JP2009086062A - 液晶表示装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】カラーフィルタ層の非着色領域に形成された段差による位相のずれを抑制し、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな表示が得られる半透過反射型の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置100は、一対の基板10A,25Aと、前記一対の基板間に挟持された液晶層50と、前記一対の基板のうちの一方の基板10Aの液晶層側に設けられた液晶層厚調整層41と、前記一対の基板のうちの他方の基板25Aの液晶層側に設けられた着色層22Rと、着色層22Rの反射表示流域の一部に設けられた非着色領域(開口部)22rとを備えている。液晶層厚調整層41は、反射表示領域Rの非着色領域における液晶層50の層厚を反射表示領域Rの非着色領域以外の領域(着色領域)における液晶層50の層厚よりも大きくするように層厚が調節されている。
【選択図】図2
【解決手段】本発明の液晶表示装置100は、一対の基板10A,25Aと、前記一対の基板間に挟持された液晶層50と、前記一対の基板のうちの一方の基板10Aの液晶層側に設けられた液晶層厚調整層41と、前記一対の基板のうちの他方の基板25Aの液晶層側に設けられた着色層22Rと、着色層22Rの反射表示流域の一部に設けられた非着色領域(開口部)22rとを備えている。液晶層厚調整層41は、反射表示領域Rの非着色領域における液晶層50の層厚を反射表示領域Rの非着色領域以外の領域(着色領域)における液晶層50の層厚よりも大きくするように層厚が調節されている。
【選択図】図2
Description
本発明は、液晶表示装置及び電子機器に関するものである。
液晶表示装置の一形態として、反射モードと透過モードを兼ね備えた半透過反射型のカラー液晶表示装置が知られている。半透過反射型の液晶表示装置においては、反射モード時には2回、透過モード時には1回着色層(カラーフィルタ)を透過することによってカラー表示が行われる。そのため、着色層を2回透過する反射モードの表示を重視して淡い色の着色層を使用すると、着色層を1回しか透過しない透過モードにおいて発色のよい表示を得ることができない。逆に、着色層を1回透過する透過モードの表示を重視して濃い色の着色層を使用すると、着色層を2回透過する反射モードの表示が暗くなってしまう。
この問題を解決するために、特許文献1では、反射表示領域に配置される着色層の一部に、着色層が配置されない非着色領域を設けた液晶表示装置が記載されている。この液晶表示装置では、反射モードで得られる光の一部は着色層を透過しない光となる。そのため、全ての光が2回着色層を透過する従来の反射モードに比べて色の濃度が小さくなる。一方、透過モードで得られる光は全て着色層を透過した光であるため、透過モードの色の濃度は従来と同じである。したがって、反射モードと透過モードの色の濃淡差が小さくなり、透過モードと反射モードの双方で発色の良い表示が得られる。
特開2006−72086号公報
半透過反射型の液晶表示装置では、反射表示と透過表示とを単一の液晶層を用いて実現するために、表示モード間での位相差の調整が必要である。従来は、反射表示領域と透過表示領域の一方に位相差層を形成し、透過表示と反射表示の位相差のずれを調整している。このような位相差層は液晶パネルの内面側に形成されることから、内面位相差層と呼ばれることがある。この液晶表示装置によれば、液晶パネル内部に位相差層を内蔵しているため、液晶パネルの外側に厚い位相差板を設ける場合に比べて、液晶表示装置の薄型化や低コスト化を実現できる。
しかしながら、液晶パネルの内部に設けられる位相差層は、液晶モノマーをカラーフィルタ基板の表面に塗布することにより形成されるため、カラーフィルタ基板の表面に段差が存在すると、液晶モノマーが段差の底部に溜まり易くなり、段差の上部と底部で異なった膜厚(位相差)の位相差層が形成されてしまう。例えば位相差層の表面に、非着色領域の段差を反映した凹部が形成されると、凹部が形成された部分の液晶層の層厚が他の部分の液晶層の層厚よりも大きくなる。その結果、非着色領域とその周辺部(着色領域)で位相差がずれてしまい、十分なコントラストが得られなくなる。また、位相差層が非着色領域の段差を平坦化してフラットに形成された場合には、非着色領域の位相差層の膜厚はその周辺部の位相差層の膜厚よりも大きくなるため、やはり十分なコントラストが得られない。
本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、カラーフィルタ層の非着色領域に形成された段差による位相のずれを抑制し、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな表示が得られる半透過反射型の液晶表示装置及び電子機器を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明の液晶表示装置は、一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、複数のサブ画素からなる表示領域と、前記複数のサブ画素の各々に設けられた透過表示領域及び反射表示領域と、前記一対の基板のうちの一方の基板の液晶層側に設けられ、互いに色の異なる複数の着色層が前記複数のサブ画素の各々に配置されてなるカラーフィルタ層と、前記複数の着色層のうちの少なくとも1つの着色層の平面領域内において前記反射表示領域の一部に設けられた、前記着色層が配置されない非着色領域と、前記反射表示領域において前記カラーフィルタ層と前記液晶層との間に設けられた位相差層と、前記一対の基板のうちの他方の基板の液晶層側に設けられ、前記反射表示領域の非着色領域における液晶層の層厚を前記反射表示領域の非着色領域以外の領域における液晶層の層厚よりも大きくする液晶層厚調整層と、を備えていることを特徴とする。この構成によれば、非着色領域における液晶層の層厚が着色領域における液晶層の層厚よりも小さくなるため、非着色領域において厚く形成された位相差層との間で位相差のずれが相殺される。その結果、非着色領域と着色領域の位相差のずれが小さくなり、従来に比べて高輝度、高コントラストな液晶表示装置が提供できる。
本発明においては、前記着色層が配置された着色領域と前記着色層が配置されない非着色領域との間の段差が前記位相差層によって平坦化されており、前記液晶層厚調整層の前記非着色領域と平面的に重なる領域に凹部が形成されている構成を採用することができる。また、前記着色層が配置された着色領域と前記着色層が配置されない非着色領域との間の段差に倣って前記位相差層の表面に凹部が形成されており、前記液晶層厚調整層の前記非着色領域と平面的に重なる領域に凸部が形成されている構成を採用することができる。いずれの構成を採用するかは、位相差層の表面に形成される凹部の深さや、着色領域と非着色領域との間の位相差のずれ量等に基づいて決定することができる。
本発明の電子機器は、前述した本発明の液晶表示装置を備えていることを特徴とする。この構成によれば、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな表示が得られる半透過反射型の表示部を備えた電子機器を提供することができる。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。
また、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。この際、水平面内における所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれに直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。例えば本実施形態においては、X軸方向をデータ線の延在方向、Y軸方向を走査線の延在方向、Z軸方向を観察者による液晶パネルの観察方向としている。
[第1の実施の形態]
図1は本発明の第1実施形態の液晶表示装置100の1画素の平面図である。液晶表示装置100は、画素スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以下「TFT」という。)を備えた半透過反射型の液晶表示装置である。
図1は本発明の第1実施形態の液晶表示装置100の1画素の平面図である。液晶表示装置100は、画素スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以下「TFT」という。)を備えた半透過反射型の液晶表示装置である。
図1に示すように、液晶表示装置100の1画素領域には、それぞれ赤、緑、青に対応した3つのサブ画素Dが設けられている。各々サブ画素Dに3原色のうちの1色の着色層(カラーフィルタ)が形成され、3つのサブ画素D1〜D3で3色の着色層22R、22G、22Bを含む画素領域が形成されている。なお、着色層22R、22G、22Bは、それぞれX軸方向に延びるストライプ状に形成され、その延在方向で複数のサブ画素Dに跨って形成されるとともに、Y軸方向にて周期的に配列されている。
サブ画素Dの平面領域において反射表示領域Rに対応する領域の中央部には、着色層が配置されない非着色領域(開口部22r、22g、22b)が設けられている。非着色領域22r、22g、22bは、着色層の一部を切り欠いて形成されている。反射表示領域Rの一部に着色層の開口部22r、22g、22bを設けることで、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの色度の調和を図ることができる。また、反射表示領域Rの明るさを向上させることができ、反射表示と透過表示の双方で輝度及び色度のバランスのとれた高画質の画像表示が可能となる。
サブ画素Dの平面領域には、平面視略矩形状の画素電極9が設けられている。液晶表示装置100の表示領域には、画素電極9の境界部に沿ってX軸方向に延在する複数のデータ線6aとY軸方向に延在する複数の走査線3aとが設けられている。データ線6aと走査線3aとに囲まれた各々の領域はサブ画素Dであり、データ線6aと走査線3aとの交差部近傍にはサブ画素Dを駆動するTFT素子30が設けられている。サブ画素Dは走査線3aとデータ線6aに沿ってマトリクス状に配置されており、マトリクス状に配置された複数のサブ画素Dによって、全体としての表示領域が形成されている。
サブ画素DはX軸方向において2つの領域に分割されている。図示左側の領域は、反射表示用画素電極9rを備えた反射表示領域Rであり、図示右側の領域は、透過表示用画素電極9tを備えた透過表示領域Tである。本実施形態の場合、反射表示用画素電極9rは、アルミニウムや銀等の光反射性導電膜からなる平面視矩形状の反射電極であり、透過表示用画素電極9tは、ITO(インジウム錫酸化物)等の透光性導電膜からなる平面視矩形状の透明電極である。反射表示用画素電極9rと透過表示用画素電極9tとは、平面視でほぼ同一の形状及び大きさを有し、サブ画素領域の中央部で互いに接続されている。
走査線3aとデータ線6aとの交差部近傍には、反射表示用画素電極9rと走査線3a及びデータ線6aとを接続するTFT素子30が設けられている。TFT素子30は、半導体層35と、半導体層35の下層側に設けられたゲート電極部32と、半導体層35の上層側に設けられたソース電極部33及びドレイン電極部34と、を備えている。半導体層35のゲート電極部32と対向する領域にはチャネル領域が形成されており、チャネル領域の両側にソース領域とドレイン領域とが形成されている。ゲート電極部32は、走査線3aの一部をデータ線6aの延在方向(X軸方向)に延出して形成されており、その先端側で半導体層35のチャネル領域と図示略のゲート絶縁膜を介して対向している。ソース電極部33は、データ線6aの一部を走査線3aの延在方向(Y軸方向)に延出して形成されており、半導体層35のソース領域と電気的に接続されている。ドレイン電極34は、その一端側で半導体層35のドレイン領域と電気的に接続されており、他端側で反射表示用画素電極9rと電気的に接続されている。
図2は図1のA−A線に沿う断面図である。液晶表示装置100は、素子基板(第1基板)10と、素子基板10に対向配置された対向基板(第2基板)25とを備えている。素子基板10と対向基板25との間には液晶層50が挟持されている。素子基板10の外面側には偏光板19が設けられ、対向基板25の外面側には偏光板17が設けられている。さらに、偏光板19の外面側には、透過表示用の照明装置であるバックライト15が配設されている。
素子基板10は、石英、ガラス等の透光性基板10Aを基体としてなる。基体10Aの内面側にはTFT素子(図2では走査線3aのみが図示されている)が形成されている。基体10AとTFT素子を覆って、アクリル樹脂等の透光性絶縁材料からなる第1絶縁膜41が形成されている。第1絶縁膜41の反射表示領域Rに対応する領域の中央部には凹部41aが形成されている。凹部41aは着色層22Rの開口部22rと平面的に重なる位置に形成されている。凹部41aの平面形状、大きさは、着色層22Rの開口部22rの平面形状、大きさと略同じである。
第1絶縁膜41上には凹部41aを覆って、アクリル樹脂等の透光性絶縁材料からなる第2絶縁膜24が形成されている。第2絶縁膜24の表面には、アルミニウムや銀等の光反射性の金属膜、又はこれらの金属膜とITO等の透光性導電膜との積層膜からなる反射表示用画素電極9rと、ITO等の透光性導電膜からなる透過表示用画素電9tとが形成されている。また、第2絶縁膜24の表面には、反射表示用画素電極9rと透過表示用画素電極9tとを覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が形成されている。
第2絶縁膜24の表面には、第1絶縁膜41の凹部41aに倣う凹面形状(凹部)が付与されている。また、第2絶縁膜24の反射表示領域Rに対応する領域には、凹凸形状24aが付与されている。反射表示用画素電極9rの表面には、凹凸形状24aに倣う凹凸面が形成されている。反射表示用画素電極9rは、外光を反射する反射表示用の散乱反射膜を兼ねており、反射表示用画素電極9rが形成された領域が反射表示領域Rであり、透過表示用画素電極9tが形成された領域が透過表示領域Tである。反射表示用画素電極9rは、凹凸形状24aによって付与された凹凸面によって光散乱性を付与され、外部からの映り込み防止、並びに視野角の拡大を実現している。一方、第2絶縁膜24において反射表示領域R以外の領域は平坦面となっている。透過表示用画素電極9tは、この平坦面上に形成されている。
対向基板25は、石英、ガラス等の透光性基板25Aを基体としてなる。基体25Aの内面側には、着色層22Rを含むカラーフィルタ層と、アクリル樹脂等からなるオーバーコート膜23とが積層されている。着色層22Rの反射表示領域Rに対応する領域には開口部22rが形成されている。開口部22rはサブ画素の反射表示領域Rの中央部に形成されている。開口部22rが形成された領域は、着色層22Rが配置されない非着色領域となる。オーバーコート膜23は開口部22rを覆って形成されており、オーバーコート膜23の開口部22rに対応する領域には、開口部22rを反映した凹面形状(凹部)が付与されている。
オーバーコート膜23上には、反射表示領域Rに位相差層40が形成されている。また、位相差層40とオーバーコート膜23を覆ってITO(インジウム錫酸化物)等の透光性導電膜からなる共通電極31が形成され、共通電極31を覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が形成されている。位相差層40は液晶材料により形成されており、例えば、液晶モノマーや液晶オリゴマーを基板上に塗布し、所定の配向状態で配向させた状態で重合硬化することにより作製される。位相差層40はオーバーコート膜23の表面を覆って形成され、オーバーコート膜23の表面に形成された前記凹部による段差を平坦化している。位相差層40の非着色領域22rに対応する部分の厚みは、着色層22Rが配置された着色領域における位相差層40の厚みよりも大きくなっている。
素子基板10では、非着色領域と着色領域との間の位相のずれ(位相差層40における位相差の面内分布)に応じて第1絶縁膜41の膜厚の大きさが設計されている。第1絶縁膜41は、自身の膜厚を着色領域と非着色領域とで異ならせることで、着色領域と非着色領域の液晶層の層厚を調節する液晶層厚調整層として機能する。すなわち、位相差層40の層厚d1、位相差Δn1と、液晶層50の層厚d2、位相差Δn2とが決まっている場合、下式(1)の条件を満たせば、対向基板側から入射した直線偏光は反射膜(反射表示用画素電極9r)に到達するときに円偏光に変換される。位相差層40と液晶層50の層厚が変化しても、式(1)の関係を満たす限り偏光がずれることはない。したがって、着色領域と非着色領域の双方で式(1)を満たすように位相差層40と液晶層50の層厚、位相差が調節されれば、反射表示領域R全体に亘って良好な表示特性が得られる。
なお、λは入射光の波長であり、式(1)でプラスマイナス(±)があるのは、右回り円偏光と左回り円偏光があるためである。液晶層50の層厚が凹凸形状24aによって変化する場合には、非着色領域22rの平均の液晶層50の層厚を「液晶層の層厚d2」とする。着色領域と非着色領域との間に位相差層の側面がテーパ状に形成されている部分があるときは、そのテーパ部分を含めた平均の液晶層の層厚を「液晶層の層厚d2」としても良いし、テーパ部分を除く部分の平均の液晶層の層厚を「液晶層の層厚d2」としても良い。同様に、位相差層の層厚d1については、テーパ部分を含む平均の位相差層の層厚を「位相差層の層厚d1」としても良いし、テーパ部分を除く部分の平均の位相差層の層厚を「位相差層の層厚d1」としても良い。
本実施形態の場合、位相差層40は非着色領域の段差(開口部22rに起因するオーバーコート膜23の表面の凹部の段差)を平坦化している。そのため、位相差層40の液晶層側の面は、着色領域と非着色領域とを含む反射表示領域全体で略平坦な面となる。着色領域に形成された位相差層40と非着色領域に形成された位相差層40との間で大きな位相のずれが発生しており、その位相のずれを相殺するために、非着色領域の液晶層50の層厚を着色領域の液晶層50の層厚よりも大きくする必要がある。本実施形態では、非着色領域の第1絶縁膜41の膜厚を小さくし、その分液晶層50の厚みを大きくしている。
なお、図2では、位相差層40の液晶層側の面が平坦面となっているが、位相差層40の断面形状はこのようなものに限定されない。位相差層の形成条件(位相差層の塗布方法、着色層の開口部の深さ、位相差層を構成する液晶モノマー又は液晶オリゴマーの粘度等)によっては、位相差層40が基板表面の段差に沿って形成され、位相差層40の表面に開口部22rに起因した凹面形状(凹部)が付与される場合がある。そのような場合には、非着色領域の液晶層50の層厚が着色領域に比べて大きくなるため、式(1)との関係から、非着色領域の第1絶縁膜41を凹状又は凸状のいずれに形成するかが決定される。
一般に、液晶材料を基板に塗布して位相差層を形成する場合、基板の表面に段差が形成されると、段差の底面に液晶材料が溜まり易くなり、段差の上部よりも段差の底部の方が位相差層の膜厚(位相差)は大きくなる。したがって、第1絶縁膜41の膜厚を設計するに当たっては、この性質を考慮し、非着色領域の液晶層50の層厚を着色領域の液晶層50の層厚よりも大きくするように第1絶縁膜41の膜厚を制御する。こうすることで、非着色領域において厚く形成された位相差層40との間で位相差のずれを相殺することができる。その結果、非着色領域と着色領域の位相差のずれが小さくなり、従来に比べて高輝度、高コントラストな液晶表示装置が提供できる。
上記構成を備えた液晶表示装置100によれば、着色層22R,22G,22Bの反射表示領域Rの一部に開口部22r、22g、22b(非着色領域)が形成されているので、反射表示と透過表示の双方で高輝度、高コントラストな画像表示が実現される。この場合、開口部22r、22g、22bを形成した領域に段差が形成されるため、その段差に起因した位相差のずれが発生する場合があるが、本実施形態では、反射表示領域Rの着色領域と非着色領域の第1絶縁膜41の膜厚が式(1)によって制御されているため、着色領域と非着色領域の位相差のずれが小さくなり、反射表示領域全体で高コントラストな表示が可能となる。
なお、本実施形態では全てのサブ画素Dに非着色領域(開口部22r、22g、22b)が設けられているが、非着色領域は全てのサブ画素Dに設ける必要はなく、1画素内の1つ又は2つのサブ画素Dにのみ設けられていても良い。
[第2の実施の形態]
図3は本発明の第2実施形態の液晶表示装置200の断面図である。液晶表示装置200の基本構成は第1実施形態の液晶表示装置100と同じである。異なるのは、位相差層45の表面に凹面形状が付与され、その凹面部に向けて突出した凸部を有するように第1絶縁膜46の膜厚が制御されている点である。したがって、第1実施形態の液晶表示装置100と共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
図3は本発明の第2実施形態の液晶表示装置200の断面図である。液晶表示装置200の基本構成は第1実施形態の液晶表示装置100と同じである。異なるのは、位相差層45の表面に凹面形状が付与され、その凹面部に向けて突出した凸部を有するように第1絶縁膜46の膜厚が制御されている点である。したがって、第1実施形態の液晶表示装置100と共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
図3に示すように、基体10Aの表面には、アクリル樹脂等の透光性絶縁材料からなる第1絶縁膜46が形成されている。第1絶縁膜46の反射表示領域Rの中央部には凸部46aが形成されている。凸部46aは着色層22Rの開口部22rと重なる位置に形成されている。凸部46aの平面形状、大きさは、着色層22Rの開口部22rの平面形状、大きさと略同じである。
第1絶縁膜46上には凸部46aを覆って、アクリル樹脂等の透光性絶縁材料からなる第2絶縁膜24が形成されている。第2絶縁膜24の表面には、アルミニウムや銀等の光反射性の金属膜、又はこれらの金属膜とITO等の透光性導電膜との積層膜からなる反射表示用画素電極9rと、ITO等の透光性導電膜からなる透過表示用画素電9tとが形成されている。また、第2絶縁膜24の表面には、反射表示用画素電極9rと透過表示用画素電極9tとを覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が形成されている。
第2絶縁膜24の表面には、第1絶縁膜46の凸部46aに倣う凸面形状(凸部)が付与されている。また、第2絶縁膜24の反射表示領域Tには、凹凸形状24aが付与されている。反射表示用画素電極9rの表面には、凹凸形状24aに倣う凹凸面が形成されている。反射表示用画素電極9rは、外光を反射する反射表示用の散乱反射膜を兼ねており、反射表示用画素電極9rが形成された領域が反射表示領域Rであり、透過表示用画素電極9tが形成された領域が透過表示領域Tである。反射表示用画素電極9rは、凹凸形状24aによって付与された凹凸面によって光散乱性を付与され、外部からの映り込み防止、並びに視野角の拡大を実現している。一方、第2絶縁膜24において反射表示領域R以外の領域は平坦面となっている。透過表示用画素電極9tは、この平坦面上に形成されている。
対向基板20のオーバーコート膜23上には、反射表示領域Rに位相差層45が形成されている。また、位相差層45とオーバーコート膜23を覆ってITO等の透光性導電膜からなる共通電極31が形成され、共通電極31を覆ってポリイミド等からなる図示略の配向膜が形成されている。位相差層45は液晶材料により形成されており、例えば、液晶モノマーや液晶オリゴマーを基板上に塗布し、所定の配向状態で配向させた状態で重合硬化することにより作製される。位相差層45の表面には、オーバーコート膜23の表面に形成された凹部に倣う凹面形状(凹部)が付与されている。位相差層45の非着色領域22rに対応する部分の厚みは、着色層22Rが配置された着色領域における位相差層45の厚みと略同じかそれよりも若干大きくなっている。
素子基板10では、非着色領域と着色領域との間の位相のずれ(位相差層45における位相差の面内分布)に応じて第1絶縁膜46の膜厚の大きさが設計されている。第1絶縁膜46は、自身の膜厚を着色領域と非着色領域とで異ならせることで、着色領域と非着色領域の液晶層の層厚を調節する液晶層厚調整層として機能する。位相差層46の層厚をd1、位相差をΔn1、液晶層50の層厚をd2、位相差をΔn2とした場合、これらの大きさは上式(1)に基づいて設計されている。そのため、非着色領域と着色領域の位相差のずれが小さくなり、従来に比べて高輝度、高コントラストな液晶表示装置が提供できる。
[電子機器]
図4は、本発明の電子機器の一例である携帯電話1300の概略斜視図である。携帯電話1300は、本発明の液晶表示装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。上記実施形態の液晶表示装置は、携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな画像表示が実現できる。
図4は、本発明の電子機器の一例である携帯電話1300の概略斜視図である。携帯電話1300は、本発明の液晶表示装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。上記実施形態の液晶表示装置は、携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな画像表示が実現できる。
10…素子基板、10A…基体(透光性基板)、22r,22g,22b…開口部(非着色領域)、22R,22G,22B…着色層、25…対向基板、25A…基体(透光性基板)、40…位相差層、41…第1絶縁膜(液晶層厚調整層)、41a…凹部、45…位相差層、46…第1絶縁膜(液晶層厚調整層)、46a…凸部、50…液晶層、100,200…液晶表示装置、1300…携帯電話(電子機器)、D,D1,D2,D3…サブ画素、R…反射表示領域、T…透過表示領域
Claims (4)
- 一対の基板と、
前記一対の基板間に挟持された液晶層と、
複数のサブ画素からなる表示領域と、
前記複数のサブ画素の各々に設けられた透過表示領域及び反射表示領域と、
前記一対の基板のうちの一方の基板の液晶層側に設けられ、互いに色の異なる複数の着色層が前記複数のサブ画素の各々に配置されてなるカラーフィルタ層と、
前記複数の着色層のうちの少なくとも1つの着色層の平面領域内において前記反射表示領域の一部に設けられた、前記着色層が配置されない非着色領域と、
前記反射表示領域において前記カラーフィルタ層と前記液晶層との間に設けられた位相差層と、
前記一対の基板のうちの他方の基板の液晶層側に設けられ、前記反射表示領域の非着色領域における液晶層の層厚を前記反射表示領域の非着色領域以外の領域における液晶層の層厚よりも大きくする液晶層厚調整層と、を備えていることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記着色層が配置された着色領域と前記着色層が配置されない非着色領域との間の段差が前記位相差層によって平坦化されており、
前記液晶層厚調整層の前記非着色領域と平面的に重なる領域に凹部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記着色層が配置された着色領域と前記着色層が配置されない非着色領域との間の段差に倣って前記位相差層の表面に凹部が形成されており、
前記液晶層厚調整層の前記非着色領域と平面的に重なる領域に凸部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示装置を備えていることを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007252810A JP2009086062A (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 液晶表示装置及び電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007252810A JP2009086062A (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 液晶表示装置及び電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009086062A true JP2009086062A (ja) | 2009-04-23 |
Family
ID=40659612
Family Applications (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2009086062A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4591622B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2010-12-01 | 凸版印刷株式会社 | 位相差基板、半透過型液晶表示装置、および位相差基板の製造方法 |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007252810A patent/JP2009086062A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4591622B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2010-12-01 | 凸版印刷株式会社 | 位相差基板、半透過型液晶表示装置、および位相差基板の製造方法 |
US7948590B2 (en) | 2008-03-31 | 2011-05-24 | Toppan Printing Co., Ltd. | Retardation substrate, semi-transparent liquid crystal display, and method for manufacturing retardation substrate |
JPWO2009122625A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2011-07-28 | 凸版印刷株式会社 | 位相差基板、半透過型液晶表示装置、および位相差基板の製造方法 |
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