JP2009066468A - Liquid-drop discharging device, method for manufacturing electro-optical device, and electro-optical device - Google Patents

Liquid-drop discharging device, method for manufacturing electro-optical device, and electro-optical device Download PDF

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洋一 宮阪
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a simple-structure liquid-drop discharging device which can float a workpiece above a setting table without damaging and deforming the workpiece. <P>SOLUTION: This device is provided with an ink-jet-type functional liquid-drop discharge head 17 for drawing on the workpiece W by discharging functional liquid-drops, the setting table 21 setting the workpiece W for lithographic processing, and a workpiece floating means assembled in the setting table 21 and floating the workpiece W by blowing a releasing gas released from the surface of the setting table 21 against the workpiece W. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、セットされたワークに対し、機能液滴を吐出して描画処理を行う液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置に関するものである。   The present invention relates to a droplet discharge device that performs drawing processing by discharging functional droplets on a set work, an electro-optical device manufacturing method, and an electro-optical device.

従来、この種の液滴吐出装置として、ワークに機能液滴を吐出して描画処理を行う機能液滴吐出ヘッドと、描画処理に際しワークをセットするセットテーブル(吸着テーブル)を備えたものが知られている(特許文献1参照)。この場合、セットテーブルには、ワークの搬入搬出(給材・除材)に際し、これをリフトアップするリフトアップ装置が組み込まれている。リフトアップ装置は、セットテーブルの小穴から出没する多数のリフトアップピンを有し、この多数のリフトアップピンをセットテーブルから突出させることにより、セットテーブル上のワークをリフトアップするようになっている。
特開2005―66490号公報
Conventionally, as this type of liquid droplet ejection device, a device having a functional liquid droplet ejection head that performs functional drawing by ejecting functional liquid droplets onto a work and a set table (suction table) that sets the work during the graphic processing is known. (See Patent Document 1). In this case, the set table incorporates a lift-up device that lifts up the workpiece when carrying it in or out (feeding / removing material). The lift-up device has a large number of lift-up pins that appear and disappear from small holes in the set table, and lifts up the workpiece on the set table by projecting the numerous lift-up pins from the set table. .
JP 2005-66490 A

しかしながら、このような液滴吐出装置では、リフトアップピンを突き当ててワークをセットテーブル上に浮かせるようにしているため、リフトアップピンの接触によりワークが破損、変形してしまうという問題があった。また、リフトアップ装置を用いることにより、装置の構成が複雑になると共にセットテーブルが厚手のものとなってしまうという問題があった。   However, in such a droplet discharge device, since the work is floated on the set table by abutting the lift-up pin, there is a problem that the work is damaged or deformed by the contact of the lift-up pin. . Further, the use of the lift-up device has a problem that the configuration of the device becomes complicated and the set table becomes thick.

本発明は、簡単な構成で、ワークを破損、変形させることなくセットテーブルに対しワークを浮かせることができる液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置を提供することを課題としている。   An object of the present invention is to provide a droplet discharge device, a method of manufacturing an electro-optical device, and an electro-optical device that can float the work with respect to a set table with a simple configuration without damaging or deforming the work. .

本発明の液滴吐出装置は、ワークに対し、機能液滴を吐出して描画処理を行うインクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドと、描画処理に際し、ワークをセットするセットテーブルと、セットテーブルに組み込まれ、セットテーブルの表面から放出ガスを放出してワークを浮上させるワーク浮上手段と、を備えたことを特徴とする。   The droplet discharge device of the present invention includes an inkjet-type functional droplet discharge head that performs drawing processing by discharging functional droplets onto a workpiece, a set table that sets a workpiece during drawing processing, and a set table. And a workpiece floating means for discharging the released gas from the surface of the set table and floating the workpiece.

この構成によれば、ワークをセットテーブル本体上に浮かせる機構として、放出ガスによりワークを浮上させるワーク浮上手段を用いることにより、ワークに直接接触することなくワークを浮かせることができるため、ワークが破損、変形することを抑えることができる。また、本装置を簡単な構成にすることができると共にセットテーブルを薄手のものにすることができる。   According to this configuration, as a mechanism for floating the work on the set table main body, the work can be lifted without directly contacting the work by using the work lifting means that lifts the work with the released gas. , It is possible to suppress deformation. In addition, the apparatus can have a simple configuration and the set table can be made thin.

この場合、ワーク浮上手段は、セットテーブルに埋め込まれ、ガスを透過可能に構成された複数の多孔質部材と、下流側を複数の多孔質部材に接続され、上流側を、放出ガスを供給する圧縮ガス供給手段に接続されたガス流路と、を有していることが好ましい。   In this case, the workpiece floating means is connected to the plurality of porous members embedded in the set table and configured to allow gas to pass therethrough, and the downstream side is connected to the plurality of porous members, and the upstream side supplies the discharge gas. A gas flow path connected to the compressed gas supply means.

この構成によれば、ワーク浮上手段が、複数の多孔質部材と、それに連なるガス流路と有することにより、圧縮ガス供給手段から供給された放出ガスがガス流路、多孔質部材を介して、セットテーブルの表面から放出される。これにより、ワーク浮上手段を簡単な構成にすることができる。   According to this configuration, the workpiece floating means has a plurality of porous members and a gas flow path connected to the porous members, so that the discharge gas supplied from the compressed gas supply means is passed through the gas flow paths and the porous member. Released from the surface of the set table. Thereby, a workpiece floating means can be made into a simple structure.

この場合、ガス流路から分岐した真空流路と、真空流路の下流側に接続された真空吸引手段と、ガス流路の分岐部に介設され、ガス流路と真空流路との間で流路切替えを行う切替手段と、を更に備えることが好ましい。   In this case, a vacuum channel branched from the gas channel, a vacuum suction means connected to the downstream side of the vacuum channel, and a branch part of the gas channel are provided between the gas channel and the vacuum channel. It is preferable to further comprise switching means for switching the flow path.

この構成によれば、ガス流路と真空流路との間で流路切替えを行うことにより、圧縮ガス供給手段によるワークの浮上と、真空吸引手段によるワークの吸引(吸着)とを同一の多孔質部材で行うことができる。そのため、簡単な構成で、ワークの浮上および吸引(吸着)を行うことができる。   According to this configuration, by switching the flow path between the gas flow path and the vacuum flow path, the floating of the work by the compressed gas supply means and the suction (adsorption) of the work by the vacuum suction means are the same porous. This can be done with a material. Therefore, the workpiece can be floated and sucked (sucked) with a simple configuration.

これらの場合、ガス流路に介設され、放出ガスをイオン化する除電手段を、更に備えることが好ましい。   In these cases, it is preferable to further include a static elimination means that is interposed in the gas flow path and ionizes the emitted gas.

この構成によれば、放出ガスをイオン化する除電手段を有することにより、セットテーブル表面から放出される放出ガスがイオン化され、放出ガスによりワークに帯電した静電気を除電することができる。特に、セットテーブルに対しワークが離接するときに発生する静電気を効率良く除電することができる。   According to this configuration, the discharge gas discharged from the surface of the set table is ionized by discharging the discharge gas, and the static electricity charged on the workpiece can be discharged by the discharge gas. In particular, static electricity generated when the workpiece comes in contact with the set table can be removed efficiently.

これらの場合、セットテーブルに隣接して配設され、セットテーブルにワークを給材する給材テーブルと、給材テーブルに組み込まれ、給材テーブルの表面から放出ガスを放出してワークを浮上させる給材浮上手段と、浮上したワークを給材テーブルからセットテーブルに移動させる給材手段と、を更に備えることが好ましい。   In these cases, the supply table is arranged adjacent to the set table and feeds the work to the set table, and the work is levitated from the surface of the supply table by releasing the released gas from the surface of the supply table. It is preferable to further include a material floating means and a material feeding means for moving the floated work from the material table to the set table.

この構成によれば、給材手段により、給材テーブルの給材浮上手段によって浮上支持されたワークを、セットテーブルのワーク浮上手段よって浮上支持された状態となるように、移動させることができる。このように、ワークの給材搬送を、浮上した状態で行うことができるため、給材搬送に際しワークに直接接触して支持する必要がなく、ワークの破損、変形することを更に抑えることができる。また、極めて小さな力で、ワークを移動させることができる。   According to this configuration, the workpiece supported by the material floating means of the supply table can be moved by the material supplying means so as to be supported by the workpiece floating means of the set table. As described above, since the workpiece feeding can be performed in a floating state, it is not necessary to directly contact and support the workpiece when feeding the workpiece, and the workpiece can be further prevented from being damaged or deformed. . In addition, the work can be moved with an extremely small force.

この場合、給材テーブルの表面は、セットテーブルの表面より高い位置に配設されていることが、好ましい。   In this case, it is preferable that the surface of the supply table is disposed at a position higher than the surface of the set table.

この構成によれば、給材手段による給材搬送(給材テーブルからセットテーブルへの移動)に際し、ワークが微小に降下した場合にも、ワークがセットテーブルの端に衝突してしまうのを防止することができる。   According to this configuration, the workpiece can be prevented from colliding with the end of the set table even when the workpiece is slightly lowered during the feeding of the material by the feeding means (movement from the feeding table to the set table). can do.

一方、内部雰囲気を温度管理すると共に、機能液滴吐出ヘッド、セットテーブルおよび給材テーブルを収容するチャンバ手段を、更に備えることが好ましい。   On the other hand, it is preferable to further include chamber means for controlling the temperature of the internal atmosphere and accommodating the functional liquid droplet ejection head, the set table, and the supply table.

この構成によれば、描画処理を行う機能液滴吐出ヘッドおよびセットテーブルに加え、給材テーブルをチャンバ手段に収容することにより、給材に際し、給材するワークを、チャンバ手段内の雰囲気温度に慣らした状態にすることができる。そのため、描画処理時のワークの熱性影響を排除することができる。   According to this configuration, in addition to the functional liquid droplet ejection head and the set table for performing the drawing process, the material supply table is accommodated in the chamber means, so that the workpiece to be supplied can be brought to the ambient temperature in the chamber means during the supply. It can be in a habituated state. Therefore, it is possible to eliminate the thermal effect of the work during the drawing process.

また、セットテーブルに隣接して配設され、セットテーブルからワークを除材する除材テーブルと、除材テーブルに組み込まれ、除材テーブルの表面から放出ガスを放出してワークを浮上させる除材浮上手段と、浮上したワークをセットテーブルから除材テーブルに移動させる除材手段と、を更に備えることが好ましい。   Also, a material removal table that is arranged adjacent to the set table and removes the workpiece from the set table, and a material removal that is incorporated in the material removal table and releases the released gas from the surface of the material removal table to lift the workpiece. It is preferable to further include a levitation means and a material removal means for moving the floated work from the set table to the material removal table.

この構成によれば、除材手段により、セットテーブルのワーク浮上手段によって浮上支持されたワークを、除材テーブルの除材浮上手段よって浮上支持された状態となるように、移動することができる。このように、ワークの除材搬送を、浮上した状態で行うことができるため、除材搬送に際しワークに直接接触して支持する必要がなく、ワークの破損、変形することを更に抑えることができる。   According to this configuration, the work that is levitated and supported by the work levitating means of the set table can be moved by the material removal means so that the work is levitated and supported by the material removal levitating means of the material removal table. As described above, since the material removal conveyance of the workpiece can be performed in a floating state, it is not necessary to directly support and support the workpiece during the material removal conveyance, and the workpiece can be further prevented from being damaged or deformed. .

この場合、除材テーブルの表面は、セットテーブルの表面より低い位置に配設されていることが、好ましい。   In this case, it is preferable that the surface of the material removal table is disposed at a position lower than the surface of the set table.

この構成によれば、除材手段による除材搬送(セットテーブルから除材テーブルへの移動)に際し、ワークが微小に降下した場合にも、ワークが除材テーブルの端に衝突してしまうのを防止することができる。   According to this configuration, the workpiece collides with the end of the material removal table even when the workpiece is slightly lowered during material removal conveyance (movement from the set table to the material removal table) by the material removal means. Can be prevented.

一方、ワークは、透明なガラス基板であり、セットテーブルと除材テーブルとの間に位置して、機能液滴吐出ヘッドによりワーク上面に描画された描画結果を検査する描画結果検出手段を、更に備え、描画結果検出手段は、ワークに上下一方から臨む照明と、ワークに上下他方から臨むと共に、照明に対向配置された撮像カメラと、を有していることが好ましい。なお、描画結果の検出には、混色やすじムラ等の検出がある。   On the other hand, the workpiece is a transparent glass substrate, and is positioned between the set table and the material removal table, and further includes a drawing result detecting means for inspecting a drawing result drawn on the upper surface of the workpiece by the functional liquid droplet ejection head. The drawing result detecting means preferably includes an illumination that faces the workpiece from one of the upper and lower sides, and an imaging camera that faces the workpiece from the upper and lower sides and is disposed to face the illumination. The detection of the drawing result includes detection of mixed color, uneven stripes, and the like.

この構成によれば、セットテーブルと除材テーブルとの間に位置して描画結果検出手段を配設することにより、除材搬送(セットテーブルから除材テーブルへの移動)を利用して、描画結果の検出を行うことができる。そのため、描画結果の検出を効率良く行うことができる。また、描画結果を照明からの透過光により検出することができるため、精度の高い描画結果の検出を行うことができる。   According to this configuration, the drawing result detecting means is disposed between the set table and the material removal table, thereby drawing using the material removal conveyance (movement from the set table to the material removal table). Result detection can be performed. Therefore, the drawing result can be detected efficiently. In addition, since the drawing result can be detected by the transmitted light from the illumination, it is possible to detect the drawing result with high accuracy.

本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。   A method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention is characterized in that a film-forming unit made of functional droplets is formed on a workpiece using the above-described droplet discharge device.

同様に、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。   Similarly, an electro-optical device according to the present invention is characterized in that a film-forming portion made of functional droplets is formed on a workpiece using the above-described droplet discharge device.

この構成によれば、高品質の電気光学装置を効率良く製造することができる。なお、機能材料としては、有機EL装置の発光材料(Electro-Luminescence発光層・正孔注入層)は元より、液晶表示装置に用いるカラーフィルタのフィルタ材料(フィルタエレメント)、電子放出装置(Field Emission Display, FED)の蛍光材料(蛍光体)、PDP(plasma Display Panel)装置の蛍光材料(蛍光体)、電気泳動表示装置の泳動体材料(泳動体)等であって、機能液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)により吐出可能な液体材料を言う。また、電気光学装置(Flat Panel Display, FPD)としては、有機EL装置、液晶表示装置、電子放出装置、PDP装置、電気泳動表示装置等がある。   According to this configuration, a high-quality electro-optical device can be efficiently manufactured. In addition, as a functional material, the light emitting material (Electro-Luminescence light emitting layer / hole injection layer) of the organic EL device, the filter material (filter element) of the color filter used for the liquid crystal display device, the electron emission device (Field Emission) Display, FED) fluorescent material (phosphor), fluorescent material (phosphor) of PDP (plasma display panel) device, electrophoretic material (electrophore) of electrophoretic display device, etc. A liquid material that can be discharged by an inkjet head). Examples of the electro-optical device (Flat Panel Display, FPD) include an organic EL device, a liquid crystal display device, an electron emission device, a PDP device, and an electrophoretic display device.

以下、添付の図面を参照して、本発明の機能液供給装置を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、フラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれており、例えば、特殊なインクや発光性の樹脂液である機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを用い、液晶表示装置のカラーフィルタや有機EL装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。なお、ワークとして透明なガラス基板を用いるものとする。   Hereinafter, a droplet discharge device to which a functional liquid supply device of the present invention is applied will be described with reference to the accompanying drawings. This droplet discharge device is incorporated in a flat panel display production line, and uses, for example, a function droplet discharge head into which a special ink or a functional liquid that is a light-emitting resin liquid is introduced, and the color of a liquid crystal display device A light emitting element or the like to be used for each pixel of a filter or an organic EL device is formed. A transparent glass substrate is used as the workpiece.

図1および図2に示すように、液滴吐出装置1は、石定盤に支持されたX軸支持ベース2上に配設され、主走査方向となるX軸方向に延在して、セットテーブル21上にセットされたワークWをX軸方向(主走査方向)に移動させるX軸テーブル11と、複数本の支柱4を介してX軸テーブル11を跨ぐように架け渡された1対(2つ)のY軸支持ベース3上に配設され、副走査方向となるY軸方向に延在するY軸テーブル12と、複数の機能液滴吐出ヘッド17が搭載された10個のキャリッジユニット51と、から成り、10個のキャリッジユニット51は、Y軸テーブル12に移動自在に吊設されている。さらに、液滴吐出装置1は、給材テーブル141、除材テーブル142およびロボットアームユニット144を有し、セットテーブル21へのワークWの給除材を行う給除材機構20と、これらの装置を温度および湿度が管理された雰囲気内に収容するチャンバ(チャンバ手段)6と、を備えている。給除材機構20によりワークWが給材された後、X軸テーブル11およびY軸テーブル12の駆動と同期して機能液滴吐出ヘッド17を吐出駆動させる。これにより、R・G・B3色の機能液滴を吐出させ、ワークWに所定の描画パターンが描画される。描画されたワークWは、給除材機構20により除材される。   As shown in FIGS. 1 and 2, the droplet discharge device 1 is disposed on an X-axis support base 2 supported by a stone surface plate, and extends in the X-axis direction, which is the main scanning direction. An X-axis table 11 that moves the workpiece W set on the table 21 in the X-axis direction (main scanning direction), and a pair (a pair spanned across the X-axis table 11 via a plurality of columns 4) 10 carriage units on which two Y-axis support bases 3 are mounted and mounted with a Y-axis table 12 extending in the Y-axis direction as the sub-scanning direction and a plurality of functional liquid droplet ejection heads 17 The ten carriage units 51 are suspended from the Y-axis table 12 so as to be movable. Further, the droplet discharge device 1 includes a material supply table 141, a material removal table 142, and a robot arm unit 144, and a material supply / discharge material mechanism 20 that supplies and removes the workpiece W to and from the set table 21, and these devices And a chamber (chamber means) 6 that accommodates in a temperature and humidity controlled atmosphere. After the workpiece W is supplied by the supply / discharge material mechanism 20, the functional droplet discharge head 17 is driven to discharge in synchronization with the driving of the X-axis table 11 and the Y-axis table 12. As a result, R, G, and B3 functional droplets are ejected, and a predetermined drawing pattern is drawn on the workpiece W. The drawn workpiece W is removed by the feed / release material mechanism 20.

また、液滴吐出装置1は、フラッシングユニット14、吸引ユニット15、ワイピングユニット16、吐出性能検査ユニット18から成るメンテナンス装置5を備えており、これらユニットを機能液滴吐出ヘッド17の保守に供して、機能液滴吐出ヘッド17の機能維持・機能回復を図るようになっている。なお、メンテナンス装置5を構成する各ユニットのうち、フラッシングユニット14および吐出性能検査ユニット18は、X軸テーブル11に搭載され、吸引ユニット15およびワイピングユニット16は、X軸テーブル11から直角に延び、かつY軸テーブル12によりキャリッジユニット51が移動可能である位置に配設された架台上に配設されている(厳密には、吐出性能検査ユニット18は、後述するステージユニット77がX軸テーブル11に搭載され、カメラユニット78がY軸支持ベース3に支持されている。)。   The droplet discharge device 1 includes a maintenance device 5 including a flushing unit 14, a suction unit 15, a wiping unit 16, and a discharge performance inspection unit 18, and these units are used for maintenance of the functional droplet discharge head 17. The function of the functional liquid droplet ejection head 17 is maintained and recovered. Of the units constituting the maintenance device 5, the flushing unit 14 and the discharge performance inspection unit 18 are mounted on the X-axis table 11, and the suction unit 15 and the wiping unit 16 extend from the X-axis table 11 at a right angle, In addition, the Y-axis table 12 is disposed on a pedestal disposed at a position where the carriage unit 51 can move (strictly speaking, the discharge performance inspection unit 18 includes a stage unit 77 which will be described later, the X-axis table 11. The camera unit 78 is supported by the Y-axis support base 3).

フラッシングユニット14は、一対の描画前フラッシングユニット71,71と、定期フラッシングユニット72とを有し、機能液滴吐出ヘッド17の吐出直前や、ワークWの載換え時等の描画処理休止時に行われる、機能液滴吐出ヘッド17の捨て吐出(フラッシング)を受ける。吸引ユニット15は、複数の分割吸引ユニット74を有し、各機能液滴吐出ヘッド17の吐出ノズル98から機能液を強制的に吸引すると共に、キャッピングを行う。ワイピングユニット16は、ワイピングシート75を有し、吸引後の機能液滴吐出ヘッド17のノズル面97を拭取る。吐出性能検査ユニット18は、機能液滴吐出ヘッド17から吐出された機能液滴を受ける検査シート83を搭載したステージユニット77と、ステージユニット77上の機能液滴を画像認識により検査するカメラユニット78を有し、機能液滴吐出ヘッド17の吐出性能(吐出の有無および飛行曲り)を検査する。   The flushing unit 14 includes a pair of pre-drawing flushing units 71 and 71 and a regular flushing unit 72, and is performed immediately before ejection of the functional liquid droplet ejection head 17 or when drawing work is suspended such as when the workpiece W is replaced. Then, the functional liquid droplet ejection head 17 is subjected to the discarded ejection (flushing). The suction unit 15 includes a plurality of divided suction units 74 and forcibly sucks the functional liquid from the discharge nozzle 98 of each functional liquid droplet discharge head 17 and performs capping. The wiping unit 16 has a wiping sheet 75 and wipes the nozzle surface 97 of the functional liquid droplet ejection head 17 after suction. The ejection performance inspection unit 18 includes a stage unit 77 on which an inspection sheet 83 that receives functional droplets ejected from the functional droplet ejection head 17 is mounted, and a camera unit 78 that inspects functional droplets on the stage unit 77 by image recognition. And the ejection performance (the presence / absence of ejection and the flight curve) of the functional droplet ejection head 17 is inspected.

次に、液滴吐出装置1の構成要素について簡単に説明する。図1または図2に示すように、X軸テーブル11は、ワークWをセットするセットテーブル21と、セットテーブル21をX軸方向にスライド自在に支持するX軸第1スライダ22と、上記のフラッシングユニット14およびステージユニット77をX軸方向にスライド自在に支持するX軸第2スライダ23と、X軸方向に延在し、X軸第1スライダ22を介してセットテーブル21(ワークW)をX軸方向に移動させると共に、X軸第2スライダ23を介してフラッシングユニット14およびステージユニット77をX軸方向に移動させる左右一対のX軸リニアモータ(図示省略)と、X軸リニアモータに並設され、X軸第1スライダ22およびX軸第2スライダ23の移動を案内する一対(2本)のX軸共通支持ベース24と、を備えている。   Next, components of the droplet discharge device 1 will be briefly described. As shown in FIG. 1 or FIG. 2, the X-axis table 11 includes a set table 21 for setting a workpiece W, an X-axis first slider 22 for slidably supporting the set table 21 in the X-axis direction, and the flushing described above. An X-axis second slider 23 that supports the unit 14 and the stage unit 77 slidably in the X-axis direction, and extends in the X-axis direction, and the set table 21 (work W) is moved through the X-axis first slider 22 to the X A pair of left and right X-axis linear motors (not shown) that move in the axial direction and move the flushing unit 14 and the stage unit 77 in the X-axis direction via the X-axis second slider 23, and parallel to the X-axis linear motor A pair of (two) X-axis common support bases 24 for guiding the movement of the X-axis first slider 22 and the X-axis second slider 23. That.

セットテーブル21は、ワークWを吸着してセットする吸着テーブル31と、吸着テーブル31を支持し、吸着テーブル31にセットしたワークWの位置をθ軸方向に補正するためのθテーブル32等を有している。また、セットテーブル21のY軸方向と平行な一対の辺には、それぞれ上記の描画前フラッシングユニット71が添設されている。   The set table 21 includes a suction table 31 that sucks and sets the work W, a θ table 32 that supports the suction table 31 and corrects the position of the work W set on the suction table 31 in the θ-axis direction. is doing. The pre-drawing flushing unit 71 is attached to each of a pair of sides parallel to the Y-axis direction of the set table 21.

Y軸テーブル12は、10個の各キャリッジユニット51をそれぞれ吊設した10個のブリッジプレート52と、10個のブリッジプレート52を両持ちで支持する10組のY軸スライダ(図示省略)と、上記した一対のY軸支持ベース3上に設置され、10組のY軸スライダを介してブリッジプレート52をY軸方向に移動させる一対のY軸リニアモータ(図示省略)と、を備えている。また、Y軸テーブル12は、各キャリッジユニット51を介して描画時に機能液滴吐出ヘッド17を副走査するほか、機能液滴吐出ヘッド17をメンテナンス装置5(吸引ユニット15及びワイピングユニット16)に臨ませる。   The Y-axis table 12 includes 10 bridge plates 52 each of which has 10 carriage units 51 suspended therein, 10 sets of Y-axis sliders (not shown) that support the 10 bridge plates 52 in both ends, A pair of Y-axis linear motors (not shown) are provided on the pair of Y-axis support bases 3 and move the bridge plate 52 in the Y-axis direction via 10 sets of Y-axis sliders. Further, the Y-axis table 12 sub-scans the functional liquid droplet ejection head 17 at the time of drawing via each carriage unit 51, and the functional liquid droplet ejection head 17 is exposed to the maintenance device 5 (the suction unit 15 and the wiping unit 16). I will.

一対のY軸リニアモータを(同期して)駆動すると、各Y軸スライダが一対のY軸支持ベース3を案内にして同時にY軸方向を平行移動する。これにより、ブリッジプレート52がY軸方向を移動し、これと共にキャリッジユニット51がY軸方向に移動する。なお、この場合、Y軸リニアモータの駆動を制御することにより、各キャリッジユニット51を独立させて個別に移動させることも可能であるし、10個のキャリッジユニット51を一体として移動させることも可能である。   When the pair of Y-axis linear motors are driven (synchronously), each Y-axis slider translates in the Y-axis direction simultaneously with the pair of Y-axis support bases 3 as a guide. As a result, the bridge plate 52 moves in the Y-axis direction, and the carriage unit 51 moves in the Y-axis direction at the same time. In this case, by controlling the driving of the Y-axis linear motor, each carriage unit 51 can be moved independently and individually, or ten carriage units 51 can be moved together. It is.

各キャリッジユニット51は、12個の機能液滴吐出ヘッド17と、12個の機能液滴吐出ヘッド17を6個ずつ2群に分けて支持するヘッドプレート53と、から成るヘッドユニット13を備えている(図3参照)。また、各キャリッジユニット51は、ヘッドユニット13をθ補正(θ回転)可能に支持するθ回転機構61と、θ回転機構61を介して、ヘッドユニット13をY軸テーブル12(各ブリッジプレート52)に支持させる吊設部材62と、を備えている。   Each carriage unit 51 includes a head unit 13 including twelve functional liquid droplet ejection heads 17 and a head plate 53 that supports the twelve functional liquid droplet ejection heads 17 in two groups. (See FIG. 3). Further, each carriage unit 51 supports the head unit 13 via the θ rotation mechanism 61 that supports the head unit 13 so as to be capable of θ correction (θ rotation), and the Y axis table 12 (each bridge plate 52) via the θ rotation mechanism 61. And a suspension member 62 to be supported on.

図4に示すように、機能液滴吐出ヘッド17は、いわゆる2連のものであり、2連の接続針92を有する機能液導入部91と、機能液導入部91に連なる2連のヘッド基板93と、機能液導入部91の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体94と、を備えている。接続針92は、図外の機能液供給系に接続され、機能液導入部91に機能液を供給する。ヘッド本体94は、キャビティ95(ピエゾ圧電素子)と、多数の吐出ノズル98が開口したノズル面97を有するノズルプレート96と、で構成されている。機能液滴吐出ヘッド17を吐出駆動すると(ピエゾ圧電素子に電圧が印加され)、キャビティ95のポンプ作用により、吐出ノズル98から機能液滴が吐出される。   As shown in FIG. 4, the functional liquid droplet ejection head 17 has a so-called double structure, a functional liquid introduction part 91 having two connection needles 92, and a dual head substrate that is continuous with the functional liquid introduction part 91. 93, and a head main body 94 which is connected to the lower side of the functional liquid introducing portion 91 and has an in-head flow path filled with the functional liquid therein. The connection needle 92 is connected to a functional liquid supply system (not shown), and supplies the functional liquid to the functional liquid introduction unit 91. The head main body 94 includes a cavity 95 (piezoelectric piezoelectric element) and a nozzle plate 96 having a nozzle surface 97 in which a large number of discharge nozzles 98 are opened. When the functional liquid droplet ejection head 17 is driven to eject (a voltage is applied to the piezoelectric element), functional liquid droplets are ejected from the ejection nozzle 98 by the pump action of the cavity 95.

なお、ノズル面97には、多数の吐出ノズル98からなる2つのノズル列98bが相互に平行に形成されている。そして、2つのノズル列98b同士は、相互に半ノズルピッチ分位置ずれしている。   In addition, two nozzle rows 98b made up of a large number of discharge nozzles 98 are formed on the nozzle surface 97 in parallel with each other. The two nozzle rows 98b are displaced from each other by a half nozzle pitch.

チャンバ6は、内部温度及び湿度、或いはガス濃度等を一定に保つガス調和設備を組み込んだプレハブ形式のクリーンブース(クリーンルーム)で、構成されている。すなわち、液滴吐出装置1によるワークWへの描画は、温度および湿度が一定値に管理された雰囲気中で行われる。また、チャンバ6には、ロボットアームユニット144によりワークWを搬入する際に用いる搬入用開閉扉102と、除材テーブル142によりワークWを除材する際に用いる除材用開閉扉101が形成されている。なお、有機EL装置等を製造する場合には、チャンバ6内を、不活性ガス(窒素ガス)の雰囲気で構成することが好ましい。   The chamber 6 is composed of a prefabricated clean booth (clean room) incorporating gas conditioning equipment that keeps the internal temperature and humidity or gas concentration constant. That is, the drawing on the workpiece W by the droplet discharge device 1 is performed in an atmosphere in which the temperature and humidity are controlled to be constant values. The chamber 6 is formed with a loading door 102 that is used when the workpiece W is loaded by the robot arm unit 144 and a material removal door 101 that is used when the workpiece W is removed by the material removal table 142. ing. In the case of manufacturing an organic EL device or the like, the chamber 6 is preferably configured in an atmosphere of an inert gas (nitrogen gas).

ここで、図5および図6を参照して、吸着テーブル31について詳細に説明する。本図に示すように、吸着テーブル31は、ワークWを載置するテーブル本体103と、テーブル本体103に連なり、テーブル本体103上のワークWを浮上もしくは吸着するガス流路系104とを備えている。   Here, the suction table 31 will be described in detail with reference to FIGS. 5 and 6. As shown in the figure, the adsorption table 31 includes a table main body 103 on which the work W is placed, and a gas flow path system 104 that is connected to the table main body 103 and floats or adsorbs the work W on the table main body 103. Yes.

テーブル本体103には、その上面に段付きで且つ円形凹設した複数の嵌入部105が形成されている。嵌入部105には、段付き部に支持される形で複数の多孔質部材106が嵌め込まれており、複数の多孔質部材106の下側には、嵌入部105の下部空間を構成するバッファ部105aが形成されている。複数の嵌入部105は複数の多孔質部材106が嵌め込まれた際、複数の多孔質部材106の表面とテーブル本体103の表面が面一になるように形成されている。バッファ部105aの下面には、連通孔107が形成されており、各連通孔107は、その他端に位置して形成された共通のエアー室108に接続されている。さらにエアー室108の側面には、エアー室108をテーブル本体103外部(ガス流路系104)に接続する接続孔110が形成されている。   The table main body 103 is formed with a plurality of insertion portions 105 which are stepped and circularly recessed on the upper surface thereof. A plurality of porous members 106 are fitted into the fitting portion 105 so as to be supported by the stepped portion, and a buffer portion constituting a lower space of the fitting portion 105 is provided below the plurality of porous members 106. 105a is formed. The plurality of insertion portions 105 are formed so that the surface of the plurality of porous members 106 and the surface of the table main body 103 are flush with each other when the plurality of porous members 106 are inserted. A communication hole 107 is formed in the lower surface of the buffer portion 105a, and each communication hole 107 is connected to a common air chamber 108 formed at the other end. Further, a connection hole 110 for connecting the air chamber 108 to the outside of the table main body 103 (gas flow path system 104) is formed on the side surface of the air chamber 108.

浮上処理時には、ガス流路系104から放出ガスが供給され、接続孔110、エアー室108、各連通孔107および各バッファ部105aを介して各多孔質部材106に放出ガスが供給されて各多孔質部材106から放出ガスが放出される。一方、吸着処理時には、ガス流路系104から吸引負圧がかかり、接続孔110、エアー室108、各連通孔107、各バッファ部105aおよび各多孔質部材106を介して、テーブル本体103上にセットされたワークWが真空吸着される。   During the levitation process, the release gas is supplied from the gas flow path system 104, and the release gas is supplied to each porous member 106 via the connection hole 110, the air chamber 108, each communication hole 107, and each buffer portion 105a. The release gas is released from the material member 106. On the other hand, during the adsorption process, a negative suction pressure is applied from the gas flow path system 104, and is applied to the table main body 103 via the connection holes 110, the air chambers 108, the communication holes 107, the buffer portions 105 a, and the porous members 106. The set work W is vacuum-sucked.

また、テーブル本体103の給材テーブル141側の端部には、除材のために浮上したワークWを、除材テーブル142に向かって押し出すようにして自走力を付与する除材用蹴出し機構109が設けられている。除材用蹴出し機構109は、例えば弾性部材で構成されたワーク接触部を有すると共にテーブル本体103の表面から出没するように回動する蹴出しアームと、蹴出しアームを回動させるエアーシリンダ等で構成されている。一方、テーブル本体103の除材テーブル142側の端部には、後述する給材用蹴出し機構164により蹴り出されたワークWをセットテーブル21上に停止させる給材用ストッパ機構114が設けられている。給材用ストッパ機構114は、例えば弾性部材で構成されたワーク接触部を有すると共にテーブル本体103の表面から出没する障壁状のストッパ本体と、ストッパ本体を出没させるエアーシリンダ等で構成されている。   Further, at the end of the table body 103 on the side of the material supply table 141, a material removal kick-out that applies a self-propelling force by pushing the workpiece W that has floated for material removal toward the material removal table 142 is provided. A mechanism 109 is provided. The material removal kick-out mechanism 109 has, for example, a work contact portion made of an elastic member, a kick arm that rotates so as to protrude from the surface of the table main body 103, an air cylinder that rotates the kick arm, etc. It consists of On the other hand, at the end of the table main body 103 on the side of the material removal table 142, a material supply stopper mechanism 114 for stopping the workpiece W kicked out by a material supply kick mechanism 164 described later on the set table 21 is provided. ing. The feed material stopper mechanism 114 includes, for example, a barrier-shaped stopper body that protrudes and protrudes from the surface of the table body 103, an air cylinder that protrudes and retracts the stopper body, and the like.

ガス流路系104は、テーブル本体103に放出ガスを供給する放出ガス供給機構(圧縮ガス供給手段)111と、テーブル本体103を介してワークWを吸引する真空吸引機構(真空吸引手段)112と、テーブル本体103と、放出ガス供給機構111および真空吸引機構112とを接続する接続流路113と、を備えている。また、ガス流路系104は、圧縮エアーを供給する圧縮エアー供給設備85と、各部からガス排気を行うためのガス排気設備87と、を備えている。   The gas flow path system 104 includes a discharge gas supply mechanism (compressed gas supply means) 111 that supplies a release gas to the table body 103, and a vacuum suction mechanism (vacuum suction means) 112 that sucks the workpiece W through the table body 103. The table main body 103 and the connection flow path 113 for connecting the discharge gas supply mechanism 111 and the vacuum suction mechanism 112 are provided. The gas flow path system 104 includes a compressed air supply facility 85 that supplies compressed air, and a gas exhaust facility 87 that performs gas exhaust from each portion.

接続流路113は、テーブル本体103の接続孔110に接続された主流路122と、主流路122に、主流路122を2分岐する分岐部124を介して接続され、他方を放出ガス供給機構111に接続した供給側流路125と、主流路122に分岐部124を介して接続され、他方を真空吸引機構112に接続した吸引側流路126と、を備えている。主流路122には、放出ガスをイオン化するイオナイザ127(除電手段)が介設されており、放出ガスの放出により、ワーク(およびテーブル本体103)に帯電した静電気が除電されるように構成されている。また、供給側流路125および吸引側流路126の主流路122近傍には、一対の切替バルブ128,128が介設されている。この一対の切替バルブ128,128により、主流路122からの流路接続を供給側流路125と吸引側流路126との間で切り替える切替手段が構成されている。なお、請求項にいうガス流路は、主流路122および供給側流路125により構成されており、請求項にいう真空流路は、吸引側流路126により構成されている。   The connection flow path 113 is connected to the main flow path 122 connected to the connection hole 110 of the table main body 103, and the main flow path 122 via a branch part 124 that divides the main flow path 122 into two, and the other is connected to the discharge gas supply mechanism 111. And a suction side flow path 126 connected to the main flow path 122 via the branch portion 124 and connected to the vacuum suction mechanism 112 on the other side. The main flow path 122 is provided with an ionizer 127 (static elimination means) that ionizes the emitted gas, and is configured such that static electricity charged on the workpiece (and the table main body 103) is eliminated by releasing the emitted gas. Yes. In addition, a pair of switching valves 128 are provided near the main flow path 122 of the supply side flow path 125 and the suction side flow path 126. The pair of switching valves 128, 128 constitute switching means for switching the channel connection from the main channel 122 between the supply side channel 125 and the suction side channel 126. The gas flow path described in the claims is composed of a main flow path 122 and a supply-side flow path 125, and the vacuum flow path described in the claims is composed of a suction-side flow path 126.

放出ガス供給機構111は、圧縮エアー供給設備85に接続された流量調整バルブ131を有している。圧縮エアー供給設備85から供給された圧縮エアーは、流量調整バルブ131により流量が調整されて、接続流路113を介してテーブル本体103に供給される。すなわち、放出ガス供給機構111は、圧縮エアー供給設備85と、流量調整バルブ131により構成されている。   The discharge gas supply mechanism 111 has a flow rate adjustment valve 131 connected to the compressed air supply facility 85. The flow rate of the compressed air supplied from the compressed air supply facility 85 is adjusted by the flow rate adjusting valve 131 and supplied to the table main body 103 via the connection channel 113. That is, the discharge gas supply mechanism 111 includes a compressed air supply facility 85 and a flow rate adjustment valve 131.

真空吸引機構112は、圧縮エアー供給設備85およびガス排気設備87に接続されたイジェクタ135と、イジェクタ135と圧縮エアー供給設備85の間の流路に介設され、イジェクタ135に供給される圧縮エアーの圧力を調整する電空レギュレータ136と、電空レギュレータ136に隣接した介設された流量センサ137と、を備えている。電空レギュレータ136により圧力が調整され、イジェクタ135に供給された圧縮エアーの随伴流によって、接続流路113中のエアーがガス排気設備87側に引っ張られる形で、接続流路113側に吸引負圧がかかる。   The vacuum suction mechanism 112 is disposed in an ejector 135 connected to the compressed air supply facility 85 and the gas exhaust facility 87, and a flow path between the ejector 135 and the compressed air supply facility 85, and is supplied to the ejector 135. An electropneumatic regulator 136 for adjusting the pressure of the electropneumatic regulator and a flow sensor 137 provided adjacent to the electropneumatic regulator 136 are provided. The pressure is adjusted by the electropneumatic regulator 136, and the air in the connection channel 113 is pulled toward the gas exhaust equipment 87 by the accompanying flow of the compressed air supplied to the ejector 135, and is sucked into the connection channel 113 side. Pressure is applied.

ここで、吸着テーブル31の浮上処理動作および吸着処理動作について説明する。浮上処理を行う場合には、一対の切替バルブ128,128により、主流路122からの流路接続を供給側流路125に切り替えると共に、放出ガス供給機構111を駆動する。厳密には、流量調整バルブ131を調整し、所望の圧力で放出ガスを供給する。供給された放出ガスは、供給側流路125および主流路122を介して複数の多孔質部材106に送られ、複数の多孔質部材106から放出される。この結果、セットされたワークWの下面に放出ガスが吹き付けられ、ワークWを浮上させる。   Here, the floating processing operation and the suction processing operation of the suction table 31 will be described. When performing the levitation process, the pair of switching valves 128 and 128 switches the channel connection from the main channel 122 to the supply side channel 125 and drives the discharge gas supply mechanism 111. Strictly speaking, the flow rate adjusting valve 131 is adjusted to supply the discharge gas at a desired pressure. The supplied discharge gas is sent to the plurality of porous members 106 via the supply-side flow path 125 and the main flow path 122 and is discharged from the plurality of porous members 106. As a result, the discharged gas is blown to the lower surface of the set work W, and the work W is lifted.

このように、請求項にいうワーク浮上手段は、多孔質部材106と、それに連なる接続流路113(主流路122および供給側流路125)により構成されている。ワークWをテーブル本体103上に浮かせる機構として、放出ガスによりワークWを浮上させるワーク浮上手段を用いることにより、ワークWに直接接触することなくワークWを浮かせることができるため、ワークWが破損、変形することを抑えることができると共に、本装置を簡単な構成することができる。また、ワーク浮上手段が多孔質部材106と、それに連なる接続流路113とを有することにより、ワーク浮上手段を簡単な構成にすることができる。   As described above, the workpiece floating means described in the claims includes the porous member 106 and the connection flow path 113 (the main flow path 122 and the supply-side flow path 125) connected to the porous member 106. As a mechanism for floating the workpiece W on the table main body 103, the workpiece W can be floated without directly contacting the workpiece W by using the workpiece floating means for floating the workpiece W by the released gas. While being able to suppress a deformation | transformation, this apparatus can be comprised simply. Further, since the workpiece floating means includes the porous member 106 and the connection flow path 113 connected thereto, the workpiece floating means can be configured simply.

一方、吸着処理を行う場合には、一対の切替バルブ128,128により、主流路122からの流路接続を吸引側流路126に切り替えると共に、真空吸引機構112を駆動する。厳密には、電空レギュレータ136の調整により、イジェクタ135による吸引負圧を調整する。当該吸引負圧が、吸引側流路126、主流路122および多孔質部材106を介して、セットされたワークWに伝達される。この結果、ワークWがテーブル本体103に吸着される。   On the other hand, when performing the adsorption process, the pair of switching valves 128 and 128 switches the channel connection from the main channel 122 to the suction side channel 126 and drives the vacuum suction mechanism 112. Strictly speaking, the negative suction pressure by the ejector 135 is adjusted by adjusting the electropneumatic regulator 136. The suction negative pressure is transmitted to the set work W through the suction side flow path 126, the main flow path 122 and the porous member 106. As a result, the work W is attracted to the table main body 103.

このように、一対の切替バルブ128,128にて供給側流路125と吸引側流路126との間で流路切替えを行うことにより、放出ガス供給機構111によるワークWの浮上と、真空吸引機構112によるワークWの吸引(吸着)とを同一の多孔質部材106で行うことができる。そのため、簡単な構成で、ワークWの浮上および吸引(吸着)を行うことができる。なお、本実施形態における複数の多孔質部材106は、単一のエアー室108に連通して1系統の吸引・浮上系を構成しているが、大きさの異なる複数種のワークWを処理する場合には、ワークWの種別に応じてテーブル本体103をエリア分けし、複数系統の吸引・浮上系とすることが好ましい。但し、浮上のときは、ワークの大きさにかかわらず全系統を使用する。   As described above, by switching the flow path between the supply-side flow path 125 and the suction-side flow path 126 with the pair of switching valves 128, 128, the floating of the workpiece W by the discharge gas supply mechanism 111 and the vacuum suction are performed. The suction (adsorption) of the workpiece W by the mechanism 112 can be performed by the same porous member 106. Therefore, the workpiece W can be floated and sucked (sucked) with a simple configuration. In addition, although the several porous member 106 in this embodiment is connected to the single air chamber 108, and comprises 1 system | suction / flotation system, it processes several types of workpiece | work W from which a magnitude | size differs. In this case, it is preferable to divide the table main body 103 into areas according to the type of the work W and to use a plurality of suction / levitation systems. However, when ascending, use the entire system regardless of the size of the workpiece.

次に、図5および図6を参照して、給除材機構20について説明する。給除材機構20は、給除材位置に位置するセットテーブル21のY軸方向一方に(図5中左側に)隣接して配設され、セットテーブル21にワークWを給材する給材テーブル141と、給除材位置に位置するセットテーブル21のY軸方向他方に(図5中右側に)隣接して配設され、セットテーブル21にワークWを除材する除材テーブル142と、セットテーブル21と除材テーブル142の間に配設され、除材搬送中のワークWの描画結果を検査する描画結果検出装置(描画結果検出手段)143と、別工程から給材テーブル141にワークWを搬入すると共に除材テーブル142から別工程にワークWを搬出するロボットアームユニット144と、を備えている。すなわち、ロボットアームユニット144により、描画処理前のワークWが給材テーブル141に搬入され、その後、給材テーブル141により、ワークWがセットテーブル21に給材される。一方、除材テーブル142により、描画処理後のワークWがセットテーブル21から除材され、その後、ロボットアームユニット144により、ワークWが除材テーブル142から搬出される。   Next, the supply / discharge material mechanism 20 will be described with reference to FIGS. 5 and 6. The material supply / removal mechanism 20 is disposed adjacent to one side in the Y-axis direction (on the left side in FIG. 5) of the set table 21 located at the material supply / removal material position, and supplies the workpiece W to the set table 21. 141, a material removal table 142 disposed adjacent to the other side of the set table 21 in the Y-axis direction (on the right side in FIG. 5) at the feed / removal material position to remove the workpiece W from the set table 21, and a set A drawing result detecting device (drawing result detecting means) 143 that is arranged between the table 21 and the material removal table 142 and inspects the drawing result of the workpiece W during material removal conveyance, and the work W on the material supply table 141 from another process. And a robot arm unit 144 that carries the workpiece W out of the material removal table 142 in a separate process. That is, the workpiece W before drawing processing is carried into the material supply table 141 by the robot arm unit 144, and then the workpiece W is supplied to the set table 21 by the material supply table 141. On the other hand, the workpiece W after drawing processing is removed from the set table 21 by the material removal table 142, and then the workpiece W is carried out of the material removal table 142 by the robot arm unit 144.

ロボットアームユニット144は、ロボットアーム151と、ロボットアーム151をY軸方向に移動自在に支持するアーム移動機構154と、を備えている。ロボットアーム151は、先端部にワークWを吸着保持する保持部152を備えており、その先端に形成された一対(2本)の保持片153,153によりワークWを載せこむ形で保持する。この状態で、ロボットアーム151により保持部152を移動させることで、ワークWの搬送(搬入および搬出)を行う。   The robot arm unit 144 includes a robot arm 151 and an arm moving mechanism 154 that supports the robot arm 151 movably in the Y-axis direction. The robot arm 151 includes a holding portion 152 that holds the workpiece W by suction at the tip, and holds the workpiece W in a form of being placed by a pair of (two) holding pieces 153 and 153 formed at the tip. In this state, the workpiece W is transferred (in and out) by moving the holding unit 152 by the robot arm 151.

アーム移動機構154は、給材テーブル141および除材テーブル142に臨むように配設されると共に、給材テーブル141にワークWを搬入する搬入位置と、除材テーブル142にワークWを搬出する搬出位置との間で、ロボットアーム151を平行移動させる。これにより、単一のロボットアーム151によって、搬入と搬出を行うことができる。なお、ロボットアーム151は、チャンバ6外に配設されているのに対し、給材テーブル141はチャンバ6内に配設されている。そのため、ロボットアーム151は、チャンバ6の搬入用開閉扉102を介して、チャンバ6内にワークWを搬入することになる(図1参照)。   The arm moving mechanism 154 is disposed so as to face the material supply table 141 and the material removal table 142, and includes a carry-in position where the work W is carried into the material supply table 141, and a carry-out where the work W is carried out to the material removal table 142. The robot arm 151 is translated between the positions. Thereby, carrying in and carrying out can be performed by the single robot arm 151. The robot arm 151 is disposed outside the chamber 6, whereas the feed table 141 is disposed in the chamber 6. Therefore, the robot arm 151 loads the workpiece W into the chamber 6 via the loading door 102 of the chamber 6 (see FIG. 1).

給材テーブル141は、給材テーブル本体161と、給材テーブル本体161に放出ガスを供給する給材ガス供給系162と、を備えている。給材テーブル本体161の表面から、給材ガス供給系162から供給された放出ガスを放出して給材時にワークWを浮上させる。また、給材テーブル本体161のセットテーブル21側の端部には、給材のために浮上したワークWを、セットテーブル21に向かって押し出すようにして自走力を付与する給材用蹴出し機構164が設けられている。給材用蹴出し機構164は、例えば弾性部材で構成されたワーク接触部を有すると共に給材テーブル本体161の表面から出没するように回動する蹴出しアームと、蹴出しアームを回動させるエアーシリンダ等で構成されている。給材用蹴出し機構164により蹴り出されたワークWは、上記したセットテーブル21の給材用ストッパ機構114により、セットテーブル21上で停止される。このように、請求項にいう給材手段は、給材用蹴出し機構164および給材用ストッパ機構114により構成されている。   The feed table 141 includes a feed table main body 161 and a feed gas supply system 162 that supplies a release gas to the feed table main body 161. The release gas supplied from the supply gas supply system 162 is released from the surface of the supply table main body 161, and the workpiece W is floated during supply. Further, at the end of the supply table main body 161 on the side of the set table 21, the supply material kick-out that applies the self-propelling force by pushing the work W floating for supply to the set table 21. A mechanism 164 is provided. The feed kick mechanism 164 has a workpiece contact portion made of, for example, an elastic member and rotates so as to protrude from the surface of the feed table main body 161, and air that rotates the kick arm. It is composed of a cylinder. The workpiece W kicked out by the feed kick mechanism 164 is stopped on the set table 21 by the feed stopper mechanism 114 of the set table 21 described above. As described above, the material supply means described in the claims includes the material supply kick mechanism 164 and the material supply stopper mechanism 114.

給材テーブル本体161は、その表面がセットテーブル21の表面より高い位置に構成されており、セットテーブル21のテーブル本体103と同様、複数の多孔質部材106を有すると共に、複数の多孔質部材106を嵌入する複数の嵌入部105およびそれに連なる複数の連通孔107、エアー室108および接続孔110が形成されている。また、複数の嵌入部105を除く位置には、ロボットアーム151の一対の保持片153,153が挿入される一対の挿入溝163,163が形成されている。ロボットアーム151が、一対の保持片153,153にワークWを載せた状態で、一対の挿入溝163,163上方から下降し、一対の保持片153,153が一対の挿入溝163,163に入り込むことで、ワークWが給材テーブル本体161にセットされる。これにより、ロボットアーム151から給材テーブル本体161にワークWが受け渡される。なお、給材テーブル本体161は、チャンバ6内に配設されている(図1参照)。これにより、給材に際し、給材するワークWを、チャンバ6内の雰囲気温度に慣らせた状態にすることができる。そのため、描画処理時のワークWの熱性影響を排除することができる。   The feed table main body 161 is configured such that the surface thereof is higher than the surface of the set table 21. Like the table main body 103 of the set table 21, the supply table main body 161 has a plurality of porous members 106 and a plurality of porous members 106. A plurality of insertion portions 105 for inserting a plurality of holes, a plurality of communication holes 107 connected thereto, an air chamber 108 and a connection hole 110 are formed. Further, a pair of insertion grooves 163 and 163 into which the pair of holding pieces 153 and 153 of the robot arm 151 are inserted are formed at positions excluding the plurality of insertion portions 105. The robot arm 151 descends from above the pair of insertion grooves 163, 163 with the workpiece W placed on the pair of holding pieces 153, 153, and the pair of holding pieces 153, 153 enters the pair of insertion grooves 163, 163. Thus, the workpiece W is set on the supply table main body 161. As a result, the workpiece W is delivered from the robot arm 151 to the supply table main body 161. The supply table main body 161 is disposed in the chamber 6 (see FIG. 1). Thereby, the workpiece | work W to supply can be made into the state accustomed to the atmospheric temperature in the chamber 6 in the case of supply. Therefore, the thermal effect of the workpiece W during the drawing process can be eliminated.

給材ガス供給系162は、ガス供給機構171と、給材テーブル本体161とガス供給機構171とを接続するガス供給流路172と、を備えている。ガス供給機構171は、圧縮エアー供給設備85に接続したガス流量調整バルブ173を有し、ガス流量調整バルブ173を調整することで、一定圧力の放出ガス(圧縮エアー)を供給する。供給された放出ガスは、ガス供給流路172、連通孔107および嵌入部105を介して複数の多孔質部材106に供給され、複数の多孔質部材106から放出ガスが放出される。これにより、セットされたワークWを浮上させる。このように、請求項にいう給材浮上手段は、多孔質部材106および給材ガス供給系162により構成されている。   The supply gas supply system 162 includes a gas supply mechanism 171 and a gas supply flow path 172 that connects the supply table main body 161 and the gas supply mechanism 171. The gas supply mechanism 171 has a gas flow rate adjustment valve 173 connected to the compressed air supply facility 85, and adjusts the gas flow rate adjustment valve 173 to supply a discharge gas (compressed air) at a constant pressure. The supplied release gas is supplied to the plurality of porous members 106 via the gas supply flow path 172, the communication hole 107 and the fitting portion 105, and the release gas is released from the plurality of porous members 106. Thereby, the set work W is levitated. As described above, the feed material floating means described in the claims includes the porous member 106 and the feed gas supply system 162.

除材テーブル142は、除材テーブル本体181と、除材テーブル本体181に放出ガスを供給する除材ガス供給系182と、を備えている。除材テーブル本体181の表面から、除材ガス供給系182から供給された放出ガスを放出して除材時にワークWを浮上させる。また、除材テーブル本体181のセットテーブル21側の端部には、上記したセットテーブル21の除材用蹴出し機構109により蹴り出されたワークWを除材テーブル142上に停止させる除材用ストッパ機構184が設けられている。除材用ストッパ機構184は、例えば弾性部材で構成されたワーク接触部を有すると共にテーブル本体103の表面から出没する障壁状のストッパ本体と、ストッパ本体を出没させるエアーシリンダ等で構成されている。すなわち、請求項にいう除材手段は、除材用蹴出し機構109と除材用ストッパ機構184とにより構成されている。   The material removal table 142 includes a material removal table main body 181 and a material removal gas supply system 182 that supplies a release gas to the material removal table main body 181. The release gas supplied from the material removal gas supply system 182 is released from the surface of the material removal table main body 181 to float the workpiece W during material removal. Further, at the end of the material removal table body 181 on the set table 21 side, the material removal material for stopping the workpiece W kicked by the material removal kicking mechanism 109 of the set table 21 on the material removal table 142 is provided. A stopper mechanism 184 is provided. The material removal stopper mechanism 184 includes a work piece contact portion made of, for example, an elastic member, a barrier stopper main body that protrudes and protrudes from the surface of the table main body 103, an air cylinder that protrudes and retracts the stopper main body, and the like. That is, the material removal means referred to in the claims includes the material removal kick-out mechanism 109 and the material removal stopper mechanism 184.

除材テーブル本体181は、その表面がセットテーブル21の表面より低い位置になるよう構成されており、セットテーブル21のテーブル本体103と同様、複数の多孔質部材106を有すると共に、複数の多孔質部材106を嵌入する複数の嵌入部105およびそれに連なる複数の連通孔107、エアー室108および接続孔110が形成されている。また、複数の嵌入部105を除く位置に、ロボットアーム151の一対の保持片153,153が挿入される一対の挿入溝163,163が形成されている。ロボットアーム151は、ワークWがセットされた状態で、一対の保持片153,153を一対の挿入溝163,163に横から挿入した後、保持部152を上昇されて一対の保持片153,153にワークWを載せこむ。これにより、除材テーブル本体181からロボットアーム151にワークWが受け渡される。なお、請求項にいう除材浮上手段は、多孔質部材106および除材ガス供給系182により構成されている。また、除材ガス供給系182は、給材ガス供給系162と同様の構成であるため、説明を省略する。   The material removal table body 181 is configured such that the surface thereof is at a lower position than the surface of the set table 21. Like the table body 103 of the set table 21, the material removal table body 181 includes a plurality of porous members 106 and a plurality of porous members. A plurality of insertion portions 105 into which the member 106 is inserted, a plurality of communication holes 107 connected thereto, an air chamber 108 and a connection hole 110 are formed. Further, a pair of insertion grooves 163 and 163 into which the pair of holding pieces 153 and 153 of the robot arm 151 are inserted are formed at positions excluding the plurality of insertion portions 105. The robot arm 151 inserts the pair of holding pieces 153 and 153 into the pair of insertion grooves 163 and 163 from the side in a state where the workpiece W is set, and then lifts the holding portion 152 to raise the pair of holding pieces 153 and 153. Place work W on As a result, the workpiece W is delivered from the material removal table main body 181 to the robot arm 151. Note that the material removal levitation means described in the claims includes a porous member 106 and a material removal gas supply system 182. Moreover, since the material removal gas supply system 182 has the same configuration as the material supply gas supply system 162, the description thereof is omitted.

描画結果検出装置143は、セットテーブル21と除材テーブル142との間に配設されており、除材搬送(セットテーブル21から除材テーブル142への搬送)されるワークWに上方から臨む混色カメラ(撮像カメラ)191と、ワークWを挟むように混色カメラ191に対向配置された照明192と、を備えている。除材搬送されるワークWの描画処理結果は、照明192による照射光を受けた状態で、混色カメラ191に撮像される。ワークWは、透明なガラス基板であるため、透過光により、描画結果を検出することができる。この検出結果に基づいて、描画結果の混色が検査され、描画処理されたワークの不良が判定される。   The drawing result detection device 143 is disposed between the set table 21 and the material removal table 142, and is a color mixture that faces the workpiece W to be removed (conveyed from the set table 21 to the material removal table 142) from above. A camera (imaging camera) 191 and an illumination 192 arranged to face the color mixing camera 191 so as to sandwich the workpiece W are provided. The drawing processing result of the workpiece W conveyed by the material removal is captured by the color mixing camera 191 in a state where the irradiation light from the illumination 192 is received. Since the workpiece W is a transparent glass substrate, the drawing result can be detected by transmitted light. Based on the detection result, the mixed color of the drawing result is inspected, and the defect of the workpiece subjected to the drawing process is determined.

このように、セットテーブル21と除材テーブル142との間に位置して描画結果検出装置143を配設することにより、除材搬送を利用して、描画結果の検出を行うことができる。そのため、描画結果の検出を効率良く行うことができる。また、描画結果を、照明192からの透過光により検出することができるため、精度の高い描画結果の検出を行うことができる。なお、本実施形態においては、混色カメラ191により、画素混色検査を行っている。しかしながら、混色カメラ191に代わり(または加えて)色濃度検出カメラを備え、色濃度を検査し、濃度ムラ、すじムラを検出するものでもよい。   As described above, by arranging the drawing result detection device 143 located between the set table 21 and the material removal table 142, the drawing result can be detected by using the material removal conveyance. Therefore, the drawing result can be detected efficiently. In addition, since the drawing result can be detected by the transmitted light from the illumination 192, it is possible to detect the drawing result with high accuracy. In the present embodiment, the color mixture camera 191 performs a pixel color mixture inspection. However, instead of (or in addition to) the color mixing camera 191, a color density detection camera may be provided to inspect the color density and detect density unevenness and stripe unevenness.

ここで、図7を参照して液滴吐出装置1の給除材動作について説明する。給除材動作は、給材および除材を同一工程に行うものである。そのため、本動作は、給材テーブル141に描画処理前のワークW(以後、給材ワークW1と表記)がセットされ、セットテーブル21に描画処理後のワークW(以後、除材ワークW2と表記)がセットされた状態にて行なわれる(図7(a))。また、チャンバ6に形成された除材用開閉扉101が開放されている状態にて行われる。   Here, with reference to FIG. 7, the material supply / discharge material operation of the droplet discharge device 1 will be described. In the feeding / removing operation, feeding and removal are performed in the same process. Therefore, in this operation, the workpiece W before drawing processing (hereinafter referred to as “supplying workpiece W1”) is set in the material supply table 141, and the workpiece W after drawing processing (hereinafter referred to as material removal workpiece W2) is set in the set table 21. ) Is set (FIG. 7A). Further, the material removal opening / closing door 101 formed in the chamber 6 is opened.

まず、給材ガス供給系162、除材ガス供給系182およびガス流路系104を駆動する(ガス流路系104は、浮上処理駆動)。これにより、給材テーブル141上の給材ワークW1を浮上すると共に、セットテーブル21上の除材ワークW2を浮上する(図7(b))。各ワークW1,W2が浮上したら、給材ワークW1を給材用蹴出し機構164で、除材ワークW2を除材用蹴出し機構109で水平方向に移動させる(図7(c))。これにより、給材ワークW1が給材テーブル141からセットテーブル21に、除材ワークW2がセットテーブル21から除材テーブル142に受け渡される。この際、除材ワークW2は、除材用開閉扉101を通過後、描画結果検出装置143上を通過して、描画結果が検査される。   First, the feed gas supply system 162, the material removal gas supply system 182 and the gas flow path system 104 are driven (the gas flow path system 104 is driven to float). Thereby, the material work W1 on the material table 141 is levitated and the material removal work W2 on the set table 21 is levitated (FIG. 7B). When the workpieces W1 and W2 are lifted, the feed material workpiece W1 is moved in the horizontal direction by the feed material kick-out mechanism 164, and the material removal workpiece W2 is moved in the horizontal direction by the material removal kick-out mechanism 109 (FIG. 7C). As a result, the material supply work W1 is transferred from the supply table 141 to the set table 21, and the material removal work W2 is transferred from the set table 21 to the material removal table 142. At this time, the material removal work W2 passes through the material removal opening / closing door 101 and then passes over the drawing result detection device 143, and the drawing result is inspected.

給材ワークW1がセットテーブル21上に移動し、除材ワークW2が除材テーブル142上に移動すると、給材ワークW1は、セットテーブル21の給材用ストッパ機構114にて、セットテーブル21上の所定の位置に停止される。一方、除材ワークW2は、除材テーブル142の除材用ストッパ機構184にて、除材テーブル142上の所定の位置に停止される(図7(d))。その後、ガス流路系104、給材ガス供給系162および除材ガス供給系182の駆動を停止し、給除材を完了する(図7(e))。   When the material supply work W1 moves onto the set table 21 and the material removal work W2 moves onto the material removal table 142, the material supply work W1 is moved onto the set table 21 by the material supply stopper mechanism 114 of the set table 21. Is stopped at a predetermined position. On the other hand, the material removal work W2 is stopped at a predetermined position on the material removal table 142 by the material removal stopper mechanism 184 of the material removal table 142 (FIG. 7D). Thereafter, the driving of the gas flow path system 104, the supply gas supply system 162, and the removal material gas supply system 182 is stopped, and the supply / discharge material is completed (FIG. 7E).

このように、上記の構成により、ワークWの給除材搬送を、浮上した状態で行うことができる。そのため、給除材搬送に際し、ワークWに直接接触して支持する必要がなく、ワークWの破損、変形することを抑えることができると共に、極めて小さな力で、ワークWを移動させることができる。また、ワークWの給除材搬送を同時に行うことができるため、ワークWの給除材を効率良く行うことができる。さらに、給材テーブル141の表面よりセットテーブル21の表面が低く、セットテーブル21の表面より除材テーブル142の表面が低く形成されているため、給除材搬送に際し、ワークWが微小に降下した場合にも、ワークWが受け取り側のテーブル(セットテーブル21もしくは除材テーブル142)の端に衝突してしまうのを防止することができる。   As described above, according to the above-described configuration, the workpiece W can be conveyed and fed in a floating state. Therefore, it is not necessary to directly contact and support the workpiece W during conveyance of the supply / discharge material, it is possible to suppress damage and deformation of the workpiece W, and it is possible to move the workpiece W with an extremely small force. Moreover, since the feeding / unloading material conveyance of the workpiece | work W can be performed simultaneously, the feeding / unloading material of the workpiece | work W can be performed efficiently. Furthermore, since the surface of the set table 21 is lower than the surface of the supply table 141 and the surface of the material removal table 142 is lower than the surface of the set table 21, the workpiece W slightly drops during the supply / discharge material conveyance. Even in this case, it is possible to prevent the workpiece W from colliding with the end of the receiving table (the set table 21 or the material removal table 142).

以上のような構成によれば、ワークWをテーブル本体103上に浮かせる機構として、放出ガスによりワークWを浮上させるワーク浮上手段を用いることにより、ワークWに直接接触することなくワークWを浮かせることができるため、ワークWが破損、変形することを抑えることができる。また、本装置を簡単な構成にすることができると共にセットテーブル21を薄手のものにすることができる。   According to the configuration as described above, the workpiece W is floated without being in direct contact with the workpiece W by using the workpiece floating means for floating the workpiece W with the released gas as a mechanism for floating the workpiece W on the table body 103. Therefore, it is possible to prevent the workpiece W from being damaged or deformed. In addition, the present apparatus can have a simple configuration and the set table 21 can be made thin.

なお、本実施形態とは異なり、セットテーブル21、給材テーブル141および除材テーブル142上において、複数の多孔質部材106をXY方向で均等に配設するようにしても良い。   Unlike the present embodiment, a plurality of porous members 106 may be equally arranged in the XY directions on the set table 21, the material supply table 141, and the material removal table 142.

また、本実施形態においては、浮上したワークWの移動する機構(請求項にいう給材手段および除材手段)として蹴出し機構およびストッパ機構を用いたが、それに限るものではない。別実施方法として、ロボットアームユニット144により、ワークWの端面を押す(もしくは引っ張る)ことで、浮上したワークWを移動するようにしても良い。また、別実施方法として、多孔質部材106毎に放出ガス供給機構111(流量調整バルブ131)を設け、各多孔質部材106で放出圧力を調整することで、ワークWを移動するものでも良い。例えば、移動方向先端側の多孔質部材106の放出圧力に比べ、移動方向尾端側の多孔質部材106の放出圧力を低くし、ワークWをわずかに斜めに支持するように移動させるものでも良い。さらに、別実施方法として、圧縮エアー供給設備85に接続され、ワークW端部に向かって斜めに圧縮エアーを放出するエアーノズルを有し、エアーノズルから放出する圧縮エアーにより、ワークWを押圧するようにしても良い。   Further, in the present embodiment, the kicking mechanism and the stopper mechanism are used as the mechanism for moving the floated workpiece W (the material supply means and the material removal means described in the claims), but the invention is not limited thereto. As another implementation method, the lifted workpiece W may be moved by pushing (or pulling) the end surface of the workpiece W by the robot arm unit 144. As another implementation method, a discharge gas supply mechanism 111 (flow rate adjustment valve 131) may be provided for each porous member 106 and the discharge pressure may be adjusted by each porous member 106 to move the workpiece W. For example, the discharge pressure of the porous member 106 at the tail end side in the movement direction may be lower than the discharge pressure of the porous member 106 at the tip end side in the movement direction, and the workpiece W may be moved so as to be supported slightly obliquely. . Furthermore, as another implementation method, it has an air nozzle that is connected to the compressed air supply equipment 85 and discharges the compressed air obliquely toward the end of the work W, and the work W is pressed by the compressed air discharged from the air nozzle. You may do it.

さらに、本実施形態においては、10個のキャリッジユニット51を備えた液滴吐出装置1を備えたものを使用しているが、キャリッジユニット51の個数は任意である。   Further, in the present embodiment, a device including the droplet discharge device 1 including ten carriage units 51 is used, but the number of carriage units 51 is arbitrary.

次に、本実施形態の液滴吐出装置1を用いて製造される電気光学装置(フラットパネルディスプレイ)として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機EL装置、プラズマディスプレイ(PDP装置)、電子放出装置(FED装置、SED装置)、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。   Next, as an electro-optical device (flat panel display) manufactured using the droplet discharge device 1 of this embodiment, a color filter, a liquid crystal display device, an organic EL device, a plasma display (PDP device), an electron emission device ( FED devices, SED devices), and active matrix substrates formed in these display devices will be described as an example for their structures and manufacturing methods. Note that an active matrix substrate refers to a substrate on which a thin film transistor, a source line electrically connected to the thin film transistor, and a data line are formed.

まず、液晶表示装置や有機EL装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図8は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図9は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ500(フィルタ基体500A)の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程(S101)では、図9(a)に示すように、基板(W)501上にブラックマトリクス502を形成する。ブラックマトリクス502は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス502を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス502を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
First, a method for manufacturing a color filter incorporated in a liquid crystal display device, an organic EL device, or the like will be described. FIG. 8 is a flowchart showing the manufacturing process of the color filter, and FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of the color filter 500 (filter base body 500A) of this embodiment shown in the order of the manufacturing process.
First, in the black matrix forming step (S101), a black matrix 502 is formed on a substrate (W) 501 as shown in FIG. The black matrix 502 is formed of metal chromium, a laminate of metal chromium and chromium oxide, resin black, or the like. A sputtering method, a vapor deposition method, or the like can be used to form the black matrix 502 made of a metal thin film. Further, when forming the black matrix 502 made of a resin thin film, a gravure printing method, a photoresist method, a thermal transfer method, or the like can be used.

続いて、バンク形成工程(S102)において、ブラックマトリクス502上に重畳する状態でバンク503を形成する。即ち、まず図9(b)に示すように、基板501およびブラックマトリクス502を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層504を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム505で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図9(c)に示すように、レジスト層504の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層504をパターニングして、バンク503を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク503とその下のブラックマトリクス502は、各画素領域507aを区画する区画壁部507bとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド17により着色層(成膜部)508R、508G、508Bを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
Subsequently, in the bank formation step (S102), a bank 503 is formed in a state of being superimposed on the black matrix 502. That is, first, as shown in FIG. 9B, a resist layer 504 made of a negative transparent photosensitive resin is formed so as to cover the substrate 501 and the black matrix 502. Then, an exposure process is performed with the upper surface covered with a mask film 505 formed in a matrix pattern shape.
Further, as shown in FIG. 9C, the resist layer 504 is patterned by etching an unexposed portion of the resist layer 504 to form a bank 503. When the black matrix is formed from resin black, it is possible to use both the black matrix and the bank.
The bank 503 and the black matrix 502 below the partition wall 507b partitioning each pixel region 507a, and in the subsequent colored layer forming step, the colored liquid layers (film forming portions) 508R, 508G, When forming 508B, the landing area of the functional droplet is defined.

以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体500Aが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク503の材料として、塗膜表面が疎液(疎水)性となる樹脂材料を用いている。そして、基板(ガラス基板)501の表面が親液(親水)性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク503(区画壁部507b)に囲まれた各画素領域507a内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
The filter substrate 500A is obtained through the above black matrix forming step and bank forming step.
In the present embodiment, as the material for the bank 503, a resin material whose surface is lyophobic (hydrophobic) is used. Since the surface of the substrate (glass substrate) 501 is lyophilic (hydrophilic), the droplets into each pixel region 507a surrounded by the bank 503 (partition wall portion 507b) in the colored layer forming step described later. Variations in landing position can be automatically corrected.

次に、着色層形成工程(S103)では、図9(d)に示すように、機能液滴吐出ヘッド17によって機能液滴を吐出して区画壁部507bで囲まれた各画素領域507a内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド17を用いて、R・G・Bの3色の機能液(フィルタ材料)を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、R・G・Bの3色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。   Next, in the colored layer forming step (S103), as shown in FIG. 9D, the functional liquid droplets are ejected by the functional liquid droplet ejection head 17, and each pixel region 507a is surrounded by the partition wall portion 507b. Let it land. In this case, the functional liquid droplet ejection head 17 is used to introduce functional liquids (filter materials) of three colors of R, G, and B to eject functional liquid droplets. Note that the three-color arrangement pattern of R, G, and B includes a stripe arrangement, a mosaic arrangement, and a delta arrangement.

その後、乾燥処理(加熱等の処理)を経て機能液を定着させ、3色の着色層508R、508G、508Bを形成する。着色層508R、508G、508Bを形成したならば、保護膜形成工程(S104)に移り、図9(e)に示すように、基板501、区画壁部507b、および着色層508R、508G、508Bの上面を覆うように保護膜509を形成する。
即ち、基板501の着色層508R、508G、508Bが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜509が形成される。
そして、保護膜509を形成した後、カラーフィルタ500は、次工程の透明電極となるITO(Indium Tin Oxide)などの膜付け工程に移行する。
Thereafter, the functional liquid is fixed through a drying process (a process such as heating), and three colored layers 508R, 508G, and 508B are formed. When the colored layers 508R, 508G, and 508B are formed, the process proceeds to the protective film forming step (S104), and as shown in FIG. 9E, the substrate 501, the partition wall portion 507b, and the colored layers 508R, 508G, and 508B are moved. A protective film 509 is formed so as to cover the upper surface.
That is, after the protective film coating liquid is discharged over the entire surface of the substrate 501 where the colored layers 508R, 508G, and 508B are formed, the protective film 509 is formed through a drying process.
Then, after forming the protective film 509, the color filter 500 moves to a film forming process such as ITO (Indium Tin Oxide) which becomes a transparent electrode in the next process.

図10は、上記のカラーフィルタ500を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置(液晶装置)の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置520に、液晶駆動用IC、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ500は図9に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。   FIG. 10 is a cross-sectional view of a main part showing a schematic configuration of a passive matrix liquid crystal device (liquid crystal device) as an example of a liquid crystal display device using the color filter 500 described above. By attaching auxiliary elements such as a liquid crystal driving IC, a backlight, and a support to the liquid crystal device 520, a transmissive liquid crystal display device as a final product can be obtained. Since the color filter 500 is the same as that shown in FIG. 9, the corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

この液晶装置520は、カラーフィルタ500、ガラス基板等からなる対向基板521、および、これらの間に挟持されたSTN(Super Twisted Nematic)液晶組成物からなる液晶層522により概略構成されており、カラーフィルタ500を図中上側(観測者側)に配置している。
なお、図示していないが、対向基板521およびカラーフィルタ500の外面(液晶層522側とは反対側の面)には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板521側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
The liquid crystal device 520 is roughly configured by a color filter 500, a counter substrate 521 made of a glass substrate, and a liquid crystal layer 522 made of an STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal composition sandwiched between them, The filter 500 is arranged on the upper side (observer side) in the figure.
Although not shown, polarizing plates are provided on the outer surfaces of the counter substrate 521 and the color filter 500 (surfaces opposite to the liquid crystal layer 522 side), and the polarizing plates located on the counter substrate 521 side are also provided. A backlight is disposed outside.

カラーフィルタ500の保護膜509上(液晶層側)には、図10において左右方向に長尺な短冊状の第1電極523が所定の間隔で複数形成されており、この第1電極523のカラーフィルタ500側とは反対側の面を覆うように第1配向膜524が形成されている。
一方、対向基板521におけるカラーフィルタ500と対向する面には、カラーフィルタ500の第1電極523と直交する方向に長尺な短冊状の第2電極526が所定の間隔で複数形成され、この第2電極526の液晶層522側の面を覆うように第2配向膜527が形成されている。これらの第1電極523および第2電極526は、ITOなどの透明導電材料により形成されている。
On the protective film 509 of the color filter 500 (on the liquid crystal layer side), a plurality of strip-shaped first electrodes 523 elongated in the left-right direction in FIG. 10 are formed at predetermined intervals. The color of the first electrode 523 A first alignment film 524 is formed so as to cover the surface opposite to the filter 500 side.
On the other hand, a plurality of strip-shaped second electrodes 526 elongated in a direction orthogonal to the first electrode 523 of the color filter 500 are formed on the surface of the counter substrate 521 facing the color filter 500 at a predetermined interval. A second alignment film 527 is formed so as to cover the surface of the two electrodes 526 on the liquid crystal layer 522 side. The first electrode 523 and the second electrode 526 are made of a transparent conductive material such as ITO.

液晶層522内に設けられたスペーサ528は、液晶層522の厚さ(セルギャップ)を一定に保持するための部材である。また、シール材529は液晶層522内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第1電極523の一端部は引き回し配線523aとしてシール材529の外側まで延在している。
そして、第1電極523と第2電極526とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ500の着色層508R、508G、508Bが位置するように構成されている。
The spacer 528 provided in the liquid crystal layer 522 is a member for keeping the thickness (cell gap) of the liquid crystal layer 522 constant. The sealing material 529 is a member for preventing the liquid crystal composition in the liquid crystal layer 522 from leaking to the outside. Note that one end of the first electrode 523 extends to the outside of the sealing material 529 as a lead-out wiring 523a.
A portion where the first electrode 523 and the second electrode 526 intersect with each other is a pixel, and the color layers 508R, 508G, and 508B of the color filter 500 are located in the portion that becomes the pixel.

通常の製造工程では、カラーフィルタ500に、第1電極523のパターニングおよび第1配向膜524の塗布を行ってカラーフィルタ500側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板521に、第2電極526のパターニングおよび第2配向膜527の塗布を行って対向基板521側の部分を作成する。その後、対向基板521側の部分にスペーサ528およびシール材529を作り込み、この状態でカラーフィルタ500側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材529の注入口から液晶層522を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。   In a normal manufacturing process, patterning of the first electrode 523 and application of the first alignment film 524 are performed on the color filter 500 to create a portion on the color filter 500 side. Patterning of the electrode 526 and application of the second alignment film 527 are performed to create a portion on the counter substrate 521 side. Thereafter, a spacer 528 and a sealing material 529 are formed in the portion on the counter substrate 521 side, and the portion on the color filter 500 side is bonded in this state. Next, liquid crystal constituting the liquid crystal layer 522 is injected from the inlet of the sealing material 529, and the inlet is closed. Thereafter, both polarizing plates and the backlight are laminated.

実施形態の液滴吐出装置1は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料(機能液)を塗布すると共に、対向基板521側の部分にカラーフィルタ500側の部分を貼り合わせる前に、シール材529で囲んだ領域に液晶(機能液)を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材529の印刷を、機能液滴吐出ヘッド17で行うことも可能である。さらに、第1・第2両配向膜524,527の塗布を機能液滴吐出ヘッド17で行うことも可能である。   The droplet discharge device 1 according to the embodiment applies, for example, a spacer material (functional liquid) that constitutes the cell gap, and before the portion on the color filter 500 side is bonded to the portion on the counter substrate 521 side, the sealing material Liquid crystal (functional liquid) can be uniformly applied to the region surrounded by 529. Further, the printing of the sealing material 529 can be performed by the functional liquid droplet ejection head 17. Further, the first and second alignment films 524 and 527 can be applied by the functional liquid droplet ejection head 17.

図11は、本実施形態において製造したカラーフィルタ500を用いた液晶装置の第2の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置530が上記液晶装置520と大きく異なる点は、カラーフィルタ500を図中下側(観測者側とは反対側)に配置した点である。
この液晶装置530は、カラーフィルタ500とガラス基板等からなる対向基板531との間にSTN液晶からなる液晶層532が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板531およびカラーフィルタ500の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a principal part showing a schematic configuration of a second example of a liquid crystal device using the color filter 500 manufactured in the present embodiment.
The liquid crystal device 530 is significantly different from the liquid crystal device 520 in that the color filter 500 is arranged on the lower side (the side opposite to the observer side) in the figure.
The liquid crystal device 530 is generally configured by sandwiching a liquid crystal layer 532 made of STN liquid crystal between a color filter 500 and a counter substrate 531 made of a glass substrate or the like. Although not shown, polarizing plates and the like are provided on the outer surfaces of the counter substrate 531 and the color filter 500, respectively.

カラーフィルタ500の保護膜509上(液晶層532側)には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第1電極533が所定の間隔で複数形成されており、この第1電極533の液晶層532側の面を覆うように第1配向膜534が形成されている。
対向基板531のカラーフィルタ500と対向する面上には、カラーフィルタ500側の第1電極533と直交する方向に延在する複数の短冊状の第2電極536が所定の間隔で形成され、この第2電極536の液晶層532側の面を覆うように第2配向膜537が形成されている。
On the protective film 509 of the color filter 500 (on the liquid crystal layer 532 side), a plurality of strip-shaped first electrodes 533 elongated in the depth direction in the figure are formed at predetermined intervals, and the liquid crystal of the first electrodes 533 is formed. A first alignment film 534 is formed so as to cover the surface on the layer 532 side.
A plurality of strip-shaped second electrodes 536 extending in a direction orthogonal to the first electrode 533 on the color filter 500 side are formed on the surface of the counter substrate 531 facing the color filter 500 at a predetermined interval. A second alignment film 537 is formed so as to cover the surface of the second electrode 536 on the liquid crystal layer 532 side.

液晶層532には、この液晶層532の厚さを一定に保持するためのスペーサ538と、液晶層532内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材539が設けられている。
そして、上記した液晶装置520と同様に、第1電極533と第2電極536との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ500の着色層508R、508G、508Bが位置するように構成されている。
The liquid crystal layer 532 is provided with a spacer 538 for keeping the thickness of the liquid crystal layer 532 constant and a sealing material 539 for preventing the liquid crystal composition in the liquid crystal layer 532 from leaking to the outside. Yes.
Similarly to the liquid crystal device 520 described above, a portion where the first electrode 533 and the second electrode 536 intersect with each other is a pixel, and the colored layers 508R, 508G, and 508B of the color filter 500 are located at the portion that becomes the pixel. Is configured to do.

図12は、本発明を適用したカラーフィルタ500を用いて液晶装置を構成した第3の例を示したもので、透過型のTFT(Thin Film Transistor)型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置550は、カラーフィルタ500を図中上側(観測者側)に配置したものである。
FIG. 12 shows a third example in which a liquid crystal device is configured using a color filter 500 to which the present invention is applied, and is an exploded perspective view showing a schematic configuration of a transmissive TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal device. It is.
In the liquid crystal device 550, the color filter 500 is arranged on the upper side (observer side) in the figure.

この液晶装置550は、カラーフィルタ500と、これに対向するように配置された対向基板551と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ500の上面側(観測者側)に配置された偏光板555と、対向基板551の下面側に配設された偏光板(図示せず)とにより概略構成されている。
カラーフィルタ500の保護膜509の表面(対向基板551側の面)には液晶駆動用の電極556が形成されている。この電極556は、ITO等の透明導電材料からなり、後述の画素電極560が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極556の画素電極560とは反対側の面を覆った状態で配向膜557が設けられている。
The liquid crystal device 550 includes a color filter 500, a counter substrate 551 disposed so as to face the color filter 500, a liquid crystal layer (not shown) sandwiched therebetween, and an upper surface side (observer side) of the color filter 500. The polarizing plate 555 and the polarizing plate (not shown) arranged on the lower surface side of the counter substrate 551 are roughly configured.
A liquid crystal driving electrode 556 is formed on the surface of the protective film 509 of the color filter 500 (the surface on the counter substrate 551 side). The electrode 556 is made of a transparent conductive material such as ITO, and is a full surface electrode that covers the entire region where a pixel electrode 560 described later is formed. An alignment film 557 is provided so as to cover the surface of the electrode 556 opposite to the pixel electrode 560.

対向基板551のカラーフィルタ500と対向する面には絶縁層558が形成されており、この絶縁層558上には、走査線561および信号線562が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線561と信号線562とに囲まれた領域内には画素電極560が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極560上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。   An insulating layer 558 is formed on the surface of the counter substrate 551 facing the color filter 500, and the scanning lines 561 and the signal lines 562 are formed on the insulating layer 558 in a state of being orthogonal to each other. A pixel electrode 560 is formed in a region surrounded by the scanning lines 561 and the signal lines 562. In an actual liquid crystal device, an alignment film is provided on the pixel electrode 560, but the illustration is omitted.

また、画素電極560の切欠部と走査線561と信号線562とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ563が組み込まれて構成されている。そして、走査線561と信号線562に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ563をオン・オフして画素電極560への通電制御を行うことができるように構成されている。   In addition, a thin film transistor 563 including a source electrode, a drain electrode, a semiconductor, and a gate electrode is incorporated in a portion surrounded by the cutout portion of the pixel electrode 560 and the scanning line 561 and the signal line 562. . The thin film transistor 563 is turned on / off by application of signals to the scanning line 561 and the signal line 562 so that energization control to the pixel electrode 560 can be performed.

なお、上記の各例の液晶装置520,530,550は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。   Note that the liquid crystal devices 520, 530, and 550 in the above examples are transmissive, but a reflective liquid crystal device or a transflective liquid crystal device is provided by providing a reflective layer or a transflective layer. You can also

次に、図13は、有機EL装置の表示領域(以下、単に表示装置600と称する)の要部断面図である。   Next, FIG. 13 is a cross-sectional view of a main part of a display area of an organic EL device (hereinafter simply referred to as a display device 600).

この表示装置600は、基板(W)601上に、回路素子部602、発光素子部603および陰極604が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置600においては、発光素子部603から基板601側に発した光が、回路素子部602および基板601を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部603から基板601の反対側に発した光が陰極604により反射された後、回路素子部602および基板601を透過して観測者側に出射されるようになっている。
The display device 600 is schematically configured with a circuit element portion 602, a light emitting element portion 603, and a cathode 604 laminated on a substrate (W) 601.
In the display device 600, light emitted from the light emitting element portion 603 to the substrate 601 side is transmitted through the circuit element portion 602 and the substrate 601 and emitted to the observer side, and the light emitting element portion 603 is opposite to the substrate 601. After the light emitted to the side is reflected by the cathode 604, the light passes through the circuit element portion 602 and the substrate 601 and is emitted to the observer side.

回路素子部602と基板601との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜606が形成され、この下地保護膜606上(発光素子部603側)に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜607が形成されている。この半導体膜607の左右の領域には、ソース領域607aおよびドレイン領域607bが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域607cとなっている。   A base protective film 606 made of a silicon oxide film is formed between the circuit element portion 602 and the substrate 601, and an island-shaped semiconductor film 607 made of polycrystalline silicon is formed on the base protective film 606 (on the light emitting element portion 603 side). Is formed. In the left and right regions of the semiconductor film 607, a source region 607a and a drain region 607b are formed by high concentration cation implantation, respectively. A central portion where no positive ions are implanted is a channel region 607c.

また、回路素子部602には、下地保護膜606および半導体膜607を覆う透明なゲート絶縁膜608が形成され、このゲート絶縁膜608上の半導体膜607のチャネル領域607cに対応する位置には、例えばAl、Mo、Ta、Ti、W等から構成されるゲート電極609が形成されている。このゲート電極609およびゲート絶縁膜608上には、透明な第1層間絶縁膜611aと第2層間絶縁膜611bが形成されている。また、第1、第2層間絶縁膜611a、611bを貫通して、半導体膜607のソース領域607a、ドレイン領域607bにそれぞれ連通するコンタクトホール612a,612bが形成されている。   In the circuit element portion 602, a transparent gate insulating film 608 covering the base protective film 606 and the semiconductor film 607 is formed, and a position corresponding to the channel region 607c of the semiconductor film 607 on the gate insulating film 608 is formed. For example, a gate electrode 609 made of Al, Mo, Ta, Ti, W or the like is formed. On the gate electrode 609 and the gate insulating film 608, a transparent first interlayer insulating film 611a and a second interlayer insulating film 611b are formed. Further, contact holes 612a and 612b are formed through the first and second interlayer insulating films 611a and 611b and communicating with the source region 607a and the drain region 607b of the semiconductor film 607, respectively.

そして、第2層間絶縁膜611b上には、ITO等からなる透明な画素電極613が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極613は、コンタクトホール612aを通じてソース領域607aに接続されている。
また、第1層間絶縁膜611a上には電源線614が配設されており、この電源線614は、コンタクトホール612bを通じてドレイン領域607bに接続されている。
A transparent pixel electrode 613 made of ITO or the like is patterned and formed in a predetermined shape on the second interlayer insulating film 611b, and the pixel electrode 613 is connected to the source region 607a through the contact hole 612a. .
A power supply line 614 is disposed on the first interlayer insulating film 611a, and the power supply line 614 is connected to the drain region 607b through the contact hole 612b.

このように、回路素子部602には、各画素電極613に接続された駆動用の薄膜トランジスタ615がそれぞれ形成されている。   Thus, the driving thin film transistors 615 connected to the pixel electrodes 613 are formed in the circuit element portion 602, respectively.

上記発光素子部603は、複数の画素電極613上の各々に積層された機能層617と、各画素電極613および機能層617の間に備えられて各機能層617を区画するバンク部618とにより概略構成されている。
これら画素電極613、機能層617、および、機能層617上に配設された陰極604によって発光素子が構成されている。なお、画素電極613は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極613の間にバンク部618が形成されている。
The light emitting element portion 603 includes a functional layer 617 stacked on each of the plurality of pixel electrodes 613, and a bank portion 618 provided between each pixel electrode 613 and the functional layer 617 to partition each functional layer 617. It is roughly structured.
The pixel electrode 613, the functional layer 617, and the cathode 604 provided on the functional layer 617 constitute a light emitting element. Note that the pixel electrode 613 is formed by patterning in a substantially rectangular shape in plan view, and a bank portion 618 is formed between the pixel electrodes 613.

バンク部618は、例えばSiO、SiO2、TiO2等の無機材料により形成される無機物バンク層618a(第1バンク層)と、この無機物バンク層618a上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層618b(第2バンク層)とにより構成されている。このバンク部618の一部は、画素電極613の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部618の間には、画素電極613に対して上方に向けて次第に拡開した開口部619が形成されている。
The bank unit 618 is laminated on the inorganic bank layer 618a (first bank layer) 618a formed of an inorganic material such as SiO, SiO 2 , TiO 2, and the like, and is made of an acrylic resin, a polyimide resin, or the like. It is composed of an organic bank layer 618b (second bank layer) having a trapezoidal cross section formed of a resist having excellent heat resistance and solvent resistance. A part of the bank unit 618 is formed on the peripheral edge of the pixel electrode 613.
An opening 619 that gradually expands upward with respect to the pixel electrode 613 is formed between the bank portions 618.

上記機能層617は、開口部619内において画素電極613上に積層状態で形成された正孔注入/輸送層617aと、この正孔注入/輸送層617a上に形成された発光層617bとにより構成されている。なお、この発光層617bに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入/輸送層617aは、画素電極613側から正孔を輸送して発光層617bに注入する機能を有する。この正孔注入/輸送層617aは、正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物(機能液)を吐出することで形成される。正孔注入/輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
The functional layer 617 includes a hole injection / transport layer 617a formed in a stacked state on the pixel electrode 613 in the opening 619, and a light emitting layer 617b formed on the hole injection / transport layer 617a. Has been. Note that another functional layer having other functions may be further formed adjacent to the light emitting layer 617b. For example, it is possible to form an electron transport layer.
The hole injection / transport layer 617a has a function of transporting holes from the pixel electrode 613 side and injecting them into the light emitting layer 617b. The hole injection / transport layer 617a is formed by discharging a first composition (functional liquid) containing a hole injection / transport layer forming material. A known material is used as the hole injection / transport layer forming material.

発光層617bは、赤色(R)、緑色(G)、または青色(B)のいずれかに発光するもので、発光層形成材料(発光材料)を含む第2組成物(機能液)を吐出することで形成される。第2組成物の溶媒(非極性溶媒)としては、正孔注入/輸送層617aに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層617bの第2組成物に用いることにより、正孔注入/輸送層617aを再溶解させることなく発光層617bを形成することができる。   The light emitting layer 617b emits light in red (R), green (G), or blue (B), and discharges a second composition (functional liquid) containing a light emitting layer forming material (light emitting material). Is formed. As the solvent (nonpolar solvent) of the second composition, a known material that is insoluble in the hole injection / transport layer 617a is preferably used, and such a nonpolar solvent is used as the second composition of the light emitting layer 617b. By using the light emitting layer 617b, the light emitting layer 617b can be formed without re-dissolving the hole injection / transport layer 617a.

そして、発光層617bでは、正孔注入/輸送層617aから注入された正孔と、陰極604から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。   The light emitting layer 617b is configured such that the holes injected from the hole injection / transport layer 617a and the electrons injected from the cathode 604 are recombined in the light emitting layer to emit light.

陰極604は、発光素子部603の全面を覆う状態で形成されており、画素電極613と対になって機能層617に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極604の上部には図示しない封止部材が配置される。   The cathode 604 is formed so as to cover the entire surface of the light emitting element portion 603, and plays a role of flowing current to the functional layer 617 in a pair with the pixel electrode 613. Note that a sealing member (not shown) is disposed on the cathode 604.

次に、上記の表示装置600の製造工程を図14〜図22を参照して説明する。
この表示装置600は、図14に示すように、バンク部形成工程(S111)、表面処理工程(S112)、正孔注入/輸送層形成工程(S113)、発光層形成工程(S114)、および対向電極形成工程(S115)を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
Next, the manufacturing process of said display apparatus 600 is demonstrated with reference to FIGS.
As shown in FIG. 14, the display device 600 includes a bank part forming step (S111), a surface treatment step (S112), a hole injection / transport layer forming step (S113), a light emitting layer forming step (S114), It is manufactured through an electrode formation step (S115). In addition, a manufacturing process is not restricted to what is illustrated, and when other processes are removed as needed, it may be added.

まず、バンク部形成工程(S111)では、図15に示すように、第2層間絶縁膜611b上に無機物バンク層618aを形成する。この無機物バンク層618aは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層618aの一部は画素電極613の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層618aを形成したならば、図16に示すように、無機物バンク層618a上に有機物バンク層618bを形成する。この有機物バンク層618bも無機物バンク層618aと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部618が形成される。また、これに伴い、各バンク部618間には、画素電極613に対して上方に開口した開口部619が形成される。この開口部619は、画素領域を規定する。
First, in the bank part forming step (S111), as shown in FIG. 15, an inorganic bank layer 618a is formed on the second interlayer insulating film 611b. The inorganic bank layer 618a is formed by forming an inorganic film at a formation position and then patterning the inorganic film using a photolithography technique or the like. At this time, a part of the inorganic bank layer 618 a is formed so as to overlap with the peripheral edge of the pixel electrode 613.
When the inorganic bank layer 618a is formed, an organic bank layer 618b is formed on the inorganic bank layer 618a as shown in FIG. The organic bank layer 618b is also formed by patterning using a photolithography technique or the like in the same manner as the inorganic bank layer 618a.
In this way, the bank portion 618 is formed. Accordingly, an opening 619 opening upward with respect to the pixel electrode 613 is formed between the bank portions 618. The opening 619 defines a pixel region.

表面処理工程(S112)では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層618aの第1積層部618aaおよび画素電極613の電極面613aであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極613であるITOの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層618bの壁面618sおよび有機物バンク層618bの上面618tに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理(撥液性に処理)される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド17を用いて機能層617を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部619から溢れ出るのを防止することが可能となる。
In the surface treatment step (S112), a lyophilic process and a lyophobic process are performed. The regions to be subjected to lyophilic treatment are the first stacked portion 618aa of the inorganic bank layer 618a and the electrode surface 613a of the pixel electrode 613. These regions are made lyophilic by plasma treatment using oxygen as a treatment gas, for example. Is done. This plasma treatment also serves to clean the ITO that is the pixel electrode 613.
In addition, the lyophobic treatment is performed on the wall surface 618s of the organic bank layer 618b and the upper surface 618t of the organic bank layer 618b. )
By performing this surface treatment process, when forming the functional layer 617 using the functional liquid droplet ejection head 17, the functional liquid droplets can be landed more reliably on the pixel area. It is possible to prevent the functional droplets from overflowing from the opening 619.

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体600Aが得られる。この表示装置基体600Aは、図1に示した液滴吐出装置1のセットテーブル21に載置され、以下の正孔注入/輸送層形成工程(S113)および発光層形成工程(S114)が行われる。   Then, the display device base 600A is obtained through the above steps. The display device base 600A is placed on the set table 21 of the droplet discharge device 1 shown in FIG. 1, and the following hole injection / transport layer forming step (S113) and light emitting layer forming step (S114) are performed. .

図17に示すように、正孔注入/輸送層形成工程(S113)では、機能液滴吐出ヘッド17から正孔注入/輸送層形成材料を含む第1組成物を画素領域である各開口部619内に吐出する。その後、図18に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第1組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極(電極面613a)613上に正孔注入/輸送層617aを形成する。   As shown in FIG. 17, in the hole injection / transport layer forming step (S113), the first composition containing the hole injection / transport layer forming material is transferred from the functional liquid droplet ejection head 17 to each opening 619 that is a pixel region. Discharge inside. Thereafter, as shown in FIG. 18, a drying process and a heat treatment are performed to evaporate the polar solvent contained in the first composition, thereby forming a hole injection / transport layer 617a on the pixel electrode (electrode surface 613a) 613.

次に発光層形成工程(S114)について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入/輸送層617aの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第2組成物の溶媒として、正孔注入/輸送層617aに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入/輸送層617aは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第2組成物を正孔注入/輸送層617a上に吐出しても、正孔注入/輸送層617aと発光層617bとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層617bを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入/輸送層617aの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理(表面改質処理)を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第2組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入/輸送層617a上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入/輸送層617aの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第2組成物を正孔注入/輸送層617aに均一に塗布することができる。
Next, the light emitting layer forming step (S114) will be described. In this light emitting layer forming step, as described above, in order to prevent re-dissolution of the hole injection / transport layer 617a, the hole injection / transport layer 617a is used as a solvent for the second composition used in forming the light emitting layer. A non-polar solvent insoluble in.
However, since the hole injection / transport layer 617a has a low affinity for the nonpolar solvent, the hole injection / transport layer 617a has a low affinity even if the second composition containing the nonpolar solvent is discharged onto the hole injection / transport layer 617a. There is a possibility that the injection / transport layer 617a and the light emitting layer 617b cannot be adhered to each other, or the light emitting layer 617b cannot be applied uniformly.
Therefore, in order to increase the surface affinity of the hole injection / transport layer 617a with respect to the nonpolar solvent and the light emitting layer forming material, it is preferable to perform surface treatment (surface modification treatment) before forming the light emitting layer. In this surface treatment, a surface modifying material which is the same solvent as the non-polar solvent of the second composition used in the formation of the light emitting layer or a similar solvent is applied on the hole injection / transport layer 617a, and this is applied. This is done by drying.
By performing such treatment, the surface of the hole injection / transport layer 617a is easily adapted to the nonpolar solvent. In the subsequent step, the second composition containing the light emitting layer forming material is added to the hole injection / transport layer. It can be uniformly applied to 617a.

そして次に、図19に示すように、各色のうちのいずれか(図19の例では青色(B))に対応する発光層形成材料を含有する第2組成物を機能液滴として画素領域(開口部619)内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第2組成物は、正孔注入/輸送層617a上に広がって開口部619内に満たされる。なお、万一、第2組成物が画素領域から外れてバンク部618の上面618t上に着弾した場合でも、この上面618tは、上述したように撥液処理が施されているので、第2組成物が開口部619内に転がり込み易くなっている。   Then, as shown in FIG. 19, the second composition containing the light emitting layer forming material corresponding to one of the colors (blue (B) in the example of FIG. 19) is used as a functional droplet as a pixel region ( A predetermined amount is driven into the opening 619). The second composition driven into the pixel region spreads on the hole injection / transport layer 617a and fills the opening 619. Even if the second composition deviates from the pixel region and lands on the upper surface 618t of the bank portion 618, the upper composition 618t is subjected to the liquid repellent treatment as described above. Things are easy to roll into the opening 619.

その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第2組成物を乾燥処理し、第2組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図20に示すように、正孔注入/輸送層617a上に発光層617bが形成される。この図の場合、青色(B)に対応する発光層617bが形成されている。   Thereafter, by performing a drying process and the like, the second composition after discharge is dried, the nonpolar solvent contained in the second composition is evaporated, and as shown in FIG. 20, the hole injection / transport layer 617a A light emitting layer 617b is formed thereon. In the case of this figure, a light emitting layer 617b corresponding to blue (B) is formed.

同様に、機能液滴吐出ヘッド17を用い、図21に示すように、上記した青色(B)に対応する発光層617bの場合と同様の工程を順次行い、他の色(赤色(R)および緑色(G))に対応する発光層617bを形成する。なお、発光層617bの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、R・G・Bの3色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。   Similarly, using the functional liquid droplet ejection head 17, as shown in FIG. 21, the same steps as in the case of the light emitting layer 617b corresponding to the blue (B) described above are sequentially performed, and other colors (red (R) and red (R) and A light emitting layer 617b corresponding to green (G) is formed. Note that the order in which the light-emitting layers 617b are formed is not limited to the illustrated order, and may be formed in any order. For example, the order of formation can be determined according to the light emitting layer forming material. In addition, the arrangement pattern of the three colors R, G, and B includes a stripe arrangement, a mosaic arrangement, a delta arrangement, and the like.

以上のようにして、画素電極613上に機能層617、即ち、正孔注入/輸送層617aおよび発光層617bが形成される。そして、対向電極形成工程(S115)に移行する。   As described above, the functional layer 617, that is, the hole injection / transport layer 617a and the light emitting layer 617b are formed on the pixel electrode 613. And it transfers to a counter electrode formation process (S115).

対向電極形成工程(S115)では、図22に示すように、発光層617bおよび有機物バンク層618bの全面に陰極604(対向電極)を、例えば蒸着法、スパッタ法、CVD法等によって形成する。この陰極604は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極604の上部には、電極としてのAl膜、Ag膜や、その酸化防止のためのSiO2、SiN等の保護層が適宜設けられる。
In the counter electrode forming step (S115), as shown in FIG. 22, a cathode 604 (counter electrode) is formed on the entire surface of the light emitting layer 617b and the organic bank layer 618b by, for example, vapor deposition, sputtering, CVD, or the like. In the present embodiment, the cathode 604 is configured by, for example, laminating a calcium layer and an aluminum layer.
At the top of the cathode 604, Al film as the electrode, Ag film and a protective layer of SiO 2, SiN, or the like for its antioxidant is appropriately provided.

このようにして陰極604を形成した後、この陰極604の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置600が得られる。   After forming the cathode 604 in this way, the display device 600 is obtained by performing other processes such as a sealing process for sealing the upper part of the cathode 604 with a sealing member and a wiring process.

次に、図23は、プラズマ型表示装置(PDP装置:以下、単に表示装置700と称する)の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置700を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置700は、互いに対向して配置された第1基板701、第2基板702、およびこれらの間に形成される放電表示部703を含んで概略構成される。放電表示部703は、複数の放電室705により構成されている。これらの複数の放電室705のうち、赤色放電室705R、緑色放電室705G、青色放電室705Bの3つの放電室705が組になって1つの画素を構成するように配置されている。
Next, FIG. 23 is an exploded perspective view of a main part of a plasma display device (PDP device: hereinafter simply referred to as a display device 700). In the figure, the display device 700 is shown with a part thereof cut away.
The display device 700 is schematically configured to include a first substrate 701, a second substrate 702, and a discharge display portion 703 formed between them, which are disposed to face each other. The discharge display unit 703 includes a plurality of discharge chambers 705. Among the plurality of discharge chambers 705, the three discharge chambers 705 of the red discharge chamber 705R, the green discharge chamber 705G, and the blue discharge chamber 705B are arranged to form one pixel.

第1基板701の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極706が形成され、このアドレス電極706と第1基板701の上面とを覆うように誘電体層707が形成されている。誘電体層707上には、各アドレス電極706の間に位置し、且つ各アドレス電極706に沿うように隔壁708が立設されている。この隔壁708は、図示するようにアドレス電極706の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極706と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁708によって仕切られた領域が放電室705となっている。
Address electrodes 706 are formed in stripes at predetermined intervals on the upper surface of the first substrate 701, and a dielectric layer 707 is formed so as to cover the address electrodes 706 and the upper surface of the first substrate 701. On the dielectric layer 707, partition walls 708 are provided so as to be positioned between the address electrodes 706 and along the address electrodes 706. The partition 708 includes one extending on both sides in the width direction of the address electrode 706 as shown, and one not shown extending in the direction orthogonal to the address electrode 706.
A region partitioned by the partition 708 is a discharge chamber 705.

放電室705内には蛍光体709が配置されている。蛍光体709は、赤(R)、緑(G)、青(B)のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室705Rの底部には赤色蛍光体709Rが、緑色放電室705Gの底部には緑色蛍光体709Gが、青色放電室705Bの底部には青色蛍光体709Bが各々配置されている。   A phosphor 709 is disposed in the discharge chamber 705. The phosphor 709 emits red (R), green (G), or blue (B) fluorescence, and the red phosphor 709R is disposed at the bottom of the red discharge chamber 705R, and the green discharge chamber 705G. A green phosphor 709G and a blue phosphor 709B are arranged at the bottom and the blue discharge chamber 705B, respectively.

第2基板702の図中下側の面には、上記アドレス電極706と直交する方向に複数の表示電極711が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層712、およびMgOなどからなる保護膜713が形成されている。
第1基板701と第2基板702とは、アドレス電極706と表示電極711が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極706と表示電極711は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極706,711に通電することにより、放電表示部703において蛍光体709が励起発光し、カラー表示が可能となる。
On the lower surface of the second substrate 702 in the drawing, a plurality of display electrodes 711 are formed in stripes at predetermined intervals in a direction orthogonal to the address electrodes 706. A dielectric layer 712 and a protective film 713 made of MgO or the like are formed so as to cover them.
The first substrate 701 and the second substrate 702 are bonded so that the address electrodes 706 and the display electrodes 711 face each other in a state of being orthogonal to each other. The address electrode 706 and the display electrode 711 are connected to an AC power source (not shown).
When the electrodes 706 and 711 are energized, the phosphor 709 emits light in the discharge display portion 703, and color display is possible.

本実施形態においては、上記アドレス電極706、表示電極711、および蛍光体709を、図1に示した液滴吐出装置1を用いて形成することができる。以下、第1基板701におけるアドレス電極706の形成工程を例示する。
この場合、第1基板701を液滴吐出装置1のセットテーブル21に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド17により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
In the present embodiment, the address electrode 706, the display electrode 711, and the phosphor 709 can be formed by using the droplet discharge device 1 shown in FIG. Hereinafter, a process of forming the address electrode 706 on the first substrate 701 will be exemplified.
In this case, the following steps are performed with the first substrate 701 placed on the set table 21 of the droplet discharge device 1.
First, a liquid material (functional liquid) containing a conductive film wiring forming material is landed on the address electrode formation region as a functional liquid droplet by the functional liquid droplet ejection head 17. This liquid material is obtained by dispersing conductive fine particles such as metal in a dispersion medium as a conductive film wiring forming material. As the conductive fine particles, metal fine particles containing gold, silver, copper, palladium, nickel, or the like, a conductive polymer, or the like is used.

補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極706が形成される。   When the replenishment of the liquid material is completed for all the address electrode formation regions to be replenished, the address material 706 is formed by drying the discharged liquid material and evaporating the dispersion medium contained in the liquid material. .

ところで、上記においてはアドレス電極706の形成を例示したが、上記表示電極711および蛍光体709についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極711の形成の場合、アドレス電極706の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料(機能液)を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体709の形成の場合には、各色(R,G,B)に対応する蛍光材料を含んだ液体材料(機能液)を機能液滴吐出ヘッド17から液滴として吐出し、対応する色の放電室705内に着弾させる。
By the way, although the formation of the address electrode 706 has been exemplified in the above, the display electrode 711 and the phosphor 709 can also be formed through the above steps.
In the case of forming the display electrode 711, as in the case of the address electrode 706, a liquid material (functional liquid) containing a conductive film wiring forming material is landed on the display electrode formation region as a functional droplet.
Further, in the case of forming the phosphor 709, a liquid material (functional liquid) containing a fluorescent material corresponding to each color (R, G, B) is ejected as droplets from the functional liquid droplet ejection head 17, and it corresponds. Land in the color discharge chamber 705.

次に、図24は、電子放出装置(FED装置あるいはSED装置ともいう:以下、単に表示装置800と称する)の要部断面図である。なお、同図では表示装置800を、その一部を断面として示してある。
この表示装置800は、互いに対向して配置された第1基板801、第2基板802、およびこれらの間に形成される電界放出表示部803を含んで概略構成される。電界放出表示部803は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部805により構成されている。
Next, FIG. 24 is a cross-sectional view of an essential part of an electron emission device (also referred to as an FED device or an SED device: hereinafter simply referred to as a display device 800). In the drawing, a part of the display device 800 is shown as a cross section.
The display device 800 is schematically configured to include a first substrate 801, a second substrate 802, and a field emission display portion 803 formed therebetween, which are disposed to face each other. The field emission display unit 803 includes a plurality of electron emission units 805 arranged in a matrix.

第1基板801の上面には、カソード電極806を構成する第1素子電極806aおよび第2素子電極806bが相互に直交するように形成されている。また、第1素子電極806aおよび第2素子電極806bで仕切られた部分には、ギャップ808を形成した導電性膜807が形成されている。すなわち、第1素子電極806a、第2素子電極806bおよび導電性膜807により複数の電子放出部805が構成されている。導電性膜807は、例えば酸化パラジウム(PdO)等で構成され、またギャップ808は、導電性膜807を成膜した後、フォーミング等で形成される。   A first element electrode 806a and a second element electrode 806b constituting the cathode electrode 806 are formed on the upper surface of the first substrate 801 so as to be orthogonal to each other. In addition, a conductive film 807 having a gap 808 is formed in a portion partitioned by the first element electrode 806a and the second element electrode 806b. That is, the first element electrode 806a, the second element electrode 806b, and the conductive film 807 constitute a plurality of electron emission portions 805. The conductive film 807 is made of, for example, palladium oxide (PdO), and the gap 808 is formed by forming after forming the conductive film 807.

第2基板802の下面には、カソード電極806に対峙するアノード電極809が形成されている。アノード電極809の下面には、格子状のバンク部811が形成され、このバンク部811で囲まれた下向きの各開口部812に、電子放出部805に対応するように蛍光体813が配置されている。蛍光体813は、赤(R)、緑(G)、青(B)のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部812には、赤色蛍光体813R、緑色蛍光体813Gおよび青色蛍光体813Bが、上記した所定のパターンで配置されている。   An anode electrode 809 that faces the cathode electrode 806 is formed on the lower surface of the second substrate 802. A grid-like bank portion 811 is formed on the lower surface of the anode electrode 809, and a phosphor 813 is disposed in each downward opening 812 surrounded by the bank portion 811 so as to correspond to the electron emission portion 805. Yes. The phosphor 813 emits fluorescence of any one of red (R), green (G), and blue (B), and each opening 812 has a red phosphor 813R, a green phosphor 813G, and a blue color. The phosphors 813B are arranged in the predetermined pattern described above.

そして、このように構成した第1基板801と第2基板802とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置800では、導電性膜(ギャップ808)807を介して、陰極である第1素子電極806aまたは第2素子電極806bから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極809に形成した蛍光体813に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。   The first substrate 801 and the second substrate 802 configured as described above are bonded together with a minute gap. In this display device 800, electrons that jump out of the first element electrode 806 a or the second element electrode 806 b that are cathodes through the conductive film (gap 808) 807 are formed on the phosphor 813 that is formed on the anode electrode 809 that is an anode. When excited, it emits light and enables color display.

この場合も、他の実施形態と同様に、第1素子電極806a、第2素子電極806b、導電性膜807およびアノード電極809を、液滴吐出装置1を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体813R,813G,813Bを、液滴吐出装置1を用いて形成することができる。   Also in this case, as in the other embodiments, the first element electrode 806a, the second element electrode 806b, the conductive film 807, and the anode electrode 809 can be formed using the droplet discharge device 1 and each color. The phosphors 813R, 813G, and 813B can be formed using the droplet discharge device 1.

第1素子電極806a、第2素子電極806bおよび導電性膜807は、図25(a)に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図25(b)に示すように、予め第1素子電極806a、第2素子電極806bおよび導電性膜807を作り込む部分を残して、バンク部BBを形成(フォトリソグラフィ法)する。次に、バンク部BBにより構成された溝部分に、第1素子電極806aおよび第2素子電極806bを形成(液滴吐出装置1によるインクジェット法)し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜807を形成(液滴吐出装置1によるインクジェット法)する。そして、導電性膜807を成膜後、バンク部BBを取り除き(アッシング剥離処理)、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機EL装置の場合と同様に、第1基板801および第2基板802に対する親液化処理や、バンク部811,BBに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。   The first element electrode 806a, the second element electrode 806b, and the conductive film 807 have the planar shape shown in FIG. 25A, and when these are formed, as shown in FIG. 25B. In addition, the bank portion BB is formed (photolithographic method), leaving portions where the first element electrode 806a, the second element electrode 806b, and the conductive film 807 are previously formed. Next, the first element electrode 806a and the second element electrode 806b were formed in the groove portion constituted by the bank portion BB (inkjet method using the droplet discharge device 1), and the solvent was dried to form a film. After that, a conductive film 807 is formed (an ink jet method using the droplet discharge device 1). Then, after forming the conductive film 807, the bank portion BB is removed (ashing peeling process), and the process proceeds to the above forming process. As in the case of the organic EL device described above, it is preferable to perform a lyophilic process on the first substrate 801 and the second substrate 802 and a lyophobic process on the bank portions 811 and BB.

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置1を各種の電気光学装置(デバイス)の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。   As other electro-optical devices, devices such as metal wiring formation, lens formation, resist formation, and light diffuser formation are conceivable. By using the droplet discharge device 1 described above for manufacturing various electro-optical devices (devices), various electro-optical devices can be efficiently manufactured.

液滴吐出装置の平面図である。It is a top view of a droplet discharge device. 液滴吐出装置の側面図である。It is a side view of a droplet discharge device. ヘッド群を構成する機能液滴吐出ヘッドの図である。It is a figure of the functional droplet discharge head which comprises a head group. 機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of a functional droplet discharge head. セットテーブルおよび給除材機構廻りについて示した平面図である。It is the top view shown about the set table and the supply / discharge material mechanism circumference. セットテーブルおよび給除材機構廻りについて示した模式図である。It is the schematic diagram shown about the set table and the supply / discharge material mechanism. 給除材機構による給除材動作について示した説明図である。It is explanatory drawing shown about the feeding / discharging material operation | movement by a feeding / dispensing material mechanism. カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining a color filter manufacturing process. (a)〜(e)は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。(A)-(e) is a schematic cross section of the color filter shown to the manufacturing process order. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device using the color filter to which this invention is applied. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第2の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device of the 2nd example using the color filter to which this invention is applied. 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第3の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device of the 3rd example using the color filter to which this invention is applied. 有機EL装置である表示装置の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the display apparatus which is an organic electroluminescent apparatus. 有機EL装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the manufacturing process of the display apparatus which is an organic electroluminescent apparatus. 無機物バンク層の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of an inorganic bank layer. 有機物バンク層の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of an organic substance bank layer. 正孔注入/輸送層を形成する過程を説明する工程図である。It is process drawing explaining the process in which a positive hole injection / transport layer is formed. 正孔注入/輸送層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the positive hole injection / transport layer was formed. 青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。It is process drawing explaining the process in which a blue light emitting layer is formed. 青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the blue light emitting layer was formed. 各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。It is process drawing explaining the state in which the light emitting layer of each color was formed. 陰極の形成を説明する工程図である。It is process drawing explaining formation of a cathode. プラズマ型表示装置(PDP装置)である表示装置の要部分解斜視図である。It is a principal part disassembled perspective view of the display apparatus which is a plasma type display apparatus (PDP apparatus). 電子放出装置(FED装置)である表示装置の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the display apparatus which is an electron emission apparatus (FED apparatus). 表示装置の電子放出部廻りの平面図(a)およびその形成方法を示す平面図(b)である。It is the top view (a) around the electron emission part of a display apparatus, and the top view (b) which shows the formation method.

符号の説明Explanation of symbols

1:液滴吐出装置、 6:チャンバ、 17:機能液滴吐出ヘッド、 21:セットテーブル、 106:多孔質部材、 109:除材用蹴出し機構、 111:放出ガス供給機構、 112:真空吸引機構、 113:接続流路、 114:給材用ストッパ機構 122:主流路、 125:供給側流路、 126:吸引側流路、 127:イオナイザ、 128:切替バルブ、 141:給材テーブル、 142:除材テーブル、 143:描画結果検出装置、 162:給材ガス供給系、 164:給材用蹴出し機構、 182:除材ガス供給系、 184:除材用ストッパ機構、 191:混色カメラ、 192:照明、 W:ワーク   1: droplet discharge device, 6: chamber, 17: functional droplet discharge head, 21: set table, 106: porous member, 109: kicking mechanism for material removal, 111: discharge gas supply mechanism, 112: vacuum suction Mechanism: 113: Connection flow path, 114: Feeder stopper mechanism 122: Main flow path, 125: Supply side flow path, 126: Suction side flow path, 127: Ionizer, 128: Switching valve, 141: Feeding table, 142 : Material removal table, 143: drawing result detection device, 162: material supply gas supply system, 164: material supply kick-out mechanism, 182: material removal gas supply system, 184: material removal stopper mechanism, 191: color mixing camera, 192: Lighting, W: Workpiece

Claims (12)

ワークに対し、機能液滴を吐出して描画処理を行うインクジェット方式の機能液滴吐出ヘッドと、
前記描画処理に際し、前記ワークをセットするセットテーブルと、
前記セットテーブルに組み込まれ、前記セットテーブルの表面から放出ガスを放出して前記ワークを浮上させるワーク浮上手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
An inkjet functional droplet ejection head that performs drawing processing by ejecting functional droplets to a workpiece;
In the drawing process, a set table for setting the workpiece;
A droplet discharge apparatus comprising: a work floating means that is incorporated in the set table and releases the release gas from the surface of the set table to float the work.
前記ワーク浮上手段は、前記セットテーブルに埋め込まれ、ガスを透過可能に構成された複数の多孔質部材と、
下流側を前記複数の多孔質部材に接続され、上流側を、前記放出ガスを供給する圧縮ガス供給手段に接続されたガス流路と、を有していることを特徴とする請求項1に記載の液滴吐出装置。
The workpiece levitation means is embedded in the set table, and is configured to allow gas to pass therethrough, and a plurality of porous members,
The gas flow path is connected to the plurality of porous members on the downstream side and connected to the compressed gas supply means for supplying the released gas on the upstream side. The liquid droplet ejection apparatus described.
前記ガス流路から分岐した真空流路と、
前記真空流路の下流側に接続された真空吸引手段と、
前記ガス流路の分岐部に介設され、前記ガス流路と前記真空流路との間で流路切替えを行う切替手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項2に記載の液滴吐出装置。
A vacuum channel branched from the gas channel;
Vacuum suction means connected to the downstream side of the vacuum flow path;
The liquid according to claim 2, further comprising a switching unit that is provided at a branch portion of the gas flow path and performs flow path switching between the gas flow path and the vacuum flow path. Drop ejection device.
前記ガス流路に介設され、前記放出ガスをイオン化する除電手段を、更に備えたことを特徴とする請求項2または3に記載の液滴吐出装置。   4. The liquid droplet ejection apparatus according to claim 2, further comprising a static elimination unit interposed in the gas flow path and ionizing the emitted gas. 前記セットテーブルに隣接して配設され、前記セットテーブルに前記ワークを給材する給材テーブルと、
前記給材テーブルに組み込まれ、前記給材テーブルの表面から放出ガスを放出して前記ワークを浮上させる給材浮上手段と、
浮上した前記ワークを前記給材テーブルから前記セットテーブルに移動させる給材手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の液滴吐出装置。
A supply table disposed adjacent to the set table and supplying the workpiece to the set table;
A material levitation means incorporated in the material table, for releasing the release gas from the surface of the material table to levitate the workpiece;
The liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, further comprising a material supply unit that moves the floated work from the material supply table to the set table.
前記給材テーブルの表面は、前記セットテーブルの表面より高い位置に配設されていることを特徴とする請求項5に記載の液滴吐出装置。   The droplet discharge device according to claim 5, wherein the surface of the supply table is disposed at a position higher than the surface of the set table. 内部雰囲気を温度管理すると共に、前記機能液滴吐出ヘッド、前記セットテーブルおよび前記給材テーブルを収容するチャンバ手段を、更に備えたことを特徴とする請求項5または6に記載の液滴吐出装置。   7. The droplet discharge device according to claim 5, further comprising chamber means for controlling the temperature of the internal atmosphere and accommodating the functional droplet discharge head, the set table, and the supply table. . 前記セットテーブルに隣接して配設され、前記セットテーブルから前記ワークを除材する除材テーブルと、
前記除材テーブルに組み込まれ、前記除材テーブルの表面から放出ガスを放出して前記ワークを浮上させる除材浮上手段と、
浮上した前記ワークを前記セットテーブルから前記除材テーブルに移動させる除材手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の液滴吐出装置。
A material removal table disposed adjacent to the set table for removing the workpiece from the set table;
A material removal means that is incorporated in the material removal table and releases the released gas from the surface of the material removal table to float the workpiece;
The liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, further comprising a material removal unit that moves the floated workpiece from the set table to the material removal table.
前記除材テーブルの表面は、前記セットテーブルの表面より低い位置に配設されていることを特徴とする請求項8に記載の液滴吐出装置。   The liquid droplet ejection apparatus according to claim 8, wherein the surface of the material removal table is disposed at a position lower than the surface of the set table. 前記ワークは、透明なガラス基板であり、
前記セットテーブルと前記除材テーブルとの間に位置して、前記機能液滴吐出ヘッドにより前記ワーク上面に描画された描画結果を検査する描画結果検出手段を、更に備え、
前記描画結果検出手段は、前記ワークに上下一方から臨む照明と、
前記ワークに上下他方から臨むと共に、前記照明に対向配置された撮像カメラと、を有していることを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載の液滴吐出装置。
The workpiece is a transparent glass substrate,
A drawing result detecting means that is located between the set table and the material removal table and inspects a drawing result drawn on the work upper surface by the functional liquid droplet ejection head;
The drawing result detection means includes illumination that faces the workpiece from above and below,
The liquid droplet ejection apparatus according to claim 1, further comprising: an imaging camera that faces the workpiece from the upper and lower sides and is disposed to face the illumination.
請求項1ないし10のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。   11. A method of manufacturing an electro-optical device, wherein the droplet discharge device according to claim 1 is used to form a film forming portion with functional droplets on the workpiece. 請求項1ないし10のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。   An electro-optical device using the droplet discharge device according to claim 1, wherein a film forming portion is formed by functional droplets on the workpiece.
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