：アンジュレータ、ウィグラ）用架台と、この架台によって磁石列が支持された挿入光源、この挿入光源の磁場測定方法に関する。

図１３（ａ）〜（ｃ）を用いて、従来の挿入光源について説明する。
従来の挿入光源は、ギャップを介して対向配置された上部磁石列１及び下部磁石列３と、上部磁石列１を支持する上部ビーム５と、下部磁石列３を支持する下部ビーム７と、上部ビーム５と下部ビーム７の上下方向の直線移動を補助するガイド付き支柱９と、支柱９を支持する台座１１とを備えている。ガイド付き支柱９は、直動レール型ガイド６，８を有している。上部ビーム５と下部ビーム７には、ボールネジ１３が挿入されている。上部ビーム５と下部ビーム７には互いにピッチが逆向きの雌ネジが設けられており、ボールネジ１３は、上部ビーム５と下部ビーム７に対応した位置に上部ビーム５と下部ビーム７の雌ネジに噛み合う雄ネジが設けられている。このため、ボールネジ１３を回転させると上部ビーム５と下部ビーム７が互いに逆向きに移動し、上部ビーム５と下部ビーム７の間の距離が変化し、従って、上部磁石列１と下部磁石列３が間の距離が変化する。
特開２００１−３２６０９９号公報 特開２００６−５９７５５号公報

ところで、下部ビーム７には、上部磁石列１と下部磁石列３の間に働く磁力ＭＬと、重力ＧＬとが加わる。磁力ＭＬは、上向きであり、重力ＧＬは、下向きである。

図１３（ａ）のように上部磁石列１と下部磁石列３の間の距離が大きいときは、重力ＧＬ＞磁力ＭＬであり、下部ビーム７に働く力の合力ベクトルの方向は下向きである。

この状態から上部磁石列１と下部磁石列３の間の距離を縮めると、重力ＧＬの大きさが変化せずに磁力ＭＬの大きさがだんだんと大きくなり、ある位置において図１３（ｂ）に示すように重力ＧＬと磁力ＭＬの大きさが等しくなる。

この状態から上部磁石列１と下部磁石列３の間の距離をさらに縮めると、磁力ＭＬがさらに大きくなり、図１３（ｃ）に示すように、磁力ＭＬが重力ＧＬよりも大きくなり、下部ビーム７に働く力の合力ベクトルの方向が上向きになる。

図１３（ａ）の状態では、下部ビーム７は、ボールネジ１３に対して下向きに押し付けられた状態で位置決めされる。一方、図１３（ｃ）の状態では、下部ビーム７は、ボールネジ１３に対して上向きに押し付けられた状態で位置決めされる。下部ビーム７の雌ネジとボールネジ１３の雄ネジとは若干の隙間（遊び）が設けられた状態で噛み合わされるため、下部ビーム７に働く力の合力ベクトルの方向が逆転した瞬間に、ネジの隙間の分だけ下部ビーム７が不連続に移動し、その結果、上部ビーム５と下部ビーム７の間の距離が不連続に変化する。この距離が不連続に変化すると、上部磁石列１と下部磁石列３の間の距離も不連続に変化し、磁石列１，３間距離の精密な調整が困難になる。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、上部ビームと下部ビームの間の距離の不連続変化を防ぐことができる挿入光源用架台を提供するものである。

課題を解決するための手段及び発明の効果

本発明の挿入光源用架台は、ギャップを介して対向配置された上部磁石列及び下部磁石列を備え前記上部磁石列と下部磁石列の間に入射された電子ビームに蛇行運動させることによってシンクロトロン光を発生させる挿入光源用の架台であって、前記上部磁石列を支持する上部ビームと、前記下部磁石列を支持する下部ビームと、前記下部ビームに対して前記上部ビームを上下移動させる第１移動機構と、前記下部ビームを上下移動させる第２移動機構とを備え、第１移動機構は、前記上部ビームに加わる力が前記下部ビームに伝達されるように構成されることを特徴とする。

本発明では、上部ビームを上下移動させる第１移動機構は、上部ビームに加わる力が下部ビームに伝達されるように構成されている。上部ビームには、主に、上部ビームの重力ＧＵと、上部磁石列と下部磁石列の間の磁力ＭＵが働く。一方、下部ビームには、下部ビームの重力ＧＬと、上部磁石列と下部磁石列の間の磁力ＭＬが働き、さらに、上部ビームから伝達された重力ＧＵと磁力ＭＵが働く。磁力ＭＬと磁力ＭＵは、大きさが等しく向きが反対なので互いに打ち消し合い、結局、下部ビームには、重力ＧＬと重力ＧＵのみが働き、下部ビームに働く力の合力ベクトルは、上部磁石列と下部磁石列の間の距離によらずに常に下向きになる。従って、下部ビームに働く力の合力ベクトルの方向が変わることがないので、従来技術で生じていたような下部ビームの不連続移動が起こらない。従って、本発明によれば、上部ビームと下部ビームの間の距離の不連続変化を防ぐことができる。

また、従来技術によれば、上部磁石列と下部磁石列の中心位置は不動であるので、電子ビームの位置が変動したときに上部磁石列と下部磁石列の中心位置を電子ビームの位置に追従させることができなかったが、本発明によれば、上部ビームと下部ビームをそれぞれ独立して上下移動させることができるので、上部磁石列と下部磁石列の中心位置を電子ビームの位置に追従させることができる。

さらに、従来技術では、下部ビームに加わる力の向きが逆転するので、高精度で低価格であるが一方向の負荷しか許容されないスクリュージャッキを利用することができなかったが、本発明によれば、下部ビームに加わる力の向きが逆転しないので、一方向の負荷しか許容されないスクリュージャッキの利用が可能になる。
以下、本発明の実施形態等を例示する。

前記下部ビームの下側に設けられた台座をさらに備え、第２移動機構は、前記台座上に設置されてもよい。
前記上部ビームの直線移動を補助するガイド付き支柱をさらに備えてもよい。
前記支柱は、前記上部ビームの幅方向の両側に設けられてもよい。
前記支柱は、前記下部ビームに固定されていてもよい。
前記支柱及び前記下部ビームの直線移動を補助するガイド部材をさらに備えてもよい。
前記上部ビームは、前記支柱の上側に設けられ、第１移動機構は、前記支柱と前記上部ビームの間に配置されてもよい。
第１及び第２移動機構は、それぞれ、ボールネジ又はジャッキを用いた機構であってもよい。

本発明は、上記記載の挿入光源用架台と、前記上部ビームに支持された上部磁石列と、前記下部ビームに支持された下部磁石列とを備える挿入光源も提供する。

また、本発明は、前記上部ビームと前記下部ビームの幅方向の両側に支柱が設けられた上記記載の挿入光源用架台と、前記上部ビームに支持された上部磁石列と、前記下部ビームに支持された下部磁石列とを備える挿入光源での前記上部磁石列と前記下部磁石列の間の磁場を測定する方法であって、前記上部ビームと前記下部ビームの幅方向の両側に設置された前記支柱の間に前記上部磁石列及び前記下部磁石列の長手方向に沿って延びるレールを配置し、前記上部磁石列と前記下部磁石列の間にキャリッジ付きの磁場センサを配置し、前記キャリッジを前記レールに沿って移動させる工程を備え、前記レールは、前記レールを二次元移動させることができるステージによって支持され、開口を有するターゲット部材を前記キャリッジ又は前記磁場センサに設置し、レーザー光源からのレーザー光を前記レールに沿って前記開口を通るように照射し、前記開口を通過したレーザー光の位置を位置センサで検出し、前記位置センサで検出されるレーザー光の位置が一定になるように前記ステージを制御することを特徴とする磁場測定方法も提供する。

ここで示した実施形態等は、互いに組み合わせることができる。

以下，本発明の一実施形態を図面を用いて説明する。図面や以下の記述中で示す内容は，例示であって，本発明の範囲は，図面や以下の記述中で示すものに限定されない。

１．挿入光源
１−１．第１実施形態
図１（ａ），（ｂ）を用いて、本発明の第１実施形態の挿入光源について説明する。本実施形態の挿入光源（例：アンジュレータ、ウィグラ）は、ギャップを介して対向配置された上部磁石列１及び下部磁石列３を備え上部磁石列１と下部磁石列３の間に入射された電子ビームＸに蛇行運動させることによってシンクロトロン光を発生させるものであり、上部磁石列１及び下部磁石列３と、これらを支持する挿入光源用架台とで構成される。挿入光源用架台は、上部磁石列１を支持する上部ビーム５と、下部磁石列３を支持する下部ビーム７と、下部ビーム７に対して上部ビーム５を上下移動させる第１移動機構と、下部ビーム７を上下移動させる第２移動機構とを備え、第１移動機構は、上部ビーム５に加わる力が下部ビーム７に伝達されるように構成される。
以下、詳細に説明する。

１−１−１．上部磁石列及び下部磁石列
上部磁石列１及び下部磁石列３は、それぞれ、複数の磁石で構成される。複数の磁石は、電子ビームＸの進行方向に周期的に変動する磁場が上部磁石列１と下部磁石列３の間のギャップに形成されるように配置される。複数の磁石は、一例では、全て永久磁石であるが、電磁石が含まれていてもよい。

上部磁石列１及び下部磁石列３は、それぞれ、上部ビーム５及び下部ビーム７に支持されており、上部ビーム５及び下部ビーム７と共に移動する。

１−１−２．上部ビーム、第１移動機構
上部ビーム５は、第１移動機構の働きによって下部ビーム７に対して上下移動する。第１移動機構の構成は、上部ビーム５に加わる力が下部ビーム７に伝達されるように構成されるものであれば、特に限定されない。本実施形態では、第１移動機構は、ボールネジ１３を用いた機構であるが、後述するように、ジャッキ１９を用いた機構であってもよく、これ以外の機構であってもよい。

本実施形態では、上部ビーム５には雌ネジが設けられており、ボールネジ１３には、上部ビーム５の雌ネジに噛み合う雄ネジが設けられている。ボールネジ１３を一方向に回転させることによって上部ビーム５が一方向に移動し、ボールネジ１３を逆方向に回転させることによって上部ビーム５が逆方向に移動する。ボールネジ１３は、下部ビーム７上に設けられており、上部ビーム５に加わる力は、ボールネジ１３を介して下部ビーム７に伝達される。また、上部ビーム５の幅方向の片側には上部ビーム５の直線移動を補助するガイド付き支柱（以下、「支柱」と呼ぶ。）９が設けられている。ガイドの構成は、特に限定されない。本実施形態では、ガイドは、直動レール型ガイド６である。ガイドは、例えば、リニアブッシュ型ガイドであってもよい。但し、本実施形態のように支柱９が上部ビーム５の幅方向の片側にのみ設けられている場合、ガイドに曲げ応力が加わるので曲げ応力に対する強度が高い直動レール型ガイド６が好ましい。また、本実施形態では、ボールネジ１３及び支柱９は、上部ビーム５の幅方向の片側に設けられているが、後述するように、ボールネジ１３及び支柱９の一方又は両方は、上部ビーム５の幅方向の両側に設けてもよい。

１−１−３．下部ビーム
下部ビーム７は、第２移動機構の働きによって上下移動する。本実施形態では、下部ビーム７の下側に台座１１が設けられており、第２移動機構は、台座１１上に設置される。台座１１を設けることによって下部ビーム７の精度の高い移動が可能になる。なお、台座１１は、省略可能であり、この場合、第２移動機構は、例えば床の上に直接設置される。
第２移動機構の構成は、特に限定されない。本実施形態では、第２移動機構は、ボールネジ１３を用いた機構であるが、後述するように、ジャッキ２１を用いた機構であってもよく、これ以外の機構であってもよい。第２移動機構は、下部ビーム７の直下に設けてもよく、下部ビーム７が支柱９に固定されている場合は支柱９の直下に設けてもよい。本実施形態では、第２移動機構は、下部ビーム７の直下と支柱９の直下に設けられている。

本実施形態では、支柱９及び下部ビーム７にはそれぞれ雌ネジが設けられており、支柱９及び下部ビーム７の下側にはそれぞれの雌ネジに噛みあう雄ネジを有するボールネジ１５が配置されている。ボールネジ１５を一方向に回転させることによって支柱９及び下部ビーム７が一方向に移動し、ボールネジ１５を逆方向に回転させることによって支柱９及び下部ビーム７が逆方向に移動する。支柱９及び下部ビーム７の幅方向の両側には支柱９及び下部ビーム７の直線移動を補助するガイド部材１７が設けられている。本実施形態では、ガイド部材１７は、直動レール型ガイド１０を有する。ガイド部材１７は、リニアブッシュ型ガイドを有していてもよく、これら以外の構成のガイドを有するものであってもよい。また、ガイド部材１７は、幅方向の片側に設けてもよく、省略してもよい。

１−１−４．不連続変化を防ぐ原理
次に、本実施形態によれば、上部ビーム５と下部ビーム７の間の距離の不連続変化を防ぐことができる原理について説明する。

本実施形態では、上部ビーム５を上下移動させる第１移動機構は、上部ビーム５に加わる力が下部ビーム７に伝達されるように構成されている。上部ビーム５には、主に、上部ビーム５の重力ＧＵと、上部磁石列１と下部磁石列３の間の磁力ＭＵが働く。一方、下部ビーム７には、主に、下部ビーム７の重力ＧＬと、上部磁石列１と下部磁石列３の間の磁力ＭＬが働き、さらに、上部ビーム５から伝達された重力ＧＵと磁力ＭＵが働く。磁力ＭＬと磁力ＭＵは、大きさが反対で互いに打ち消しあうので、結局、下部ビーム７には、重力ＧＬと重力ＧＵのみが働き、下部ビーム７に働く力の合力ベクトルは、上部磁石列１と下部磁石列３の間の距離によらずに常に下向きになる。下部ビーム７に働く力の合力ベクトルの方向が変わることがないので、従来技術で生じていたような下部ビーム７の不連続移動が起こらない。従って、本実施形態によれば、上部ビーム５と下部ビーム７の間の距離の不連続変化を防ぐことができる。

１−２．第２実施形態
図２（ａ），（ｂ）を用いて、本発明の第２実施形態の挿入光源について説明する。本実施形態は、第１実施形態に類似しており、第１実施形態で述べた内容は、以下の記載に矛盾しない限り本実施形態にも当てはまる。

本実施形態では、ボールネジ１３は、支柱９に固定された突起部１２上に設けられており、上部ビーム５に加わる力は、ボールネジ１３、突起部１２及び支柱９を介して下部ビーム７に伝達される。

このように上部ビーム５に加わる力が間接的に下部ビーム７に伝達される場合でも、「１−１−４．不連続変化を防ぐ原理」で説明したのと同じ原理によって上部ビーム５と下部ビーム７の間の距離の不連続変化を防ぐことができる。

１−３．第３実施形態
図３（ａ），（ｂ）を用いて、本発明の第３実施形態の挿入光源について説明する。本実施形態は、第１実施形態に類似しており、第１実施形態で述べた内容は、以下の記載に矛盾しない限り本実施形態にも当てはまる。

本実施形態では、ボールネジ１３及び支柱９は、上部ビーム５の幅方向の両側に設けられている。第１実施形態は、上部ビーム５がいわゆる片持ち構造になっているので、上部磁石列１と下部磁石列３の間の磁力ＭＵ及びＭＬによってボールネジ１３及び支柱９が歪み、それによって、上部磁石列１と下部磁石列３の平行度が悪化するという不利益がありうるが、本実施形態では、上部ビーム５の幅方向の両側にボールネジ１３及び支柱９が設けられているので、上部磁石列１と下部磁石列３の間の磁力ＭＵ及びＭＬによるボールネジ１３及び支柱９の歪みが小さく、且つ両側のボールネジ１３及び支柱９の歪みが対称なので、上部磁石列１と下部磁石列３の平行度が精度良く維持される。本実施形態では、上部ビーム５の幅方向の両側の支柱９は、強度を高めるために互いに連結して門型にすることが好ましいが、互いに分離していてもよい。

１−４．第４実施形態
図４（ａ），（ｂ）を用いて、本発明の第４実施形態の挿入光源について説明する。本実施形態は、第３実施形態に類似しており、第３実施形態で述べた内容は、以下の記載に矛盾しない限り本実施形態にも当てはまる。

本実施形態では、第１移動機構は、ジャッキ１９を用いた機構であり、第２移動機構は、ジャッキ２１を用いた機構である。

ジャッキ１９は、上部ビーム５と下部ビーム７の間に設置され、ジャッキ１９が伸縮することによって上下ビーム５が上下する。また、ジャッキ２１は、支柱９と台座１１との間に設置され、ジャッキ２１が伸縮することによって支柱９及び下部ビーム７が上下する。ジャッキ２１は、下部ビーム７と台座１１との間に設置してもよい。ジャッキ１９，２１は、上下反対に設置してもよい。

ジャッキ２１の種類は、特に限定されないが、例えば、スクリュージャッキである。従来技術では、下部ビームに加わる力の向きが変化するので、高精度で低価格であるが一方向の負荷しか許容されないスクリュージャッキを利用することができなかったが、本実施形態によれば、下部ビーム７に加わる力の向きが変化しないので、一方向の負荷しか許容されないスクリュージャッキの利用が可能になる。

１−５．第５実施形態
図５（ａ）及び（ｂ）を用いて、本発明の第５実施形態の挿入光源について説明する。本実施形態は、第４実施形態に類似しており、第４実施形態で述べた内容は、以下の記載に矛盾しない限り本実施形態にも当てはまる。

本実施形態では、上部ビーム５は、支柱９の上側に設けられ、第１移動機構は、支柱９と上部ビーム５の間に配置される。第１移動機構は、ジャッキ１９である。また、上部磁石列１は、接続部材２２を介して上部ビーム５に支持される。本実施形態では、上部ビーム５に加わる力は、ジャッキ１９及び支柱９を介して下部ビーム７に伝達される。

本実施形態では、上部磁石列１や下部磁石列３から比較的離れた位置に第１移動機構が配置されるので、上部磁石列１や下部磁石列３の周囲の空間を別の用途に利用することができる。

１−６．第６実施形態
図６（ａ），（ｂ）を用いて、本発明の第６実施形態の挿入光源について説明する。本実施形態は、第５実施形態に類似しており、第５実施形態で述べた内容は、以下の記載に矛盾しない限り本実施形態にも当てはまる。

本実施形態では、支柱９のガイドと、ガイド部材１７のガイドは、それぞれ、リニアブッシュ型ガイド１８、２０である。また、ジャッキ１９は、第５実施形態とは上下が逆向きに設置されている。

１−７．第７実施形態
図７（ａ），（ｂ）を用いて、本発明の第７実施形態の挿入光源について説明する。本実施形態は、第４実施形態に類似しており、第４実施形態で述べた内容は、以下の記載に矛盾しない限り本実施形態にも当てはまる。

本実施形態では、下部ビーム７は、支柱９に固定されておらず、下部ビーム７は、支柱９に対して上下移動可能である。支柱９は、下部ビーム７の直線移動を補助するガイドを有している。下部ビーム７用のガイドの構成は、特に限定されない。本実施形態では、下部ビーム７用のガイドは、直動レール型ガイド８である。このガイドは、例えば、リニアブッシュ型ガイドであってもよい。直動レール型ガイド８の構成及び動作は、直動レール型ガイド６と同様である。また、ジャッキ２１は、下部ビーム７と台座１１との間に設置されている。本実施形態によれば、支柱９を上下移動させる必要がないので、ジャッキ２１に加わる負荷が比較的小さくなる。また、支柱９に下部ビーム７用のガイドを設けることができるので、ガイド部材１７を省略することができる。
なお、ジャッキ２１の代わりに、ジャッキ２１以外の第２移動機構（例：ボールネジ）を利用してもよい。

１−８．第８実施形態
図８（ａ），（ｂ）を用いて、本発明の第８実施形態の挿入光源について説明する。本実施形態は、第７実施形態に類似しており、第７実施形態で述べた内容は、以下の記載に矛盾しない限り本実施形態にも当てはまる。

本実施形態では、支柱９が設けられていない。しかし、ジャッキ１９及びジャッキ２１を精度良く制御することによって上部ビーム５と下部ビーム７を直線移動させて上部磁石列１と下部磁石列の３の平行度を高精度に維持することは可能である。但し、本実施形態では、上部ビーム５と下部ビーム７は、それぞれ、ジャッキ１９及びジャッキ２１上に載置されているので、運送時や地震の際に横向きの力が上部ビーム５と下部ビーム７に加わった場合に、上部ビーム５と下部ビーム７が横滑りして滑落する場合が想定される。従って、上部ビーム５と下部ビーム７の横滑りを防止する機構を設けることが好ましい。

１−９．第９実施形態
図９（ａ），（ｂ）を用いて、本発明の第９実施形態の挿入光源について説明する。本実施形態は、第８実施形態に類似しており、第８実施形態で述べた内容は、以下の記載に矛盾しない限り本実施形態にも当てはまる。

本実施形態では、第１及び第２移動機構は、それぞれ、ボールネジ１３及び１５を用いた機構である。本実施形態では、ボールネジ１３及び１５の雄ネジは、それぞれ、上部ビーム５と下部ビーム７に設けられた雌ネジに噛み合う。ボールネジ１３及び１５がそれぞれ上部ビーム５と下部ビーム７内に挿入されているので、運送時や地震の際に横向きの力が上部ビーム５と下部ビーム７に加わった場合でも上部ビーム５と下部ビーム７が横滑りを起こさない。

２．磁場測定方法
次に、上部磁石列１と下部磁石列３の間の磁場の測定方法について説明する。
上部磁石列１と下部磁石列３の間の磁場は、一般に、図１０（ａ），（ｂ）に示すように、精密ベンチ２３上にレール３３を高い真直度で設置し、このレール３３に沿って磁場センサ（例：ホールプローブ）２５が取り付けられたキャリッジ２７をスライドさせることによって測定する。

図１０（ａ）に示すように、支柱９がビーム５，７の片側にのみ設けられている場合、磁石列１，３の長手方向の全範囲に渡って連続的に磁場の測定を行うことができる。

一方、図１０（ｂ）に示すように、支柱９がビーム５，７の両側に設けられている場合、支柱９が邪魔になって磁石列１，３の長手方向の全範囲に渡って連続的に磁場の測定を行うことができない。このような問題を解決するために、図１１（ａ），（ｂ）に示すように、両側の支柱９の間に二次元ステージ３９で支持されたレール３３を設置し、レール３３に沿って磁場センサ（例：ホールプローブ）２５が取り付けられたキャリッジ２７をスライドさせることによって磁場測定を行う方法が考えられる。しかし、この方法では、レール３３の真直度が低いため、スライドしているキャリッジ２７が上下左右にふらつき、その結果、磁場センサ２５の位置のふらつきが１００ミクロン程度になり、精密な測定が困難であるという問題がある。

図１１（ａ），（ｂ）の方法を改良したのが図１２（ａ），（ｂ）に示す方法である。この方法では、キャリッジ２７又は磁場センサ２５に開口２９を有するターゲット部材３１を設置し、レーザー光源３５からのレーザー光Ｌをレール３３に沿って開口２９を通るように照射し、開口２９を通過したレーザー光Ｌの位置を位置センサ３７で検出する。このような方法では、レール３３をスライドしているキャリッジ２７がふらついて開口２９の位置が変動すると、それに合わせて位置センサ３７で検出されるレーザー光Ｌの位置も変動する。そこで、位置センサ３７で検出されるレーザー光Ｌの位置が一定になるように二次元ステージ３９を制御したところ、磁場センサ２５の位置のふらつきを５ミクロン程度に抑えることができた。

図１２（ａ），（ｂ）に示す方法によれば、支柱９がビーム５，７の両側に設けられていても上部磁石列１と下部磁石列３の間の磁場を高精度に測定することができる。

以上の実施形態で示した種々の特徴は，互いに組み合わせることができる。１つの実施形態中に複数の特徴が含まれている場合，そのうちの１又は複数個の特徴を適宜抜き出して，単独で又は組み合わせて，本発明に採用することができる。

図１（ａ），（ｂ）は、本発明の第１実施形態の挿入光源の構成を示す断面図である。図１（ａ）は、磁石列間の距離が十分に離れている状態を示し、図１（ｂ）は、図１（ａ）よりも磁石列間の距離が短くなった状態を示す。 図２（ａ），（ｂ）は、本発明の第２実施形態の挿入光源の構成を示す断面図である。図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ、図１（ａ），（ｂ）に対応している。 図３（ａ），（ｂ）は、本発明の第３実施形態の挿入光源の構成を示す断面図である。図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ、図１（ａ），（ｂ）に対応している。 図４（ａ），（ｂ）は、本発明の第４実施形態の挿入光源の構成を示す断面図である。図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ、図１（ａ），（ｂ）に対応している。 図５（ａ），（ｂ）は、本発明の第５実施形態の挿入光源の構成を示す断面図である。図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ、図１（ａ），（ｂ）に対応している。 図６（ａ），（ｂ）は、本発明の第６実施形態の挿入光源の構成を示す断面図である。図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ、図１（ａ），（ｂ）に対応している。 図７（ａ），（ｂ）は、本発明の第７実施形態の挿入光源の構成を示す断面図である。図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ、図１（ａ），（ｂ）に対応している。 図８（ａ），（ｂ）は、本発明の第８実施形態の挿入光源の構成を示す断面図である。図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ、図１（ａ），（ｂ）に対応している。 図９（ａ），（ｂ）は、本発明の第９実施形態の挿入光源の構成を示す断面図である。図２（ａ），（ｂ）は、それぞれ、図１（ａ），（ｂ）に対応している。 図１０（ａ），（ｂ）は、磁石列間の磁場を測定する方法を示す斜視図であり、図１０（ａ）は、支柱がビームの片側にのみ設けられている場合を示し、図１０（ｂ）は、支柱がビームの両側に設けられている場合を示す。 図１１（ａ），（ｂ）は、ビームの両側の支柱の間にレールを設置して磁石列間の磁場を測定する方法を示し、図１１（ａ）は、平面図であり、図１１（ｂ）は、側面図である。 図１２（ａ），（ｂ）は、ビームの両側の支柱の間にレールを設置して磁石列間の磁場を測定する方法を示し、図１２（ａ）は、平面図であり、図１２（ｂ）は、側面図である。 図１３（ａ）〜（ｃ）は、従来の挿入光源の構成を示す断面図である。図１３（ａ）は、下部ビームに加わる重力が磁力よりも大きい状態を示し、図１３（ｂ）は、下部ビームに加わる重力と磁力の大きさが等しい状態を示し、図１３（ｃ）は、下部ビームに加わる磁力が重力よりも大きい状態を示す。

符号の説明

１：上部磁石列 ３：下部磁石列 ５：上部ビーム ６：直動レール型ガイド ７：下部ビーム ８：直動レール型ガイド ９：ガイド付き支柱 １０：直動レール型ガイド １１：台座 １３：ボールネジ １５：ボールネジ １７：ガイド部材 １８：リニアブッシュ型ガイド １９：ジャッキ ２０：リニアブッシュ型ガイド ２１：ジャッキ ２２：接続部材 ２３：精密ベンチ ２５：磁場センサ ２７：キャリッジ ２９：開口 ３１：ターゲット部材 ３３：レール ３５：レーザー光源 ３７：位置センサ ３９：二次元ステージ Ｌ：レーザー光

Claims (10)

1. ギャップを介して対向配置された上部磁石列及び下部磁石列を備え前記上部磁石列と下部磁石列の間に入射された電子ビームに蛇行運動させることによってシンクロトロン光を発生させる挿入光源用の架台であって、
   前記上部磁石列を支持する上部ビームと、前記下部磁石列を支持する下部ビームと、前記下部ビームに対して前記上部ビームを上下移動させる第１移動機構と、前記下部ビームを上下移動させる第２移動機構とを備え、
   第１移動機構は、前記上部ビームに加わる力が前記下部ビームに伝達されるように構成されることを特徴とする挿入光源用架台。
2. 前記下部ビームの下側に設けられた台座をさらに備え、
   第２移動機構は、前記台座上に設置される請求項１に記載の架台。
3. 前記上部ビームの直線移動を補助するガイド付き支柱をさらに備える請求項１又は２に記載の架台。
4. 前記支柱は、前記上部ビームの幅方向の両側に設けられる請求項３に記載の架台。
5. 前記支柱は、前記下部ビームに固定されている請求項３又は４に記載の架台。
6. 前記支柱及び前記下部ビームの直線移動を補助するガイド部材をさらに備える請求項５に記載の架台。
7. 前記上部ビームは、前記支柱の上側に設けられ、
   第１移動機構は、前記支柱と前記上部ビームの間に配置される請求項３〜６の何れか１つに記載の架台。
8. 第１及び第２移動機構は、それぞれ、ボールネジ又はジャッキを用いた機構である請求項１〜７の何れか１つに記載の架台。
9. 請求項１〜８の何れか１つに記載の挿入光源用架台と、前記上部ビームに支持された上部磁石列と、前記下部ビームに支持された下部磁石列とを備える挿入光源。
10. 請求項４に記載の挿入光源用架台と、前記上部ビームに支持された上部磁石列と、前記下部ビームに支持された下部磁石列とを備える挿入光源での前記上部磁石列と前記下部磁石列の間の磁場を測定する方法であって、
    前記上部ビームと前記下部ビームの幅方向の両側に設置された前記支柱の間に前記上部磁石列及び前記下部磁石列の長手方向に沿って延びるレールを配置し、前記上部磁石列と前記下部磁石列の間にキャリッジ付きの磁場センサを配置し、前記キャリッジを前記レールに沿って移動させる工程を備え、
    前記レールは、前記レールを二次元移動させることができるステージによって支持され、
    開口を有するターゲット部材を前記キャリッジ又は前記磁場センサに設置し、
    レーザー光源からのレーザー光を前記レールに沿って前記開口を通るように照射し、前記開口を通過したレーザー光の位置を位置センサで検出し、
    前記位置センサで検出されるレーザー光の位置が一定になるように前記ステージを制御することを特徴とする磁場測定方法。

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