JP2009111024A - 化学機械研磨装置の基板支持部材、および化学機械研磨装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】CMP装置のペデスタル(基板支持部材)12は、CMP装置においてキャリアヘッドに対し基板の授受を行う機構に組み込まれて基板を支持する。ペデスタル12は、基板の板面の周縁部を支持するための環状の支持面16を有する環状部13を備え、環状部13は、該環状部13の内部において周方向に延びる空洞と、該空洞から支持面16へ開口するように該環状部13の周方向に並んで形成され、基板の吸引、およびキャリアヘッドへの洗浄液の噴射を行う複数の孔17とを有する。
【選択図】図5
Description
Claims (7)
- 化学機械研磨装置においてキャリアヘッドに対し基板の授受を行う機構に組み込まれて前記基板を支持する基板支持部材であって、
前記基板の板面の周縁部を支持するための環状の支持面を有する環状部を備え、
前記環状部は、
該環状部の内部において周方向に延びる空洞と、
該空洞から前記支持面へ開口するように該環状部の周方向に並んで形成され、前記基板の吸引、および前記キャリアヘッドへの洗浄液の噴射を行う複数の孔と
を有することを特徴とする、化学機械研磨装置の基板支持部材。 - 前記複数の孔の内面のうち前記環状部の中心側に位置する部分が、前記環状部の中心方向へ傾斜していることを特徴とする、請求項1に記載の化学機械研磨装置の基板支持部材。
- 前記複数の孔の内面のうち前記環状部の外周側に位置する部分が前記環状部の中心軸方向に延びていることを特徴とする、請求項2に記載の化学機械研磨装置の基板支持部材。
- 前記支持面における前記複数の孔の開口形状が、前記環状部の径方向を長手方向とする細長形状であることを特徴とする、請求項3に記載の化学機械研磨装置の基板支持部材。
- 前記空洞の内面のうち前記環状部の外周側に位置する面が前記環状部の底面から前記支持面へ向けて拡径していることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の化学機械研磨装置の基板支持部材。
- 前記支持面と交差する方向を長手方向として、前記環状部の内側を通る軸線に沿って配置された柱状部と、
前記環状部と前記柱状部とを連結する連結部と
を更に備え、
前記柱状部および前記連結部が、前記空洞に繋がる通路を内部に有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の化学機械研磨装置の基板支持部材。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板支持部材と、
前記複数の孔を介して前記基板を吸引する吸引手段と、
前記キャリアヘッドへ噴射される洗浄液を前記複数の孔へ供給する洗浄液供給手段と
を備えることを特徴とする、化学機械研磨装置。
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- 2007-10-26 JP JP2007279295A patent/JP2009111024A/ja active Pending
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