JP2009083155A - 偽造防止用紙及びその作製方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 基材を真上から視認した時の潜像画像に対して、隠蔽性を向上した偽造防止用紙を提供する。
【解決手段】 基材表面の少なくとも一部に、凹部による線状の潜像体を有する偽造防止用紙であって、潜像体は、規則的に配列された複数の直線から成る背景領域と、背景領域の直線と等間隔で、かつ、背景領域に垂直に規則的に配置された複数の直線から成る潜像領域と、背景領域の直線の一部と、潜像領域の直線の一部の線幅を異ならせて形成されたカモフラージュ領域から成る偽造防止用紙である。
【選択図】 図３

Description

本発明は、偽造防止用紙に関するものである。特に、銀行券、株券、印紙、証紙等の有価証券やパスポート、免許書及び各種証明書等の偽造防止用紙に関するものである。

従来、有価証券、貴重書類等の偽造防止策は、インキに蛍光材料又は光学材料等を含ませた凹版印刷やオフセット印刷等により印刷層を基材に形成すること又はホログラム等の金属箔等を基材に貼付することで機能性を付与している。これらの技術は、基材上の一部に積層して形成する。また、用紙内に偽造防止策を付与する技術としては、スレッド、混抄及び多層紙等がある。これらの技術は、用紙上又は用紙内に付与する技術であり、基材に他の要素を加えて成る。

一方、基材に他の要素を加えないで、基材のみの変形又は変色等によって偽造防止策となる代表的な技術としては、銀行券に見るようにすかしがある。しかし、基材に他の要素を加えない偽造防止策は、基材に他の要素を加える偽造防止策と比較して、技術の種類やバリエーションは少ないのが現状である。言い換えれば、基材に他の要素を加えない偽造防止策は、製品コストが抑えられ、製造工程も低減できるため、有効な技術ではあるが、構成が単純になりやすいため、極めて高い偽造防止効果を挙げることは難しい。

ところで、基材に他の要素を加えないで、かつ、基材の変形で偽造防止策となる技術として、すかし以外に、エンボスにより縦横の万線を基材に形成する方法が開示されている。この方法では、潜像パターンの領域とその周囲部の領域に、万線状の凹凸の方向を変えることで、斜めから観察した場合、潜像パターンが視認できる（例えば、特許文献１参照）。

さらに、基材にフィルムを用い、レーザ光により万線状の溝を異なる方向に設け、斜めから観察することで、潜像が視認できる技術が開示されている（例えば、特許文献２参照）。

特開２００２−１５４２６２号公報 特許３５１４２９１号公報

しかし、特許文献１及び特許文献２によると、図９に示すように、万線状の凹凸又は溝は、潜像領域４２とその背景領域４１において、例えば、縦方向と横方向に９０度配列方向を変えて構成しているが、単純な万線で構成しているため、潜像領域と背景領域の境界は潜像化され難く、基材を真上から視認した場合でも潜像が見えてしまうという欠点があった。さらに、万線を縦方向と横方向とで構成しているため、偽造が容易にできるという課題があった。

また、特許文献１は、基材にエンボスにより万線状の凹凸を施しているので、エンボス用の版面を作製するための装置とノウハウを要し、さらには、基材にエンボス版面を押圧する装置が必要となることから、設備に多大な費用を要し、また、作製に前準備を含め多くの時間が掛かる。

特に、特許文献２では、基材を紙ではなくフィルムに限定しているが、フィルムは、光の反射性が高く、かつ、フィルム表面と万線状の溝との光反射性が異なることから、フィルムの真上から視認した場合でも潜像が視認しやすく、フィルムをはがして再利用する改ざんに対しての効果は高いが、潜像としての効果は弱い。

本発明は上記事情にかんがみ、なされたものであり、潜像体を真上から視認した時の潜像画像を、より隠蔽できる偽造防止用紙を提供することを目的とする。

本発明の請求項１に係る発明は、基材表面の少なくとも一部に、凹部による線状の潜像体を有する偽造防止用紙であって、潜像体は、規則的に配列された複数の直線から成る背景領域と、背景領域の直線と等間隔で、かつ、背景領域に垂直に規則的に配置された複数の直線から成る潜像領域と、背景領域の直線の一部と、潜像領域の直線の一部の線幅を異ならせて形成されたカモフラージュ領域から成る偽造防止用紙である。

本発明の請求項２に係る発明は、カモフラージュ領域の直線の線幅が、背景領域及び潜像領域の直線の線幅に対し、１．１〜１．５倍であることを特徴とする偽造防止用紙である。

本発明の請求項３に係る発明は、基材表面の少なくとも一部に、凹部による線状の潜像体を有する偽造防止用紙であって、潜像体は、規則的に配列された複数の直線から成る背景領域と、背景領域の直線と等間隔で、かつ、背景領域に垂直に規則的に配置された複数の直線から成る潜像領域と、背景領域の直線の一部と、潜像領域の直線の一部の色を、基材並びに背景領域及び潜像領域の他の部分の直線の色と異なる色で形成したカモフラージュ領域から成る偽造防止用紙である。

本発明の請求項４に係る発明は、背景領域の直線の線幅と、潜像領域の直線の線幅とが同一であることを特徴とする偽造防止用紙である。

本発明の請求項５に係る発明は、基材表面の少なくとも一部に、凹部による線状の潜像体を有する偽造防止用紙であって、潜像体は、規則的に配列された複数の波線から成る背景領域と、背景領域の波線と等間隔、同一の線幅で、かつ、背景領域に垂直に規則的に配置された複数の波線から成る潜像領域とから構成された偽造防止用紙である。

本発明の請求項６に係る発明は、波線が正弦波の形状をした曲線であり、正弦波の周期長が振幅幅の（π×√３）倍以上であることを特徴とする偽造防止用紙である。

本発明の請求項７に係る発明は、背景領域及び潜像領域の線幅が、０．０５〜０．２０ｍｍであることを特徴とする偽造防止用紙である。

本発明の請求項８に係る発明は、基材表面の少なくとも一部に、非貫通の凹部の線状により形成された背景領域と潜像領域から成る潜像体を含んだ偽造防止用紙の作製方法であって、背景領域は、複数の直線を規則的に配列し、潜像領域は、前記背景領域の直線と等間隔で、かつ、背景領域に垂直に複数の直線を規則的に配置し、背景領域の直線の一部と、潜像領域の直線の一部の線幅を異ならせてカモフラージュ領域を形成することを特徴とする偽造防止用紙の作製方法である。

本発明の請求項９に係る発明は、基材表面の少なくとも一部に、非貫通の凹部の線状により形成された背景領域と潜像領域から成る潜像体を含んだ偽造防止用紙の作製方法であって、背景領域は、複数の直線を規則的に配列し、潜像領域は、背景領域の直線と等間隔で、かつ、背景領域に垂直に複数の直線を規則的に配置し、背景領域の直線の一部と、潜像領域の直線の一部の色を、基材並びに背景領域及び潜像領域の他の部分の直線の色と異なる色でカモフラージュ領域を形成することを特徴とする偽造防止用紙の作製方法である。

本発明の請求項１０に係る発明は、基材表面の少なくとも一部に、非貫通の凹部の線状により形成された背景領域と潜像領域から成る潜像体を含んだ偽造防止用紙の作製方法であって、背景領域は、複数の波線を規則的に配列し、潜像領域は、背景領域の波線と等間隔、同一の線幅で、かつ、背景領域に垂直に規則的に配置することを特徴とする偽造防止用紙の作製方法である。

（潜像画像の隠蔽性）
本発明の潜像体は、潜像体を真上から視認した場合に潜像画像をより隠蔽することができる。一方、所定の観察方向（斜め方向）から視認した場合、潜像画像が視認できる。また、カモフラージュ領域を設ければ、真上から視認した時の視認画像と所定の観察方向から視認した時の潜像画像が異なる２種類の画像として視認できる。

（複写及び複製防止効果）
さらに、本発明の潜像体を基材と同色で形成した場合は、複写機やスキャナ等によって、潜像体の画像を入力しようとしても、基材と凹部が同色であるため、再現することができず、複写及び複製の防止機能を有する。

以下に、本発明における偽造防止用紙の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明の概要図である。図２は、本発明の第１の実施形態における潜像体の構成図である。図３は、本発明の第１の実施形態におけるカモフラージュ領域の構成図である。図４は、本発明における第１の実施形態に関する潜像体の断面図と、真上から視認した場合の模式図である。図５は、本発明の潜像体を真上から視認した時の視認画像である。図６は、本発明の潜像体を所定の観察方向から視認した時の潜像画像である。図７は、本発明の第２の実施形態におけるカモフラージュ領域の構成図である。図８は、本発明の第３の実施形態における潜像体の構成図である。図９は、従来例の概要図である。

（偽造防止用紙の概要）
まず、図１は、本発明の概要図である。本発明の偽造防止用紙１は、商品券であり、基材２には、黄色の上質紙に料額や種別の情報３がオフセット印刷又は凹版印刷で印刷されている。また、基材２の任意の領域には、潜像領域４２と背景領域４１から成る潜像体４０が形成されている。なお、本発明の実施形態は、商品券で説明しているが、銀行券、パスポート、切手、印紙、証紙等の貴重性や金銭的価値のある物品に適用できる。また、基材２の色は黄色に限らず制約はない。

本発明の実施形態として、三つの形態を例示するが、共に潜像体を真上から視認したときの潜像画像を、より隠蔽できる構成とすることを目的にしている。なお、潜像体を所定の観察方向から視認したときには、従来例と同様に鮮明に潜像画像は視認できる。

第１と第２の実施形態は、図９に示す従来例である背景領域と潜像領域との縦横万線の構成に加えて、潜像領域と背景領域とでカムフラージュ領域を設けて、潜像体を真上から視認した時に、カムフラージュ領域から成る画像が強調されて視認画像が視認できるため、潜像画像をより隠蔽できる。一方、第３の実施形態は、カムフラージュ領域を設けないで、背景領域と潜像領域の万線から曲線に変更することで、潜像画像が隠蔽できる。なお、ここでいう「視認画像」とは、潜像体を真上から視認した場合、カムフラージュ画像で形成した画像のことであり、「潜像画像」とは、潜像体を所定の観察方向から視認した場合、潜像領域で形成した画像のことである。

（第１の潜像体の構成）
まず、第１の実施形態の潜像体４０を、図２及び図３により説明する。潜像体４０は、背景領域４１と潜像領域４２とで構成され、背景領域４１の縦線の凹部４１Ｌ及び潜像領域４２の横線の凹部４２Ｌにおける線幅Ｗ１は同一とし、複数等間隔で配列する。なお、凹部４１Ｌに対して凹部４２Ｌは垂直に配置している。この時、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの線幅Ｗ１は０．０５〜０．２０ｍｍ、好ましくは０．１０〜０．１５ｍｍ、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの線間隔Ｐは０．５０ｍｍ以下、好ましくは０．３０以下である。なお、凹部の深さは、０．０１ｍｍ以上、好ましくは、０．０３ｍｍ以上である。凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの深さは、同一でも、異なっていても構わない。

さらに、背景領域４１及び潜像領域４２の少なくとも一部の領域によって任意のカムフラージュ領域４２を設ける。この時、カモフラージュ領域４２内の凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの線幅は変更している。図３（ａ）は、カモフラージュ領域４３のみ抽出した概要図である。カモフラージュ領域４３内の縦線の凹部４１Ｌを凹部４１Ｌ’、横線の凹部４２Ｌを凹部４２Ｌ’とした場合、図３（ｂ）に示すように、凹部４１Ｌ’及び凹部４２Ｌ’の線幅Ｗ２は、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの線幅Ｗ１に対して１．１〜１．５倍、好ましくは１．２〜１．３倍であり、凹部４３Ｌ同士が接しないことが必須である。なお、凹部４１Ｌ、凹部４２Ｌ、凹部４１Ｌ’及び凹部４２Ｌ’は、レーザ加工機により非貫通で加工している。また、凹部４１Ｌ、凹部４２Ｌ、凹部４１Ｌ’及び凹部４２Ｌ’の深さは、同一でも、異なっても構わない。なお、本実施の形態では、凹部をレーザ加工機により形成しているが、これに限定されるものではなく、微細な凹部を形成できる方法であれば良い。

（真上から視認できる画像）
図４は、潜像体４０の凹部４２Ｌ及び凹部４２Ｌ’の断面図と真上から観察した場合の模式図である。基材２の表面は平滑であるのに対して、凹部４２Ｌ又は凹部４２Ｌ’の底部は、レーザ加工で物理的に削っているために、ミクロ的に見ると凹凸を有する。ただし、どちらも表面は同色である。また、基材表面の反射光は平滑であるため略一定の方向に光を反射するが、一方、凹部４２Ｌ又は凹部４２Ｌ’の反射光は、凹凸があるため任意の方向へと反射し、潜像体４０を真上から視認した時、互いの反射光に差異を生じて濃度差として知感できるため、凹部４２Ｌ又は凹部４２Ｌ’が視認できる。さらに、凹部４２Ｌの線幅Ｗ１よりも、凹部４２Ｌ’の線幅Ｗ２の方が広く構成しているため、凹部４２Ｌ’の方が強い反射光を視認でき、この結果、カモフラージュ領域４３である視認画像（Ａ）が強調され視認できる。このため、潜像領域４２である潜像画像（Ｔ）は隠蔽される。よって、潜像体４０を真上から視認した時は、図５に示すように、「Ａ」の視認画像が視認できる。なお、図示しないが、背景領域４１の凹部４１Ｌと、カムフラージュ領域４３の凹部４１Ｌ’においても、同様の作用を有している。

（所定の観察方向から視認できる画像）
また、図６に示すように、潜像体４０を斜めから観察すると、潜像領域４２から成る潜像画像「Ｔ」が視認できる。具体的には、図２の潜像体４０を上下方向又は斜め上から視認した時は、「Ｔ」の画像が白く視認できる。一方、図２の潜像体４０を左右方向又は斜め上から視認した時は、背景画像４１が白く視認でき、「Ｔ」は暗い画像と視認できる。なお、本発明の実施形態では、視認画像及び潜像画像は文字で例示しているが、図柄、マーク等でも構わない。

（複写防止効果）
本発明の潜像体４０は、機械的な画像の取り込みが困難である。具体的には、複写機やスキャナで潜像体４０の潜像体画像を入力した結果、基材と凹部は同色であることと、基材と凹部との反射光の差が微弱であることから、潜像体の画像は取り込めず、潜像体４０の潜像体画像は再現できない。言うまでもなく、潜像体４０は複写されないため、所定の観察方向で視認しても、潜像は確認できない。

（第２の潜像体の構成）
次に、第２の実施形態である潜像体４０を図７により説明する。第２の潜像体４０は、第１の実施形態の潜像体４０に対して、カモフラージュ領域の凹部の構成は異なるが、その他の構成は同様なため、同一部分の説明は省略する。

図７（ａ）は、図２に示すカムフラージュ領域４３のみを抽出した図である。第２の実施形態のカムフラージュ領域４３における縦線の凹部４１Ｌ’及び縦線の凹部４２Ｌ’との線幅Ｗ２は、図７（ｂ）及び図７（ｃ）に示すように、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの線幅Ｗ１と同一である。また、図７（ｄ）は、図２のＸ−Ｘ線断面図（詳しくは、潜像領域４２の最上部の横線である凹部４２Ｌ及び凹部４２Ｌ’の断面）であり、第２の実施形態の特徴を示している。潜像領域４２内にカムフラージュ領域４３を有するため、凹部４２Ｌと凹部４２Ｌ’とは連続している。このとき、凹部４２Ｌは、レーザ加工機の加工条件を調整し、基材と同色となるように加工する。一方、凹部４２Ｌ’は、基材と異なる色、例えば、黒色に着色するようなレーザ加工機の加工条件に調整して加工する。この時、凹部４２Ｌと凹部４２Ｌの深さは同一でも良いし、異なっても構わない。また、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌとの線幅Ｗ１と凹部４１Ｌ’及び凹部４２Ｌ’の線幅Ｗ２が異なっても構わない。なお、図示しないが、背景領域４１の凹部４１Ｌと、カムフラージュ領域４３の凹部４１Ｌ’においても、同様の作用を有している。

このような加工を実施するための加工条件の設定としては、例えば、黒色の凹部を形成する際は、強い出力に調整したレーザを一度だけ照射し、基材と同色の凹部を形成する際は、弱い出力に調整したレーザを複数回照射する方法がある。この場合は、レーザの出力強度及び照射回数を調整することにより、形成される凹部の深さ及び基材の着色の度合いを調整することが可能である。

例えば、厚み０．１ｍｍの紙基材に０．０８ｍｍの深さの凹部を形成する場合のレーザ加工条件は、基材と同色の凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌでは、加工出力０．１ｍＪ程度のレーザを同一箇所に３回繰り返して照射し、凹部４２Ｌ’では、加工出力０．３ｍＪ程度のレーザを同一箇所に１回照射すれば良い。

（真上から視認できる画像）
第２の実施形態の潜像体４０を真上から視認した場合、第１の実施形態と同様であり、図５のように視認画像（Ａ）が視認できる。ただし、視認原理は異なり、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌは基材色と同色であるが、凹部４１Ｌ’及び凹部４２Ｌ’は基材色と異なり、黒色に視認できることから、カモフラージュ領域４３である視認画像（Ａ）が強調され視認できる。このため、潜像領域４２である潜像画像（Ｔ）は隠蔽されやすい。

（所定の観察方向から視認性）
潜像画像の視認性は、第１の実施形態と同様なため、説明は省略する。

（第３の潜像体の構成）
第３の実施形態は、第１及び第２の実施形態と異なり、カモフラージュ領域を用いないで、潜像体を真上から視認した時に、潜像画像をより隠蔽できない形態である。

図８（ａ）は、第３の実施形態の潜像体４０を示す概略図である。潜像体４０は、背景領域４１と潜像領域４２から構成される。また、背景領域４１には、縦方向の波線の凹部４１Ｌ、一方、潜像領域４２には、横方向の波線の凹部４２Ｌを配置する。この時、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの線幅Ｗ１と線間隔Ｐは、第１の実施形態の説明と同様である。

また、図８（ａ）及び図８（ｂ）は、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの曲線を示すもので、例えば、横方向の波線の凹部４２Ｌは、以下の式（１）によって表せる。この時、式（１）をｘに対して微分することにより、曲線の傾きが式（２）のとおり求められる。このことから、曲線の中心線と波線の角度Ｋは式（３）で求められ、Ｋが取り得る値の範囲は、式（４）で表される。よって、Ｋを常に±３０度の範囲内に保とうとした場合、式（５）の条件を満たせばよい。

式（１） ｙ＝（Ａ／２）sin（２πｘ／Ｔ）
式（２） ｙ’＝（Ａπ／Ｔ）cos（２πｘ／Ｔ）
式（３） Ｋ＝tan^-1｛（Ａπ／Ｔ）cos（２πｘ／Ｔ）｝
式（４） −tan^-1（Ａπ／Ｔ）≦Ｋ≦tan^-1（Ａπ／Ｔ）
式（５）（Ａπ／Ｔ）≦（１／√３）
ｘ、ｙ：潜像体上の縦横座標
ｙ’ ：曲線の傾き
Ｔ ：曲線の１周期分
Ａ ：振幅幅

式（１）の正弦関数ｓｉｎの括弧内に定数を加えても、式（５）導出に至る議論及び式（５）の結果には何ら影響を与えない。よって、式（１）の代わりに位相の異なる正弦関数又は余弦関数を用いても構わない。

また、縦方向の波線の凹部４１Ｌについても同様の議論をすることにより、式（５）の条件が得られる。

式（５）の条件下では曲線の中心線と波線の角度Ｋが常に３０度以下となり、この構成によって、潜像体４０を真上から視認した時に、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの凹部の反射光が、線が曲げることでより直進性が阻害されやすく、潜像画像がカモフラージュされることにより潜像画像は視認できない。なお、背景領域４１の凹部４１Ｌ又は、潜像領域４２の凹部４２Ｌのいずれか一方を、曲線にしても構わない。

（所定の観察方向から視認性）
潜像画像の視認性は、第１の実施形態と同様なため、説明は省略する。しかし、前述の角度Ｋが３０度以上になると、所定の観察方向で視認した場合、凹部４１Ｌ又は凹部４２Ｌが整列して圧縮しないことから、潜像画像は視認し難くなる。

また、第１〜第３の実施形態において、背景領域４１の凹部４１と潜像領域４２の凹部４２が接しないことが好ましい。

実施例１は、図３に示す第１の実施形態の具体例である。基材１に、厚さ０．１０ｍｍの白色上質紙を用い、炭酸ガスレーザ加工機により、レーザ光の照射時間及び照射出力を調整することで、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの線幅Ｗ１を０．１ｍｍ、凹部４１Ｌ’及び凹部４２Ｌ’の線幅Ｗ２を０．１２ｍｍ、凹部の間隔Ｐは０．２５ｍｍ、すべての凹部の深度は０．０５ｍｍで、潜像体４０を形成した。この結果、潜像体４０を真上から視認した時は視認画像、斜めから視認したときには、潜像画像がそれぞれ視認できた。

実施例２は、図７に示す第２の実施形態の具体例である。基材１に、厚さ０．１０ｍｍの白色上質紙を用い、炭酸ガスレーザ加工機により、レーザ光の照射時間及び照射出力を調整することで、凹部４１Ｌ、凹部４１Ｌ’、凹部４２Ｌ及び凹部４２Ｌ’の線幅Ｗ１を０．１０ｍｍ、凹部の間隔Ｐは０．２５ｍｍ、全ての凹部の深度は０．０８ｍｍで、潜像体４０を形成した。また、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌは基材と同色、凹部４１Ｌ’及び凹部４２Ｌ’は黒色である。この結果、潜像体４０を真上から視認した時は視認画像、斜めから視認したときは潜像画像がそれぞれ視認できた。

実施例３は、図８に示す第３の実施形態の具体例である。基材１に、厚さ０．１０ｍｍの白色上質紙を用い、炭酸ガスレーザ加工機により、レーザ光の照射時間及び照射出力を調整することで、凹部４１Ｌ及び凹部４２Ｌの線幅Ｗ１を０．１０ｍｍ、凹部の間隔Ｐは０．２５ｍｍ、すべての凹部の深度は０．０５ｍｍで、潜像体４０を形成した。曲線としては、前述の式を用いて、Ｔは１６ｍｍ、Ａは２ｍｍとして作成した。この結果、潜像体４０を真上から視認した時は、背景領域４１の凹部４１Ｌと潜像領域４２の凹部４２Ｌから成る潜像体画像、斜めから視認したときには潜像画像がそれぞれ視認できた。なお、実施例１〜実施例３では、潜像体４０を真上から視認した時に、潜像画像は視認できない。

本発明の概要図である。 本発明における第１の実施形態である潜像体の構成図である。 本発明の第１の実施形態におけるカモフラージュ領域の構成図である。 本発明における第１の実施形態の潜像体の断面図と真上から視認した場合の模式図である。 本発明における潜像体を真上から視認した時の視認画像である。 本発明における潜像体を所定の観察方向から視認した時の潜像画像である。 本発明の第２の実施形態におけるカモフラージュ領域の構成図である。 本発明における第３の実施形態の潜像体の線構成図である。 従来例の概要図である。

符号の説明

１ 偽造防止用紙
２ 基材
３ 情報
４０ 潜像体
４１ 背景領域
４１Ｌ、４１Ｌ’ 凹部
４２ 潜像領域
４２Ｌ、４２Ｌ’ 凹部
４３ カモフラージュ領域
Ｗ１、Ｗ２ 線幅
Ｐ 凹部（線）と凹部（線）の間隔

Claims (10)

1. 基材表面の少なくとも一部に、凹部による線状の潜像体を有する偽造防止用紙であって、
   前記潜像体は、規則的に配列された複数の直線から成る背景領域と、
   前記背景領域の直線と等間隔で、かつ、前記背景領域に垂直に規則的に配置された複数の直線から成る潜像領域と、
   前記背景領域の直線の一部と、前記潜像領域の直線の一部の線幅を異ならせて形成されたカモフラージュ領域から成る偽造防止用紙。
2. 前記カモフラージュ領域の直線の線幅は、前記背景領域及び前記潜像領域の直線の線幅に対し、１．１〜１．５倍であることを特徴とする請求項１記載の偽造防止用紙。
3. 基材表面の少なくとも一部に、凹部による線状の潜像体を有する偽造防止用紙であって、
   前記潜像体は、規則的に配列された複数の直線から成る背景領域と、
   前記背景領域の直線と等間隔で、かつ、前記背景領域に垂直に規則的に配置された複数の直線から成る潜像領域と、
   前記背景領域の直線の一部と、前記潜像領域の直線の一部の色を、基材並びに前記背景領域及び前記潜像領域の他の部分の直線の色と異なる色で形成したカモフラージュ領域から成る偽造防止用紙。
4. 前記背景領域の直線の線幅と、前記潜像領域の直線の線幅とが同一であることを特徴とする請求項３記載の偽造防止用紙。
5. 基材表面の少なくとも一部に、凹部による線状の潜像体を有する偽造防止用紙であって、
   前記潜像体は、規則的に配列された複数の波線から成る背景領域と、
   前記背景領域の波線と等間隔、同一の線幅、かつ、前記背景領域に垂直に規則的に配置された複数の波線から成る潜像領域とから構成された偽造防止用紙。
6. 前記波線は正弦波の形状をした曲線であり、前記正弦波の周期長が振幅幅の（π×√３）倍以上であることを特徴とする請求項５記載の偽造防止用紙。
7. 前記背景領域及び前記潜像領域の線幅が、０．０５〜０．２０ｍｍであることを特徴とする請求項１〜６記載の偽造防止用紙。
8. 基材表面の少なくとも一部に、非貫通の凹部の線状により形成された背景領域と潜像領域から成る潜像体を含んだ偽造防止用紙の作製方法であって、
   前記背景領域は、複数の直線を規則的に配列し、
   前記潜像領域は、前記背景領域の直線と等間隔で、かつ、前記背景領域に垂直に複数の直線を規則的に配置し、
   前記背景領域の直線の一部と、前記潜像領域の直線の一部の線幅を異ならせてカモフラージュ領域を形成することを特徴とする偽造防止用紙の作製方法。
9. 基材表面の少なくとも一部に、非貫通の凹部の線状により形成された背景領域と潜像領域から成る潜像体を含んだ偽造防止用紙の作製方法であって、
   前記背景領域は、複数の直線を規則的に配列し、
   前記潜像領域は、前記背景領域の直線と等間隔で、かつ、前記背景領域に垂直に複数の直線を規則的に配置し、
   前記背景領域の直線の一部と、前記潜像領域の直線の一部の色を、基材並びに前記背景領域及び前記潜像領域の他の部分の直線の色と異なる色でカモフラージュ領域を形成することを特徴とする偽造防止用紙の作製方法。
10. 基材表面の少なくとも一部に、非貫通の凹部の線状により形成された背景領域と潜像領域から成る潜像体を含んだ偽造防止用紙の作製方法であって、
    前記背景領域は、複数の波線を規則的に配列し、
    前記潜像領域は、前記背景領域の波線と等間隔、同一の線幅、かつ、前記背景領域に垂直に規則的に配置することを特徴とする偽造防止用紙の作製方法。

Images