JP2009094330A - Substrate for wiring board and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線基板用基材及び配線基板用基材の製造方法に関する。 The present invention relates to a wiring board substrate and a method for manufacturing a wiring board substrate.
近年の電子機器の小型化、高密度実装化に伴い、多層配線基板が広く利用されている。多層配線基板は、導体パターンを多層にすることで、基板表面積を小さくできるメリットを有している。このため、モバイル電子機器をはじめとする各種の小型電子機器のマザーボード等に広く用いられている。最近では、更に発展したIVH(Innner Via Hole)タイプの多層配線基板が開発されている。 With recent miniaturization and high-density mounting of electronic devices, multilayer wiring boards are widely used. The multilayer wiring board has an advantage that the surface area of the substrate can be reduced by making the conductor pattern into a multilayer. For this reason, it is widely used for motherboards of various small electronic devices such as mobile electronic devices. Recently, a further developed IVH (Innner Via Hole) type multilayer wiring board has been developed.
IVHタイプの多層配線基板は、各層に層間導通のためのバイアホールが形成されており、バイアホールはスルーホールとは異なって各層のホールがすべて一直線上にある必要がないので、配線の自由度が大きく、このことから基板表面積をより一層小さくすることが可能になっている。 In the IVH type multilayer wiring board, via holes for interlayer conduction are formed in each layer. Unlike the through holes, the via holes do not have to be all in a straight line. Therefore, it is possible to further reduce the substrate surface area.
このような多層配線基板において、インナビアホール接続を可能にし、高信頼性及び高品質の配線基板用基材を実現するため、離型性フィルムを両面に備えた多孔質基材の所望の位置に貫通孔を有し、貫通孔に導電性ペーストが離型性フィルム表面まで充填される配線基板用基材が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。 In such a multilayer wiring board, inner via hole connection is possible, and in order to realize a highly reliable and high-quality substrate for a wiring substrate, a desired position of a porous substrate having a release film on both sides is provided. There is disclosed a substrate for a wiring board that has a through hole and is filled with a conductive paste up to the surface of the release film (for example, see Patent Document 1).
又、導電性ペースト充填の不均一やマスキングフィルムを剥がす際の導電性ペーストによる突起形状の不均一を生じることを防ぐため、絶縁性基材の少なくとも一方の面に、マスキング用金属箔が剥離可能に貼付されている配線基板用基材も開示されている(例えば、特許文献2参照。)。
しかしながら、特許文献1による技術では、貫通孔を開けた際に発生したスミアなどを除去する工程で、離型性フィルムもエッチングされてしまい、導電性ペーストを印刷後に離型性フィルムを剥離した際に凸状ペーストの高さが低くなったり、ばらついたりする問題があった。
However, in the technique according to
又、特許文献2による技術では、マスキングフィルムとして金属箔を使用するため、ペースト印刷前に折れシワが発生しやすいことや印刷スキージが傷つき印刷不良が発生しやすいという問題があった。
Moreover, in the technique by
本発明は、上記の問題に鑑み、所望の高さの凸状ペーストを印刷不良なく形成し、層間接続信頼性を向上させる配線基板用基材及び配線基板用基材の製造方法を提供することを目的とする。 In view of the above-described problems, the present invention provides a wiring board substrate and a method for manufacturing a wiring board substrate that form a convex paste having a desired height without defective printing and improve interlayer connection reliability. With the goal.
本発明の第1の特徴は、絶縁性基板の少なくとも一方の面に離型性樹脂フィルムを備え、離型性樹脂フィルムの絶縁性基材とは反対の面には、金属層が設けられている配線基板用基材であることを要旨とする。 A first feature of the present invention is that a release resin film is provided on at least one surface of an insulating substrate, and a metal layer is provided on a surface opposite to the insulating substrate of the release resin film. The gist of the present invention is the wiring board substrate.
第1の特徴に係る配線基板用基材によると、離型性樹脂フィルムの絶縁性基材とは反対の面に金属層を設けることにより、所望の高さの凸状ペーストを印刷不良なく形成し、層間接続信頼性を向上させることができる。 According to the wiring board substrate according to the first feature, a convex paste having a desired height can be formed without defective printing by providing a metal layer on the surface opposite to the insulating substrate of the releasable resin film. In addition, the interlayer connection reliability can be improved.
本発明の第2の特徴は、絶縁性基板の一方の面に離型性樹脂フィルムを備え、絶縁性基板の他方の面に回路パターン形成のための導体層を備え、離型性樹脂フィルムの絶縁性基材とは反対の面には、金属層が設けられている配線基板用基材であることを特徴とする。 A second feature of the present invention is that a release resin film is provided on one surface of an insulating substrate, a conductor layer for forming a circuit pattern is provided on the other surface of the insulating substrate, and the release resin film It is a substrate for a wiring board provided with a metal layer on the surface opposite to the insulating substrate.
第2の特徴に係る配線基板用基材によると、離型性樹脂フィルムの絶縁性基材とは反対の面に金属層を設けることにより、所望の高さの凸状ペーストを印刷不良なく形成し、層間接続信頼性を向上させることができる。 According to the substrate for a wiring board according to the second feature, a convex paste having a desired height can be formed without defective printing by providing a metal layer on the surface of the release resin film opposite to the insulating substrate. In addition, the interlayer connection reliability can be improved.
又、第2の特徴に係る配線基板用基材において、金属層は、導体層と同種の金属により構成されていることが好ましい。 In the wiring board substrate according to the second feature, the metal layer is preferably made of the same type of metal as the conductor layer.
この配線基板用基材によると、金属層の孔開けのためのエッチングと、導体層の回路パターン形成のための化学エッチングとを、同一工程で行うことが可能となる。 According to this wiring board substrate, etching for opening a metal layer and chemical etching for forming a circuit pattern of a conductor layer can be performed in the same process.
本発明の第3の特徴は、絶縁性基板に形成された孔に導電性ペーストが充填され、当該導電性ペーストが絶縁性基材の表面より凸状に突出した配線基板用基材の製造方法であって、絶縁性基板の一方の面に、表面に金属層を設けた離型性樹脂フィルムを、絶縁性基板の他方の面に、回路パターン形成のための導体層を形成する工程と、表面に金属層を設けた離型性樹脂フィルムをマスキングフィルムとし、絶縁性基材に孔を形成する工程と、孔に残存したスミアを除去する工程と、金属層及び孔表面の酸化膜を除去する工程と、孔に導電性ペーストを充填する工程と、離型性樹脂フィルムを絶縁性基材より剥離する剥離工程とを含む配線基板用基材の製造方法であることを要旨とする。 A third feature of the present invention is a method for manufacturing a wiring board substrate in which holes formed in an insulating substrate are filled with a conductive paste, and the conductive paste protrudes in a convex shape from the surface of the insulating substrate. A step of forming a release resin film having a metal layer on one surface of the insulating substrate and a conductor layer for forming a circuit pattern on the other surface of the insulating substrate; Using a releasable resin film with a metal layer on the surface as a masking film, forming a hole in the insulating substrate, removing smear remaining in the hole, and removing the metal layer and the oxide film on the surface of the hole The gist of the present invention is a method for producing a substrate for a wiring board, including a step of performing, a step of filling a hole with a conductive paste, and a peeling step of peeling the release resin film from the insulating substrate.
第3の特徴に係る配線基板用基材の製造方法によると、離型性樹脂フィルムの絶縁性基材とは反対の面に金属層を設けることにより、所望の高さの凸状ペーストを印刷不良なく形成し、層間接続信頼性を向上させることができる。 According to the method for manufacturing a wiring board substrate according to the third feature, a convex paste having a desired height is printed by providing a metal layer on the surface opposite to the insulating substrate of the releasable resin film. It can be formed without defects and the interlayer connection reliability can be improved.
本発明によると、所望の高さの凸状ペーストを印刷不良なく形成し、層間接続信頼性を向上させる配線基板用基材及び配線基板用基材の製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the convex paste of desired height can be formed without printing defect, and the manufacturing method of the base material for wiring boards which improves interlayer connection reliability, and the base material for wiring boards can be provided.
次に、図面を用いて、本発明の実施の形態を説明する。以下の面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。従って、具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the descriptions of the following aspects, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic and ratios of dimensions and the like are different from actual ones. Accordingly, specific dimensions and the like should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and ratios are included between the drawings.
(配線基板用基材の構成)
本実施形態に係る配線基板用基材は、図1に示すように、絶縁性基板2の一方の面に、離型性樹脂フィルム4を備える。又、絶縁性基板2の他方の面に、回路パターン形成のための導体層1を備える。又、離型性樹脂フィルム4の絶縁性基材2とは反対の面には、金属層3が設けられている。
(Configuration of substrate for wiring board)
As shown in FIG. 1, the substrate for a wiring board according to this embodiment includes a
絶縁性基材2は、ガラスエポキシプリプレグや熱可塑性ポリイミドフィルム、熱硬化機能を付与された熱可塑性ポリイミドフィルム等により、リジットタイプあるいはフレキシブルタイプに構成されている。
The
離型性樹脂フィルム4は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフィニレンサルファイト、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂などのプラスチックフィルムを用いることができる。
The
金属層3は、導体層1と同種の金属、例えば銅箔により構成される。又、金属層3は、厚さ600Å以下の薄膜として形成される。又、金属層3の離型性樹脂フィルム4に対する貼付は、離型性樹脂フィルム4へ金属をスパッタすることによって行ってもよく、ポリ酢酸ビニルやアクリル酸エステル等の熱可塑性樹脂による接着剤によって行ってもよい。
The metal layer 3 is made of the same kind of metal as the
(配線基板用基材の製造方法)
次に、本実施形態に係る配線基板用基材の製造方法について、図2及び図3を用いて説明する。
(Manufacturing method of substrate for wiring board)
Next, the manufacturing method of the base material for wiring boards which concerns on this embodiment is demonstrated using FIG.2 and FIG.3.
まず、図2(a)に示すように、絶縁性基板2の一方の面に、表面に金属層3を設けた離型性樹脂フィルム4を、また絶縁性基板2の他方の面に、回路パターン形成のための導体層1を形成する。離型性樹脂フィルム4のラミネーションは、ロールラミネータ、平行平板のプレスなどの手法を用いることができる。又、これらの手法を真空中で実施するようにしてもよい。
First, as shown in FIG. 2A, a
次に、図2(b)に示すように、導体層の回路パターン1A及び小径孔11と、金属層3のマスク孔13とを化学的エッチング法によって同一エッチング方法によって、同一工程で形成する。エッチャントには塩化第二鉄系水溶液を使用してもよく、塩化第二銅系水溶液や、アルカリエッチャントを使用することによっても加工できる。ここで、金属層3と導体層1のパターンは、相互に位置合わせを実施する必要がある。この位置合わせは、エッチング工程前に、フォトリソグラフィーによって両面のアライメントをとっている。
Next, as shown in FIG. 2B, the
次に、図2(c)に示すように、レーザ加工により、離型性樹脂フィルム4にマスク孔を形成する。次に、離型性樹脂フィルム4の開口部、即ち、マスク孔をコンフォーマルマスクとして、レーザ光照射によって、絶縁性基材2の孔(バイアホール)5を形成する。レーザ光としては、炭酸ガスレーザやエキシマレーザが使用できる。その他、化学的エッチング、プラズマエッチングによっても孔5を形成することができる。
Next, as shown in FIG. 2C, a mask hole is formed in the
次に、孔5内に残存したスミア(有機汚染物)を除去するデスミア処理を実施する。デスミア処理は、例えば、アルゴンガスを使用した常圧プラズマを照射することにより、行われる。
Next, the desmear process which removes the smear (organic contaminant) which remained in the
次に、図3(a)に示すように、金属層3及び孔5表面の酸化膜を除去するソフトエッチングを行う。金属層3及び酸化膜の除去には、塩酸、硫酸などの水溶液を用いることができる。
Next, as shown in FIG. 3A, soft etching for removing the oxide film on the surfaces of the metal layer 3 and the
次に、図3(b)に示すように、スキージングによる印刷法によって、孔5に導電性ペースト6を充填する。導電性ペーストとしては、銅ペーストの他、銀ペースト、カーボンペースト、はんだペースト、はんだ等、流動性を有する導電物であれば、どれでも使用できる。その場合、導電性ペーストの粘度、チキソ性に応じて小径孔11の孔径や孔形状を変更することができる。
Next, as shown in FIG. 3B, the
次に、図3(c)に示すように、離型性樹脂フィルム4を絶縁性基材2より剥離することにより、導電性ペースト6を絶縁性基材2の表面より凸状に突出させることができる。
Next, as shown in FIG. 3C, the
このようにして製造された配線基板用基材を数層重ね合わせ、位置合わせを施した後に、加熱加圧して圧着することで、IVH基板を製造することができる。 An IVH substrate can be manufactured by stacking and aligning several layers of the substrate for a wiring substrate manufactured as described above, aligning the substrates, and then applying pressure by heating and pressing.
(作用及び効果)
特許文献1に記載されている配線基板用基材において、デスミア処理を行った場合、図4に示すように、離型性樹脂フィルム4の一部4’もエッチングされてしまい、エッチングレートのばらつきによって、離型性樹脂フィルム4の厚さに面内ばらつきが生じていた。
(Function and effect)
When the desmear treatment is performed on the wiring board base material described in
又、特許文献2に記載されている配線基板用基材において、スキージングによる印刷法によって、導電性ペーストを充填する場合、図5に示すように、マスキング用金属箔7によってスキージ8が削られてしまい、その削りカスやスキージ8の傷によって印刷不良が生じていた。
In addition, in the wiring board base material described in
これに対して、本実施形態に係る配線基板用基材では、離型性樹脂フィルム4の絶縁性基材2とは反対の面に金属層3が設けられているため、孔開け加工時に発生したスミアなどを除去する工程で、離型性樹脂フィルム4がエッチングされることがない。このため、凸状ペーストの高さが低くなったりばらついたりすることを抑制することができる。又、凸状ペーストの高さが所望の高さに維持されるため、孔への充填密度も安定させることができ、層間接続信頼性が向上する。
On the other hand, in the wiring board base material according to the present embodiment, the metal layer 3 is provided on the surface opposite to the insulating
又、導電性ペースト6を充填する際には、基材表面の金属層3が除去されているため、スキージが削られることがなく、削りカスやスキージの傷による印刷不良の発生を抑制することができる。
Further, when the
更に、本実施形態に係る配線基板用基材において、金属層3は、導体層1と同種の金属により構成することにより、金属層3の孔開けのためのエッチングと、導体層1の回路パターン形成のための化学エッチングとを、同一工程で行うことが可能となる。このため、工程数の削減を図ることができる。
Furthermore, in the wiring board substrate according to the present embodiment, the metal layer 3 is made of the same kind of metal as the
(その他の実施形態)
本発明は上記の実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
(Other embodiments)
Although the present invention has been described according to the above-described embodiments, it should not be understood that the descriptions and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.
例えば、上記の実施形態において、絶縁性基板2に開けた孔5は、有底孔の形状を有するとして説明したが、貫通孔でも構わない。
For example, in the above embodiment, the
又、上記の実施形態において、絶縁性基板2の一方の面に、表面に金属層3を設けた離型性樹脂フィルム4を備える配線基板用基材について説明したが、絶縁性基板2の両面に、表面に金属層3を設けた離型性樹脂フィルム4を備えても構わない。
In the above embodiment, the substrate for a wiring board provided with the
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を含むことは勿論である。従って、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。 As described above, the present invention naturally includes various embodiments not described herein. Therefore, the technical scope of the present invention is defined only by the invention specifying matters according to the scope of claims reasonable from the above description.
以下、本発明に係る配線基板用基材について、実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に示したものに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において、適宜変更して実施することができるものである。 Hereinafter, the substrate for a wiring board according to the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to those shown in the following examples, and the gist thereof is not changed. In the range, it can implement by changing suitably.
(実施例)
実施例に係る配線基板用基材は、上記実施形態において説明した製造方法に従い、レーザ加工、デスミア処理、ソフトエッチング、導電性ペースト印刷、マスキングフィルム剥離の各工程を経て、製造された。
(Example)
The substrate for a wiring board according to the example was manufactured through the steps of laser processing, desmear treatment, soft etching, conductive paste printing, and masking film peeling according to the manufacturing method described in the above embodiment.
ここで、25μm厚のポリイミドからなる絶縁性基板2の表面に、12μm厚の銅箔を貼り合わせて導体層1とした。又、回路パターンの大きさを50μm×50μmとした。金属層3としては銅を用い、厚さ600Åの銅をスパッタした離型性樹脂フィルム4を使用した。即ち、印刷用マスキングフィルムとして、表面に金属層3を設けた離型性樹脂フィルム4を用いた。又、銅をスパッタした離型性樹脂フィルム4の厚さは、20μmであった。
Here, a
又、導電性ペースト6の印刷処理は、真空度0.8Torr、スキージ圧力0.4MPa、スキージ速度20mm/secで行った。尚、金属層3として銅をスパッタしたが、この銅は、ソフトエッチング時に、導体層1である銅回路の酸化膜と同時に除去することができる。このようにして製造した配線基板用基材を2層重ね合わせ、位置合わせを施した後に加熱加圧して圧着することで、本実施例に係る評価基板を製造した。
The
(従来例1)
従来例1に係る配線基板用基材は、特許文献1に開示されたように、印刷用マスキングフィルムとして、離型性樹脂フィルムを用いた。離型性樹脂フィルムの厚さは、実施例と同様、20μmであった。その他の構成及びその他の工程は実施例と同様であり、このようにして製造した配線基板用基材を2層重ね合わせ、位置合わせを施した後に加熱加圧して圧着することで、従来例1に係る評価基板を製造した。
(Conventional example 1)
As disclosed in
(従来例2)
従来例2に係る配線基板用基材は、特許文献2に開示されたように、印刷用マスキングフィルムとして、金属箔を用いた。金属箔の厚さは、実施例と同様、20μmであった。その他の構成及びその他の工程は実施例と同様であり、このようにして製造した配線基板用基材を2層重ね合わせ、位置合わせを施した後に加熱加圧して圧着することで、従来例2に係る評価基板を製造した。
(Conventional example 2)
As disclosed in
(評価)
評価方法として、実施例、従来例1、従来例2に係る評価基板の導電性ペーストの凸形状の高さを測定し、その平均高さ及びばらつきを求めた。この結果を図6に示す。
(Evaluation)
As an evaluation method, the height of the convex shape of the conductive paste of the evaluation substrate according to Example, Conventional Example 1 and Conventional Example 2 was measured, and the average height and variation were obtained. The result is shown in FIG.
又、実施例、従来例1、従来例2に係る評価基板の導体層と導電性ペースト層との間(層間導通部)の抵抗値を測定し、その平均抵抗値及びばらつきを求めた。具体的には、冷熱サイクル試験として、−40℃で30分放置後、125℃で30分放置する処理を1サイクルとし、これを1000サイクル繰り返す熱衝撃を与えた。そして、1サイクルごとに層間導通部の抵抗値をテスタにて確認した。この結果を図7に示す。 Further, the resistance value between the conductor layer and the conductive paste layer (interlayer conductive portion) of the evaluation substrate according to the example, the conventional example 1, and the conventional example 2 was measured, and the average resistance value and the variation were obtained. Specifically, as a cooling cycle test, the treatment of leaving at −40 ° C. for 30 minutes and then leaving at 125 ° C. for 30 minutes was defined as one cycle, and a thermal shock was repeated 1000 times. And the resistance value of the interlayer conduction | electrical_connection part was confirmed with the tester for every cycle. The result is shown in FIG.
図6及び図7に示すように、従来例1に係る評価基板では、凸状ペーストの高さばらつきが大きく、抵抗値や抵抗値ばらつきも大きかった。又、従来例2に係る評価基板では、凸状ペーストの形状は良好であるが、抵抗値が高かった。実施例に係る評価基板では、凸状ペーストの形状及び抵抗値ともに良好な価を得ることができた。従って、離型性樹脂フィルムの絶縁性基材とは反対の面に金属層を設けることにより、所望の高さの凸状ペーストを印刷不良なく形成し、層間接続信頼性を向上させることができることが確認できた。 As shown in FIGS. 6 and 7, in the evaluation substrate according to Conventional Example 1, the height variation of the convex paste was large, and the resistance value and the resistance value variation were also large. In the evaluation substrate according to Conventional Example 2, the shape of the convex paste was good, but the resistance value was high. In the evaluation board | substrate which concerns on an Example, the favorable value was able to be acquired with respect to the shape and resistance value of convex paste. Therefore, by providing a metal layer on the surface opposite to the insulating substrate of the release resin film, a convex paste having a desired height can be formed without printing defects, and the interlayer connection reliability can be improved. Was confirmed.
1…導体層
1A…導体層の回路パターン
2…絶縁性基板
3…金属層
4…離型性樹脂フィルム
5…孔
6…導電性ペースト
7…マスキング用金属箔
8…スキージ
11…小径孔
13…マスク孔
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記絶縁性基板の一方の面に表面に金属層を設けた離型性樹脂フィルムを、前記絶縁性基板の他方の面に回路パターン形成のための導体層を形成する工程と、
前記表面に金属層を設けた離型性樹脂フィルムをマスキングフィルムとし、前記絶縁性基材に孔を形成する工程と、
前記孔に残存したスミアを除去する工程と、
前記金属層及び前記孔表面の酸化膜を除去する工程と、
前記孔に導電性ペーストを充填する工程と、
前記離型性樹脂フィルムを前記絶縁性基材より剥離する剥離工程と
を含むことを特徴とする配線基板用基材の製造方法。 A method of manufacturing a wiring board substrate in which a hole formed in an insulating substrate is filled with a conductive paste, and the conductive paste protrudes in a convex shape from the surface of the insulating substrate,
Forming a release resin film having a metal layer on one surface of the insulating substrate, and forming a conductor layer for forming a circuit pattern on the other surface of the insulating substrate;
A step of forming a hole in the insulating substrate, using a releasable resin film provided with a metal layer on the surface as a masking film,
Removing smear remaining in the holes;
Removing the metal layer and the oxide film on the hole surface;
Filling the holes with a conductive paste;
And a peeling step of peeling the release resin film from the insulating substrate.
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---|---|---|---|---|
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JP2018166173A (en) * | 2017-03-28 | 2018-10-25 | 日本メクトロン株式会社 | Method of manufacturing print circuit board, and protective film |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011023676A (en) * | 2009-07-21 | 2011-02-03 | Sony Chemical & Information Device Corp | Method of manufacturing printed wiring board |
JP2018166173A (en) * | 2017-03-28 | 2018-10-25 | 日本メクトロン株式会社 | Method of manufacturing print circuit board, and protective film |
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