JP2009122520A - 異方性エッチングによる構造体の作製方法、及びエッチングマスク付きシリコン基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】異方性エッチングによる構造体の作製方法では、(100)面を主面とする単結晶シリコン基板100上に、凸部コーナを有する第1の構造体と該第1の構造体と開口部を介して隣接する第2の構造体とを少なくとも有する目標形状に対応する基本エッチングマスクと、第1の構造体のエッチングマスク103の凸部コーナから伸びて第2の構造体のエッチングマスク101と連結する補正エッチングマスク107a〜107dを形成する。更に、基本エッチングマスクと補正エッチングマスクを有する単結晶シリコン基板を異方性エッチングし目標形状を形成する。
【選択図】図1
Description
(100)面を主面とする単結晶シリコン基板上に、凸部コーナを有する第1の構造体と該第1の構造体と開口部を介して隣接する第2の構造体とを少なくとも有する目標形状に対応する基本エッチングマスクと、前記第1の構造体のエッチングマスクの凸部コーナから伸びて前記第2の構造体のエッチングマスクと連結する補正エッチングマスクと、を形成する工程。
前記基本エッチングマスクと前記補正エッチングマスクを有する前記単結晶シリコン基板を異方性エッチングし前記目標形状を形成する工程。
即ち、上記エッチングマスクは、(100)面を主面とする単結晶シリコン基板上に、凸部コーナを有する第1の構造体と該第1の構造体と開口部を介して隣接する第2の構造体とを少なくとも有する目標形状に対応する基本エッチングマスクと、前記第1の構造体のエッチングマスクの凸部コーナから伸びて前記第2の構造体のエッチングマスクと連結する補正エッチングマスクである。
即ち、揺動体装置は、支持体と、上記支持体に対して可動に支持された可動部と、上記支持体と上記可動部とをねじり軸回りに弾性的に連結する弾性支持部と、上記可動部を駆動する駆動手段とを有し、上記の構造体の作製方法により作製されることを特徴とする。
本発明の異方性エッチングによる構造体の作製方法や本発明のエッチングマスクが形成された(100)面を主面とする単結晶シリコン基板においては、基本的に、次の要件が満たされる必要がある。まず、(100)面を主面とする単結晶シリコン基板上に以下のようなエッチングマスクを形成する。凸部コーナを有する第1の構造体と該第1の構造体と開口部を介して隣接する第2の構造体とを少なくとも有する目標形状に対応する基本エッチングマスク。前記第1の構造体のエッチングマスクの凸部コーナから伸びて前記第2の構造体のエッチングマスクと連結する補正エッチングマスク。そして、前記基本エッチングマスクと前記補正エッチングマスクを有する前記単結晶シリコン基板を異方性エッチングし前記目標形状を形成する。この際、前記補正エッチングマスクを形成した部分の単結晶シリコン基板はエッチングにより除去される。
実施例1の光偏向器の構成、駆動方法、作製方法を図1、図2−1、図2−2を用いて説明する。図1(a)は、本実施例の光偏向器のエッチングマスクを示す上面図であり、図1(b)は図1(a)のA−B断面図である。また、図2−1、図2−2は、異方性エッチング溶液によって、(100)面を主面とする単結晶シリコン基板をエッチングして作製する光偏向器を説明する図である。
実施例2のマイクロ構造体の作製方法を図4を用いて説明する。図4は、本実施例のマイクロ構造体のエッチングマスクを示す上面図である。実施例2のマイクロ揺動体の構成は、実施例1の光偏向器の構成と略同様である。本実施例のマイクロ構造体の作製方法の特徴は、補正エッチングマスクの凹部に曲率(丸み)が付与されていることである。
実施例3のマイクロ構造体の作製方法及びマイクロ構造体を図5、図6、図7を用いて説明する。図5は、本実施例のマイクロ構造体のエッチングマスクを示す上面図であり、図6は、本実施例の補正エッチングマスクを説明するための上面図である。図7は、本実施例のマイクロ構造体の作製方法により作製した光偏向器の上面図である。実施例3のマイクロ揺動体の構成も、実施例1の光偏向器の構成と略同様である。
図11は上記光偏向器を用いた光学機器の実施例を示す図である。ここでは、光学機器として画像形成装置を示している。図11において、803は本発明による光偏向器であり、本実施例では入射光を1次元に走査する。801はレーザ光源である。802はレンズ或いはレンズ群であり、804は書き込みレンズ或いはレンズ群である。805は感光体、806は走査軌跡である。
101、301、401、501 支持部の基本エッチングマスク
102a、102b、402a、402b、502a、502b 弾性支持部の基本エッチングマスク
103、303、403、503 可動部の基本エッチングマスク
107a〜107d、407a〜407d、507a〜507d 補正エッチングマスク
108a〜108d、308、408a〜408d、409a〜409d、508a〜508d [110]方向に伸びた補正エッチングマスク
109a〜109h、309a、309b、509a〜509d [100]方向に伸びた補正エッチングマスク
110a〜110d、310a、410a〜410d、510a〜510d 補正エッチングマスクの屈折部
201、601 支持部(第2の構造体)
202a、202b、602a、602b 弾性支持部
203、603 可動部(第1の構造体)
204、604 光偏向素子(反射面)
205 駆動手段(永久磁石)
206 駆動手段(コイル)
207 ねじり軸
801 光源(レーザ光源)
803 本発明の光偏向器
805 光照射対象物(感光体)
Claims (11)
- (100)面を主面とする単結晶シリコン基板上に、凸部コーナを有する第1の構造体と該第1の構造体と開口部を介して隣接する第2の構造体とを少なくとも有する目標形状に対応する基本エッチングマスクと、前記第1の構造体のエッチングマスクの凸部コーナから伸びて前記第2の構造体のエッチングマスクと連結する補正エッチングマスクと、を形成する工程と、
前記基本エッチングマスクと前記補正エッチングマスクを有する前記単結晶シリコン基板を異方性エッチングし前記目標形状を形成する工程と、
を有する構造体の作製方法。 - 前記基本エッチングマスクと前記補正エッチングマスクを有する前記単結晶シリコン基板を異方性エッチングし目標形状を形成する工程は、前記補正エッチングマスクを形成した部分の単結晶シリコン基板を除去する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の構造体の作製方法。
- 前記補正エッチングマスクは、屈折部を有することを特徴とする請求項1または2記載の構造体の作製方法。
- 前記補正エッチングマスクは、[110]方向に伸びる形状を少なくとも有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。
- 前記補正エッチングマスクは、[100]方向に伸びる形状を少なくとも有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。
- 前記補正エッチングマスクは、前記第1の構造体のエッチングマスクの凸部コーナから[110]方向に伸びると共に、[100]方向に分岐したそれぞれの補正エッチングマスクが前記第2の構造体のエッチングマスクと連結するY字形状を有することを特徴とする請求項1または2に記載の構造体の作製方法。
- 前記補正エッチングマスクの凹部は曲率を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の構造体の作製方法。
- (100)面を主面とする単結晶シリコン基板上に、凸部コーナを有する第1の構造体と該第1の構造体と開口部を介して隣接する第2の構造体とを少なくとも有する目標形状に対応する基本エッチングマスクと、前記第1の構造体のエッチングマスクの凸部コーナから伸びて前記第2の構造体のエッチングマスクと連結する補正エッチングマスクと、を有することを特徴とするエッチングマスク付きシリコン基板。
- 支持体と、前記支持体に対して可動に支持された可動部と、前記支持体と前記可動部とをねじり軸回りに弾性的に連結する弾性支持部と、前記可動部を駆動する駆動手段とを有する揺動体装置であって、
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の構造体の作製方法により作製されることを特徴とする揺動体装置。 - 請求項9に記載の揺動体装置と、前記可動部に設けられた光偏向素子と、を有することを特徴とする光偏向器。
- 請求項10に記載の光偏向器を有し、
前記光偏向器は、光源からの光ビームを反射・偏向し、該光ビームの少なくとも一部を光照射対象物に入射させる、
ことを特徴とする光学機器。
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