JP2009063550A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009063550A5
JP2009063550A5 JP2007234084A JP2007234084A JP2009063550A5 JP 2009063550 A5 JP2009063550 A5 JP 2009063550A5 JP 2007234084 A JP2007234084 A JP 2007234084A JP 2007234084 A JP2007234084 A JP 2007234084A JP 2009063550 A5 JP2009063550 A5 JP 2009063550A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
sensor device
sensor element
semiconductor sensor
support frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007234084A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009063550A (en
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2007234084A priority Critical patent/JP2009063550A/en
Priority claimed from JP2007234084A external-priority patent/JP2009063550A/en
Publication of JP2009063550A publication Critical patent/JP2009063550A/en
Publication of JP2009063550A5 publication Critical patent/JP2009063550A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Claims (30)

支持枠と、前記支持枠の内側に配置される構造体と、前記構造体を前記支持枠に揺動可能に支持する支持部とを含み、前記構造体の変位量に応じて物理量を検出するセンサ素子と、
上面上に、固定部材を介して前記センサ素子が固定される基板と、
少なくとも、前記センサ素子を封止する樹脂封止層とを備え、
前記センサ素子は、前記固定部材によって、前記基板の上面から上方に所定の距離だけ離間するように固定されており、
前記固定部材は、前記センサ素子の前記支持枠と前記基板との間の領域に、平面的に見て、前記支持枠に沿った枠状に形成されていることを特徴とする、半導体センサ装置。
A support frame, a structure disposed inside the support frame, and a support unit that swingably supports the structure on the support frame, and detects a physical quantity in accordance with a displacement amount of the structure. A sensor element;
On the upper surface, a substrate to which the sensor element is fixed via a fixing member;
And at least a resin sealing layer for sealing the sensor element,
The sensor element is fixed by the fixing member so as to be spaced apart from the upper surface of the substrate by a predetermined distance,
The semiconductor sensor device, wherein the fixing member is formed in a frame shape along the support frame in a plan view in a region between the support frame and the substrate of the sensor element. .
平面視において、前記固定部材は、少なくとも内周部が、前記センサ素子の前記支持枠の内周部よりも大きくなるように形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の半導体センサ装置。 2. The semiconductor sensor according to claim 1 , wherein the fixing member is formed so that at least an inner periphery thereof is larger than an inner periphery of the support frame of the sensor element in a plan view. apparatus. 前記固定部材は、所定の厚みを有するダイボンドフィルムから構成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の半導体センサ装置。   The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the fixing member is formed of a die bond film having a predetermined thickness. 前記固定部材は、ダイボンドペーストから構成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の半導体センサ装置。   The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the fixing member is made of a die bond paste. 突起電極を含み、前記突起電極を介して、前記センサ素子と電気的に接続される半導体素子をさらに備え、
前記半導体素子は、前記センサ素子の上面上に、少なくとも、前記センサ素子の前記構造体および前記支持部を覆うように配置されていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。
A semiconductor element that includes a protruding electrode and is electrically connected to the sensor element via the protruding electrode;
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor element is disposed on an upper surface of the sensor element so as to cover at least the structure of the sensor element and the support portion. The semiconductor sensor device described in 1.
前記半導体素子は、複数の金属バンプをさらに含み、
前記センサ素子の前記支持枠と前記半導体素子との間の領域に、前記複数の金属バンプが連なるように形成されていることを特徴とする、請求項5に記載の半導体センサ装置。
The semiconductor element further includes a plurality of metal bumps,
The semiconductor sensor device according to claim 5, wherein the plurality of metal bumps are formed in a region between the support frame of the sensor element and the semiconductor element.
前記複数の金属バンプは、平面的に見て、前記半導体素子の外周部に沿った枠状に形成されていることを特徴とする、請求項6に記載の半導体センサ装置。   The semiconductor sensor device according to claim 6, wherein the plurality of metal bumps are formed in a frame shape along an outer peripheral portion of the semiconductor element when seen in a plan view. 前記複数の金属バンプの各々は、前記突起電極と同じ材料から構成されていることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。   The semiconductor sensor device according to claim 5, wherein each of the plurality of metal bumps is made of the same material as the protruding electrode. 前記センサ素子が前記樹脂封止層で封止されることによって、QFN型またはBGA型のパッケージ形態に構成されていることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。   9. The semiconductor according to claim 1, wherein the sensor element is configured in a QFN type or a BGA type package by being sealed with the resin sealing layer. 10. Sensor device. 前記半導体素子が制御回路であることを特徴とする、請求項5〜8のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 5, wherein the semiconductor element is a control circuit. 前記基板がリードフレームであることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the substrate is a lead frame. 前記リードフレームが前記センサ素子と、前記センサ素子の上面上に実装される半導体素子と、前記センサ素子および前記半導体素子を封止する樹脂封止層とを備えていることを特徴とする、請求項11に記載の半導体センサ装置。  The lead frame includes the sensor element, a semiconductor element mounted on an upper surface of the sensor element, and a resin sealing layer for sealing the sensor element and the semiconductor element. Item 12. The semiconductor sensor device according to Item 11. 前記リードフレームは、銅を含む金属板であることを特徴とする、請求項11または12に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 11, wherein the lead frame is a metal plate containing copper. 前記リードフレームは、ダイパッドと、前記ダイパッドから分離された複数のリード端子とを含むことを特徴とする、請求項11〜13のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 11, wherein the lead frame includes a die pad and a plurality of lead terminals separated from the die pad. 前記リード端子は、ボンディングワイヤを介して、前記センサ素子と電気的に接続されていることを特徴とする、請求項14に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 14, wherein the lead terminal is electrically connected to the sensor element via a bonding wire. 前記樹脂封止層は、熱硬化性樹脂であることを特徴とする、請求項1〜15のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the resin sealing layer is a thermosetting resin. 前記センサ素子は、3軸方向の加速度を検出可能なピエゾ抵抗型の加速度センサ素子であることを特徴とする、請求項1〜16のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the sensor element is a piezoresistive acceleration sensor element capable of detecting acceleration in three axial directions. 前記センサ素子の前記構造体は、4つの前記支持部を介して前記支持枠に支持された直方体状のコア部と、平面的に見て、前記コア部の四隅の各々に一体的に連結された直方体状の4つの付随部とを含んでいることを特徴とする、請求項1〜17のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The structure of the sensor element is integrally connected to a rectangular parallelepiped core portion supported by the support frame via the four support portions, and to each of the four corners of the core portion in plan view. 18. The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the semiconductor sensor device includes four rectangular parallelepiped associated parts. 前記付随部の各々と、前記支持枠および前記支持部との間には、隙間部が設けられていることを特徴とする、請求項18に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 18, wherein a gap portion is provided between each of the accompanying portions and the support frame and the support portion. 前記隙間部は、前記付随部が前記支持枠や前記支持部と接触しない大きさであることを特徴とする、請求項19に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 19, wherein the gap portion has a size such that the accompanying portion does not contact the support frame or the support portion. 前記支持部の表面に、ピエゾ抵抗素子が形成されていることを特徴とする、請求項1〜20のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  21. The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein a piezoresistive element is formed on a surface of the support portion. 前記ダイパッドと前記センサ素子との間には、50μm〜100μmの高さを有する隙間部が形成されていることを特徴とする、請求項14または15に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 14, wherein a gap portion having a height of 50 μm to 100 μm is formed between the die pad and the sensor element. 前記固定部材は、エポキシ樹脂から構成される厚さ50μmのダイボンドフィルムであることを特徴とする、請求項1〜22のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the fixing member is a die-bonding film having a thickness of 50 μm made of an epoxy resin. 前記半導体素子が前記センサ素子の上面上に、フリップチップ実装されていることを特徴とする、請求項5〜8、10のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 5, wherein the semiconductor element is flip-chip mounted on an upper surface of the sensor element. 前記突起電極が前記センサ素子の上面上の四隅に形成されていることを特徴とする、請求項5〜8、10、24のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 5, wherein the protruding electrodes are formed at four corners on the upper surface of the sensor element. 前記突起電極がAuバンプからなることを特徴とする、請求項5〜8、10、24、25のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 5, wherein the protruding electrode is made of an Au bump. 前記半導体素子は、前記センサ素子の開口よりも大きい平面積に構成されており、前記支持枠の開口を覆うように、前記センサ素子の上面上に固定されていることを特徴とする、請求項5〜8、10、24〜26のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor element has a plane area larger than an opening of the sensor element, and is fixed on an upper surface of the sensor element so as to cover the opening of the support frame. The semiconductor sensor device according to any one of 5 to 8, 10, and 24 to 26. 前記センサ素子の上面と前記半導体素子との間には、20μm〜100μmの高さを有する隙間部が形成されていることを特徴とする、請求項5〜8、10、24〜27のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The gap part which has the height of 20 micrometers-100 micrometers is formed between the upper surface of the said sensor element, and the said semiconductor element, The any one of Claims 5-8, 10, 24-27 characterized by the above-mentioned. 2. The semiconductor sensor device according to item 1. 前記半導体素子の外周部には、全周にわたって樹脂部材が形成されていることを特徴とする、請求項5〜8、10、24〜28のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to any one of claims 5 to 8, 10, and 24 to 28, wherein a resin member is formed on an outer peripheral portion of the semiconductor element over the entire periphery. 前記樹脂部材は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、導電性のダイボンドフィルム、ダイボンドペーストのうちいずれかを含むことを特徴とする、請求項29に記載の半導体センサ装置。  30. The semiconductor sensor device according to claim 29, wherein the resin member includes any one of an epoxy resin, a polyimide resin, a polyurethane resin, a conductive die bond film, and a die bond paste.
JP2007234084A 2007-09-10 2007-09-10 Semiconductor sensor device Pending JP2009063550A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007234084A JP2009063550A (en) 2007-09-10 2007-09-10 Semiconductor sensor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007234084A JP2009063550A (en) 2007-09-10 2007-09-10 Semiconductor sensor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009063550A JP2009063550A (en) 2009-03-26
JP2009063550A5 true JP2009063550A5 (en) 2010-10-07

Family

ID=40558237

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007234084A Pending JP2009063550A (en) 2007-09-10 2007-09-10 Semiconductor sensor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009063550A (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014042055A1 (en) * 2012-09-13 2014-03-20 アルプス電気株式会社 Semiconductor device
JP6508044B2 (en) * 2013-05-01 2019-05-08 ソニー株式会社 Sensor device and electronic device

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3346118B2 (en) * 1995-09-21 2002-11-18 富士電機株式会社 Semiconductor acceleration sensor
JPH10253654A (en) * 1997-03-11 1998-09-25 Fujitsu Ten Ltd Acceleration sensor packaging structure
JP2001183389A (en) * 1999-12-22 2001-07-06 Matsushita Electric Works Ltd Structure and method for mounting micro sensor module
JP2001227902A (en) * 2000-02-16 2001-08-24 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device
JP2001235485A (en) * 2000-02-25 2001-08-31 Mitsubishi Electric Corp Acceleration sensor
AUPR245301A0 (en) * 2001-01-10 2001-02-01 Silverbrook Research Pty Ltd An apparatus (WSM06)
JP4342174B2 (en) * 2002-12-27 2009-10-14 新光電気工業株式会社 Electronic device and manufacturing method thereof
JP4578087B2 (en) * 2003-11-10 2010-11-10 Okiセミコンダクタ株式会社 Acceleration sensor
JP4597686B2 (en) * 2004-02-24 2010-12-15 日本メクトロン株式会社 Method for manufacturing multilayer flexible circuit board
JP4553720B2 (en) * 2004-12-21 2010-09-29 Okiセミコンダクタ株式会社 Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2007017199A (en) * 2005-07-05 2007-01-25 Sharp Corp Chip scale package and its manufacturing method
JP2007048994A (en) * 2005-08-11 2007-02-22 Akita Denshi Systems:Kk Semiconductor device and its manufacturing method
JP4050290B2 (en) * 2005-08-26 2008-02-20 住友ベークライト株式会社 Adhesive film for semiconductor and semiconductor device using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100583494B1 (en) Semiconductor package
TWI540315B (en) Pressure sensor and method of assembling same
KR100559664B1 (en) Semiconductor package
US20020008315A1 (en) Semiconductor package and method of fabricating the same
US20120168884A1 (en) Pressure sensor and method of packaging same
TWI520285B (en) Semiconductor package and manufacturing method thereof
JP6335513B2 (en) Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP2013524552A (en) Ball grid array device with chips assembled on half-etched metal leadframe
JP2013066021A5 (en)
TW201603215A (en) Package structure and method of manufacture
TWI556402B (en) Package on package structure and manufacturing method thereof
JP2009099905A5 (en)
JP2009063550A5 (en)
US20210175135A1 (en) Semiconductor package structures and methods of manufacturing the same
JP2015012170A (en) Stacked-type semiconductor device, printed circuit board, and method of manufacturing stacked-type semiconductor device
TWI610402B (en) Electronic package structure and the manufacture thereof
TWI637536B (en) Electronic package structure and the manufacture thereof
TWI663692B (en) Pressure sensor package structure
KR20090043945A (en) Stack package
TWI582905B (en) Chip package structure and manufacturing method thereof
US8723334B2 (en) Semiconductor device including semiconductor package
JP2009070894A5 (en)
US11587903B2 (en) Semiconductor device package and a method of manufacturing the same
CN107611098A (en) Electronic packing piece and its preparation method
CN112928032A (en) Method for manufacturing electronic packaging piece