KR100752023B1 - Method for manufacturing Rigid-flexible Printed Circuit Board - Google Patents

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KR100752023B1 KR1020060012610A KR20060012610A KR100752023B1 KR 100752023 B1 KR100752023 B1 KR 100752023B1 KR 1020060012610 A KR1020060012610 A KR 1020060012610A KR 20060012610 A KR20060012610 A KR 20060012610A KR 100752023 B1 KR100752023 B1 KR 100752023B1
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Abstract

본 발명은 리지드-플렉서블 기판의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 외층 동판 중에서 플렉서블 기판부분의 두께를 리지드 기판 부분의 두께와 다르게 하여 회로패턴을 형성함으로 미세회로구현을 용이하게 하고, 또한 이후 공정에서의 불량을 방지하는 리지드-플렉서블 기판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a rigid-flexible substrate, and in particular, the circuit pattern is formed by varying the thickness of the flexible substrate portion from the thickness of the rigid substrate portion in an outer layer copper plate, thereby facilitating microcircuit implementation, and in subsequent steps. The present invention relates to a method of manufacturing a rigid-flexible substrate that prevents a defect.

또한, 본 발명에 따르면 회로패턴이 형성되어있는 폴리이미드 베이스 기판의 플렉서블 기판 영역에 회로패턴을 보호하기 위한 폴리이미드 필름을 성형하고, 리지드 영역에는 프리프레그를 형성한 후, 베이스 동판을 적층, 부분에칭 하여 리지드 영역과 플렉서블 영역의 두께가 다른 베이스 동판을 형성하고 리지드 영역에 외층 회로패턴을 형성하는 리지드-플렉서블 기판의 제조방법이 제공된다.According to the present invention, a polyimide film for protecting a circuit pattern is formed in a flexible substrate region of a polyimide base substrate on which a circuit pattern is formed, and a prepreg is formed in a rigid region, and then a base copper plate is laminated and partially formed. There is provided a method of manufacturing a rigid-flexible substrate by etching to form a base copper plate having a different thickness between the rigid region and the flexible region, and forming an outer layer circuit pattern in the rigid region.

리지드-플렉서블 기판, 플라잉 테일 타입, 부분 에칭, 미세회로 Rigid-Flexible Substrates, Flying Tail Type, Partial Etching, Microcircuits

Description

리지드-플렉서블 기판의 제조 방법{Method for manufacturing Rigid-flexible Printed Circuit Board}Method for manufacturing rigid-flexible substrate {Method for manufacturing Rigid-flexible Printed Circuit Board}

도 1a 내지도 1h는 종래의 플라잉 테일 타입의 리지드-플렉서블 기판의 제조방법을 도시한 공정도.1A to 1H are process drawings showing a method for manufacturing a rigid-flexible substrate of a conventional flying tail type.

도 2a 내지도 2o는 본 발명에 따른 리지드-플렉서블 기판의 제조방법을 도시한 공정도.2A to 2O are process diagrams illustrating a method of manufacturing a rigid-flexible substrate according to the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

110 : 폴리이미드 동박적층판 110a : 베이스 기판
111 : 폴리이미드층 112 : 동박층 112a : 내층 회로패턴 120 : 에칭 레지스터 패턴
110: polyimide copper clad laminate 110a: base substrate
111 polyimide layer 112 copper foil layer 112a inner layer circuit pattern 120 etching resist pattern

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130 : 폴리이미드 필름 140 : 프리프레그130: polyimide film 140: prepreg

150 : 베이스 동판 160 : 에칭 레지스터
170 : 관통홀 180 : 도통홀 190 : 동도금층 200 : 외층동판 210 : PSR 잉크
150: base copper plate 160: etching resistor
170: through hole 180: through hole 190: copper plated layer 200: outer layer copper plate 210: PSR ink

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본 발명은 리지드-플렉서블 기판의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 외층 동판 중에서 플렉시블 기판부분의 두께를 리지드 기판 부분의 두께와 다르게 하여 미세회로구현을 용이하게 하고, 또한 이후 공정에서의 불량을 방지하는 리지드-플렉서블 기판의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a rigid-flexible substrate, and in particular, the thickness of the flexible substrate portion in the outer layer copper plate is different from the thickness of the rigid substrate portion to facilitate microcircuit implementation and also to prevent defects in subsequent processes. It relates to a method for producing a flexible substrate.

리지드-플렉서블(Rigid-Flex) 기판은 동적 접합이나 3차원 회로 구현을 위한 유연성(Flexibility)이 요구되는 핸드폰용 HHP(hand held phone)의 메인과 디스플레이, 디지털 스틸 카메라(DSC;Digital Still Camera), 디지털 비디오 카메라(Digital Video Camera), 디브이디(DVD;Digital Versatile Disc), 피디에이(PDA;Personal Digital Assistants), 개인용 컴퓨터(PC;Personal Computer) 등에 사용되는 기판이다.Rigid-Flex substrates are the mains and displays of hand held phones (HHPs) for mobile phones that require flexibility for dynamic bonding or three-dimensional circuits, digital still cameras (DSCs), A substrate used for a digital video camera, a digital versatile disc (DVD), a personal digital assistant (PDA), a personal computer (PC), and the like.

이러한 리지드-플렉서블 기판은 리지드 보드와 플렉서블 보드가 추가적인 커넥터(Connector) 없이 구조적으로 복합 결합하여 커넥터(Connector)에서 발생하는 노이즈(Noise)를 감소시킨다.Such a rigid-flexible board reduces the noise generated in the connector by combining the rigid board and the flexible board structurally without additional connectors.

또한, 리지드-플렉서블 기판은 부품소자들이 실장 되는 리지드 기판 부분의 강도를 향상시킴으로써 부품 실장성을 극대화할 수 있으며, 레이저 비어 홀(Laser Via Hole)을 사용하여 실장 밀도를 높이고 있다. 인쇄회로 기판 관련 기술에 있어서 발전의 추세를 고려하면 기존 멀티 플렉스(Multi-Flex)의 단점인 실장성, 실장 밀도 저하를 향상 시킨 리지드-플렉시블(Rigid-Flex) 기판으로의 전환이 가속화될 것으로 전망된다.In addition, the rigid-flexible substrate can maximize component mountability by improving the strength of the rigid substrate portion in which the component elements are mounted, and increase the mounting density by using a laser via hole. Considering the development trend in printed circuit board technology, the transition to rigid-flex substrates, which improves the mountability and deterioration of mounting density, which are disadvantages of the existing multiplex, is expected to be accelerated. do.

이와 같은 리지드-플렉서블 기판은 가장 일반적인 리지드-플렉서블-리지드 기판 형태, 리지드-플렉서블 기판 형태(플라잉 테일 타입(Flying Tail Type)) 등의 구성형태로 이루어진다.Such a rigid-flexible substrate has a configuration form such as the most common rigid-flexible-rigid substrate form and a rigid-flexible substrate form (Flying Tail Type).

이하, 도 1a내지 도 1h에서 종래 기술에 의한 플라잉 테일 타입의 리지드-플렉스블 기판의 제조 공정에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a manufacturing process of a flying tail type rigid-flexible substrate according to the prior art will be described in detail with reference to FIGS. 1A to 1H.

도 1a를 참조하면 폴리이미드층(11)과 동박 층(12)으로 구성된 폴리이미드 동박적층판(10)의 동박 층(12)에 대한 사진 식각 공정을 수행하여 소정 형상의 내층 회로패턴을 형성한다.Referring to FIG. 1A, a photolithography process is performed on the copper foil layer 12 of the polyimide copper clad laminate 10 including the polyimide layer 11 and the copper foil layer 12 to form an inner layer circuit pattern having a predetermined shape.

이후, 도 1b를 참조하면 폴리이미드 동박적층판(10) 중에서 플렉서블 기판 영역이 형성될 일부분에 형성된 내층 회로패턴을 외부 환경으로부터 보호하기 위하여 폴리이미드 필름(20)을 플렉서블 기판 영역에 맞추어 가공한다.Subsequently, referring to FIG. 1B, the polyimide film 20 is processed according to the flexible substrate region in order to protect an inner circuit pattern formed on a portion of the polyimide copper clad laminate 10 from which the flexible substrate region is to be formed.

그리고 가공된 폴리이미드 필름(20)에 접착제를 개재하여 내층 회로패턴이 형성된 플렉서블 기판 영역의 일부분에 부착시킨 후, 수작업에 의하여 인두로 폴리이미드 필름(20)을 가접합 시키는 폴리이미드 필름 성형을 수행한다.After attaching the processed polyimide film 20 to a part of the flexible substrate region having the inner layer circuit pattern formed thereon through an adhesive, polyimide film molding is performed in which the polyimide film 20 is temporarily bonded by iron by hand. do.

상술한 바와 같이 폴리이미드 필름(20)을 이용하여 플렉서블 기판 영역에 대한 폴리이미드 필름 성형을 수행한 후, 도 1c에 도시된 바와 같이 나머지 부분에 레지스터 커버(Resistor Cover)(30)를 형성한다.After the polyimide film molding is performed on the flexible substrate region using the polyimide film 20 as described above, a resistor cover 30 is formed in the remaining portion as shown in FIG. 1C.

레지스터 커버(30)는 외부 단자 및 실장 패드를 위하여 노출된 내층 회로패턴을 외부 환경으로부터 보호하기 위한 것으로 내열 테이프나 필라블 잉크(Peelable Ink)가 사용되고, 폴리이미드 필름과는 달리 기판이 완성되면 제거된다. The resistor cover 30 is used to protect the exposed inner circuit patterns from the external environment for external terminals and mounting pads. Heat resist tape or peelable ink is used. Unlike the polyimide film, the resistor cover 30 is removed when the substrate is completed. do.

이후, 도 1d를 참조하면 폴리이미드 동박적층판(10) 중에서 리지드 기판 영역이 형성될 부분에 기계적 강도 및 접착력을 제공하기 위하여 프리프레그(40) 및 베이스 동판(50)을 베이스 기판 상하에 서로 대향 하도록 적층 시킨다.Subsequently, referring to FIG. 1D, the prepreg 40 and the base copper plate 50 face each other above and below the base substrate in order to provide mechanical strength and adhesion to a portion of the polyimide copper clad laminate 10 where the rigid substrate region is to be formed. Laminated.

상술한 바와 같이 프리프레그(40) 및 베이스 동판(50)을 적층 시킨 후, 프레스를 이용하여 압축 성형하여 회로패턴이 프리프레그에 함침된 형태로 구성된 리지드 기판 영역과 회로 패턴이 폴리이미드 필름에 피복된 형태로 구성된 플렉서블 기판 영역을 형성한다. As described above, after the prepreg 40 and the base copper plate 50 are laminated, a rigid substrate region and a circuit pattern formed of a shape in which a circuit pattern is impregnated in the prepreg by press molding using a press are coated on the polyimide film. Forming a flexible substrate region having a predetermined shape.

이후, 도 1e를 참조하면, 기판의 내·외층 간의 도통 접속을 위한 도통 홀(60)을 형성한 후, 베이스 동판(50) 및 도통 홀(60)에 동도 금(70)을 수행하는 동시에 소정 형상의 외층 회로패턴을 형성한다. Subsequently, referring to FIG. 1E, after the conductive hole 60 is formed for the conductive connection between the inner and outer layers of the substrate, the copper plating 70 is applied to the base copper plate 50 and the conductive hole 60. An outer layer circuit pattern of a shape is formed.

여기서, 외층 회로패턴은 소정의 사진 식각 공정에 의해 이루어지며, 플렉스볼 영역의 도금 층도 함께 에칭된다.Here, the outer circuit pattern is formed by a predetermined photolithography process, and the plating layer of the flex ball region is also etched.

상술한 바와 같이 소정 형상의 외층 회로패턴을 형성한 후, 도 1g처럼 레지스터 커버(30)를 제거한다. After forming the outer layer circuit pattern of a predetermined shape as described above, the resistor cover 30 is removed as shown in FIG. 1G.

이때, 도 1f를 참조하면, 레지스터 커버가 필라블 잉크로 형성된 경우, 필라블 잉크의 제거가 용이하도록 하기 위하여 필라블 잉크를 2차 도포하여 소정의 두께를 형성한 후 제거한다. In this case, referring to FIG. 1F, when the register cover is formed of the peelable ink, the peelable ink is secondarily applied to form a predetermined thickness in order to facilitate the removal of the peelable ink and then removed.

이후, 도 1h를 참조하면 PSR 잉크 (Photo Imageable Solder Resist Mask ink)(80)를 도포 시킨 후 표면처리를 함으로써, 플렉서블 기판 영역이 폴리이미드 필름 및 레지스터 커버에 의하여 폴리이미드 필름 성형 된 플라잉 테일 타입의 리 지드-플렉서블 기판을 최종적으로 완성하였다.Subsequently, referring to FIG. 1H, by applying PSR ink (Photo Imageable Solder Resist Mask ink) 80 and performing surface treatment, a flexible tail region of a flying tail type in which a flexible substrate region is polyimide film-formed by a polyimide film and a resistor cover The rigid-flexible substrate was finally completed.

그러나 이와 같은 방식에 의하여 형성된 플라잉 테일 타입의 리지드-플렉서블 기판의 경우, 외부 단자나 실장 패드가 내층에 노출되어 있어 플렉서블 기판 영역에 내열 테이프나 필라블 잉크를 사용하여 레지스터 커버를 형성 및 제거하므로, 공정이 복잡해지고 잔사에 의한 오염 등으로 불량이 발생하여 비용이 증가하고 신뢰성이 저하되는 문제점이 발생하였다.However, in the case of a flying tail-type rigid-flexible substrate formed by this method, since an external terminal or mounting pad is exposed to the inner layer, a resist cover is formed and removed using heat-resistant tape or peelable ink in the flexible substrate region. The process was complicated and defects occurred due to contamination by residues, resulting in a problem of increased cost and reliability.

최근에는 레지스터 커버를 사용하지 않고 외층 회로패턴 형성시 플렉서블 기판 영역의 베이스 동판을 윈도우 에칭처리 함으로써, 공정 및 비용을 절감하고 오염에 의한 불량을 방지하여 신뢰성을 높이는 공정이 연구되고 있다.Recently, by etching the base copper plate of the flexible substrate region when forming an outer layer circuit pattern without using a resistor cover, a process of reducing the process and cost and preventing defects caused by contamination has been studied.

그러나 이러한 문제점을 해결하기 위해 윈도우(Window)부분의 동박을 제거하지 않는 방법을 사용시, 외층 동판을 미세회로 구현을 위해 12㎛ 이하의 동박을 사용하면 성형 및 이후 공정에서 윈도우 부분의 동박에 크랙(Crack) 및 터짐현상이 생기는 문제점이 있었다.However, in order to solve this problem, when using a method of not removing the copper foil of the window portion, and using a copper foil of 12㎛ or less to implement the microcircuit of the outer layer copper plate, cracks on the copper foil of the window portion in the molding and subsequent processes There was a problem that occurs cracks and bursting phenomenon.

또한, 디스미어(Desmear), 동도금, 회로형성 등의 공정 과정 중에 동박의 크랙 및 터짐현상과 같은 결함으로 불순물 및 처리액이 침투되어 불량 및 후공정이 불가한 문제점이 발생하였다.In addition, defects such as cracks and bursting of copper foils are impregnated during the process of desmear, copper plating, circuit formation, and the like, and impurities and the treatment liquid penetrate, thereby causing problems such as defects and post-processing.

따라서 본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 미세회로 구현을 용이하게 하는 플라잉 테일 타입의 리지드-플렉서블 기판의 제조 방법 을 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a flying tail-type rigid-flexible substrate that facilitates the implementation of a microcircuit.

또한, 본 발명은 윈도우(Window)부 동박의 찢어짐을 방지하여 공정의 높은 신뢰성을 가지는 리지드-플렉서블 기판의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Moreover, an object of this invention is to provide the manufacturing method of the rigid-flexible substrate which has the high reliability of a process by preventing the window part copper foil from tearing.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 (a) 폴리이미드 필름의 적어도 일면에 내층 회로패턴이 형성된 베이스 기판을 제공하는 단계; (b) 내층 회로패턴 중 단자부를 제외한 플렉서블 기판 영역에 폴리이미드 필름를 성형하는 단계; (c) 리지드 기판 영역에 대응하는 상기 베이스 기판 상하면에 프리프레그를 형성하고 상기 프리프레그 상면의 리지드 기판 영역 및 플렉서블 기판 영역에 대응하는 소정 두께의 외층 동판을 형성한 후 상기 외층 동판 중 리지드 기판 영역에 대응하는 부분을 얇게 만드는 제작단계; 및 (d) 상기 외층 동판의 리지드 기판 영역에 외층 회로패턴을 형성하고, 상기 외층 동판 중 상기 플렉시블 기판 영역에 대응하는 부분을 제거하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention comprises the steps of (a) providing a base substrate having an inner layer circuit pattern formed on at least one surface of the polyimide film; (b) forming a polyimide film on the flexible substrate region excluding the terminal portion of the inner circuit pattern; (c) forming a prepreg on the upper and lower surfaces of the base substrate corresponding to the rigid substrate region, forming an outer layer copper plate having a predetermined thickness corresponding to the rigid substrate region and the flexible substrate region on the upper surface of the prepreg, and then a rigid substrate region of the outer layer copper sheet Making a portion corresponding to the thin; And (d) forming an outer layer circuit pattern on the rigid substrate region of the outer layer copper plate, and removing a portion of the outer layer copper plate corresponding to the flexible substrate region.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 플라잉 테일 타입의 리지드-플렉서블 기판의 제조 방법에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a flying tail type rigid-flexible substrate according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2a 내지 도 2o는 본 발명의 일 실시예에 따른 리지드-플렉서블 기판의 제조 방법을 도시한 공정도이다.2A to 2O are process diagrams illustrating a method of manufacturing a rigid-flexible substrate according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 2a에 도시된 바와 같이, 폴리이미드층(111)과 동박 층(112)으로 구 성된 폴리이미드 동박적층판(110)을 제공한다. First, as shown in FIG. 2A, a polyimide copper clad laminate 110 including a polyimide layer 111 and a copper foil layer 112 is provided.

여기서, 폴리이미드는 고분자 소재로 내마모성, 내열성, 자기윤활성, 내크리이프성, 전기절연성 등의 뛰어날 뿐만 아니라, 진공 상태에서의 플라스마 특성이 우수해 고온고압에서 작업하기에 적합한 소재이다.Here, polyimide is a polymer material that is not only excellent in abrasion resistance, heat resistance, self-lubrication, creep resistance, electrical insulation, etc., but also excellent in plasma characteristics in a vacuum state, and thus suitable for working at high temperature and high pressure.

이후, 도 2b에 도시된 바와 같이, 동박 층(112)상에 내층 회로패턴을 형성하기 위한 에칭 레지스터 패턴(120)을 형성한다. Thereafter, as illustrated in FIG. 2B, an etching resistor pattern 120 is formed on the copper foil layer 112 to form an inner circuit pattern.

여기서, 에칭 레지스터 패턴(120)을 형성하기 위해서는 아트워크 필름에 인쇄된 회로패턴을 기판상에 전사하여야 한다. 전사하는 방법에는 여러 가지 방법이 있으나, 가장 흔히 사용되는 방법으로는 감광성의 드라이 필름을 사용하여 자외선에 의해 아트 워크 필름에 인쇄된 회로패턴을 드라이 필름으로 전사하는 방식이다.Here, in order to form the etching resist pattern 120, the circuit pattern printed on the artwork film must be transferred onto the substrate. There are various methods of transferring, but the most commonly used method is a method of transferring a circuit pattern printed on an artwork film by ultraviolet light to a dry film using a photosensitive dry film.

이때, 회로패턴이 전사된 드라이 필름은 에칭 레지스터로서 역할을 하게 되고, 드라이 필름을 에칭 레지스터로 이용하여 에칭 처리를 수행하는 경우, 도 2c에 도시된 바와 같이, 에칭 레지스터 패턴(120)이 형성되지 않은 영역의 동박 층(도 2b의 참조부호 112)이 제거되어 소정 형상의 내층 회로패턴(112a)이 형성된다. At this time, the dry film to which the circuit pattern is transferred serves as an etching register, and when the etching process is performed using the dry film as the etching register, as shown in FIG. 2C, the etching resist pattern 120 is not formed. The copper foil layer (reference numeral 112 in FIG. 2B) in the unused region is removed to form an inner circuit pattern 112a of a predetermined shape.

상술한 바와 같이 소정 형상의 내층 회로패턴(112a)이 형성된 후, 도 2d에 도시된 바와 같이, 내층 회로패턴(112a) 상에 남아있는 에칭 레지스터 패턴(120)을 제거하여 베이스 기판(110a)을 완성한다. As described above, after the inner circuit pattern 112a having a predetermined shape is formed, the base substrate 110a is removed by removing the etching resistor pattern 120 remaining on the inner circuit pattern 112a as shown in FIG. 2D. Complete

이후, 도 2e에 도시된 바와 같이 베이스 기판(110a) 중에서 플렉서블 기판 영역이 형성될 부분에 형성된 내층 회로패턴 중에서 외부 단자 및 실장 패드에 필요한 단자부를 제외한 회로패턴을 외부 환경으로부터 보호하기 위하여 폴리이미드 필름(130)을 플렉서블 기판 영역에 맞추어 가공한다.Thereafter, as shown in FIG. 2E, a polyimide film is used to protect a circuit pattern, excluding a terminal portion required for an external terminal and a mounting pad, from an inner circuit pattern formed on a portion where the flexible substrate region is to be formed in the base substrate 110a from an external environment. The 130 is processed in accordance with the flexible substrate region.

폴리이미드 필름(130)에 접착제를 개재하여 내층 회로패턴이 형성된 플렉서블 기판 영역의 단자부를 제외한 부분에 부착시킨 후, 수작업에 의하여 인두로 폴리이미드 필름을 가접합시킴으로써, 폴리이미드 필름 성형을 수행한다.The polyimide film molding is performed by attaching the polyimide film 130 to an area except for the terminal portion of the flexible substrate region having the inner circuit pattern formed therebetween with an adhesive, and then temporarily joining the polyimide film with the iron by hand.

이때, 플렉서블 기판 영역에 있어서 외부 단자 및 실장 패드를 위한 단자 부는 폴리이미드 필름 성형을 수행하지 않고 그대로 노출시킨다. At this time, the terminal portion for the external terminal and the mounting pad in the flexible substrate region is exposed as it is without performing polyimide film molding.

상술한 바와 같이 폴리이미드 필름(130) 성형 후, 도 2f에 도시된 바와 같이 베이스 기판(110a) 상하의 리지드 기판 영역이 형성될 부분에는 프리프레그(140)를 배열하고, 프리프레그(140) 상에는 리지드 기판 영역 및 플렉서블 기판 영역이 형성될 부분에 베이스 동판(150)을 배열한다. As described above, after forming the polyimide film 130, as shown in FIG. 2F, the prepreg 140 is arranged at the portion where the rigid substrate regions above and below the base substrate 110a are to be formed, and the rigid is formed on the prepreg 140. The base copper plate 150 is arranged at the portion where the substrate region and the flexible substrate region are to be formed.

여기서, 프리프레그(140)는 리지드 기판 영역이 형성될 부분에만 적층되도록, 플렉서블 기판 영역에 대응하는 윈도우가 형성되어 있다. 또한, 프리프레그(140)는 유리섬유에 열경화성 수지를 침투시켜 반경화상태로 만든 것으로 리지드 기판 영역에 기계적 강도를 제공할 뿐만 아니라 이후 압착시 베이스 기판(110a)과 베이스 동판(150) 사이의 접착제 역할을 할 수 있다. Here, the prepreg 140 is formed with a window corresponding to the flexible substrate region so as to be stacked only on the portion where the rigid substrate region is to be formed. In addition, the prepreg 140 is made of a semi-cured state by infiltrating the thermosetting resin into the glass fiber not only provides mechanical strength to the rigid substrate region, but also the adhesive between the base substrate 110a and the base copper plate 150 during compression Can play a role.

이때, 베이스 동판(150)은 이후, 리지드 기판 영역의 외층 회로패턴뿐만 아니라, 플렉서블 기판 영역의 단자부 보호판으로도 이용할 수 있게 윈도우가 없는 상태로 프리프레그(140) 상에 배열시킨다. At this time, the base copper plate 150 is arranged on the prepreg 140 without a window so that the base copper plate 150 can be used not only as an outer layer circuit pattern of the rigid substrate region but also as a terminal portion protection plate of the flexible substrate region.

이때, 사용 가능한 베이스 동판의 두께는 1/2oz(18㎛), 3/4oz(25㎛), 1oz(35㎛)등이 가능하다.At this time, the thickness of the base copper plate which can be used is 1/2 oz (18 micrometers), 3/4 oz (25 micrometers), 1 oz (35 micrometers), etc. are possible.

이후, 베이스 동판(150)-프리프레그(140)-베이스 기판(110a)-프리프레그(140) - 베이스 동판(150)의 형태로 배열된 각 층들을 소정의 온도와 압력을 이용하여 적층 함으로써, 내층 회로패턴(112a)이 프리프레그(140)에 함침된 형태로 구성된 리지드 기판 영역과 내층 회로패턴(112a)이 폴리이미드 필름에 피복되거나 노출된 형태의 단자부로 구성된 플렉서블 기판 영역을 형성한다. Thereafter, by laminating each layer arranged in the form of the base copper plate 150, the prepreg 140, the base substrate 110a, the prepreg 140, and the base copper plate 150 using a predetermined temperature and pressure, A rigid substrate region having an inner circuit pattern 112a impregnated in the prepreg 140 and a flexible substrate region having a terminal portion having an inner circuit pattern 112a coated or exposed on the polyimide film are formed.

이후, 도 2g에 도시된 바와 같이 베이스 동판(150)에 리지드(Rigid)기판 부분의 동판을 부분 에칭하기 위한 에칭 레지스터(160)를 도포한다.Thereafter, as shown in FIG. 2G, an etching resistor 160 is applied to the base copper plate 150 to partially etch the copper plate of the rigid substrate portion.

여기서, 리지드(Rigid)기판 부분의 베이스 동판(150)만을 부분 에칭하기 위해서 리지드 영역의 에칭 레지스터(160)를 도 2h에 도시된 바와 같이 제거한다. Here, in order to partially etch only the base copper plate 150 of the rigid substrate portion, the etching resist 160 of the rigid region is removed as shown in FIG. 2H.

도 2i에 도시된 바와 같이, 2㎛ 내지 12㎛ 두께로 부분 에칭하여 리지드(Rigid) 기판 영역의 동박의 두께와 플렉서블(Flexible) 기판 영역의 두께가 다른 베이스 동판(150)을 형성한 후, 도 2j에 도시된 바와 같이, 플렉서블 기판 영역 상부에 도포 된 에칭 레지스터(160)를 제거한다.As shown in FIG. 2I, after partially etching to a thickness of 2 μm to 12 μm to form a base copper plate 150 having a thickness different from that of the copper substrate in the rigid substrate region and the thickness of the flexible substrate region, FIG. As shown in 2j, the etching resist 160 applied over the flexible substrate region is removed.

도 2k에 도시된 바와 같이, 각 층들을 압착한 후 기판의 내·외층 간의 도통 접속을 위한 관통홀(170)을 형성한다.As shown in FIG. 2K, after the respective layers are compressed, a through hole 170 is formed for the conductive connection between the inner and outer layers of the substrate.

이때, 관통홀(170)은 CNC 드릴링 공정을 리지드 기판 영역의 소정 위치에 수행하여 형성함으로써 기판을 관통하는 관통홀이 형성된다.At this time, the through hole 170 is formed by performing a CNC drilling process at a predetermined position of the rigid substrate region to form a through hole penetrating the substrate.

이후, 도 2l에 도시된 바와 같이 관통홀(170) 및 베이스 동판(150) 상에 동도금을 수행하여, 동도금층(190)을 형성한다, 이때 관통홀(170)은 이러한 내부 도금층(190)에 의해 도통홀(180)이 된다. Thereafter, as shown in FIG. 2L, copper plating is performed on the through hole 170 and the base copper plate 150 to form a copper plating layer 190. In this case, the through hole 170 is formed on the inner plating layer 190. As a result, the through hole 180 is formed.

그리고, 베이스 동판(150) 상에 형성된 동도금층(190)은 베이스 동판(150)과 함께 외층 동판(200)을 형성한다. The copper plating layer 190 formed on the base copper plate 150 forms an outer layer copper plate 200 together with the base copper plate 150.

상술한 바와 같이, 동도금을 수행하여 동도금층을 형성한 후 도 2m에 외층동판(200)상에 드라이 필름(미도시)을 이용하여 외층 회로패턴을 형성한다.As described above, after the copper plating is performed to form the copper plating layer, an outer circuit pattern is formed on the outer copper plate 200 using a dry film (not shown) in FIG. 2M.

이때, 플렉시블 기판영역에 대응하는 베이스 동판(150) 및 동도금층(190)은 이후 공정에서 최종적으로 제거되기 때문에, 리지드 기판 영역에만 외층 회로패턴을 형성하면 된다. In this case, since the base copper plate 150 and the copper plating layer 190 corresponding to the flexible substrate region are finally removed in a subsequent process, the outer circuit pattern may be formed only in the rigid substrate region.

그리고, 이처럼 외층동판(200)에서 리지드 기판 영역에 해당하는 영역에만 외층 패턴을 형성시 리지드 기판 영역에 대응하는 베이스 동판(150)과 달리 두께가 12㎛ 이상으로 에칭 공정에 의하여 노출된 단자부가 손상되지 않도록 보호한다.In addition, unlike the base copper plate 150 corresponding to the rigid substrate region when the outer layer pattern is formed only in the region corresponding to the rigid substrate region in the outer layer copper plate 200, the terminal portion exposed by the etching process has a thickness of 12 μm or more. Protect against

또한, 도 2m에서와 같이 플렉서블 기판 영역에 대응하는 베이스 동판(150) 및 동도금층(190)을 이후 공정에서 용이하게 제거하기 위하여 플렉서블 기판 영역에 대응하는 베이스 동판(150) 및 동 도금층(190)을 실제 플렉서블 기판 영역보다 약 0.05㎜ 내지 5㎜ 정도 크게 남겨둔다. 이렇게 함으로, 플렉서블 기판 영역과 리지드 기판 영역의 경계에 대응하는 베이스 동판(150) 및 동 도금층(190)의 에지(Edge) 부분에 CNC 드릴 가공 또는 목형 가공을 하여 베이스 동판(150) 및 동 도금층(190)을 용이하게 제거할 수 있다.In addition, the base copper plate 150 and the copper plating layer 190 corresponding to the flexible substrate region in order to easily remove the base copper plate 150 and the copper plating layer 190 corresponding to the flexible substrate region in a subsequent process as shown in FIG. 2M. Is left about 0.05 mm to 5 mm larger than the actual flexible substrate area. In this way, the base copper plate 150 and the copper plated layer may be subjected to CNC drill or wood processing on the edge portions of the base copper plate 150 and the copper plated layer 190 corresponding to the boundary between the flexible substrate region and the rigid substrate region. 190 can be easily removed.

이후, 도 2n와 같이 외부 단자 및 실장 패드를 위하여 노출된 단자부를 보호하기 위하여 남겨둔 플렉서블 기판 영역에 대응하는 베이스 동판(150) 및 동 도금층(190)을 수작업 또는 자동화 기계설비를 이용하여 물리적인 방법으로 제거한 후, 도 2o과 같이 외층 회로패턴을 보호하는 동시에 솔더링 공정에서 외층 회로패턴 사이에 솔더 브리지 현상을 방지하기 위한 PSR 잉크(210)를 도포시키고 표면처리를 함으로써, 미세회로 구현이 가능한 플라잉 테일 타입의 리지드-플렉서블 기판을 최종적으로 완성한다.Thereafter, as shown in FIG. 2N, the base copper plate 150 and the copper plating layer 190 corresponding to the flexible substrate area left to protect the exposed terminal parts for the external terminal and the mounting pad are physically manufactured by using manual or automated machinery. After the removal, the protective tail is applied to the PSR ink 210 to prevent the solder bridge phenomenon between the outer circuit patterns in the soldering process while protecting the outer circuit patterns as shown in FIG. The type rigid-flexible substrate is finally completed.

이상과 같이, 본 발명의 리지드-플렉서블 기판의 제조 방법에 따르면, 기존의 플렉서블 기판 영역의 베이스 동박을 윈도우 에칭처리하여 노출된 단자부를 보호하는 방식을 사용한 대신, 외층 동판 형성 후 리지드 기판 부분의 외층 동판 표면을 부분 에칭하여 동박의 두께를 줄여 리지드 기판에 미세회로를 용이하게 구현할 수 있도록 하는 효과가 있다.As described above, according to the manufacturing method of the rigid-flexible substrate of the present invention, instead of using a method of protecting the exposed terminal portion by window etching the base copper foil of the existing flexible substrate region, the outer layer of the rigid substrate portion after forming the outer layer copper plate Partial etching of the copper plate surface has the effect of reducing the thickness of the copper foil to easily implement the microcircuit on the rigid substrate.

또한, 본 발명에 따르면, 플렉시블 기판 부분의 동박의 두께를 두껍게 함으로써 이후 공정에서 동박 크렉(Crack) 등으로 인해 생기는 오염, 회로패턴 손상 등의 불량을 방지하여 신뢰성을 크게 증가시키는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, by thickening the thickness of the copper foil of the flexible substrate portion, there is an effect of preventing the defects such as contamination caused by copper cracks in the subsequent process, damage to the circuit pattern, etc., thereby greatly increasing reliability.

여기서, 상술한 본 발명에서는 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경할 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Herein, the present invention described above has been described with reference to preferred embodiments, but those skilled in the art can variously modify the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. It will be appreciated that this can be changed.

Claims (4)

(a) 폴리이미드 필름의 적어도 일면에 내층 회로패턴이 형성된 베이스 기판을 제공하는 단계;(a) providing a base substrate having an inner circuit pattern formed on at least one surface of a polyimide film; (b) 내층 회로패턴 중 단자부를 제외한 플렉서블 기판 영역에 폴리이미드 필름를 성형하는 단계;(b) forming a polyimide film on the flexible substrate region excluding the terminal portion of the inner circuit pattern; (c) 리지드 기판 영역에 대응하는 상기 베이스 기판 상하면에 프리프레그를 형성하고 상기 프리프레그 상면의 리지드 기판 영역 및 플렉서블 기판 영역에 대응하는 소정 두께의 외층 동판을 형성한 후 상기 외층 동판 중 리지드 기판 영역에 대응하는 부분을 얇게 만드는 단계; 및(c) forming a prepreg on the upper and lower surfaces of the base substrate corresponding to the rigid substrate region, forming an outer layer copper plate having a predetermined thickness corresponding to the rigid substrate region and the flexible substrate region on the upper surface of the prepreg, and then a rigid substrate region of the outer layer copper sheet Making the portion corresponding to the thinner; And (d) 상기 외층 동판의 리지드 기판 영역에 외층 회로패턴을 형성하고, 상기 외층 동판 중 상기 플렉시블 기판 영역에 대응하는 부분을 제거하는 단계를 포함하여 이루어진 리지드-플렉서블 기판의 제조방법.(d) forming an outer layer circuit pattern on the rigid substrate region of the outer layer copper plate, and removing a portion of the outer layer copper plate corresponding to the flexible substrate region. 제 1항에 있어서, 상기 제 (c)단계 이후에, The method of claim 1, wherein after step (c), (e) 상기 베이스 기판과 프리프레그 및 외층 동판을 관통하는 관통홀을 형성하는 단계; 및(e) forming a through hole penetrating the base substrate, the prepreg and the outer layer copper plate; And (f) 상기 관통홀과 외층동판에 도금층을 형성하여, 상기 관통홀이 도통홀이 되고 상기 외층 동판이 표면에 형성된 도금층을 포함하도록 하는 단계를 포함하여 이루어진 리지드-플렉서블 기판의 제조방법.(f) forming a plating layer in the through hole and the outer layer copper plate, wherein the through hole is a through hole and the outer layer copper plate includes a plated layer formed on a surface thereof. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제 (c)단계는Step (c) is (g) 상기 리지드 기판영역에 대응하는 상기 베이스 기판 상하면에 프리프레그를 형성하고 상기 프리프레그 상면에 리지드 기판 영역 및 플렉서블 영역에 소정 두께의 상기 외층 동판을 형성하는 단계; 및(g) forming a prepreg on the upper and lower surfaces of the base substrate corresponding to the rigid substrate region, and forming the outer layer copper plate having a predetermined thickness on the rigid substrate region and the flexible region on the upper surface of the prepreg; And (h) 상기 외층 동판 중 리지드 영역에 대응하는 부분을 얇게 에칭하는 단계를 포함하여 이루어진 리지드-플렉서블 기판의 제조방법.(h) thinly etching a portion of the outer layer copper plate corresponding to the rigid region. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 제 (h)단계는;(H) the step; (i) 상기 외층 동판 상면에 에칭 레지스터를 도포하는 단계;(i) applying an etching resistor to the upper surface of the outer layer copper plate; (j) 상기 리지드 기판 영역에 대응하는 상기 외층 동판 상면에 도포 된 상기 에칭 레지스터를 제거하는 단계; 및(j) removing the etching resistor applied to the upper surface of the outer layer copper plate corresponding to the rigid substrate region; And (k) 상기 외층 동판 중 리지드 기판에 해당하는 영역을 부분 에칭하는 단계를 포함하여 이루어진 리지드-플렉서블 기판의 제조방법.(k) partially etching the region of the outer layer copper plate corresponding to the rigid substrate.
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