JP2005347429A - Manufacturing method of printed circuit board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子部品を搭載するプリント基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board on which electronic components are mounted.
プリント基板には、電子デバイス等の部品を搭載する際のハンダの不良を防いだり、プリント基板の表面回路を外部環境から保護するために、高分子皮膜としてソルダレジストが最終層に施される。この層は絶縁材料によって形成されることから、電子デバイス部品を搭載する位置にビアを形成して回路パターンを露出させ、さらにその部分を保持するために仕上げ処理として、無電解ニッケル・金メッキ加工が施されていた。 On the printed board, a solder resist is applied to the final layer as a polymer film in order to prevent solder defects when mounting components such as electronic devices and to protect the surface circuit of the printed board from the external environment. Since this layer is made of an insulating material, vias are formed at the positions where electronic device components are to be mounted to expose the circuit pattern, and electroless nickel / gold plating is used as a finishing process to retain that portion. It was given.
近年、搭載する電子デバイスの高集積化が進み、プリント基板にもパターンの微細加工が要求されるようになり、従来スクリーン印刷によるソルダレジストのパイプターニングが行われてきたが、現在では写真法による焼き付け技術を用いたホトソルダレジストによるパターニングが多く使用されるようになってきた。しかしながら、さらにソルダレジストの高精度、高解像度の要求が高まり、ソルダレジストをレーザで穴加工し、ニッケル・金メッキ加工を行う技術も検討されてきている。しかし、レーザ加工をする際には、スミアと呼ばれる溶融樹脂残渣が発生し、これが穴底や穴の側面に付着するため、デスミア処理と呼ばれるスミア除去を行わないと、ニッケル・金メッキのつきまわりが悪くなるという不具合が生じる。 In recent years, electronic devices to be mounted have been highly integrated, and fine processing of patterns has been required for printed circuit boards. Conventionally, solder resist pipe turning has been performed by screen printing. Patterning by a photo solder resist using a printing technique has been frequently used. However, the demand for higher accuracy and higher resolution of solder resists has further increased, and a technique for drilling a solder resist with a laser and performing nickel / gold plating has been studied. However, when laser processing is performed, a molten resin residue called smear is generated, which adheres to the bottom of the hole and the side of the hole. Therefore, if smear removal called desmear treatment is not performed, nickel / gold plating will run around. The problem of getting worse occurs.
このため、特許文献1に開示される多層基板のスミア除去方法は、多層基板の絶縁樹脂層にレーザ加工により形成されたインナービアホール内に残留するスミアを除去するために、酸素ガスを含んだプラズマ発生ガスを用いて多層基板のインナービアホールをプラズマ処理して絶縁樹脂層の表面を親水性化した後、酸化剤を含んだデスミア水溶液を用いて湿式処理により前記スミアを除去するようにしたものである。
For this reason, the smear removing method for the multilayer substrate disclosed in
また、特許文献2に開示されるデスミア処理方法は、プラズマエッチング等のエッチングによってビア内に残存する樹脂残渣を除去するプラズマエッチングに先立って、ビルドアップ基板を所定の温度で加熱し、ビア内における樹脂残渣の分布を均一化して、処理時間の短縮を図ったものである。
特許文献1に開示されるような湿式(ウェット方式)のデスミア処理では、酸化剤を含んだデスミア水溶液を用いることから、プリント基板の基材によっては表面が荒れる等の不具合が生じる場合があり、また環境問題にも課題が生じる。一方、特許文献2に開示されるドライ方式では、レーザで加工した穴(レーザビア)のデスミア処理の際にソルダレジストを削ってしまい、ソルダレジスト中にフィラーが発生する等外観不良を生じる不具合がある。
In the wet (wet process) desmear treatment as disclosed in
このため、この発明は、ソルダレジストの外観不良を生じることなく、プラズマデスミア処理ができ、ニッケル・金メッキ加工を良好に行うことができるプリント基板の製造方法を提供するものである。 For this reason, this invention provides the manufacturing method of the printed circuit board which can perform a plasma desmear process and does nickel / gold plating processing satisfactorily, without producing the external appearance defect of a soldering resist.
したがって、この発明は、有機材料からなる層間絶縁膜、該層間絶縁膜上に導電体材料からなる回路パターン及び前記層間絶縁膜及び回路パターン上に形成されるソルダレジストからなるプリント基板の電子デバイス部品の搭載位置に回路パターンを露出させるレーザビア加工工程と、該レーザビア加工によって露出した回路パターンと前記電子デバイス部品とを電気的に接続する仕上げ処理工程とを少なくとも有するプリント基板の製造方法において、前記レーザビア加工工程と前記仕上げ処理工程の間に、前記ソルダレジスト表面全体にカバーフィルムを貼り付けるカバーフィルム貼り付け工程と、該カバーフィルム貼り付け工程後、プラズマによるデスミア処理を行うプラズマデスミア処理工程と、前記カバーフィルムを除去する除去工程とを設けたことにある。 Accordingly, the present invention provides an electronic device component for a printed circuit board comprising an interlayer insulating film made of an organic material, a circuit pattern made of a conductor material on the interlayer insulating film, and a solder resist formed on the interlayer insulating film and the circuit pattern. In the method of manufacturing a printed circuit board, the laser via processing step of exposing a circuit pattern at a mounting position of the circuit board and a finishing processing step of electrically connecting the circuit pattern exposed by the laser via processing and the electronic device component are provided. Between the processing step and the finishing treatment step, a cover film attaching step for attaching a cover film to the entire surface of the solder resist, a plasma desmear treatment step for performing a desmear treatment with plasma after the cover film attaching step, Removal to remove cover film Lies in the fact that provided a degree.
プラズマデスミア処理工程の前に、ソルダレジスト表面全体にカバーフィルムを貼り付けることによって、プラズマからソルダレジスト表面を保護することができると共に、ビア上のカバーフィルムは、ソルダレジスト上のカバーフィルムよりも削り取られる速度が非常に速いため、ビア上のカバーフィルムが取り除かれた後、ビア内のスミア除去されるものである。 Before the plasma desmear process, the solder resist surface can be protected from the plasma by applying the cover film to the entire solder resist surface, and the cover film on the via is more scraped than the cover film on the solder resist. Since the speed at which the cover is formed is very high, smear in the via is removed after the cover film on the via is removed.
また、前記除去工程は、カバーフィルムを剥がす工程と、カバーフィルムを剥がした後に残る接着剤を除去するオゾン処理工程とによって構成されることが望ましい。これによって、ソルダレジスト表面に接着剤が残った場合には、オゾン処理装置によってソルダレジスト表面を損傷することなく接着剤の除去が可能となるものである。 Moreover, it is desirable that the removing step includes a step of peeling the cover film and an ozone treatment step of removing the adhesive remaining after the cover film is peeled off. Thus, when the adhesive remains on the solder resist surface, the adhesive can be removed without damaging the solder resist surface by the ozone treatment apparatus.
さらに、前記カバーフィルムは、片面に接着手段を具備する樹脂系フィルムであることが望ましい。特に樹脂系フィルムとしては、ポリイミド系樹脂フィルム、エポキシ系樹脂フィルム、PETフィルム等であることが望ましい。 Furthermore, the cover film is preferably a resin film having an adhesive means on one side. In particular, the resin film is preferably a polyimide resin film, an epoxy resin film, a PET film, or the like.
さらにまた、前記仕上げ処理工程は、無電解ニッケル・金メッキ加工工程である。 Furthermore, the finishing process is an electroless nickel / gold plating process.
以上のように、プラズマデスミア処理の前に、ソルダレジスト全面にカバーフィルムを貼るだけで、デスミア処理時においてソルダレジスト表面を保護できるため、プリント基板の品質を良好に保つことができるものである。また、無電解ニッケル。金メッキ加工も良好な状態で行うことが可能となるものである。 As described above, the surface of the solder resist can be protected at the time of the desmear process only by sticking a cover film on the entire surface of the solder resist before the plasma desmear process, so that the quality of the printed circuit board can be kept good. Electroless nickel. Gold plating can also be performed in good condition.
以下、この発明の実施例ついて図面により説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
プリント基板10は、図2(a)で示すように、基本的にプリプレグなどの有機材料からなる層間絶縁膜1と、この層間絶縁膜1上に形成された銅箔層又は銅メッキ層からなるプリント配線層2と、このプリント配線層2を外部環境から保護するために形成された高分子被膜からなるソルダレジスト3とによって構成される。
As shown in FIG. 2A, the printed
このプリント基板10に電子デバイス部品を搭載するために、前記プリント配線層2の銅表面を露出させる必要があり、図1のステップ100で示されるレーザビア加工工程において、レーザビア加工が施される。このレーザビア加工は、図2(b)で示すように、前記ソルダレジスト3の所定の位置にレーザ4を照射し、照射範囲内のソルダレジスト3を蒸散させて除去し、ビア5を形成するもので、高精度のビア5を形成できるという効果を有するが、図2(c)で示すように、ビア5の穴底や側面に微小厚さの樹脂よりなるスミア6が残留する。このスミア6が残留したまま新な導体層形成のためのメッキを行うとメッキ不良や導通不良が生じる場合があるため、このスミア6を除去するデスミア処理を行う必要がある。
In order to mount the electronic device component on the printed
本願発明に係るデスミア処理工程では、先ずステップ200において、前記レーザビア加工工程100において複数のビア5が形成されたプリント基板10のソルダレジスト3上に、図3(a)で示すように、ポリイミド系樹脂フィルム、エポキシ系樹脂フィルム、PETフィルム等からなるカバーフィルム7を貼り付ける(ラミネートする)。
In the desmear treatment process according to the present invention, first, in
そして、ステップ300においてプラズマデスミア処理を行う。従来のプラズマデスミア処理では、ビア5内のスミア6を蒸散させて取り除く際に、ソルダレジスト3の表面も削ってしまうために、ソルダレジスト3内にフィラーが発生するなどの不具合が生じていたが、カバーフィルム7を貼り付けることによってソルダレジスト3を保護することができるものである。また、ビア5上に位置するカバーフィルム7とソルダレジスト3上に位置するカバーフィルム7とでは、削れ速度が大きく異なるため、ビア5上のカバーフィルム7はプラズマデスミア処理の初期段階で取り除かれることから、全体的にカバーフィルムを貼り付けても、特に問題なくデスミア処理を行うことができる。尚、このプラズマデスミア処理後、図3(b)で示すように、カバーフィルム7はプラズマによって削られることから、厚みが薄くなっているものである。
In
そして、ステップ400において前記カバーフィルム7を剥がす。この工程において、図3(c)で示すように、カバーフィルム7を貼り付ける際に用いた接着剤8が残った場合には、ステップ500において、図示しないオゾン処理装置によって表面処理を行い、接着剤8の除去を行うものである。
In
前記ステップ400の前記カバーフィルム7の剥がし工程の後、又は前記ステップ500のオゾン表面処理の後、図3(d)で示すように、ソルダレジスト3の表面がきれいなままで、ビア5内のスミア6が除去されたプリント基板10を得ることができ、ステップ600によるニッケル・金メッキ処理を良好な状態で行うことができるようになるものである。
After the peeling process of the
1 層間絶縁膜
2 プリント配線層
3 ソルダレジスト
4 レーザ
5 ビア
6 スミア
7 カバーフィルム
8 接着剤
10 プリント基板
1 Interlayer
Claims (4)
前記レーザビア加工工程と前記仕上げ処理工程の間に、
前記ソルダレジスト表面全体にカバーフィルムを貼り付けるカバーフィルム貼り付け工程と、
該カバーフィルム貼り付け工程後、プラズマによるデスミア処理を行うプラズマデスミア処理工程と、
前記カバーフィルムを除去する除去工程とを設けたことを特徴とするプリント基板の製造方法。 An interlayer insulating film made of an organic material, a circuit pattern made of a conductor material on the interlayer insulating film, and a circuit pattern at a mounting position of an electronic device component on a printed circuit board made of a solder resist formed on the interlayer insulating film and the circuit pattern In a method for manufacturing a printed circuit board, the method includes at least a laser via processing step that exposes a circuit pattern, and a finish processing step that electrically connects the circuit pattern exposed by the laser via processing and the electronic device component,
Between the laser via processing step and the finishing step,
A cover film attaching step of attaching a cover film to the entire solder resist surface;
A plasma desmear treatment step of performing a desmear treatment with plasma after the cover film attaching step;
A method for producing a printed circuit board, comprising: a removing step for removing the cover film.
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---|---|---|---|---|
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