JPWO2020039952A1 - Drawing device and drawing method - Google Patents
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Abstract
実施形態に係る描画装置(1)は、複数の支持部(51)と、移動部(53)と、調整部(30、31)と、描画部(32)とを備える。複数の支持部(51)は、ワークを下方から支持する。移動部(53)は、支持部(51)を水平方向に沿って移動させる。調整部(30、31)は、支持部(51)に支持されたワークに対して下方から空気を吹き付けてワークの浮上高を調整する。描画部(32)は、調整部(30、31)によって浮上高が調整され、支持部(51)に支持されて移動するワークに描画を行う。調整部(21、30、31、40)は、支持部(51)の移動方向において描画部(32)よりも上流側に設けられた第1調整部(30)と、描画部(32)の下方に設けられ、第1調整部(30)よりもワークの浮上高を高精度に調整する第2調整部(31)とを備える。The drawing apparatus (1) according to the embodiment includes a plurality of support units (51), a moving unit (53), an adjusting unit (30, 31), and a drawing unit (32). The plurality of support portions (51) support the work from below. The moving portion (53) moves the supporting portion (51) along the horizontal direction. The adjusting portions (30, 31) adjust the floating height of the work by blowing air from below onto the work supported by the supporting portion (51). The drawing unit (32) draws on a work whose levitation height is adjusted by the adjusting unit (30, 31) and is supported by the support unit (51) and moves. The adjusting units (21, 30, 31, 40) are of the first adjusting unit (30) and the drawing unit (32) provided on the upstream side of the drawing unit (32) in the moving direction of the support unit (51). It is provided below and includes a second adjusting unit (31) that adjusts the floating height of the work with higher accuracy than the first adjusting unit (30).
Description
本開示は、描画装置および描画方法に関する。 The present disclosure relates to a drawing apparatus and a drawing method.
特許文献1には、搬送される基板にインクジェット方式で塗布液の液滴を塗布することが開示されている。
本開示は、生産性を向上させる技術を提供する。 The present disclosure provides techniques for improving productivity.
本開示の一態様による描画装置は、複数の支持部と、移動部と、調整部と、描画部とを備える。複数の支持部は、ワークを下方から支持する。移動部は、支持部を水平方向に沿って移動させる。調整部は、支持部に支持されたワークに対して下方から空気を吹き付けて前記ワークの浮上高を調整する。描画部は、調整部によって浮上高が調整され、支持部に支持されて移動するワークに描画を行う。調整部は、支持部の移動方向において描画部よりも上流側に設けられた第1調整部と、描画部の下方に設けられ、第1調整部よりもワークの浮上高を高精度に調整する第2調整部とを備える。 The drawing apparatus according to one aspect of the present disclosure includes a plurality of support portions, a moving portion, an adjusting portion, and a drawing portion. The plurality of support portions support the work from below. The moving portion moves the supporting portion along the horizontal direction. The adjusting portion adjusts the floating height of the work by blowing air from below onto the work supported by the supporting portion. The levitation height of the drawing unit is adjusted by the adjusting unit, and the drawing unit draws on the moving work supported by the support unit. The adjusting unit is provided below the drawing unit and the first adjusting unit provided on the upstream side of the drawing unit in the moving direction of the supporting unit, and adjusts the floating height of the work with higher accuracy than the first adjusting unit. It is provided with a second adjustment unit.
本開示によれば、生産性を向上させることができる。 According to the present disclosure, productivity can be improved.
以下、添付図面を参照して、本願の開示する描画装置および描画方法の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態により開示される描画装置および描画方法が限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the drawing apparatus and drawing method disclosed in the present application will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The drawing apparatus and drawing method disclosed by the following embodiments are not limited.
(第1実施形態)
<全体構成>
第1実施形態に係る描画装置1について図1A、および図1Bを参照し説明する。図1Aは、第1実施形態に係る描画装置1の概略構成を示す平面図である。図1Bは、第1実施形態に係る描画装置1の概略構成を示す側面図である。なお、図1Aでは、制御装置9など一部の構成が省略されている。(First Embodiment)
<Overall configuration>
The
描画装置1は、ワークである基板Sを水平方向に搬送しながら、インクジェット方式で基板Sに描画を行う基板処理装置である。基板Sは、例えば、フラットパネルディスプレイに用いられる基板である。
The
描画装置1は、搬入ステージ2と、描画ステージ3と、搬出ステージ4と、移動装置5と、エア調整装置6と、描画状態検出装置7と、フラッシング部8と、制御装置9とを備える。
The
以下参照する各図面では、説明を分かりやすくするために、互いに直交するX軸方向、Y軸方向およびZ軸方向を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする直交座標系を示す。X軸方向、およびY軸方向を含む水平方向は、基板Sの面方向に一致する。 In each drawing referred to below, in order to make the explanation easy to understand, an orthogonal coordinate system in which the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction orthogonal to each other are defined and the Z-axis positive direction is the vertically upward direction is shown. The horizontal direction including the X-axis direction and the Y-axis direction coincides with the surface direction of the substrate S.
描画装置1では、搬入ステージ2、描画ステージ3、および搬出ステージ4は、搬入ステージ2、描画ステージ3、搬出ステージ4の順にY軸方向に沿って配置される。描画装置1は、搬入アーム(不図示)によって搬入ステージ2に搬入した基板SをY軸方向に沿って搬送しながら描画を行い、描画を行った基板Sを搬出ステージ4から搬出アーム(不図示)によって搬出する。
In the
なお、Y軸方向で搬入ステージ2から搬出ステージ4に向かう方向を移動方向とし、移動方向において搬入ステージ2側を上流とし、搬出ステージ4側を下流として説明することがある。また、直交座標系において、X軸方向は、移動方向に対して直交する方向であり、ここでは幅方向(直交方向の一例)と称する場合がある。
It should be noted that the direction from the carry-in
また、図1A、および図1Bでは、説明のため各ステージ2〜4に基板Sを配置した状態を示している。
Further, FIGS. 1A and 1B show a state in which the substrates S are arranged on the
搬入ステージ2には、搬入アームによって基板Sが搬入される。搬入ステージ2では、搬入アームから第1ソータ50への基板Sの受け渡しが行われる。搬入ステージ2に搬入された基板Sは、移動装置5の第1ソータ50によって下方から支持される。
The substrate S is carried into the carry-in
搬入ステージ2は、複数の第1浮上部20と、複数の第2浮上部21と、付着物検出装置22とを備える。
The carry-in
第1浮上部20は、移動方向に沿って延設される。第1浮上部20は、幅方向に沿って並んで設けられる。第1浮上部20は、第1ソータ50によって支持された基板Sの下方から、基板Sに向けて空気を吹き付け、基板Sに対して上方へ作用する力(以下、浮上力と称する。)を与える。浮上力は、基板Sの浮上高を安定させる力であり、基板Sに作用する重力を軽減する力である。第1浮上部20は、浮上力を与えることで、第1ソータ50に支持された基板Sの浮上高を調整する。具体的には、第1浮上部20は、基板Sの浮上高を200〜2000μmの範囲内で安定するよう調整する。なお、第1浮上部20による基板Sに向けた空気の吹き付けは、基板Sの撓み矯正の作用もある。
The first floating
隣接する第1浮上部20の間には、溝20aが形成される。溝20aには、第1ソータ50が配置される。溝20aは、第1ソータ50が移動方向に沿って移動可能となるように、移動方向に沿って形成される。
A
第2浮上部21は、第1浮上部20よりも下流であり、後述する描画ステージ3の第1浮上部30よりも上流に設けられる。第2浮上部21は、幅方向に沿って並んで設けられる。
The second floating
第2浮上部21は、第1ソータ50によって支持された基板Sの下方から、基板Sに向けて空気を吹き付けて、基板Sに対して浮上力を与える。また、第2浮上部21は、基板Sとの間に存在する空気を吸引する。これにより、第2浮上部21は、第1ソータ50に支持された基板Sの浮上高を調整する。すなわち、第2浮上部21(調整部、および第3調整部の一例)は、移動方向において、第1浮上部30(第1調整部の一例)よりも上流側に設けられ、基板S(ワークの一例)の浮上高を高精度に調整する。
The second floating
具体的には、第2浮上部21は、基板Sの浮上高を30〜60μmの範囲内で安定するよう高精度に調整し、付着物検出装置22によって基板Sに付着した付着物を検出可能にする。なお、第2浮上部21は、基板Sに対して吹き付ける空気の流量を調整可能である。第2浮上部21は、基板Sの大きさや、厚さなどに応じて基板Sの下面に向けて吹き付ける空気の流量を調整することができる。これにより、第2浮上部21は、基板Sの浮上高を高精度に調整することができる。なお、第2浮上部21による基板Sに向けた空気の吹き付けは、基板Sの撓み矯正の作用もある。
Specifically, the second floating
隣接する第2浮上部21の間には、第1ソータ50が移動方向に沿って移動可能となるように溝21aが形成される。
A
付着物検出装置22は、第2浮上部21(第3調整部の一例)によって空気が吹き付けられた基板S(ワークの一例)に対して付着物の有無を検出する。付着物検出装置22は、レーザ部22aと、受光部22bとを備える。
The
レーザ部22aは、幅方向の搬入ステージ2の一端に設けられる。受光部22bは、幅方向の搬入ステージ2の他端に設けられる。すなわち、付着物検出装置22は、レーザ部22aと受光部22bとを基板Sを挟んで向かい合うように配置する。付着物検出装置22は、レーザ部22aから照射されたレーザの光量を受光部22bで検出し、基板Sへの付着物の有無を検出する。
The
描画ステージ3には、第1ソータ50によって搬入ステージ2から基板Sが搬送される。描画ステージ3では、第1ソータ50から第2ソータ51への基板Sの受け渡しが行われる。描画ステージ3に搬送された基板Sは、移動装置5の第2ソータ51によって下方から支持される。
The substrate S is conveyed to the
描画ステージ3は、複数の第1浮上部30と、第2浮上部31と、描画部32とを備える。
The
第1浮上部30は、移動方向に沿って延設される。第1浮上部30は、幅方向に沿って並んで設けられる。
The first floating
隣接する第1浮上部30の間には、溝30aが形成される。溝30aは、第1ソータ50が移動方向に沿って移動可能となるように、移動方向に沿って形成される。
A
また、隣接する第1浮上部30の間には、溝30aとは異なる溝30bが形成される。溝30bには、第2ソータ51が配置される。溝30bは、第2ソータ51が移動方向に沿って移動可能となるように、移動方向に沿って形成される。
Further, a
なお、溝30bは、幅方向へ第2ソータ51が移動した場合であっても、第2ソータ51が移動方向に沿って移動可能となるように形成される。溝30bの幅方向の長さは、第2ソータ51の幅方向への移動量に基づいて設定される。例えば、溝30bの幅方向の長さは、第2ソータ51の幅方向の長さよりも2倍以上長い。
The
第1浮上部30は、第2ソータ51(支持部の一例)の移動方向において描画部32よりも上流側に設けられる。
The first floating
第1浮上部30は、第1ソータ50、または第2ソータ51によって支持された基板Sの下方から、基板Sに向けて空気を吹き付け、基板Sに対して浮上力を与える。すなわち、第1浮上部30(調整部、および第1調整部の一例)は、第1ソータ50、または第2ソータ(支持部の一例)に支持された基板S(ワークの一例)に対して下方から空気を吹き付けて基板Sの浮上高を調整する。具体的には、第1浮上部30は、基板Sの浮上高を200〜2000μmの範囲内で安定するよう調整する。なお、第1浮上部30による基板Sに向けた空気の吹き付けは、基板Sの撓み矯正の作用もある。
The first floating
第2浮上部31は、第1浮上部30よりも下流に設けられ、描画部32の下方に設けられる。第2浮上部31は、幅方向に延設される。
The second floating
第2浮上部31は、第2ソータ51によって支持された基板Sの下方から、基板Sに向けて空気を吹き付け、基板Sに対して浮上力を与える。また、第2浮上部31は、基板Sとの間に存在する空気を吸引する。これにより、第2浮上部31は、第2ソータ51に支持された基板Sの浮上高を調整する。すなわち、第2浮上部31(調整部、および第2調整部の一例)は、描画部32の下方に設けられ、第1浮上部30よりも基板S(ワークの一例)よりも基板Sの浮上高を高精度に調整する。
The second floating
具体的には、第2浮上部31は、基板Sを水平に保持し、基板Sの浮上高を30〜60μmの範囲内で安定するよう高精度に調整し、描画部32によって精度よく基板Sに描画可能にする。なお、第2浮上部31は、搬入ステージ2の第2浮上部21と同様に、基板Sに対して吹き付ける空気の流量を調整可能である。なお、第2浮上部31による基板Sに向けた空気の吹き付けは、基板Sの撓み矯正の作用もある。
Specifically, the second floating
第2浮上部31は、幅方向に移動可能であり、第2ソータ51の幅方向への移動に伴い、幅方向に移動する。
The second floating
第2浮上部31には、第2ソータ51(支持部の一例)が移動可能な溝31aが形成される。幅方向の溝31aの長さは、第2ソータ51が移動可能な長さであり、第1浮上部30の溝30bの幅方向の長さよりも短い。
A
描画部32は、インクジェット式であり、基板Sにインクなどの機能液を吐出し、基板Sに描画を行う。描画部32は、第2ソータ51、および第2浮上部31によって水平に保持され、搬送される基板Sに機能液を吐出し、基板Sに描画を行う。すなわち、描画部32は、第2浮上部31(調整部の一例)によって浮上高を高精度に調整され、第2ソータ51(支持部の一例)に支持されて搬送される基板S(ワークの一例)に描画を行う。
The
描画部32は、基板Sに対して2回の描画を行う。具体的には、描画部32は、1回目の描画が終了し、幅方向に移動された基板Sに対して2回目の描画を行う。すなわち、描画部32は、幅方向(直交方向の一例)に移動された基板S(ワークの一例)に再び描画を行う。
The
描画部32は、機能液を吐出する複数のキャリッジ32aを備える。キャリッジ32aは、図2に示すように、幅方向に並んで設けられる。図2は、第1実施形態に係る描画部32の一部の概略構成を示す平面図である。すなわち、描画部32は、幅方向(移動方向に直交する直交方向の一例)に沿って配置される複数のキャリッジ32aを備える。また、キャリッジ32aは、移動方向に2列設けられる。なお、キャリッジ32aは、移動方向に1列であってもよく、3列以上の複数列設けられてもよい。キャリッジ32aは、機能液と吐出する複数のヘッド32bを備える。ヘッド32bは、1つのキャリッジ32aに対して幅方向に2列設けられる。なお、ヘッド32bは、幅方向に一列であってもよく、3列以上の複数列設けられてもよい。
The
また、ヘッド32bは、移動方向に並んで設けられる。例えば、ヘッド32bは、移動方向に6列設けられる。また、ヘッド32bは、移動方向に一列であってもよく、8列など複数列設けられてもよい。このように、描画部32は、液滴を吐出する複数のヘッド32bを有する複数のキャリッジ32aを備える。描画部32は、複数のヘッドから機能液を吐出することで、基板Sに描画を行う。
Further, the
描画部32は、移動方向における位置が固定される。また、描画部32は、描画状態検出装置7によって描画状態を検出する場合には、上下方向に沿って移動する。
The position of the
図1A、および図1Bに戻り、搬出ステージ4には、第2ソータ51によって描画ステージ3から基板Sが搬送される。搬出ステージ4では、描画部32によって1回目の描画が行われた基板Sが第2ソータ51によって搬送された場合に、第2ソータ51、および基板Sの幅方向の移動が行われる。
Returning to FIGS. 1A and 1B, the substrate S is conveyed from the
また、搬出ステージ4では、描画部32によって2回目の描画が行われた基板Sが第2ソータ51によって搬送された場合に、第2ソータ51から移動装置5の第3ソータ52へ基板Sが受け渡される。基板Sは、第3ソータ52によって下方から支持される。
Further, in the carry-out
さらに、搬出ステージ4では、第3ソータ52によって下流側に搬送された基板Sが第3ソータ52から搬出アームへ受け渡される。
Further, in the
搬出ステージ4は、複数の浮上部40を備える。浮上部40は、移動方向に沿って延設される。浮上部40は、幅方向に沿って並んで設けられる。
The
隣接する浮上部40の間には、溝40aが形成される。溝40aは、X軸正方向の端の溝であり、第2ソータ51が移動方向、および幅方向に移動可能となるように、移動方向に沿って形成される。溝40aの幅方向の長さは、第2ソータ51の幅方向への移動量に基づいて設定される。例えば、溝40aの幅方向の長さは、描画ステージ3の第1浮上部30の溝30bと同じ長さである。
A
また、隣接する浮上部40の間には、溝40aとは異なる溝40bが形成される。溝40bは、溝40aよりもX軸負方向側に形成される。溝40bには、第3ソータ52が配置される。溝40bは、第3ソータ52が移動方向に沿って移動可能となるように、移動方向に沿って形成される。
Further, a
浮上部40は、第2ソータ51、または第3ソータ52によって支持された基板Sの下方から、基板Sに向けて空気を吹き付け、基板Sに対して浮上力を与える。これにより、浮上部40は、第2ソータ51、または第3ソータ52に支持された基板Sの浮上高を200〜2000μmの範囲内で安定するよう調整する。なお、浮上部40による基板Sに向けた空気の吹き付けは、基板Sの撓み矯正の作用もある。
The
移動装置5は、複数の第1ソータ50と、複数の第2ソータ51と、複数の第3ソータ52と、駆動部53とを備える。
The moving
第1ソータ50は、駆動部53によって、上下方向、および移動方向に沿って移動する。第1ソータ50は、基板S(ワークの一例)を下方から支持する。具体的には、第1ソータ50は、搬入アームによって搬入された基板Sの下面に吸着し、基板Sを下方から支持する。第1ソータ50は、基板Sを下方から支持した状態で、基板Sを搬入ステージ2から描画ステージ3まで搬送し、第2ソータ51に基板Sを受け渡す。
The
第1ソータ50は、搬入ステージ2の溝20aに設けられる。具体的には、4つの第1ソータ50が、2つの溝20aに分けて設けられる。2つの第1ソータ50が1つの溝20aに設けられる。1つの溝20aに設けられた2つの第1ソータ50は、移動方向に所定間隔を設けて配置される。所定間隔は、例えば、移動方向における基板Sの両端側を、2つの第1ソータ50で支持する間隔である。なお、第1ソータ50の数は、4つに限られることはなく、例えば、6つでもよい。また、第1ソータ50が設けられる溝20aの数は、2つに限られることはなく、例えば、3つでもよい。また、第1ソータ50の数は、2つでもよい。2つの第1ソータ50は、搬入ステージ2において上流側に配置され、2つの溝20aに分けて設けられる。すなわち、2つの第1ソータ50は、基板Sに対し、上流側の端の下面に吸着し、片持ち状態で基板Sを支持する。
The
第2ソータ51は、駆動部53によって、上下方向、移動方向、および幅方向に沿って移動する。第2ソータ51は、基板S(ワークの一例)を下方から支持する。具体的には、第2ソータ51は、第1ソータ50によって搬送された基板Sの下面に吸着し、基板Sを下方から支持する。第2ソータ51は、基板Sを下方から支持した状態で、基板Sを描画ステージ3と搬入ステージ2との間で搬送し、第3ソータ52に基板Sを受け渡す。
The
第2ソータ51の一部は、描画ステージ3の溝30bに設けられる。具体的には、4つの第2ソータ51が描画ステージ3に設けられ、4つの第2ソータ51のうち、2つの第2ソータ51が溝30bに設けられる。また、4つの第2ソータ51のうち、他の2つの第2ソータ51は、幅方向における描画ステージ3の端に設けられる。他の2つの第2ソータ51は、描画ステージ3の第1浮上部30、および第2浮上部31よりも幅方向において外側に設けられる。
A part of the
溝30bに設けられた2つの第2ソータ51、および描画ステージ3の第1浮上部30、および第2浮上部31よりも幅方向において外側に設けられた他の2つの第2ソータ51は、移動方向に所定間隔を設けて配置される。第2ソータ51は、基板Sの四隅を支持するように配置される。なお、第2ソータ51の数は、4つに限られることはなく、例えば、6つでもよい。また、第2ソータ51が設けられる溝30bは、1つに限られることはなく、例えば、2つでもよい。また、第2ソータ51の数は、2つでもよい。2つの第2ソータ51は、移動方向に所定間隔を設けて配置される。すなわち、2つの第2ソータ51は、基板Sに対し、幅方向における一方の端の下面に吸着し、片持ち状態で基板Sを支持する。
The two
第3ソータ52は、駆動部53によって、上下方向、および移動方向に沿って移動する。第3ソータ52は、基板S(ワークの一例)を下方から支持する。具体的には、第3ソータ52は、第2ソータ51によって搬送された基板Sの下面に吸着し、基板Sを下方から支持する。第3ソータ52は、基板Sを下方から支持した状態で、移動方向に移動し、搬出アームに基板Sを受け渡す。
The
第3ソータ52は、搬出ステージ4の溝40bに設けられる。具体的には、4つの第3ソータ52が、2つの溝40bに分けて設けられる。2つの第3ソータ52は、1つの溝40bに設けられる。1つの溝40bに設けられた2つの第3ソータ52は、移動方向に所定間隔を設けて配置される。なお、第3ソータ52の数は、4つに限られることはなく、例えば、6つでもよい。また、第3ソータ52が設けられる溝40bの数は、2つに限られることはなく、例えば、3つでもよい。また、第3ソータ52の数は、2つでもよい。2つの第3ソータ52は、搬出ステージ4において下流側に配置され、2つの溝40bに分けて設けられる。すなわち、2つの第3ソータ52は、基板Sに対し、下流側の端の下面に吸着し、片持ち状態で基板Sを支持する。
The
駆動部53は、例えば、電動モータや、チェーン装置や、ベルト装置などを有し、第1ソータ50、第2ソータ51、第3ソータ52をそれぞれ移動させる。駆動部53は、第1ソータ50、第2ソータ51、第3ソータ52(支持部の一例)を移動方向(水平方向の一例)に沿って移動させる。
The
駆動部53は、基板Sに複数回、例えば、2回の描画が行われる場合には、第2ソータ51を描画ステージ3と搬出ステージ4との間で複数回移動させる。
The
駆動部53は、1回目の描画が終了した基板Sを支持する第2ソータ51を搬出ステージ4に移動させると、第2ソータ51を幅方向に移動させる。また、駆動部53は、描画ステージ3の第2浮上部31を幅方向に移動させる。具体的には、駆動部53(調整移動部の一例)は、幅方向(直交方向の一例)への第2ソータ(支持部の一例)の移動に合わせて、第2浮上部31(第2調整部の一例)を幅方向へ移動させる。
When the
次に、駆動部53は、幅方向に移動させた第2ソータ51を搬出ステージ4から描画ステージ3まで移動させる。そして、駆動部53は、2回目の描画が終了した基板Sを支持する第2ソータ51を再び描画ステージ3から搬出ステージ4まで移動させる。
Next, the
すなわち、駆動部53は、描画部32によって描画が行われた基板S(ワークの一例)を支持する第2ソータ51(支持部の一例)を、幅方向(基板Sの面方向であり、移動方向に直交する直交方向の一例)に移動させる。
That is, the
また、駆動部53は、描画状態検出装置7のロール紙71や、フラッシング部8を移動方向に沿って移動させる。また、駆動部53は、描画状態を検出する場合やフラッシングを行う場合に、描画部32を上下方向に沿って移動させる。なお、駆動部53は、各ソータ51〜52などに対応して複数設けられてもよい。すなわち、各ソータ51〜52や、ロール紙71や、フラッシング部8などは、異なる駆動部53によって駆動されてもよい。
Further, the
エア調整装置6は、ポンプ60と、供給ライン61と、バキューム62と、吸引ライン63とを備える。ポンプ60は、供給ライン61を介して圧縮空気を各浮上部20、21、30、31、40から吹き出させる。なお、供給ライン61には、各浮上部20、21、30、31、40から吹き出す空気の流量を調整する調整弁(不図示)などが設けられる。
The
また、バキューム62は、吸引ライン63を介して搬入ステージ2の第2浮上部21、および描画ステージ3の第2浮上部31によって、基板Sとの間に存在する空気を吸引する。なお、吸引ライン63には、空気の吸引量を調整する調整弁(不図示)などが設けられる。
Further, the
描画状態検出装置7は、描画ステージ3の第1浮上部30(調整部の一例)の上方に設けられ、描画部32の描画状態を検出する。描画状態検出装置7は、撮像装置70と、ロール紙71とを備える。描画状態検出装置7は、ロール紙71に吐出された機能液を撮像装置に70よって撮影する。撮影結果は、制御装置9に出力され、制御装置9によって、描画部32における描画状態が正常であるか否かが判定される。
The drawing state detection device 7 is provided above the first floating upper portion 30 (an example of the adjusting unit) of the
なお、ロール紙71は、移動方向に2列設けられてもよい。例えば、ロール紙71は、2列に設けられたキャリッジ32aに対応して2列設けられる。これにより、キャリッジ32a毎に、異なるロール紙71に機能液を吐出させることができる。そのため、2つのキャリッジ32aにおける描画状態を判定する場合に、判定にかかる時間を短くすることができる。
The
また、1つのキャリッジ32aに対して描画状態を判定する場合に、2つのロール紙71のうち、1つのロール紙71を用いて描画状態を判定することができる。すなわち、もう一方のロール紙71を用いずに描画状態を判定することができる。そのため、1つのキャリッジ32aに対して描画状態を判定する場合に、使用されるロール紙71を少なくすることができる。
Further, when determining the drawing state for one
描画状態検出装置7は、描画部32によって基板S(ワークの一例)への描画が終了し、次の基板Sが描画ステージ3の第1浮上部30(第1調整部の一例)まで搬送される際に描画状態を検出する。
In the drawing state detection device 7, drawing on the substrate S (an example of the work) is completed by the
フラッシング部8は、搬出ステージ4の浮上部40(調整部の一例)の上方に設けられ、描画部32のフラッシングが行われる。フラッシング部8では、所定のフラッシング期間に基づいて描画部32から機能液が吐出される。フラッシング部8は、吐出された機能液を回収する。すなわち、フラッシング部8は、フラッシングによって吐出された機能液を回収する。なお、フラッシング部8により回収された機能液は不図示の廃液管を通じて廃液される。
The
制御装置9は、たとえばコンピュータであり、制御部90と記憶部91とを備える。記憶部91には、描画装置1において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部90は、記憶部91に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって描画装置1の動作を制御する。
The
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、記憶媒体から制御装置9の記憶部91にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルディスク(MO)、メモリカードなどがある。
The program may be recorded on a storage medium readable by a computer, and may be installed from the storage medium in the
<描画手順>
次に、第1実施形態に係る描画装置1の描画手順について図3A〜図15Bを参照し説明する。図3A〜図15Bは、第1実施形態に係る描画装置1の描画手順を示す模式図(その1〜その13)である。<Drawing procedure>
Next, the drawing procedure of the
なお、図3A〜図15Bでは、制御装置9などの一部の構成が省略されている。また、図3A〜図15Bにおいては、「A」が付された図は、第1実施形態に係る描画装置1の概略を示す平面図であり、「B」が付された図は、第1実施形態に係る描画装置1の概略を示す側面図である。
Note that in FIGS. 3A to 15B, some configurations such as the
描画装置1は、搬入アーム(不図示)によって基板Sを搬入ステージ2に搬入する。なお、この時、基板Sを下方から支持して昇降可能なリフトピン(不図示)を介して搬入アームから搬入ステージ2へと基板Sを受け渡しても良い。基板Sが搬入ステージ2に搬入された後、図3A、および図3Bに示すように、第1ソータ50を初期位置から上昇させて、第1ソータ50を基板Sの下面に吸着させる。これにより、基板Sは、搬入アームから第1ソータ50に受け渡され、第1ソータ50によって下方から支持される。
The
また、搬入ステージ2の第1浮上部20から基板Sの下面に向けて空気が吹き付けられる。これにより、基板Sには浮上力が発生し、基板Sの浮上高が200〜2000μmの範囲内で安定するよう調整される。
Further, air is blown from the first floating
なお、搬入ステージ2では、搬入アームによって基板Sが搬入されると、基板Sの位置を調整するアライメントが実行される。
In the carry-in
描画装置1は、第1ソータ50によって基板Sを支持すると、図4A、および図4Bに示すように、第1ソータ50を移動方向に沿って下流側に、すなわち描画ステージ3に向けて移動させる。このとき、搬入ステージ2では、第2浮上部21から空気が基板Sの下面に向けて吹き付けられ、また基板Sとの間に存在する空気が吸引される。これによって、基板Sの浮上高が30〜60μmの範囲内で安定するよう高精度に調整された状態で、付着物検出装置22によって基板Sに付着した付着物の有無が検出される。
When the substrate S is supported by the
描画装置1は、第1ソータ50によって基板Sを描画ステージ3に搬送すると、図5A、および図5Bに示すように、第2ソータ51を初期位置から上昇し、第2ソータ51を基板Sの下面に吸着させる。また、描画装置1は、第1ソータ50の基板Sへの吸着を解除し、第1ソータ50を降下させる。これにより、基板Sは、第1ソータ50から第2ソータ51に受け渡され、第2ソータ51によって下方から支持される。
When the
また、描画ステージ3の第1浮上部30から基板Sの下面に向けて空気が吹き付けられる。これより、基板Sには浮上力が発生し、基板Sの浮上高が200〜2000μmの範囲内で安定するよう調整される。
Further, air is blown from the first floating
なお、描画ステージ3では、第1ソータ50によって基板Sが搬送されると、基板Sの位置を調整するアライメントが実行される。
In the
描画装置1は、第2ソータ51によって基板Sを支持すると、図6A、および図6Bに示すように、第2ソータ51を移動方向に沿って下流側に、すなわち、搬出ステージ4側に移動させる。また、描画装置1は、描画部32によって基板Sに機能液を吐出し、基板Sに1回目の描画を行う。
When the substrate S is supported by the
このとき、描画ステージ3では、第2浮上部31から空気が基板Sの下面に向けて吹き付けられ、また基板Sとの間に存在する空気が吸引される。これによって、基板Sの浮上高が30〜60μmの範囲内で安定するよう高精度に調整される。基板Sは、四隅を第2ソータ51によって支持され、幅方向に延設された第2浮上部31によって浮上高が高精度に調整された状態に保持される。そのため、描画装置1は、描画部32によって基板Sに精度良く描画を行うことができる。
At this time, in the
なお、描画装置1は、第1ソータ50を搬入ステージ2に向けて移動させ、第1ソータ50を搬入ステージ2に戻す。
The
描画装置1は、1回目の描画を行った基板Sを搬出ステージ4に搬送すると、図7A、および図7Bに示すように、第2ソータ51を幅方向に移動させる。例えば、描画装置1は、幅方向においてX軸正方向に第2ソータ51を移動させる。これにより、基板Sは、第2ソータ51の幅方向の移動に合わせて幅方向に移動する。
When the
また、描画装置1は、描画ステージ3の第2浮上部31を第2ソータ51の移動に合わせて、第2ソータ51と同一方向に移動させる。搬出ステージ4では、浮上部40から空気が基板Sの下面に向けて吹き付けられる。これにより、基板Sの浮上高が200〜2000μmの範囲内で安定するよう調整される。また、搬入ステージ2には、次の基板Sが搬入される。次の基板Sは、搬入アームから第1ソータ50に受け渡される。
Further, the
描画装置1は、第2ソータ51の幅方向への移動が完了すると、図8A、および図8Bに示すように、第2ソータ51を描画ステージ3に向けて移動させ、描画部32によって基板Sに機能液を吐出し、基板Sに2回目の描画を行う。
When the
なお、描画ステージ3では、第2浮上部31から空気が基板Sの下面に向けて吹き付けられ、また基板Sとの間に存在する空気が吸引される。そのため、基板Sの浮上高が30〜60μmの範囲内で安定するよう高精度に調整される。従って、描画装置1は、1回目の描画と同様に、基板Sに精度良く描画を行うことができる。
In the
また、第2浮上部31が、第2ソータ51の移動に合わせて幅方向に移動しているため、第2ソータ51の移動が妨げられることはなく、描画装置1は、第2ソータ51を描画ステージ3に移動させることができる。
Further, since the second floating
描画装置1は、図9A、および図9Bに示すように、2回目の描画を行った基板Sを描画ステージ3に搬送すると、図10A、および図10Bに示すように、第2ソータ51を搬出ステージ4に移動させる。なお、ここでは、描画は行われないため、第2ソータ51の移動速度は、描画を行う場合の移動速度よりも大きい。これにより、描画装置1は、基板Sに対する描画処理の時間を短くすることができ、生産性を向上させることができる。
When the
描画装置1は、第2ソータ51によって基板Sを搬出ステージ4に搬送すると、図11A、および図11Bに示すように、第3ソータ52を初期位置から上昇させて、第3ソータ52を基板Sの下面に吸着させる。また、描画装置1は、第2ソータ51の基板Sへの吸着を解除し、第2ソータ51を降下させる。これにより、基板Sは、第2ソータ51から第3ソータ52に受け渡され、第3ソータ52によって下方から支持される。
When the
なお、搬出ステージ4では、浮上部40から空気が基板Sの下面に向けて吹き付けられ、基板Sの浮上高が200〜2000μmの範囲内で安定するよう調整される。
In the carry-out
また、描画装置1は、描画部32を上昇させて、ロール紙71を移動方向に沿って搬出ステージ4の上方に移動させる。
Further, the
描画装置1は、第3ソータ52への基板Sの受け渡しが完了すると、図12A、および図12Bに示すように、第3ソータ52を搬出ステージ4内で所定の搬出位置に向けて移動させる。また、描画装置1は、第2ソータ51、および描画ステージ3の第2浮上部31を幅方向に移動させる。例えば、描画装置1は、幅方向においてX軸負方向に第2ソータ51、および第2浮上部31を移動させる。
When the delivery of the substrate S to the
なお、描画装置1は、ここでは、第2ソータ51、および描画ステージ3の第2浮上部31を幅方向に移動させずに、次の基板Sにおいて2回目の描画を行う場合に第2ソータ51、および描画ステージ3の第2浮上部31を幅方向に移動させてもよい。
Here, the
描画装置1は、第3ソータ52によって基板Sを所定の搬出位置まで搬送すると、図13A、および図13Bに示すように、第2ソータ51を描画ステージ3に向けて移動させ、第2ソータ51を描画ステージ3に戻す。また、描画装置1は、第1ソータ50を描画ステージ3に移動させて、新たな基板Sを描画ステージ3に搬送する。
When the
描画装置1は、図14A、および図14Bに示すように、ロール紙71を描画ステージ3に向けて移動させて、描画部32からロール紙71に向けて機能液を吐出させる。そして、描画装置1は、撮像装置70によってロール紙71を撮影し、描画状態を検出する。また、描画装置1は、搬出アームが基板Sの下面に接触すると、第3ソータ52の吸着を解除し、第3ソータ52を初期位置に降下させる。これにより、第3ソータ52から搬出アームに基板Sが受け渡される。そして、基板Sは、搬出アームによって搬出ステージ4から搬出される。なお、この時、搬入時と同様に、リフトピン(不図示)を介して搬出アームへと基板Sを受け渡しても良い。
As shown in FIGS. 14A and 14B, the
描画装置1は、図15A、および図15Bに示すように、第3ソータ52を搬出ステージ4内で上流側に移動させる。また、描画装置1は、描画部32を降下させる。また、描画装置1は、次の基板Sを第1ソータ50から第2ソータ51に受け渡す。
As shown in FIGS. 15A and 15B, the
このようにして、描画装置1は、第1ソータ50〜第3ソータ52によって基板Sを搬送し、基板Sに対して描画を行う。なお、描画装置1における描画手順は、上記手順に限られることはない。例えば、描画装置1は、新たな基板Sが描画ステージ3に搬送される前に、描画状態を検出してもよい。
In this way, the
<描画処理>
次に、第1実施形態に係る描画処理について図16を参照し説明する。図16は、第1実施形態に係る描画処理を説明するフローチャートである。なお、ここでは、1枚の基板Sが搬入され、描画が行われた後に搬出されるまでの処理について説明する。<Drawing process>
Next, the drawing process according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 16 is a flowchart illustrating the drawing process according to the first embodiment. In addition, here, the process from the time when one board S is carried in and the drawing is performed until it is carried out will be described.
描画装置1は、搬入処理を行う(S10)。具体的には、描画装置1は、搬入アームによって基板Sを搬入ステージ2に搬入する。
The
描画装置1は、第1支持処理を行う(S11)。具体的には、描画装置1は、搬入アームによって搬入ステージ2に搬入された基板Sを下方から第1ソータ50によって支持する。また、描画装置1は、搬入ステージ2の第1浮上部20によって基板Sの下面に向けて空気を吹き付け、基板Sの浮上高を調整する。
The
描画装置1は、付着物検出処理を行う(S12)。具体的には、描画装置1は、搬入ステージ2の第2浮上部21から空気を基板Sの下面に向けて吹き付け、また基板Sとの間に存在する空気を吸引し、基板Sの浮上高を高精度に調整する。そして、描画装置1は、付着物検出装置22によって基板Sに付着した異物の検出を行う。
The
描画装置1は、第2支持処理を行う(S13)。具体的には、描画装置1は、第1ソータ50によって描画ステージ3に搬送された基板Sを下方から第2ソータ51によって支持する。また、描画装置1は、描画ステージ3の第1浮上部30によって基板Sの下面に向けて空気を吹き付け、基板Sの浮上高を調整する。
The
描画装置1は、描画処理を行う(S14)。具体的には、描画装置1は、描画ステージ3の第2浮上部31から空気を基板Sの下面に向けて吹き付け、また基板Sとの間に存在する空気を吸引し、基板Sの浮上高を高精度に調整する。そして、描画装置1は、第2ソータ51によって基板Sを搬出ステージ4に向けて搬送しつつ、描画部32によって基板Sに1回目の描画を行う。描画装置1は、1回目の描画が終了すると、第2ソータ51、および描画ステージ3の第2浮上部31を幅方向に移動させ、第2ソータ51によって基板Sを描画ステージ3に向けて搬送しつつ、描画部32によって基板Sに2回目の描画を行う。
The
描画装置1は、第3支持処理を行う(S15)。具体的には、描画装置1は、第2ソータ51によって基板Sを搬出ステージ4に搬送した基板Sを下方から第3ソータ52によって支持する。また、描画装置1は、搬出ステージ4の浮上部40によって基板Sの下面に空気を吹き付け、基板Sの浮上高を調整する。また、描画装置1は、第3ソータ52によって基板Sを所定の搬出位置まで搬送する。
The
描画装置1は、搬出処理を行う(S16)。具体的には、描画装置1は、第3ソータ52によって支持された基板Sを搬出アームによって搬出する。
The
<効果>
従来、基板を搬送しながら描画を行う比較例に係る描画装置は、例えば、基板を載置台に載置し、載置台を移動させて描画を行っている。<Effect>
Conventionally, in a drawing apparatus according to a comparative example in which drawing is performed while transporting a substrate, for example, the substrate is placed on a mounting table and the mounting table is moved to perform drawing.
比較例に係る描画装置は、例えば、基板のサイズが大きくなると載置台が大きくなり、重量も重くなる。そのため、比較例に係る描画装置は、載置台を移動させるための移動装置が大型になり、コストが高くなる。 In the drawing apparatus according to the comparative example, for example, as the size of the substrate increases, the mounting table becomes large and the weight becomes heavy. Therefore, in the drawing device according to the comparative example, the moving device for moving the mounting table becomes large and the cost increases.
また、比較例に係る描画装置は、大型の移動装置を移動させるために、載置台の移動性が低下し、移動精度を向上させることが難しい。また、比較例に係る描画装置は、大型の移動装置を移動させるため、移動速度を大きくすることができない。そのため、比較例に係る描画装置は、生産性を向上させる点で改善の余地がある。 Further, in the drawing apparatus according to the comparative example, since the large moving device is moved, the mobility of the mounting table is lowered, and it is difficult to improve the moving accuracy. Further, since the drawing device according to the comparative example moves a large moving device, the moving speed cannot be increased. Therefore, the drawing apparatus according to the comparative example has room for improvement in terms of improving productivity.
第1実施形態に係る描画装置1は、複数の第2ソータ51(複数の支持部の一例)と、駆動部53(移動部の一例)と、描画ステージ3の第1浮上部30(調整部、および第1調整部の一例)と、描画ステージ3の第2浮上部31(調整部、および第2調整部の一例)と、描画部32と、を備える。複数の第2ソータ51は、基板S(ワークの一例)を下方から支持する。駆動部53は、第2ソータ51を水平方向に沿って移動させる。第1浮上部30、および第2浮上部31は、第2ソータ51に支持された基板Sに対して下方から空気を吹き付けて基板Sの浮上高を調整する。描画部32は、第1浮上部30、および第2浮上部31によって浮上高が高精度に調整され、第2ソータ51に支持されて搬送される基板Sに描画を行う。第1浮上部30は、第2ソータ51の移動方向において描画部32よりも上流側に設けられる。第2浮上部31は、描画部32の下方に設けられ、第1浮上部30よりも基板Sの浮上高を高精度に調整する。
The
換言すると、描画装置1は、描画方法として、複数の第2ソータ51(複数の支持部の一例)によって基板S(ワークの一例)を下方から支持する工程と、第2ソータ51を水平方向に沿って移動させる工程と、第2ソータ51に支持されて搬送される基板Sに描画を行う工程とを有する。また、描画装置1は、描画方法として、第2ソータ51の移動方向において基板Sに描画を行う箇所よりも上流側で、第2ソータ51に支持された基板Sに対して下方から空気を吹き付けて基板Sに第1浮上高調整を行う工程と、基板Sに描画を行う箇所の下方で、第2ソータ51に支持された基板Sに対して下方から空気を吹き付けて基板Sの浮上高を調整し、第1浮上高調整よりも基板Sの浮上高を高精度に調整する第2浮上高調整を行う工程とを有する。
In other words, as a drawing method, the
これにより、描画装置1は、基板Sを支持して搬送する第2ソータ51を小型にすることができ、小型の駆動部53によって基板Sを容易に搬送することができる。また、描画装置1は、第1浮上部30、および第2浮上部31によって基板Sに浮上力を与えることで、第2ソータ51、および基板Sを小型の駆動部53によって容易に搬送することができる。そのため、描画装置1は、小型化することができ、コストを低減することができる。また、基板Sの全体の移動範囲うち高精度で移動させる範囲を短くするこができる。
As a result, the
また、描画装置1は、基板Sを搬送する第2ソータ51などを小型化し、軽量化することができ、第2ソータ51などの移動速度を大きくしつつ、第2ソータ51の移動精度を向上させることができる。そのため、描画装置1は、描画を精度良く行いつつ、1枚の基板Sに対する描画時間を短くすることができ、スループットを大きくすることができる。従って、描画装置1は、生産性を向上させることができる。
Further, the
また、描画ステージ3の第2浮上部31(第2調整部の一例)には、第2ソータ51(支持部の一例)が移動可能な溝31aが形成される。
Further, in the second floating upper portion 31 (an example of the second adjusting portion) of the
これにより、描画装置1では、溝31aの両側に第2浮上部31が設けられる。そのため、描画装置1は、幅方向において第2ソータ51よりも外側に突出した状態で、第2ソータ51によって基板Sが支持されている場合であっても、基板Sの浮上高を高精度に調整することができる。例えば、描画装置1は、図1Aなどに示す基板Sの向きが90度回転した基板Sや、大きさの異なる基板Sを描画する場合であっても、基板Sの浮上高を高精度で調整し、精度良く描画することができる。
As a result, in the
また、駆動部53(移動部の一例)は、描画部32によって描画が行われた基板S(ワークの一例)を支持する第2ソータ51(支持部の一例)を、幅方向(ワークの面方向であり、移動方向に直交する直交方向の一例)に移動させる。また、描画部32は、幅方向に移動された基板Sに再び描画を行う。
Further, the drive unit 53 (an example of the moving unit) makes the second sorter 51 (an example of the support unit) supporting the substrate S (an example of the work) drawn by the
これにより、描画装置1は、基板Sに対して複数回、例えば、2回の描画を行うことができる。そのため、描画装置1は、描画部32によって密に描画を行うことができる。また、描画装置1は、基板Sの同一箇所に異なるキャリッジ32aで描画を行うことができ、機能液の膜厚を均一にすることができる。
As a result, the
また、描画装置1は、幅方向(直交方向の一例)への第2ソータ51(支持部の一例)の移動に合わせて、描画ステージ3の第2浮上部31(第2調整部の一例)を幅方向へ移動させる駆動部53(調整移動部の一例)を備える。
Further, the
これにより、描画装置1は、第2浮上部31において、第2ソータ51が通る溝31aの幅方向の長さを短くすることができる。すなわち、描画装置1は、第2浮上部31において基板Sの下面に空気を吹き付け、または基板Sとの間に存在する空気を吸引する部位を、幅方向に長く配置することができる。そのため、描画装置1は、第2浮上部31によって基板Sの浮上高を高精度に調整することができ、基板Sに精度良く描画を行うことができる。
As a result, the
また、描画装置1は、搬入ステージ2の第2浮上部21(第3調整部の一例)と、付着物検出装置22とを備える。第2浮上部21は、移動方向において、描画ステージ3の第1浮上部30(第1調整部の一例)よりも上流側に設けられ、描画ステージ3の第1浮上部30よりも基板Sの浮上高を高精度に調整する。付着物検出装置22は、第2浮上部21によって空気が吹き付けられた基板Sに対して付着物の有無を検出する。
Further, the
これにより、描画装置1は、搬入ステージ2の第2浮上部21によって基板Sの浮上高を高精度に調整した状態で、付着物検出装置22によって基板Sに付着した付着物の有無を検出することができる。そのため、描画装置1は、基板Sの付着物の有無を正確に判定することができる。
As a result, the
また、描画装置1は、描画ステージ3の第1浮上部30(調整部の一例)の上方に設けられ、描画部32の描画状態を検出する描画状態検出装置7を備える。
Further, the
これにより、描画装置1は、移動方向における描画装置1の長さを短くすることができる。
As a result, the
描画状態検出装置7は、描画部32によって基板S(ワークの一例)への描画が終了し、次の基板Sが描画ステージ3の第1浮上部30(第1調整部の一例)まで搬送される際に描画状態を検出する。
In the drawing state detection device 7, drawing on the substrate S (an example of the work) is completed by the
これにより、描画装置1は、次の基板Sの搬送を行いつつ、描画部32における描画状態を検出することができ、スループットを大きくすることができ、生産性を向上させることができる。
As a result, the
また、描画装置1は、搬出ステージ4の浮上部40(調整部の一例)の上方に設けられ、描画部32のフラッシングが行われるフラッシング部8を備える。
Further, the
これにより、描画装置1は、移動方向における描画装置1の長さを短くすることができる。
As a result, the
(第2実施形態)
次に、第2実施形態に係る描画装置1について図17A、および図17Bを参照し説明する。図17Aは、第2実施形態に係る描画装置1の概略構成を示す平面図である。図17Bは、第2実施形態に係る描画装置1の概略構成を示す側面図である。図17Aでは、制御装置9など一部の構成が省略されている。ここでは、第1実施形態とは異なる箇所を中心に説明する。なお、第1実施形態と同じ構成については、第1実施形態と同じ符号を付し、詳しい説明は省略する。(Second Embodiment)
Next, the
第2実施形態に係る描画装置1は、搬入ステージ2と、描画ステージ3と、搬出ステージ4と、移動装置5と、エア調整装置6と、描画状態検出装置7と、フラッシング部8と、制御装置9とに加え、重量計測装置100を備える。なお、図17Bでは、図1Bに記載されたエア調整装置6を省略する。
The
描画ステージ3に設けられた描画部32は、基板Sに描画を行う描画エリアAと、描画エリアAから幅方向にずれた位置に設けられたメンテナンスエリアBとの間を移動可能である。描画エリアAは、基板Sが移動方向に沿って搬送されるエリアであり、基板Sが搬送されるラインに含まれるエリアである。メンテナンスエリアBは、描画部32のメンテナンス作業が行われるエリアである。なお、描画部32は、キャリッジ32a毎に幅方向に沿って移動可能である。すなわち、描画部32は、描画エリアAとメンテナンスエリアBとの間をキャリッジ32a毎に移動させることができる。
The
移動装置5の駆動部53は、描画部32を描画エリアAと、メンテナンスエリアBとの間で移動させる。すなわち、駆動部53は、描画部32を幅方向に沿って移動させる。また、駆動部53は、重量計測装置100の計測部101、およびバス部103を移動方向に沿って移動させる。また、駆動部53は、重量計測装置100の風防部102、および吸引部105を上下方向に沿って移動させる。
The
なお、駆動部53は、各ソータ51〜52や、計測部101や、風防部102などに対応して複数設けられてもよい。すなわち、各ソータ51〜52や、計測部101や、風防部102などは、異なる駆動部53によって駆動されてもよい。
A plurality of
ここで、重量計測装置100について、図18A、および図18Bを参照し説明する。図18Aは、第2実施形態に係る重量計測装置100の概略構成を説明する平面図である。図18Bは、実施形態に係る重量計測装置100の概略構成を説明する側面図である。重量計測装置100は、描画エリアAの外側、具体的には、描画エリアAとメンテナンスエリアBとの間に設けられる。
Here, the
重量計測装置100は、計測部101と、風防部102と、バス部103とを備える。計測部101、風防部102、およびバス部103は、移動方向におけるキャリッジ32aの列に応じて設けられる。そのため、例えば、移動方向にキャリッジ32aが2列設けられている場合には、計測部101、風防部102、およびバス部103は、移動方向に2列設けられる。
The
計測部101は、移動方向に沿って移動可能である。計測部101は、描画部32のヘッド32bから機能液の液滴が吐出される吐出位置と、吐出された液滴の重量を計測する計測位置との間で移動可能である。計測位置は、例えば、吐出位置よりも下流に設けられる。
The measuring
計測部101は、幅方向において描画エリアAの外側に設けられ、ヘッド32bから吐出された機能液の液滴の重量を計測する。すなわち、計測部101は、基板S(ワークの一例)が搬送される描画エリアA(エリアの一例)から幅方向(支持部の移動方向に直交する水平方向の一例)に離間した位置に設けられ、描画部32から吐出される液滴の重量を計測する。計測部101は、キャリッジ毎に液滴の重量を計測する。
The measuring
計測部101は、複数の天秤部104を備える。天秤部104は、描画部32のヘッド32bの数に対応して設けられる。例えば、ヘッド32bが移動方向に6列、幅方向に2列設けられている場合には、天秤部104は、移動方向に6列、幅方向に2列設けられる。すなわち、計測部101は、ヘッド32bの数に対応して設けられ、吐出される液滴の重量を計測する複数の天秤部104を備える。
The measuring
天秤部104には、上方が開口した貯留部104aが形成される。貯留部104aには、ヘッド32bから吐出された機能液の液滴が溜められる。天秤部104は、貯留部104a内の機能液の重量を計測する。計測部101は、各ヘッド32bから吐出された機能液の液滴の重量を、各天秤部104によって個別に計測することができる。
A
計測部101は、吐出位置でヘッド32bから機能液の液滴が吐出されると、計測位置に移動し、機能液の液滴の重量を計測する。
When the droplet of the functional liquid is ejected from the
風防部102は、計測位置の上方に設けられる。風防部102は、上下方向に移動可能である。風防部102は、計測部101が吐出位置にある場合に、バス部103の上方を覆い、計測部101が計測位置にある場合に、計測部101の上方を覆う。具体的には、風防部102(遮蔽部の一例)は、計測部101によって機能液の液滴の重量を計測する場合に、天秤部104の開口を遮蔽する。これにより、風防部102は、計測部101によって機能液の液滴の重量を計測する場合に、周囲の風の影響によって計測誤差が発生することを防止する。
The
風防部102には、複数の吸引部105が設けられる。吸引部105は、風防部102に対して上下方向に沿って移動する。吸引部105は、例えば、吸引ノズルであり、機能液の重量の計測が終了すると、貯留部104a内に挿入され、貯留部104a内の機能液を吸引し、貯留部104aから機能液を排出する。すなわち、風防部102(遮蔽部の一例)は、重量が計測された液滴を吸引して排出する吸引部105を備える。
The
吸引部105は、天秤部104の数に対応して複数設けられ、複数の天秤部104から液滴を吸引する。すなわち、吸引部105は、描画部32のヘッド32bの数に対応して設けられる。例えば、ヘッド32bが移動方向に6列、幅方向に2列設けられている場合には、吸引部105は、移動方向に6列、幅方向に2列設けられる。
A plurality of
バス部103は、計測部101とともに移動方向に沿って移動可能である。バス部103は、計測部101が吐出位置にある場合に、計測位置にある。バス部103は、計測部101が吐出位置から計測位置に移動すると、計測位置から、計測位置よりも移動方向において下流側の退避位置に移動する。バス部103は、乾燥を防止するための溶剤が溜められたタンクである。バス部103は、重量計測装置100によって機能液の重量を計測しない場合、例えば、基板Sに描画を行っている場合に、風防部102に設けられた吸引部105が乾燥することを防止する。
The
なお、描画装置1は、メンテナンスエリアBと描画エリアAとの間に、描画部32のヘッド32bに付着した液滴を拭き取るワイプ(不図示)を備える。例えば、描画装置1は、メンテナンスが終了した描画部32のヘッド32bに付着した液滴をワイプによって拭き取る。例えば、ワイプは、重量計測装置100に対して移動方向に並んで設けられる。また、ワイプは、重量計測装置100に対して幅方向に並んで設けられてもよい。
The
<重量計測手順>
次に、第2実施形態に係る描画装置1の重量計測手順について図19A〜図19Dを参照し説明する。図19Aは、第2実施形態に係る描画装置1の重量計測手順を示す模式図(その1)である。図19Bは、第2実施形態に係る描画装置1の重量計測手順を示す模式図(その2)である。図19Cは、第2実施形態に係る描画装置1の重量計測手順を示す模式図(その3)である。図19Dは、第2実施形態に係る描画装置1の重量計測手順を示す模式図(その4)である。<Weight measurement procedure>
Next, the weight measurement procedure of the
描画装置1は、例えば、メンテナンスエリアB(図17A参照)から描画エリアA(図17A参照)にキャリッジ32aを移動させる際に、所定のタイミングでヘッド32bから吐出される機能液の液滴の重量計測を行う。所定のタイミングは、予め設定されたタイミングであり、例えば、1週間毎である。なお、描画装置1は、作業者の操作に基づいて機能液の液滴の重量計測を行ってもよい。
The
描画装置1では、図19Aに示すように、初期状態として、吐出位置に計測部101が配置され、計測位置、すなわち風防部102の下方にバス部103が配置されている。風防部102は、溶剤が貯留されたバス部103の上方を覆うように設けられ、吸引部105の乾燥が抑制される。
In the
描画装置1は、描画部32のヘッド32bから吐出される機能液の液滴の重量を計測する場合には、図19Bに示すように、キャリッジ32aを吐出位置の上方に搬送する。具体的には、描画装置1は、キャリッジ32aのヘッド32bが計測部101の天秤部104の貯留部104aの上方となるように、キャリッジ32aを搬送する。
When measuring the weight of the droplets of the functional liquid discharged from the
そして、描画装置1は、ヘッド32bから所定回数、機能液の液滴を吐出する。所定回数は、予め設定された回数である。これにより、計測部101の貯留部104aには、ヘッド32bから吐出された機能液が溜まる。なお、風防部102は、バス部103の上方を覆う状態に保持されている。
Then, the
描画装置1は、ヘッド32bから所定回数、機能液の液滴の吐出が終了すると、風防部102を上昇させて、風防部102をバス部103から離間させて、計測部101、およびバス部103を移動方向に沿って移動させる。描画装置1は、計測部101を計測位置、すなわち風防部102の下方まで搬送する。具体的には、描画装置1は、風防部102の吸引部105が計測部101の天秤部104の貯留部104aの上方となるように、計測部101を搬送する。
When the
また、描画装置1は、風防部102を降下させて、図19Cに示すように、天秤部104の上方を覆い、天秤部104の貯留部104aの開口を遮蔽する。そして、描画装置1は、天秤部104で貯留部104a内の機能液の重量を計測し、計測した重量に関する信号を制御装置9に送信する。
Further, the
このようにして、描画装置1は、キャリッジ32a毎にヘッド32bから吐出する機能液の液滴の重量を計測する。
In this way, the
描画装置1は、機能液の液滴の重量計測が終了すると、図19Dに示すように、吸引部105を降下させて、天秤部104の貯留部104aに吸引部105を挿入する。そして、描画装置1は、吸引部105によって貯留部104a内の機能液を吸引し、貯留部104aから機能液を排出する。
When the weight measurement of the droplets of the functional liquid is completed, the
<重量計測処理>
次に、第2実施形態に係る重量計測処理について図20を参照し説明する。図20は、第2実施形態に係る重量計測処理を説明するフローチャートである。<Weight measurement processing>
Next, the weight measurement process according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 20 is a flowchart illustrating the weight measurement process according to the second embodiment.
描画装置1は、キャリッジ32aを吐出位置にある計測部101の上方まで搬送する(S20)。
The
描画装置1は、吐出位置においてヘッド32bから機能液の液滴を計測部101に向けて吐出する(S21)。具体的には、描画装置1は、キャリッジ32aのヘッド32bから天秤部104の貯留部104aに向けて所定回数、機能液の液滴を吐出する。
The
描画装置1は、機能液の液滴が吐出された計測部101を計測位置まで搬送する(S22)。具体的には、描画装置1は、風防部102を上方に移動させた後に、計測部101、およびバス部103を移動方向に沿って移動させ、計測部101を計測位置まで搬送する。
The
描画装置1は、計測位置まで計測部101が搬送されると、吐出された機能液の液滴の重量を計測する(S23)。具体的には、描画装置1は、計測部101を計測位置まで搬送すると、風防部102を降下させて、計測部101の上方を覆い、天秤部104の貯留部104aの開口を遮蔽する。そして、描画装置1は、吐出された機能液の液滴の重量を計測部101によって計測する。
When the
描画装置1は、計測が終了すると、吸引部105によって貯留部104a内の機能液を吸引し、排出する(S24)。具体的には、描画装置1は、天秤部104の貯留部104aに吸引部105を挿入し、吸引部105によって機能液を排出する。
When the measurement is completed, the
<効果>
描画装置1は、第2ソータ51など(支持部の一例)と、駆動部53(移動部の一例)と、描画部32と、計測部101とを備える。第2ソータ51などは、基板S(ワークの一例)を下方から支持する。駆動部53は、第2ソータ51などを水平方向に沿って移動させる。描画部32は、液滴を吐出して基板Sに描画を行う。計測部101は、基板Sが搬送される描画エリアA(エリアの一例)から幅方向(支持部の移動方向に直交する水平方向)に離間した位置に設けられ、描画部32から吐出される液滴の重量を計測する。<Effect>
The
換言すると、描画装置1は、描画方法として、基板S(ワークの一例)を下方から第2ソータ51など(支持部の一例)によって支持する工程と、第2ソータ51などを水平方向に沿って移動させる工程と、描画部32から液滴を吐出して基板Sに描画を行う工程と、基板Sが搬送される描画エリアA(エリアの一例)から幅方向(支持部の移動方向に直交する水平方向)に離間した位置で、描画部32から吐出される液滴の重量を計測する工程とを有する。
In other words, as a drawing method, the
これにより、描画装置1は、基板Sが搬送されるラインの構成を簡潔にすることができる。また、描画装置1は、移動方向における描画装置1の長さを短くすることができる。
As a result, the
また、描画部32は、液滴を吐出する複数のヘッド32bを有する複数のキャリッジ32aを備える。計測部101は、キャリッジ32a毎に液滴の重量を計測する。
Further, the
これにより、描画装置1は、キャリッジ32a毎に液滴の重量を計測することで、1つのキャリッジ32aに対する液滴の重量計測時間を短くすることができる。そのため、描画装置1は、描画部32における重量計測時間を短くし、基板Sへの描画を早期に開始することができ、生産性を向上させることができる。
As a result, the
また、計測部101は、ヘッド32bの数に対応して設けられ、吐出される液滴の重量を計測する複数の天秤部104を備える。
Further, the measuring
これにより、描画装置1は、ヘッド32b毎の液滴の重量を計測することができる。そのため、描画装置1は、各ヘッド32bの液滴の吐出量を計測することができ、各ヘッド32bの吐出状態を検出することができる。
As a result, the
また、描画装置1は、液滴の重量を計測する場合に、天秤部104の開口を遮蔽する風防部102(遮蔽部の一例)を備える。
Further, the
これにより、描画装置1は、周囲の風の影響を抑制し、液滴の重量を正確に計測することができる。
As a result, the
また、風防部102(遮蔽部の一例)は、重量が計測された液滴を吸引して排出する吸引部105を備える。
Further, the windshield unit 102 (an example of the shielding unit) includes a
これにより、描画装置1は、例えば、風防部102を移動させずに、天秤部104の貯留部104aに溜まった機能液を天秤部104から排出することができ、作業性を向上させることができる。
Thereby, for example, the
また、吸引部105は、天秤部104の数に対応して複数設けられ、複数の天秤部104から液滴を吸引する。
Further, a plurality of
これにより、描画装置1は、複数の天秤部104の貯留部104aから一括して機能液を排出することができ、作業性を向上させることができる。
As a result, the
(変形例)
変形例に係る描画装置1は、1回の描画によって基板Sへの描画を完了してもよい。また、変形例に係る描画装置1は、3回以上の描画によって基板Sへの描画を完了してもよい。また、変形例に係る描画装置1は、例えば、2回目の描画を、描画ステージ3から搬出ステージ4に搬送する際に行ってもよい。(Modification example)
The
また、変形例に係る描画装置1は、描画ステージ3の第2浮上部31に形成する溝31aの幅方向の長さを、第1浮上部30の溝30bの幅方向の長さ以上にしてもよい。これにより、変形例に係る描画装置1は、描画ステージ3の第2浮上部31を幅方向に移動させずに、例えば、2回目の描画を行うことができる。
Further, in the
また、変形例に係る描画装置1は、搬出ステージ4で第2ソータ51を幅方向に移動させる場合に、第2ソータ51を移動方向に移動させつつ、幅方向に移動させてもよい。すなわち、変形例に係る描画装置1は、移動方向に対して斜め方向に第2ソータ51を移動させることで、第2ソータ51を幅方向に移動させてもよい。
Further, the
また、変形例に係る描画装置1は、例えば、1つの溝20aに設けられた2つの第1ソータ50の所定間隔を変更可能としてもよい。これにより、変形例に係る描画装置1は、移動方向における長さが異なる基板Sの搬送し、基板Sに描画を行うことができる。
Further, the
また、変形例に係る描画装置1は、図21に示すように、幅方向に並んで配置されるキャリッジ32aにアライメントカメラ120を設けてもよい。図21は、変形例に係る描画装置1の一部の概略構成を示す平面図である。アライメントカメラ120は、例えば、CCDカメラである。
Further, as shown in FIG. 21, the
各キャリッジ32aは、幅方向にそれぞれ移動することができる。すなわち、各キャリッジ32aは、Y軸方向(直交方向の一例)における位置をそれぞれ調整可能である。各キャリッジ32aは、モータなどによってY軸方向における位置をそれぞれ調整することができる。
Each
また、第2ソータ51は、移動方向(X軸方向)、および幅方向(Y軸方向)における位置を調整可能である。例えば、第2ソータ51は、モータによって移動方向(X軸方向)、および幅方向(Y軸方向)における位置を調整可能である。また、第2ソータ51は、Z軸方向に沿った軸を中心に回動可能である。例えば、第2ソータ51は、モータから伝達機構を介して伝達される駆動力によってZ軸方向に沿った軸を中心に回動可能である。第2ソータ51は、基板Sを支持した状態で、基板Sの位置を移動方向、幅方向に調整可能である。また、第2ソータ51は、基板Sを支持した状態で、基板SのZ軸方向に沿った軸に対し、回動可能である。
Further, the position of the
ここで、変形例に係る描画装置1の描画ステージ3における各キャリッジ32aの位置合わせについて説明する。各キャリッジ32aの位置合わせは、制御装置9によって実行される。
Here, the alignment of each
まず、制御装置9は、幅方向において両端に設けられたアライメントカメラ120によって基板Sの前端に設けられたアライメントマーク121が撮像されるように、第2ソータ51によって基板Sの位置を調整する。また、制御装置9は、幅方向の両端に設けられたキャリッジ32aの位置を調整する。すなわち、基板Sのアライメントが実行され、幅方向の両端に設けられたキャリッジ32aの位置が調整される。
First, the
なお、幅方向の両端とは異なるアライメントカメラ120を用いて、基板Sの位置、およびキャリッジ32aの位置を調整してもよい。
The position of the substrate S and the position of the
そして、制御装置9は、幅方向の両端のキャリッジ32aの間に設けられたキャリッジ32aの位置を調整する。具体的には、制御装置9は、両端のアライメントカメラ120の間に設けられた各アライメントカメラ120によって、基板Sに設けられたアライメントマーク121が撮像されるように、キャリッジ32aの位置を調整する。
Then, the
各キャリッジ32aの位置合わせが完了した後に、描画を行う際に基板Sを移動方向に移動させるための基準位置が初期化される。例えば、キャリッジ32aに対する移動方向の位置を検出可能なレーザ干渉計がリセットされる。描画を行う場合には、レーザ干渉計による測定結果に基づいて、基準位置からの移動量が調整され、基板Sが移動方向に搬送される。
After the alignment of each
以上のように、変形例に係る描画装置1は、幅方向におけるキャリッジ32aの位置をキャリッジ32a毎に調整することができる。そのため、温度変化などによって各キャリッジ32aの位置がずれた場合に、変形例に係る描画装置1は、幅方向におけるキャリッジ32aの位置をキャリッジ32a毎に調整することができ、描画を精度良く行うことができる。
As described above, the
また、変形例に係る描画装置1は、各キャリッジ32aにおける機能液の吐出タイミングを調整可能であってもよい。すなわち、複数のキャリッジ32aは、機能液の吐出タイミングをそれぞれ調整可能である。変形例に係る描画装置1は、アライメントカメラ120によって撮像したアライメントマーク121が移動方向にずれている場合には、アライメントマーク121が移動方向にずれているキャリッジ32aにおける吐出タイミングを調整する。
Further, the
変形例に係る描画装置1は、移動方向における機能液の吐出タイミングをキャリッジ32a毎に調整することによって、描画を精度良く行うことができる。
The
変形例に係る描画装置1は、一部のヘッド32bが吐出する機能液の液滴の重量を計測してもよい。変形例に係る描画装置1は、例えば、1つのキャリッジ32aが、青色、赤色、緑色などのインクを機能液として吐出する複数のヘッド32bを備える場合に、青色のインクを吐出するヘッド32bのみから吐出した液滴の重量を計測してもよい。すなわち、キャリッジ32a毎に機能液の液滴の重量を計測するとは、一部のヘッド32bから機能液の液滴を吐出して重量を計測することが含まれる。
The
これにより、変形例に係る描画装置1は、キャリッジ32aに対して、一部のヘッド32bにおける機能液の液滴の重量を計測することができる。
As a result, the
変形例に係る描画装置1は、基板Sを載置台に載せて、載置台を搬送してもよい。
In the
なお、今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。 It should be noted that the embodiments disclosed this time are exemplary in all respects and are not considered to be restrictive. Indeed, the above embodiments can be embodied in a variety of forms. Further, the above-described embodiment may be omitted, replaced or changed in various forms without departing from the scope of the appended claims and the purpose thereof.
1 描画装置
2 搬入ステージ
3 描画ステージ
4 搬出ステージ
5 移動装置
6 エア調整装置
7 描画状態検出装置
8 フラッシング部
9 制御装置
20 第1浮上部
21 第2浮上部(調整部、第3調整部)
22 付着物検出装置
30 第1浮上部(調整部、第1調整部)
31 第2浮上部(調整部、第2調整部)
31a 溝
32 描画部
40 浮上部(調整部)
50 第1ソータ(支持部)
51 第2ソータ(支持部)
52 第3ソータ(支持部)
53 駆動部(移動部、調整移動部)
100 重量計測装置
101 計測部
102 風防部(遮蔽部)
103 バス部
104 天秤部
105 吸引部1 Drawing
22
31 Second floating upper part (adjustment part, second adjustment part)
50 1st sorter (support part)
51 Second sorter (support part)
52 Third sorter (support part)
53 Drive unit (moving unit, adjustment moving unit)
100
103
Claims (17)
前記支持部を水平方向に沿って移動させる移動部と、
前記支持部に支持された前記ワークに対して下方から空気を吹き付けて前記ワークの浮上高を調整する調整部と、
前記調整部によって前記浮上高が調整され、前記支持部に支持されて移動する前記ワークに描画を行う描画部と
を備え、
前記調整部は、
前記支持部の移動方向において前記描画部よりも上流側に設けられた第1調整部と、
前記描画部の下方に設けられ、前記第1調整部よりも前記ワークの浮上高を高精度に調整する第2調整部と
を備える描画装置。Multiple support parts that support the work from below,
A moving part that moves the support part along the horizontal direction,
An adjusting unit that adjusts the floating height of the work by blowing air from below onto the work supported by the supporting portion.
The levitation height is adjusted by the adjusting portion, and the work is supported by the supporting portion and moves.
The adjusting part
A first adjusting unit provided on the upstream side of the drawing unit in the moving direction of the support unit, and
A drawing device provided below the drawing unit and provided with a second adjusting unit that adjusts the floating height of the work with higher accuracy than the first adjusting unit.
前記支持部が移動可能な溝が形成される
請求項1に記載の描画装置。The second adjustment unit
The drawing apparatus according to claim 1, wherein a groove in which the support portion can move is formed.
前記描画部によって描画が行われた前記ワークを支持する前記支持部を、前記ワークの面方向であり、前記移動方向に直交する直交方向に移動させ、
前記描画部は、
前記直交方向に移動された前記ワークに再び描画を行う
請求項1または2に記載の描画装置。The moving part
The support portion that supports the work drawn by the drawing portion is moved in an orthogonal direction that is the plane direction of the work and is orthogonal to the moving direction.
The drawing unit
The drawing apparatus according to claim 1 or 2, wherein drawing is performed again on the work moved in the orthogonal direction.
を備える請求項3に記載の描画装置。The drawing apparatus according to claim 3, further comprising an adjustment moving unit that moves the second adjusting unit in the orthogonal direction in accordance with the movement of the supporting portion in the orthogonal direction.
前記移動方向において、前記第1調整部よりも上流側に設けられ、前記第1調整部よりも前記ワークの浮上高を高精度に調整する第3調整部と、
前記第3調整部によって前記空気が吹き付けられた前記ワークに対して付着物の有無を検出する付着物検出装置と
を備える請求項1〜4のいずれか一つに記載の描画装置。The adjusting part
A third adjusting unit provided on the upstream side of the first adjusting unit in the moving direction and adjusting the floating height of the work with higher accuracy than the first adjusting unit.
The drawing device according to any one of claims 1 to 4, further comprising a deposit detection device that detects the presence or absence of deposits on the work to which the air is blown by the third adjusting unit.
を備える請求項1〜5のいずれか一つに記載の描画装置。The drawing device according to any one of claims 1 to 5, which is provided above the adjusting unit and includes a drawing state detecting device for detecting the drawing state of the drawing unit.
前記描画部によって前記ワークへの描画が終了し、次のワークが前記第1調整部まで搬送される際に前記描画状態を検出する
請求項6に記載の描画装置。The drawing state detection device is
The drawing apparatus according to claim 6, wherein the drawing unit detects the drawing state when the drawing on the work is completed and the next work is conveyed to the first adjusting unit.
を備える請求項1〜7のいずれか一つに記載の描画装置。The drawing apparatus according to any one of claims 1 to 7, further comprising a flushing section provided above the adjusting section and flushing of the drawing section.
を備え、
前記複数のキャリッジは、
前記直交方向における位置をそれぞれ調整可能である
請求項1〜8のいずれか一つに記載の描画装置。The drawing unit includes a plurality of carriages arranged along orthogonal directions orthogonal to the moving direction.
The plurality of carriages
The drawing apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the positions in the orthogonal directions can be adjusted respectively.
機能液の吐出タイミングをそれぞれ調整可能である
請求項9に記載の描画装置。The plurality of carriages
The drawing apparatus according to claim 9, wherein the discharge timing of the functional liquid can be adjusted.
を備える請求項1〜10のいずれか一つに記載の描画装置。Claims 1 to 10 include a measuring unit provided at a position separated in a horizontal direction orthogonal to the moving direction of the support portion from the area where the work is conveyed and measuring the weight of droplets ejected from the drawing unit. The drawing device according to any one of the above.
前記液滴を吐出する複数のヘッドを有する複数のキャリッジ
を備え、
前記計測部は、
前記キャリッジ毎に前記液滴の重量を計測する
請求項11に記載の描画装置。The drawing unit
A plurality of carriages having a plurality of heads for ejecting the droplets.
The measuring unit
The drawing apparatus according to claim 11, wherein the weight of the droplet is measured for each carriage.
前記ヘッドの数に対応して設けられ、吐出される前記液滴の重量を計測する複数の天秤部
を備える請求項12に記載の描画装置。The measuring unit
The drawing apparatus according to claim 12, which is provided according to the number of heads and includes a plurality of balance units for measuring the weight of the droplets to be ejected.
を備える請求項13に記載の描画装置。The drawing apparatus according to claim 13, further comprising a shielding portion that shields the opening of the balance portion when measuring the weight of the droplet.
重量が計測された前記液滴を吸引して排出する吸引部
を備える請求項14に記載の描画装置。The shielding part is
The drawing apparatus according to claim 14, further comprising a suction unit for sucking and discharging the weighted droplet.
前記天秤部の数に対応して複数設けられ、前記複数の天秤部から前記液滴を吸引する
請求項15に記載の描画装置。The suction part is
The drawing apparatus according to claim 15, which is provided in plurality corresponding to the number of the balance units and sucks the droplets from the plurality of balance units.
前記支持部を水平方向に沿って移動させる工程と、
前記支持部に支持されて移動する前記ワークに描画を行う工程と、
前記支持部の移動方向において前記ワークに描画を行う箇所よりも上流側で、前記支持部に支持された前記ワークに対して下方から空気を吹き付けて前記ワークの第1浮上高調整を行う工程と
前記ワークに描画を行う箇所の下方で、前記支持部に支持された前記ワークに対して下方から空気を吹き付けて前記ワークの浮上高を調整し、前記第1浮上高調整よりも前記ワークの浮上高を高精度に調整する第2浮上高調整を行う工程と、
を有する描画方法。The process of supporting the work from below by multiple support parts,
The step of moving the support portion in the horizontal direction and
A step of drawing on the work that moves while being supported by the support portion, and
A step of adjusting the first levitation height of the work by blowing air from below onto the work supported by the support portion on the upstream side of the portion where drawing is performed on the work in the moving direction of the support portion. Air is blown from below to the work supported by the support portion to adjust the levitation height of the work below the portion where drawing is performed on the work, and the levitation of the work is adjusted rather than the first levitation height adjustment. The process of adjusting the second levitation height to adjust the height with high accuracy, and
Drawing method with.
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