JP2009070894A5 - - Google Patents

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支持枠と、前記支持枠に支持部を介して支持される可動部とを含むセンサ素子と、
前記センサ素子を保護する保護部材と、
少なくとも、前記センサ素子を封止する弾力性を有する第1樹脂封止層と、
前記第1樹脂封止層とは異なる材料から構成され、前記第1樹脂封止層を介して、前記センサ素子を封止する第2樹脂封止層とを備えることを特徴とする、半導体装置。
A sensor element including a support frame and a movable part supported by the support frame via a support part;
A protective member for protecting the sensor element;
At least a first resin sealing layer having elasticity for sealing the sensor element;
A semiconductor device comprising a second resin sealing layer that is made of a material different from that of the first resin sealing layer and seals the sensor element via the first resin sealing layer. .
支持枠と、前記支持枠に支持部を介して支持される可動部とを含むセンサ素子と、A sensor element including a support frame and a movable part supported by the support frame via a support part;
前記センサ素子を覆う保護部材と、  A protective member covering the sensor element;
前記センサ素子を封止する弾力を有する第1樹脂封止層と、  A first resin sealing layer having elasticity for sealing the sensor element;
前記第1樹脂封止層とは異なる材料から構成され、前記第1樹脂封止層を介して、前記センサ素子を封止する第2樹脂封止層とを備えることを特徴とする、半導体装置。  A semiconductor device comprising a second resin sealing layer that is made of a material different from that of the first resin sealing layer and seals the sensor element through the first resin sealing layer. .
前記センサ素子と電気的に接続された半導体素子をさらに備え、
前記保護部材は、前記半導体素子から構成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の半導体装置。
Further comprising a semiconductor element electrically connected to the sensor element;
The protective member is characterized by being composed of said semiconductor element, a semiconductor device according to claim 1 or 2.
前記可動部および前記支持部は、平面的に見て、前記支持枠の内側の領域に配置されており、
前記半導体素子は、前記センサ素子の上面上に、前記可動部および前記支持部を覆うようにフリップチップ実装されていることを特徴とする、請求項に記載の半導体装置。
The movable part and the support part are arranged in a region inside the support frame in a plan view,
The semiconductor element has, on the upper surface of the sensor element, characterized in that it is flip-chip mounted so as to cover the movable portion and the support portion, the semiconductor device according to claim 3.
前記センサ素子は、前記可動部の変位量に応じて加速度を検出する半導体加速度センサ素子であることを特徴とする、請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体装置。 It said sensor element is characterized by a semiconductor acceleration sensor element for detecting the acceleration in accordance with the displacement amount of the movable portion, the semiconductor device according to any one of claims 1-4. 前記センサ素子の前記支持部には、ピエゾ抵抗素子が形成されていることを特徴とする、請求項に記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 3 , wherein a piezoresistive element is formed in the support portion of the sensor element. 前記センサ素子が前記第2樹脂封止層で封止されることによって、QFN型またはBGA型のパッケージ形態に構成されていることを特徴とする、請求項1〜のいずれか1項に記載の半導体装置。 The said sensor element is comprised by the 2nd resin sealing layer, and is comprised by the package form of QFN type or BGA type, The any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. Semiconductor device. 前記半導体装置はリードフレームを有することを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device has a lead frame. 前記半導体素子は制御回路素子であることを特徴とする、請求項3または4に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 3, wherein the semiconductor element is a control circuit element. 前記リードフレームは、燐青銅または無炭素銅を含む銅またはその合金材料からなる金属板によって構成されていることを特徴とする、請求項8に記載の半導体装置。9. The semiconductor device according to claim 8, wherein the lead frame is made of a metal plate made of copper containing phosphor bronze or carbon-free copper or an alloy material thereof. 前記リードフレームは、ダイパッドと、当該ダイパッドから分離されたリード端子とを含むことを特徴とする、請求項8に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 8, wherein the lead frame includes a die pad and a lead terminal separated from the die pad. 前記ダイパッド上には、接着層を介して、前記センサ素子が固定されていることを特徴とする、請求項11に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 11, wherein the sensor element is fixed on the die pad via an adhesive layer. 前記接着層は、はんだ材または銀ペーストからなることを特徴とする、請求項12に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 12, wherein the adhesive layer is made of a solder material or a silver paste. 前記ダイパッドと前記センサ素子との間には、前記接着層によって、50μm〜100μmの高さを有する隙間部が形成されていることを特徴とする、請求項12または13に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 12, wherein a gap portion having a height of 50 μm to 100 μm is formed between the die pad and the sensor element by the adhesive layer. 前記接着層は、前記センサ素子の外周部の全周にわたって形成されていることを特徴とする、請求項12〜14のいずれか1項に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 12, wherein the adhesive layer is formed over the entire circumference of the outer peripheral portion of the sensor element. 前記可動部が前記支持枠の内側に配置されることを特徴とする、請求項1〜15のいずれか1項に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 1, wherein the movable portion is disposed inside the support frame. 前記センサ素子の前記可動部は、前記支持部を介して前記支持枠に支持されたコア部と、平面的に見て、当該コア部に一体的に連結された付随部とを含むことを特徴とする、請求項1〜16のいずれか1項に記載の半導体装置。The movable part of the sensor element includes a core part supported by the support frame via the support part, and an accompanying part integrally connected to the core part in plan view. The semiconductor device according to claim 1. 前記リード端子は、ボンディングワイヤを介して、前記センサ素子と電気的に接続されていることを特徴とする、請求項1〜17のいずれか1項に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 1, wherein the lead terminal is electrically connected to the sensor element via a bonding wire. 前記センサ素子は、3軸方向の加速度を検出可能な加速度センサ素子から構成されていることを特徴とする、請求項1〜18のいずれか1項に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 1, wherein the sensor element includes an acceleration sensor element capable of detecting an acceleration in a triaxial direction. 前記付随部と前記支持枠および前記支持部との間には、隙間が設けられていることを特徴とする、請求項1〜19のいずれか1項に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 1, wherein a gap is provided between the accompanying portion, the support frame, and the support portion. 前記隙間は、付随部が支持枠または支持部と接触しない程度の大きさに構成されていることを特徴とする、請求項20に記載の半導体装置。21. The semiconductor device according to claim 20, wherein the gap is configured to have a size such that the associated portion does not contact the support frame or the support portion. 前記制御回路素子は、前記センサ素子によって検出された電気信号を増幅・補正するとともに、加速度に比例した電圧として電気信号を出力する機能を有することを特徴とする、請求項9に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 9, wherein the control circuit element has a function of amplifying and correcting an electric signal detected by the sensor element and outputting the electric signal as a voltage proportional to acceleration. . 前記制御回路素子は、前記センサ素子の開口よりも大きい平面積に構成されているとともに、主面の隅に突起電極が形成されていることを特徴とする、請求項9に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 9, wherein the control circuit element is configured to have a larger planar area than an opening of the sensor element, and a protruding electrode is formed at a corner of the main surface. 前記突起電極は、Auバンプからなることを特徴とする、請求項23に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 23, wherein the protruding electrode is made of an Au bump. 前記突起電極と前記センサ素子の電極パッドとが電気的に接続するように、前記センサ素子の上面上に前記制御回路素子が固定されていることを特徴とする、請求項24に記載の半導体装置。25. The semiconductor device according to claim 24, wherein the control circuit element is fixed on the upper surface of the sensor element so that the protruding electrode and an electrode pad of the sensor element are electrically connected. . 前記制御回路素子は、前記支持枠の開口を覆うように、前記センサ素子の上面上に固定されていることを特徴とする、請求項9に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 9, wherein the control circuit element is fixed on an upper surface of the sensor element so as to cover an opening of the support frame. 前記センサ素子と前記制御回路素子との間には、前記突起電極によって、50μmの高さを有する隙間部が形成されていることを特徴とする、請求項23〜26のいずれか1項に記載の半導体装置。27. The gap portion according to any one of claims 23 to 26, wherein a gap portion having a height of 50 μm is formed between the sensor element and the control circuit element by the protruding electrode. Semiconductor device. 前記制御回路素子の外周部には、全周にわたって接着層が形成されていることを特徴とする、請求項12〜14のいずれか1項に記載の半導体装置。The semiconductor device according to any one of claims 12 to 14, wherein an adhesive layer is formed on an outer peripheral portion of the control circuit element over the entire periphery. 前記第1樹脂封止層は、弾力性を有する樹脂材料から構成されていることを特徴とする、請求項1〜28のいずれか1項に記載の半導体装置。29. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first resin sealing layer is made of a resin material having elasticity. 前記第1樹脂封止層は、透明樹脂から構成されていることを特徴とする、請求項1〜29のいずれか1項に記載の半導体装置。30. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first resin sealing layer is made of a transparent resin. 前記第1樹脂封止層は、ポッティングによって、前記ダイパッド上に、前記センサ素子および前記制御回路素子を封止するように形成されていることを特徴とする、請求項11〜14のいずれか1項に記載の半導体装置。The said 1st resin sealing layer is formed so that the said sensor element and the said control circuit element may be sealed on the said die pad by potting, The any one of Claims 11-14 characterized by the above-mentioned. The semiconductor device according to item. 前記第2樹脂封止層は、前記第1樹脂封止層を介して前記センサ素子および前記制御回路素子を封止するように形成されていることを特徴とする、請求項1〜31のいずれか1項に記載の半導体装置。The said 2nd resin sealing layer is formed so that the said sensor element and the said control circuit element may be sealed via the said 1st resin sealing layer, The any one of Claims 1-31 characterized by the above-mentioned. 2. The semiconductor device according to claim 1. 前記半導体装置は、QFN型またはBGA型のパッケージであることを特徴とする、請求項1〜32のいずれか1項に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is a QFN type or BGA type package. 前記センサ素子が静電容量型の加速度センサ素子であることを特徴とする、請求項1〜33のいずれか1項に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 1, wherein the sensor element is a capacitive acceleration sensor element.
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