JP2009076749A - Led apparatus, and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the luminance of an LED apparatus high (improve its light intensity) and reduce its color mixing unevenness, i.e., make its luminescent color uniform in the LED apparatus for obtaining its luminescence of a desired color by using a phosphor. <P>SOLUTION: The LED apparatus comprises a group III nitride-based compound semiconductor light-emitting element manufactured by a laser lift-off method and a phosphor layer formed on the top surface of the light-emitting surface of the light-emitting element by a spray-coating method. The phosphor layer is formed by spray-coating the coating material comprising a resin, the phosphor 10, and a volatile organic solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明はLED装置及びその製造方法に関する。詳しくは、蛍光体を利用して所望の発光色を得るLED装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an LED device and a manufacturing method thereof. Specifically, the present invention relates to an LED device that obtains a desired emission color using a phosphor and a method for manufacturing the LED device.

用途の拡大に伴い、LED装置の更なる高輝度化が要請されている。白色光を発光するLED装置に代表されるように、蛍光体を利用して所望の発光色を得るLED装置の場合、LED素子の近傍に蛍光体を高濃度で付着させることが高輝度化に有利とされている。LED素子に蛍光体を付着させる方法として、メタルマスクを用いて蛍光体ペーストをLED素子表面に印刷する方法が知られている(例えば特許文献1を参照)。しかしながら、当該方法では、メタルマスクの厚さに限界があり、例えば50μm以下といった非常に薄い蛍光体層を形成することが困難である。また、メタルマスクがワイヤと接触してしまうことから、ワイヤボンディング後の素子表面への蛍光体層の形成には当該方法は使用できない。
一方、スプレーコートにより蛍光体層を形成する方法が知られている(例えば特許文献2、3を参照)。
特開2005−311395号公報 特開2003−115614号公報 特開2004−88013号公報
Along with the expansion of applications, there is a demand for higher brightness of LED devices. As represented by LED devices that emit white light, in the case of an LED device that obtains a desired emission color using a phosphor, attaching a phosphor in the vicinity of the LED element at a high concentration increases the brightness. It is considered advantageous. As a method of attaching a phosphor to an LED element, a method of printing a phosphor paste on the surface of the LED element using a metal mask is known (see, for example, Patent Document 1). However, in this method, the thickness of the metal mask is limited, and it is difficult to form a very thin phosphor layer of, for example, 50 μm or less. Further, since the metal mask comes into contact with the wire, this method cannot be used for forming the phosphor layer on the element surface after wire bonding.
On the other hand, a method of forming a phosphor layer by spray coating is known (see, for example, Patent Documents 2 and 3).
JP 2005-311395 A JP 2003-115614 A JP 2004-88013 A

本発明は、蛍光体を利用して所望の色の発光を得るLED装置において、高輝度化(光度の向上)を図ることを課題とする。また、混色ムラの軽減、即ち発光色の均一化を図ることも課題とする。   An object of the present invention is to achieve high brightness (improvement of luminous intensity) in an LED device that obtains light of a desired color using a phosphor. Another object of the present invention is to reduce uneven color mixing, that is, to achieve uniform emission color.

上記課題を解決すべく本発明は以下の構成のLED装置を提供する。即ち、
レーザリフトオフ法により製造されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子と、スプレーコートにより該発光素子の上面発光面に形成された蛍光体層と、を備えてなるLED装置である。
In order to solve the above problems, the present invention provides an LED device having the following configuration. That is,
An LED device comprising: a group III nitride compound semiconductor light emitting device manufactured by a laser lift-off method; and a phosphor layer formed on a top light emitting surface of the light emitting device by spray coating.

本発明のLED装置では、蛍光体層の形成方法にスプレーコートを採用することによって、発光素子の上面発光面の上に、蛍光体を高濃度で含有する薄い蛍光体層が形成される。これにより高輝度の(光度の高い)LED装置となる。
一方、レーザリフトオフ法により製造されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子では、側面から取り出される光に比して上面発光面からの取り出される光の量が圧倒的に多い。従って、混色ムラの大きな原因となる、発光素子の側方での蛍光体による光変換を実質的に無視できる。その結果、混色ムラの極めて少ない高品質のLED装置となる。
In the LED device of the present invention, a thin phosphor layer containing phosphor at a high concentration is formed on the top light emitting surface of the light emitting element by adopting spray coating as the phosphor layer forming method. Thereby, it becomes a high-intensity (high luminous intensity) LED device.
On the other hand, in the group III nitride compound semiconductor light emitting device manufactured by the laser lift-off method, the amount of light extracted from the top light emitting surface is overwhelmingly larger than the light extracted from the side surface. Therefore, light conversion by the phosphor on the side of the light emitting element, which is a major cause of uneven color mixing, can be substantially ignored. As a result, a high-quality LED device with very little color mixing unevenness is obtained.

本発明の第1の局面はLED装置に関する。以下、本発明のLED装置について構成要素毎に説明する。   A first aspect of the present invention relates to an LED device. Hereinafter, the LED device of the present invention will be described for each component.

(発光素子)
本発明のLED装置は、レーザリフトオフ法により製造されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子を備える。レーザリフトオフ(LLO)法とは、基板上に半導体層を積層した後、高出力のレーザ光を照射して物質内部を部分的に加熱分解することによって、当該部分を境に分離する方法である。本明細書において「レーザリフトオフ法により製造されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子」とは、レーザリフトオフ法を利用して基板の貼り替えを行ったIII族窒化物系化合物半導体素子のことをいう。III族窒化物系化合物半導体発光素子の場合、サファイア等の成長用基板を除去した後、シリコン基板、GaN基板、GaAs基板等が貼り付けられる。尚、説明の便宜上、以下ではレーザリフトオフ法により製造されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子のことを省略して「LLO素子」と呼ぶ。
(Light emitting element)
The LED device of the present invention includes a group III nitride compound semiconductor light emitting device manufactured by a laser lift-off method. The laser lift-off (LLO) method is a method in which a semiconductor layer is stacked on a substrate and then irradiated with a high-power laser beam to partially thermally decompose the substance, thereby separating the portion at the boundary. . In this specification, the “Group III nitride compound semiconductor light-emitting device manufactured by the laser lift-off method” refers to a Group III nitride compound semiconductor device in which the substrate is replaced by using the laser lift-off method. Say. In the case of a group III nitride compound semiconductor light emitting device, after removing the growth substrate such as sapphire, a silicon substrate, a GaN substrate, a GaAs substrate or the like is attached. For convenience of explanation, a group III nitride compound semiconductor light-emitting device manufactured by a laser lift-off method will be omitted below and referred to as an “LLO device”.

この明細書において、III族窒化物系化合物半導体は一般式としてAlGaIn1−X−YN(0≦X≦1、0≦Y≦1、0≦X+Y≦1)で表され、AlN、GaN及びInNのいわゆる2元系、AlGa1−xN、AlIn1−xN及びGaIn1−xN(以上において0<x<1)のいわゆる3元系を包含する。III族元素の一部をボロン(B)、タリウム(Tl)等で置換しても良く、また、窒素(N)の一部もリン(P)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、ビスマス(Bi)等で置換できる。III族窒化物系化合物半導体層は任意のドーパントを含むものであっても良い。n型不純物として、Si、Ge、Se、Te、C等を用いることができる。p型不純物として、Mg、Zn、Be、Ca、Sr、Ba等を用いることができる。なお、p型不純物をドープした後にIII族窒化物系化合物半導体を電子線照射、プラズマ照射若しくは炉による加熱にさらすことも可能である。III族窒化物系化合物半導体層の形成方法は特に限定されないが、有機金属気相成長法(MOCVD法)のほか、周知の分子線結晶成長法(MBE法)、ハライド気相成長法(HVPE法)、スパッタ法、イオンプレーティング法、電子シャワー法等によっても形成することができる。 In this specification, the group III nitride compound semiconductor is represented by a general formula of Al X Ga Y In 1- XYN (0 ≦ X ≦ 1, 0 ≦ Y ≦ 1, 0 ≦ X + Y ≦ 1), Includes so-called binary systems of AlN, GaN and InN, so-called ternary systems of Al x Ga 1-x N, Al x In 1-x N and Ga x In 1-x N (above 0 <x <1) To do. Part of group III elements may be substituted with boron (B), thallium (Tl), etc., and part of nitrogen (N) may also be phosphorus (P), arsenic (As), antimony (Sb), bismuth. It can be replaced with (Bi) or the like. The group III nitride compound semiconductor layer may contain an arbitrary dopant. Si, Ge, Se, Te, C, or the like can be used as the n-type impurity. Mg, Zn, Be, Ca, Sr, Ba, or the like can be used as the p-type impurity. It is also possible to expose the group III nitride compound semiconductor to electron beam irradiation, plasma irradiation or heating by a furnace after doping with a p-type impurity. The formation method of the group III nitride compound semiconductor layer is not particularly limited. In addition to the metal organic chemical vapor deposition method (MOCVD method), the known molecular beam crystal growth method (MBE method), halide vapor phase epitaxy method (HVPE method). ), A sputtering method, an ion plating method, an electron shower method, or the like.

尚、発光素子の構成としては、MIS接合、PIN接合やpn接合を有したものや、ホモ構造、ヘテロ構造若しくはダブルへテロ構造のものを用いることができる(これらの場合、発光に寄与する層を発光層という)。発光層として量子井戸構造(単一量子井戸構造若しくは多重量子井戸構造)を採用することもできる。   As a structure of the light emitting element, a structure having a MIS junction, a PIN junction or a pn junction, a homo structure, a hetero structure, or a double hetero structure can be used (in these cases, a layer contributing to light emission). Is called a light emitting layer). A quantum well structure (single quantum well structure or multiple quantum well structure) can also be adopted as the light emitting layer.

(蛍光体層)
本発明のLED装置は、スプレーコートにより発光素子の上面発光面に形成された蛍光体層を備える。蛍光体層の具体的な形成方法は後述する。蛍光体層の厚さは特に限定されない。但し、蛍光体層の形成法としてスプレーコートを採用した本発明では、蛍光体層を非常に薄くすることが可能である。蛍光体層の厚さは例えば10μm〜25μmであり、好ましくは15μm〜21μmである。また、蛍光体の粒径は好ましくは1〜10μmである。このように粒径の小さな蛍光体を使用することによって、薄くても蛍光体含量の多い蛍光体層となり、所望の光変換を達成しつつ、LED装置の光度も向上する。
(Phosphor layer)
The LED device of the present invention includes a phosphor layer formed on the top light emitting surface of the light emitting element by spray coating. A specific method for forming the phosphor layer will be described later. The thickness of the phosphor layer is not particularly limited. However, in the present invention that employs spray coating as a method for forming the phosphor layer, the phosphor layer can be made very thin. The thickness of the phosphor layer is, for example, 10 μm to 25 μm, preferably 15 μm to 21 μm. The particle size of the phosphor is preferably 1 to 10 μm. By using a phosphor having a small particle size in this way, a phosphor layer having a large phosphor content is obtained even if it is thin, and the luminous intensity of the LED device is improved while achieving desired light conversion.

(発光色)
本発明のLED装置は、LLO素子からの光と蛍光体からの光の混色により所望の色で発光する。発光色はLLO素子の発光色(発光波長)と、蛍光体の蛍光色に依存する。一形態において本発明のLED装置は白色光を発光する。例えば、青色系の光を発光するLLO素子(青色系LED素子)と、青色系の光により励起されて黄色系の蛍光を発する蛍光体(黄色系蛍光体)を組み合わせれば、白色光を発光するLED装置を構成できる。青色LED素子として、例えば、主発光ピーク波長が440nm〜500nmの範囲にあるものを用いることができる。好ましくは主発光ピーク波長が450nm〜490nmの範囲にあるものを用いる。
(Luminescent color)
The LED device of the present invention emits light in a desired color by mixing the light from the LLO element and the light from the phosphor. The emission color depends on the emission color (emission wavelength) of the LLO element and the fluorescent color of the phosphor. In one form, the LED device of the present invention emits white light. For example, combining an LLO element that emits blue light (blue LED element) and a phosphor that emits yellow fluorescence when excited by blue light (yellow phosphor) emits white light. LED device can be configured. As the blue LED element, for example, one having a main emission peak wavelength in the range of 440 nm to 500 nm can be used. Preferably, those having a main emission peak wavelength in the range of 450 nm to 490 nm are used.

黄色系蛍光体としては例えば、一般式Y3−xGdAl5−yGa12:Ce(0≦x≦3、0≦y≦5)で表されるイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(YAG系蛍光体)を好適に用いることができる。かかる蛍光体は、青色系の光を黄色ないし黄緑色系の光に効率よく変換する。上記一般式において、イットリウム(Y)の一部又は全部をLu又はLaに置換したものを用いることもでき、また、アルミニウム(Al)の一部又は全部をIn又はScに置換したものを用いることもできる。
黄色系蛍光体として、(Ca0.49Mg0.50(Sc0.750.25Si12.015:Ce3+、(Ca0.99ScSi12.015:Ce3+、(Ca0.49Mg0.50(Sc0.500.50Si12.015:Ce3+、(Ca0.49Mg0.50(Sc0.50Lu0.50Si12.015:Ce3+、BOS(barium ortho-Silicate)系蛍光体(Ba,Sr,Ca)SiO:Eu2+、Eu0.5Si9.75Al2.2515.250.75(Eu−アルファサイアロン)等を用いることもできる。
The yellow phosphor for example, the general formula Y 3-x Gd x Al 5 -y Ga y O 12: Ce (0 ≦ x ≦ 3,0 ≦ y ≦ 5) yttrium-aluminum-garnet fluorescent represented by The body (YAG phosphor) can be suitably used. Such a phosphor efficiently converts blue light into yellow or yellow-green light. In the above general formula, yttrium (Y) partially or wholly substituted with Lu or La can be used, and aluminum (Al) partially or entirely replaced with In or Sc. You can also.
As the yellow phosphor, (Ca 0.49 Mg 0.50 ) 3 (Sc 0.75 Y 0.25 ) 2 Si 3 O 12.015 : Ce 3+ , (Ca 0.99 ) 3 Sc 2 Si 3 O 12.015 : Ce 3+ , (Ca 0.49 Mg 0.50 ) 3 (Sc 0.50 Y 0.50 ) 2 Si 3 O 12.015 : Ce 3+ , (Ca 0.49 Mg 0.50 ) 3 (Sc 0.50 Lu 0.50 ) 2 Si 3 O 12.015 : Ce 3+ , BOS (barium ortho-Silicate) phosphor (Ba, Sr, Ca) 2 SiO 4 : Eu 2+ , Eu 0.5 Si 9.75 Al 2.25 N 15.25 O 0.75 (Eu-alpha sialon) or the like can also be used.

白色光を得るためのLLO素子と蛍光体の組合せは上記の例に限られるものではない。一例を示せば、LLO素子として近紫外領域の光を発光する素子(近紫外LED素子)を使用し、蛍光体として青色系蛍光体と黄色系蛍光体を併用する。ここでの近紫外LED素子として、例えば、主発光ピーク波長が380nm〜410nmの範囲にあるものを用いることができる。近紫外光は、短波長になればなるほど人間の視覚では認識されにくく、その照射によって発光装置の外観を損なわない。この点を考慮して、好ましくは主発光ピーク波長が380nm〜400nm、更に好ましくは380nm〜390nmの範囲にある近紫外LED素子を用いることが好ましい。一方、ここでの青色系蛍光体には、近紫外LED素子からの光によって励起されて青色系の光を発光するものを使用すればよい。また、黄色系蛍光体には、近紫外LED素子からの光又は青色系蛍光体の蛍光によって黄色系の蛍光を発するものを使用すればよい。尚、青色系蛍光体には、(Ba,Ca,Mg)(POCl:Eu2+、(Ba,Mg)Al1627:Eu2+、BaMgSi:Eu2+、BaMgAl1627:Eu2+、(Sr,Ca,Ba)10(PO・Cl:Eu2+、Sr10(PO・Cl:Eu2+、等を用いることができる。 The combination of the LLO element and the phosphor for obtaining white light is not limited to the above example. For example, an element that emits light in the near ultraviolet region (near ultraviolet LED element) is used as the LLO element, and a blue phosphor and a yellow phosphor are used in combination as the phosphor. As the near ultraviolet LED element here, for example, one having a main emission peak wavelength in the range of 380 nm to 410 nm can be used. Near-ultraviolet light is less easily recognized by human vision as the wavelength becomes shorter, and the appearance of the light-emitting device is not impaired by the irradiation. Considering this point, it is preferable to use a near-ultraviolet LED element having a main emission peak wavelength of preferably 380 nm to 400 nm, more preferably 380 nm to 390 nm. On the other hand, what emits blue light when excited by the light from the near ultraviolet LED element may be used as the blue phosphor here. Further, as the yellow fluorescent material, a material that emits yellow fluorescent light by the light from the near ultraviolet LED element or the blue fluorescent material may be used. The blue phosphor includes (Ba, Ca, Mg) 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu 2+ , (Ba, Mg) 2 Al 16 O 27 : Eu 2+ , Ba 3 MgSi 2 O 8 : Eu 2+. BaMg 2 Al 16 O 27 : Eu 2+ , (Sr, Ca, Ba) 10 (PO 4 ) 6 · Cl 2 : Eu 2+ , Sr 10 (PO 4 ) 6 · Cl 2 : Eu 2+ , etc. it can.

蛍光体は、使用するレーザリフトオフ素子の発光色、LED装置の発光色などを考慮して適宜選択されるものであり、上記の黄色系蛍光体及び青色系蛍光体に限られるものではない。以下、赤色系蛍光体及び緑色蛍光体の一例を示す。
赤色系蛍光体としては例えば、Y:Eu、YS:Eu、(Y,La)O:Eu、(Ca,Sr)S:Eu、YAl12:Eu、Y(Al,Ga)12:Eu、SrY:Eu、YS:Eu,Bi、YVO:Eu,Bi、SrS:Eu、CaLa:Ce、Eu0.0005Ca0.9995AlSiN等を採用することができる。
The phosphor is appropriately selected in consideration of the emission color of the laser lift-off element to be used, the emission color of the LED device, and the like, and is not limited to the above-described yellow phosphor and blue phosphor. Hereinafter, an example of a red phosphor and a green phosphor will be shown.
Examples of red phosphors include Y 2 O 3 : Eu, Y 2 O 2 S: Eu, (Y, La) O 3 : Eu, (Ca, Sr) S: Eu, and Y 2 Al 5 O 12 : Eu. Y 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Eu, SrY 2 S 4 : Eu, Y 2 O 2 S: Eu, Bi, YVO 4 : Eu, Bi, SrS: Eu, CaLa 2 S 4 : Ce, Eu 0.0005 Ca 0.9995 AlSiN 3 or the like can be employed.

緑色系蛍光体としては例えば、(Y,Ce)(Al,Ga)12:Tb、BaMgAl1017:Eu、BaMgSi:Eu、(Sr,Ca,Ba)(Al,Ga):Eu、BaSiO:Eu、YBO:Ce,Tb、(Ca,Sr)p/2Si12−p−qAlp+q1−qN:Ce、CaMg(SiOCl:Eu、SrAl:Eu、SrAl1425:Eu、(Ca0.99ScSi12.015:Ce3+、(Ca0.49Zn0.50ScSi12.015:Ce3+等を採用することができる。 Examples of green phosphors include (Y, Ce) 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Tb, BaMgAl 10 O 17 : Eu, Ba 2 MgSi 2 O 7 : Eu, (Sr, Ca, Ba) (Al , Ga) 2 S 4: Eu , BaSiO 4: Eu, YBO 3: Ce, Tb, (Ca, Sr) p / 2 Si 12-p-q Al p + q O 1-q N: Ce, Ca 8 Mg (SiO 4 ) 4 Cl 2 : Eu, SrAl 2 O 4 : Eu, SrAl 14 O 25 : Eu, (Ca 0.99 ) 3 Sc 2 Si 3 O 12.015 : Ce 3+ , (Ca 0.49 Zn 0.50 ) 3 Sc 2 Si 3 O 12.15 : Ce 3+ can be employed.

複数種類の蛍光体を組み合わせて使用することにしてもよい。最終的に所望の発光色が得られる限り、その場合の組合せは任意である。同系色の蛍光体を二種類以上組み合わせることにしてもよい。   A plurality of types of phosphors may be used in combination. As long as the desired emission color is finally obtained, the combination in that case is arbitrary. Two or more kinds of phosphors of similar colors may be combined.

(LED装置のタイプ)
本発明のLED装置は、例えば、表面実装型(SMDタイプ)やレンズ型(例えば砲弾型のレンズを有するもの)のLEDランプとしてパッケージングされる。或いは、発光素子が実装基板に直接実装された、いわゆるチップ・オン・ボードタイプであってもよい。
(LED device type)
The LED device of the present invention is packaged as, for example, a surface mount type (SMD type) or lens type (for example, one having a bullet type lens). Alternatively, a so-called chip-on-board type in which the light emitting element is directly mounted on the mounting substrate may be used.

(LED装置の製造方法)
本発明の第2の局面は、高輝度で発光し、且つ混色ムラの少ないLED装置を製造するための製造方法を提供する。本発明の製造方法は本発明のLED装置の製造に好適であるが、フリップチップ実装される発光素子を用いたLED装置やフェースアップ実装される通常の(即ちLLO素子でない)発光素子を用いたLED装置など、様々な種類のLED装置の製造にも適用可能である。
(Manufacturing method of LED device)
The second aspect of the present invention provides a manufacturing method for manufacturing an LED device that emits light with high luminance and has little color mixing unevenness. Although the manufacturing method of the present invention is suitable for manufacturing the LED device of the present invention, an LED device using a light emitting element mounted by flip chip or a normal light emitting element (that is not an LLO element) mounted face-up is used. The present invention can also be applied to manufacturing various types of LED devices such as LED devices.

本発明の製造方法では、基板に実装されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子を用意する第1工程、樹脂、蛍光体及び揮発性有機溶剤からなる塗料を用意し、スプレーコートにより該塗料を前記発光素子の上面発光面にコートする第2工程、コートされた塗料を乾燥・硬化する第3工程を順に実施する。本発明の製造方法では、揮発性有機溶剤を用いた塗料を使用して蛍光体層を形成することから、樹脂に対して高濃度で蛍光体を添加してもコーティング時には粘度を下げて作業性を向上させることができる。その一方で、コーティング後には塗料中の溶剤を揮発させることによって、蛍光体を高濃度で含有する蛍光体層が得られる。   In the production method of the present invention, a first step of preparing a group III nitride compound semiconductor light-emitting device mounted on a substrate, a paint comprising a resin, a phosphor and a volatile organic solvent is prepared, and the paint is applied by spray coating. A second step of coating the top light emitting surface of the light emitting element and a third step of drying and curing the coated paint are sequentially performed. In the production method of the present invention, the phosphor layer is formed using a paint using a volatile organic solvent. Therefore, even if the phosphor is added at a high concentration relative to the resin, the viscosity is lowered during coating and the workability is improved. Can be improved. On the other hand, after coating, the phosphor layer containing the phosphor in a high concentration can be obtained by volatilizing the solvent in the paint.

(第1工程)
この工程では基板に実装されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子を用意する。ここでの発光素子として、好ましくはLLO素子が用いられるが、フリップチップ実装される発光素子やフェースアップ実装される発光素子を用いることもできる。発光素子の基板への実装(ペースト材料を用いた基板上へのマウント、ワイヤボンディングなど)は常法で行えば良い。尚、必要に応じてサブマウント基板が使用される。
蛍光体からの蛍光との混色によって最終的に所望の色の発光が得られるよう、発光素子の発光色を決定する。例えば白色光を発光可能なLED装置を構成することにし、青色系発光素子を採用する。
(First step)
In this step, a group III nitride compound semiconductor light emitting device mounted on a substrate is prepared. As the light-emitting element here, an LLO element is preferably used, but a light-emitting element that is flip-chip mounted or a light-emitting element that is face-up mounted can also be used. Mounting of the light emitting element on the substrate (mounting on the substrate using a paste material, wire bonding, etc.) may be performed by a conventional method. A submount substrate is used as necessary.
The light emission color of the light emitting element is determined so that light emission of a desired color is finally obtained by color mixture with fluorescence from the phosphor. For example, an LED device capable of emitting white light is configured, and a blue light emitting element is employed.

(第2工程)
この工程ではまず、樹脂、蛍光体及び揮発性有機溶剤からなる塗料を用意する。樹脂として好ましくはシリコーン樹脂を使用する。その理由は耐熱性に優れ、耐光性も良好だからである。シリコーン樹脂以外にはエポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等を使用することもできる。
発光素子の発光色(発光波長)、最終的に得られるLED装置の発光色などを考慮して適当な蛍光体を選択する。例えば、白色光を発光可能なLED装置を構成することにし、そして青色系発光素子を採用することにした場合は、黄色系蛍光体を採用すればよい。黄色系蛍光体の例は、本発明の第1の局面において説明した通りである。蛍光体の粒径は例えば1〜25μm、好ましくは1〜10μmである。粒径の小さい蛍光体を使用することによって蛍光体層の蛍光体濃度(密度)を高めることができる。
(Second step)
In this step, first, a paint made of resin, phosphor and volatile organic solvent is prepared. A silicone resin is preferably used as the resin. The reason is that it has excellent heat resistance and good light resistance. In addition to the silicone resin, an epoxy resin, a urethane resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, or the like can also be used.
An appropriate phosphor is selected in consideration of the emission color (emission wavelength) of the light emitting element, the emission color of the finally obtained LED device, and the like. For example, when a LED device capable of emitting white light is configured and a blue light emitting element is employed, a yellow phosphor may be employed. Examples of the yellow phosphor are as described in the first aspect of the present invention. The particle size of the phosphor is, for example, 1 to 25 μm, preferably 1 to 10 μm. By using a phosphor having a small particle diameter, the phosphor concentration (density) of the phosphor layer can be increased.

塗料における樹脂と蛍光体の含有比率を、樹脂20重量部に対して蛍光体60重量部〜100重量部にすることが好ましい。本発明の特徴の一つは、このように蛍光体の濃度(密度)が高い塗料を使用することにある。この特徴に加え、蛍光体層の形成方法としてスプレーコートを採用するという特徴によって、蛍光体を高濃度で含有する薄い蛍光体層を発光素子表面に形成することができ、もってLED装置の光度が向上する。   The content ratio of the resin and the phosphor in the coating is preferably 60 to 100 parts by weight with respect to 20 parts by weight of the resin. One of the features of the present invention resides in the use of a paint having a high phosphor concentration (density). In addition to this feature, a thin phosphor layer containing a high concentration of phosphor can be formed on the surface of the light emitting element by adopting spray coating as a method for forming the phosphor layer, and thus the luminous intensity of the LED device can be increased. improves.

使用する樹脂に応じて適当な揮発性有機溶剤が採用される。即ち、使用する樹脂を溶解可能であり且つ揮発性である限り有機溶剤の種類は特に限定されない。樹脂としてシリコーン樹脂やエポキシ樹脂を使用する場合には例えばヘキサン、トルエン、キシレン等を使用することができる。溶剤は、塗料がスプレーコートに適した粘度になるように必要量添加される。スプレーガンを使用する場合には、塗料の粘度が概ね0.01〜0.10Pa・sの範囲に入るように溶剤を添加する。この粘度範囲の塗料を使用すれば、形成される蛍光体層の膜厚や塗布範囲などを制御し易い。
樹脂、蛍光体及び溶剤の混合順序は特に限定されるものではないが、はじめに樹脂と溶剤を混合した後、蛍光体を添加するとよい。この混合順序にすれば蛍光体の添加・混合の際に空気が取り込まれることを防止できる。従って、脱泡操作が不要となる。また、蛍光体の会合も防止され、蛍光体が一様に分散した塗料が得られる。
A suitable volatile organic solvent is employed depending on the resin used. That is, the type of the organic solvent is not particularly limited as long as the resin used can be dissolved and is volatile. When a silicone resin or an epoxy resin is used as the resin, for example, hexane, toluene, xylene, or the like can be used. The solvent is added in a necessary amount so that the paint has a viscosity suitable for spray coating. When using a spray gun, the solvent is added so that the viscosity of the paint is in the range of about 0.01 to 0.10 Pa · s. If a paint having this viscosity range is used, it is easy to control the film thickness, coating range, etc. of the phosphor layer to be formed.
The mixing order of the resin, the phosphor and the solvent is not particularly limited, but it is preferable to add the phosphor after first mixing the resin and the solvent. This mixing order can prevent air from being taken in during the addition and mixing of the phosphors. Therefore, the defoaming operation becomes unnecessary. Further, the association of the phosphors is prevented, and a paint in which the phosphors are uniformly dispersed is obtained.

次に、以上のようにして用意した塗料を用いて、発光素子の上面発光面の上に蛍光体層を形成する。即ち、スプレーコートにより発光素子の上面発光面をコートする。スプレーコートは例えばスプレーガンによって実施すればよい。また、マイクロペンシルガンによるスプレーコート、インクジェット方式のスプレーコートを利用することにしてもよい。これらの方法によれば発光素子の上面のみに選択的なコートを施すことができ、塗料のロスが少なくなる。塗料層(蛍光体層)の膜厚が例えば10μm〜25μm、好ましくは15μm〜21μmとなるように操作条件を設定する。   Next, a phosphor layer is formed on the top light emitting surface of the light emitting element using the coating material prepared as described above. That is, the top light emitting surface of the light emitting element is coated by spray coating. The spray coating may be performed with a spray gun, for example. Alternatively, spray coating using a micro pencil gun or inkjet spray coating may be used. According to these methods, a selective coating can be applied only to the upper surface of the light emitting element, and paint loss is reduced. The operating conditions are set so that the thickness of the paint layer (phosphor layer) is, for example, 10 μm to 25 μm, preferably 15 μm to 21 μm.

上面発光面に加えて、発光素子の側面も上記塗料でコートすることにしてもよい。即ち、実装された発光素子において光が出射する全領域を上記塗料でコートすることにしてもよい。   In addition to the top light-emitting surface, the side surface of the light-emitting element may be coated with the paint. That is, the entire area where light is emitted from the mounted light emitting element may be coated with the paint.

以上の通り、第2工程では樹脂、蛍光体及び揮発性有機溶剤からなる塗料を用意し、当該塗料を用いたスプレーコートにより蛍光体層を形成するが、揮発性有機溶剤で希釈した樹脂を先に発光素子の上面にコートした後、蛍光体粉体のみをスプレーコート(粉体塗装)することにしてもよい。   As described above, in the second step, a paint composed of a resin, a phosphor and a volatile organic solvent is prepared, and a phosphor layer is formed by spray coating using the paint, but the resin diluted with the volatile organic solvent is first used. Alternatively, after coating the upper surface of the light emitting element, only the phosphor powder may be spray coated (powder coating).

(第3工程)
この工程ではコートされた塗料を乾燥・硬化する。この工程によって溶剤が揮発するとともに樹脂が硬化し、蛍光体層が完成する。均一で且つ欠陥のない蛍光体層を形成するため、好ましくはこの工程を以下の2段階で行う。まず、25℃〜70℃の条件下で乾燥させる。溶剤を十分に揮発させるために例えば1時間〜2時間程度、この温度条件で放置する。次に、樹脂の硬化温度まで昇温した後、十分な時間(例えば1〜5時間程度)保持することによって樹脂を完全に硬化させる。塗料にシリコーン樹脂を使用した場合には、ここでの硬化温度は150℃〜170℃である。
(Third step)
In this step, the coated paint is dried and cured. Through this process, the solvent is volatilized and the resin is cured, thereby completing the phosphor layer. In order to form a uniform and defect-free phosphor layer, this step is preferably performed in the following two steps. First, it is dried under conditions of 25 ° C to 70 ° C. In order to volatilize the solvent sufficiently, it is allowed to stand at this temperature condition for about 1 to 2 hours, for example. Next, after raising the temperature to the curing temperature of the resin, the resin is completely cured by holding for a sufficient time (for example, about 1 to 5 hours). When a silicone resin is used for the paint, the curing temperature here is 150 ° C to 170 ° C.

スプレーコートでは、蛍光体ペーストを用いた印刷法のようにマスクを使用することがないため、発光素子のワイヤボンディング後(即ちワイヤが存在する状態)であっても支障なく所望のコーティングを行うことができる。また、コーティング直後に点灯検査を実施することによって即時に色度を確認でき、その場で色度の微調整も可能である。さらには、印刷法のようにマスクの位置合わせや洗浄が不要であり、コート操作も通常は数秒で済む。従って、印刷法に比較して所要時間も格段に短くなり、製造コストの面でも有利となる。   In spray coating, a mask is not used unlike the printing method using phosphor paste, so that a desired coating can be performed without any trouble even after wire bonding of the light emitting element (that is, in a state where the wire exists). Can do. Moreover, the chromaticity can be confirmed immediately by performing a lighting inspection immediately after coating, and the chromaticity can be finely adjusted on the spot. Furthermore, unlike the printing method, mask alignment and cleaning are unnecessary, and the coating operation usually takes only a few seconds. Therefore, the required time is remarkably shortened compared with the printing method, which is advantageous in terms of manufacturing cost.

(検査工程)
本発明の一態様では、第1工程と第2工程の間に発光素子の発光波長を検査し、検査の結果に応じて、第2工程のスプレーコートの条件を設定する。この検査工程を加えることによって、製造歩留まりが向上する。ここでの発光波長として、ドミナント波長又はピーク波長が採用される。これら両方を検査することにしてもよい。
尚、スプレーコートでは個別にコート量を調整できることから、このような事前検査の結果を、製造歩留まりの向上のために有効利用することができる。これに対して、蛍光体ペーストを用いた印刷法ではこのような個別の調整は困難である。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。
(Inspection process)
In one embodiment of the present invention, the emission wavelength of the light-emitting element is inspected between the first step and the second step, and the conditions for the spray coating in the second step are set according to the result of the inspection. By adding this inspection process, the manufacturing yield is improved. The dominant wavelength or peak wavelength is employed as the emission wavelength here. Both of these may be inspected.
In addition, since the coating amount can be individually adjusted in the spray coating, the result of such preliminary inspection can be effectively used for improving the manufacturing yield. On the other hand, such individual adjustment is difficult in the printing method using the phosphor paste.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

図1に蛍光体層形成前のLEDパッケージ1aの構成を示す。この状態のLEDパッケージ1aは大別してLED素子2、実装基板4、サブマウント基板6、Auワイヤからなる。LED素子2はレーザリフトオフ法により製造されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子(LLO素子)であり、青色発光する。図4に示すようにLED素子2ではシリコン基板2bの上にIII族窒化物系化合物半導体層(発光層を含む)2aが積層している。LED素子2の製造法を簡単に説明すると、まずサファイア基板の上にMOCVD法などの定法に基づきIII族窒化物系化合物半導体層をエピタキシャル成長させる。その後、サファイア基板をレーザリフトオフ法により分離した後、シリコン基板を貼り付ける。III族窒化物系化合物半導体層の上には上面電極2cが形成される。   FIG. 1 shows the configuration of the LED package 1a before the phosphor layer is formed. The LED package 1a in this state is roughly composed of an LED element 2, a mounting substrate 4, a submount substrate 6, and an Au wire. The LED element 2 is a group III nitride compound semiconductor light emitting element (LLO element) manufactured by a laser lift-off method, and emits blue light. As shown in FIG. 4, in the LED element 2, a group III nitride compound semiconductor layer (including a light emitting layer) 2a is laminated on a silicon substrate 2b. The manufacturing method of the LED element 2 will be briefly described. First, a group III nitride compound semiconductor layer is epitaxially grown on a sapphire substrate based on a conventional method such as MOCVD. Thereafter, the sapphire substrate is separated by a laser lift-off method, and then a silicon substrate is attached. A top electrode 2c is formed on the group III nitride compound semiconductor layer.

III族窒化物系化合物半導体層の形成方法として、分子線結晶成長法(MBE法)、ハライド系気相成長法(HVPE法)、スパッタ法、イオンプレーティング法、電子シャワー法等の方法を採用することもできる。また、成長用基板としてのサファイアの代りに、スピネル、シリコン、炭化シリコン、酸化亜鉛、リン化ガリウム、ヒ化ガリウム、酸化マグネシウム、酸化マンガン等を用いることもできる。   As a method for forming a group III nitride compound semiconductor layer, methods such as molecular beam crystal growth (MBE), halide vapor deposition (HVPE), sputtering, ion plating, and electron shower are used. You can also Also, spinel, silicon, silicon carbide, zinc oxide, gallium phosphide, gallium arsenide, magnesium oxide, manganese oxide, or the like can be used instead of sapphire as the growth substrate.

次に、図2及び3を参照しながら、LED素子2の上面発光面へ蛍光体層を形成する手順を説明する。まず、蛍光体塗料を用意する。この実施例では透明シリコーン樹脂に揮発性有機溶剤のヘキサンを添加して希釈した。スプレーガンによるコーティングが行えるよう、粘度が約0.1Pa・sとなるように溶剤の添加量を調整した。次に、希釈したシリコーン樹脂に対し、シリコーン樹脂の量(希釈前の量)と蛍光体の量が重量比(w/w)で20:80となるように、平均粒径が約5μmのYAG系蛍光体を添加・混合した。蛍光体の混合後に粘度を測定し、粘度が0.1Pa・s以上であれば溶剤を追加した。   Next, a procedure for forming a phosphor layer on the top light emitting surface of the LED element 2 will be described with reference to FIGS. First, a phosphor paint is prepared. In this example, the transparent silicone resin was diluted by adding volatile organic solvent hexane. The amount of solvent added was adjusted so that the viscosity was about 0.1 Pa · s so that coating with a spray gun could be performed. Next, with respect to the diluted silicone resin, the YAG having an average particle diameter of about 5 μm is set so that the amount of the silicone resin (the amount before dilution) and the amount of the phosphor are 20:80 by weight ratio (w / w). System phosphor was added and mixed. After mixing the phosphors, the viscosity was measured. If the viscosity was 0.1 Pa · s or more, a solvent was added.

続いて、用意した蛍光体塗料をスプレーガンへセットし、LED素子2の真上から蛍光体塗料を吹き付けた(スプレーコート)。コーティング厚については、上記の検査結果を考慮し、15〜21μmの範囲内でLEDパッケージ毎に調整した。尚、空気圧、スプレーガンの噴出口からLED素子2までの距離、及び回転数を固定し、噴霧時間によって厚さを制御した。   Subsequently, the prepared phosphor coating material was set on a spray gun, and the phosphor coating material was sprayed from directly above the LED element 2 (spray coating). The coating thickness was adjusted for each LED package within the range of 15 to 21 μm in consideration of the above inspection results. The air pressure, the distance from the spray gun outlet to the LED element 2 and the rotation speed were fixed, and the thickness was controlled by the spraying time.

スプレーコート後のLEDパッケージ1bの状態を図2に示す。図2の符合9aで示すように、スプレーコート直後の蛍光体層9では、溶剤で希釈されたシリコーン樹脂12内に蛍光体10が分散しており、蛍光体濃度(密度)は比較的低い。この実施例では、LED素子2の露出面(上面発光面及び側面)の全体が蛍光体層9で被覆されているが、LED素子2の上面発光面の上にのみ蛍光体層を形成することも可能である。また、LED素子2の上面発光面へのコートと側面へのコートを別個の工程で実施することにしてもよく、その場合には上面発光面に形成される蛍光体層の厚さと側面に形成される蛍光体層の厚さを個別に調整可能である。   The state of the LED package 1b after spray coating is shown in FIG. As indicated by reference numeral 9a in FIG. 2, in the phosphor layer 9 immediately after spray coating, the phosphor 10 is dispersed in the silicone resin 12 diluted with a solvent, and the phosphor concentration (density) is relatively low. In this embodiment, the entire exposed surface (upper light emitting surface and side surface) of the LED element 2 is covered with the phosphor layer 9, but the phosphor layer is formed only on the upper light emitting surface of the LED element 2. Is also possible. In addition, the coating on the top light emitting surface and the side surface of the LED element 2 may be performed in separate steps, in which case the phosphor layer formed on the top light emitting surface is formed on the side surface. The thickness of the phosphor layer to be adjusted can be adjusted individually.

スプレーコート後のLEDパッケージ1bを、約65℃〜70℃の温度条件下で1時間放置し、十分に乾燥させた。これによって蛍光体塗料中の溶媒が揮発する。溶媒分の体積が減少するため、コート直後と比較して蛍光体層の膜厚は薄くなる。次に、150℃〜170℃の温度条件下で約3時間保持し、シリコーン樹脂を完全に硬化させた。図3に示すように、完全硬化後のLEDパッケージ1cでは、蛍光体10とシリコーン樹脂13のみからなる蛍光体層12によってLED素子2の表面がコートされた状態となる(符合12aで示す蛍光体層12の拡大図を参照)。尚、蛍光体層12の最終的な膜厚は約18μmであった。   The LED package 1b after spray coating was allowed to stand for 1 hour under a temperature condition of about 65 ° C. to 70 ° C. and sufficiently dried. As a result, the solvent in the phosphor coating is volatilized. Since the volume of the solvent component is reduced, the thickness of the phosphor layer becomes thinner than that immediately after coating. Next, the silicone resin was completely cured by maintaining for about 3 hours under a temperature condition of 150 ° C. to 170 ° C. As shown in FIG. 3, in the fully cured LED package 1c, the surface of the LED element 2 is coated with the phosphor layer 12 made of only the phosphor 10 and the silicone resin 13 (the phosphor indicated by reference numeral 12a). (See enlarged view of layer 12). The final film thickness of the phosphor layer 12 was about 18 μm.

蛍光体層12の形成後、LED素子2の実装面側には必要に応じてカバーが被せられる。また、LED素子2を囲繞するようにリフレクタ又は支持体を備えることにしてもよい。その場合には、リフレクタ又は支持体に囲繞された部分に封止材(例えばシリコーン樹脂)を充填することにしてもよい。   After the phosphor layer 12 is formed, a cover is put on the mounting surface side of the LED element 2 as necessary. Moreover, you may decide to provide a reflector or a support body so that the LED element 2 may be surrounded. In that case, you may decide to fill the sealing material (for example, silicone resin) into the part enclosed by the reflector or the support body.

以上の各工程を経て製造されたLEDパッケージ1cでは、LED素子2の上面発光面から出射した光の一部が蛍光体層12内の蛍光体で色変換されることによって、最終的に白色光が得られる。
LEDパッケージ1cでは、LED素子2の上面発光面の上に、蛍光体10を高濃度で含有した薄い蛍光体層12が形成されていることから、効率的な光変換が行われるとともに光のロスが抑えられ、高輝度の(光度の高い)白色光が放射する。また、LLO素子を採用したことによって、LED素子2の側方での蛍光体10による光変換を実質的に無視でき、混色ムラが極めて少なくなる。さらに、スプレーコートに先立ってLEDパッケージ1aの発光波長を検査した上で適切な膜厚の蛍光体層を形成することによって、最終的に得られるLEDパッケージ1c間の発光色のばらつきが抑えられ、製造歩留まりが向上する。
In the LED package 1c manufactured through the above steps, a part of the light emitted from the upper light emitting surface of the LED element 2 is color-converted by the phosphor in the phosphor layer 12, so that the white light is finally obtained. Is obtained.
In the LED package 1c, the thin phosphor layer 12 containing the phosphor 10 at a high concentration is formed on the upper light emitting surface of the LED element 2, so that efficient light conversion is performed and light loss is achieved. Is suppressed, and high-luminance (high brightness) white light is emitted. In addition, by adopting the LLO element, light conversion by the phosphor 10 on the side of the LED element 2 can be substantially ignored, and color mixing unevenness is extremely reduced. Furthermore, by examining the emission wavelength of the LED package 1a prior to spray coating and forming a phosphor layer with an appropriate film thickness, variation in the emission color between the LED packages 1c finally obtained can be suppressed, Manufacturing yield is improved.

発光素子からの光の一部を蛍光体で変換することによって所望の発光色を得る各種発光装置に本発明は適用可能である。   The present invention is applicable to various light-emitting devices that obtain a desired emission color by converting a part of light from a light-emitting element with a phosphor.

この発明は、上記発明の実施の形態及び実施例の説明に何ら限定されるものではない。特許請求の範囲の記載を逸脱せず、当業者が容易に想到できる範囲で種々の変形態様もこの発明に含まれる。
本明細書の中で明示した論文、公開特許公報、及び特許公報などの内容は、その全ての内容を援用によって引用することとする。
The present invention is not limited to the description of the embodiments and examples of the invention described above. Various modifications may be included in the present invention as long as those skilled in the art can easily conceive without departing from the description of the scope of claims.
The contents of papers, published patent gazettes, patent gazettes, and the like specified in this specification are incorporated by reference in their entirety.

実施例のLEDパッケージ(蛍光体層形成前の状態)を示す模式断面図。The schematic cross section which shows the LED package (state before fluorescent substance layer formation) of an Example. 実施例のLEDパッケージ(スプレーコート直後の状態)を示す模式断面図。The schematic cross section which shows the LED package (state immediately after spray coating) of an Example. 実施例のLEDパッケージ(蛍光体層硬化後の状態)を示す模式断面図。The schematic cross section which shows the LED package (state after fluorescent substance layer hardening) of an Example. LEDパッケージに使用されるLLO素子の構造。Structure of an LLO element used for an LED package.

符号の説明Explanation of symbols

1a 蛍光体層形成前のLEDパッケージ
1b スプレーコート直後のLEDパッケージ
1c 蛍光体層硬化後のLEDパッケージ
2 LED素子(LLO素子)
2a III族窒化物系化合物半導体層
2b シリコン基板
2c 上面電極
3 Auワイヤ
4 実装基板
5 実装基板上の電極パターン
6 サブマウント基板
7 サブマウント基板上の電極パターン
8 電極パッド
9 スプレーコート直後の蛍光体層
9a スプレーコート直後の蛍光体層の部分拡大図
10 蛍光体
11 溶剤で希釈されたシリコーン樹脂
12 硬化後の蛍光体層
12a 硬化後の蛍光体層の部分拡大図
13 シリコーン樹脂
1a LED package 1b before phosphor layer formation LED package 1c immediately after spray coating LED package 2 after phosphor layer curing 2 LED element (LLO element)
2a Group III nitride compound semiconductor layer 2b Silicon substrate 2c Upper surface electrode 3 Au wire 4 Mounting substrate 5 Electrode pattern 6 on mounting substrate Submount substrate 7 Electrode pattern 8 on submount substrate Electrode pad 9 Phosphor immediately after spray coating Layer 9a Partial enlarged view of phosphor layer immediately after spray coating 10 Phosphor 11 Silicone resin diluted with solvent 12 Phosphor layer after curing 12a Partial enlarged view of phosphor layer after curing 13 Silicone resin

Claims (13)

レーザリフトオフ法により製造されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子と、スプレーコートにより該発光素子の上面発光面に形成された蛍光体層と、を備えてなるLED装置。   An LED device comprising: a group III nitride compound semiconductor light emitting device manufactured by a laser lift-off method; and a phosphor layer formed on a top light emitting surface of the light emitting device by spray coating. 前記蛍光体層の厚さが10μm〜25μmである、請求項1に記載のLED装置。   The LED device according to claim 1, wherein the phosphor layer has a thickness of 10 μm to 25 μm. 前記蛍光体層が含有する蛍光体の粒径が1〜10μmである、請求項1又は2に記載のLED装置。   The LED device according to claim 1 or 2, wherein a particle size of the phosphor contained in the phosphor layer is 1 to 10 µm. 白色光を発光することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のLED装置。   The LED device according to claim 1, wherein the LED device emits white light. 前記発光素子が青色系の光を発光し、
前記蛍光体層が、前記発光素子からの光により励起されて黄色系の蛍光を発する蛍光体を含有する、請求項4に記載のLED装置。
The light emitting element emits blue light;
The LED device according to claim 4, wherein the phosphor layer contains a phosphor that is excited by light from the light emitting element and emits yellowish fluorescence.
基板に実装されたIII族窒化物系化合物半導体発光素子を用意する第1工程と、
樹脂、蛍光体及び揮発性有機溶剤からなる塗料を用意し、スプレーコートにより該塗料を前記発光素子の上面発光面にコートする第2工程と、
コートされた塗料を乾燥・硬化する第3工程と、
を含む、LED装置の製造方法。
A first step of preparing a group III nitride compound semiconductor light emitting device mounted on a substrate;
A second step of preparing a paint composed of a resin, a phosphor and a volatile organic solvent, and coating the paint on the top light emitting surface of the light emitting element by spray coating;
A third step of drying and curing the coated paint;
A method for manufacturing an LED device, comprising:
前記III族窒化物系化合物半導体発光素子が、レーザリフトオフ法により製造された発光素子である、請求項6に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 6, wherein the group III nitride compound semiconductor light emitting device is a light emitting device manufactured by a laser lift-off method. 前記塗料における樹脂と蛍光体の含有比率が、樹脂20重量部に対して蛍光体60重量部〜100重量部である、請求項6又は7に記載の製造方法。   The production method according to claim 6 or 7, wherein a content ratio of the resin and the phosphor in the coating is 60 to 100 parts by weight of the phosphor with respect to 20 parts by weight of the resin. 前記樹脂がシリコーン樹脂であり、
前記第3工程が、前記塗料中の揮発性有機溶媒を揮発させる段階と、前記塗料中の樹脂を硬化させる段階とからなる、請求項6〜8のいずれか一項に記載の製造方法。
The resin is a silicone resin;
The manufacturing method according to any one of claims 6 to 8, wherein the third step includes a step of volatilizing a volatile organic solvent in the paint and a step of curing the resin in the paint.
前記第1工程と前記第2工程の間に前記発光素子の発光波長を検査し、該検査の結果に応じて、前記第2工程のスプレーコートの条件を設定する、請求項6〜9のいずれか一項に記載の製造方法。   The light emitting wavelength of the light emitting element is inspected between the first step and the second step, and the condition of the spray coating in the second step is set according to the result of the inspection. The manufacturing method according to claim 1. 前記LED装置が白色光を発光することを特徴とする、請求項6〜10のいずれか一項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 6, wherein the LED device emits white light. 前記発光素子が青色系の光を発光し、
前記蛍光体層が、前記発光素子からの光により励起されて黄色系の蛍光を発する蛍光体を含有する、請求項11に記載の製造方法。
The light emitting element emits blue light;
The manufacturing method according to claim 11, wherein the phosphor layer contains a phosphor that is excited by light from the light emitting element and emits yellowish fluorescence.
請求項6〜12のいずれか一項に記載の製造方法によって製造されたLED装置。   The LED device manufactured by the manufacturing method as described in any one of Claims 6-12.
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