JP2009054234A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】２層以上の記録層を有する青色レーザ用の光情報記録媒体において、層間クロストークの影響を受けにくくすること。
【解決手段】光情報記録媒体１０の半径（ｒ）が５０ｍｍの部分から最外周部に向かって中間層１５の膜厚を厚くする。また中間層１５の膜厚変化量勾配（ｄｒｇ）を０［μｍ／ｍｍ］〜０．５［μｍ／ｍｍ］の範囲にし、光情報記録媒体１０の記録領域の最外周部での中間層１５の膜厚（Ｔｍ）を２５μｍ〜３０μｍの範囲で最大となるようにする。
【選択図】図１

Description

本発明は、光情報記録媒体に関し、より詳しくは、２層以上の記録層を有する光情報記録媒体において層間クロストークの影響を受けにくい光情報記録媒体に関する。

現在、コンピュータが扱う情報量は拡大の一途を辿っている。また音楽・静止画像・動画像の情報もデジタル化が進み、こうした用途においても情報量は飛躍的に増大している。
例えば、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ）は、０．６ｍｍの情報信号面が転写された円盤状（ディスク状）の成形基板と、信号面の無い同様の厚さの基板を、信号面を内側にして製造される。また、ＤＶＤ−ＲＡＭの両面記録製品においては、０．６ｍｍの情報信号面が転写された円盤状（ディスク状）の成形基板２枚を、情報信号面を内側にして貼り合わせて製造される。

さらに近年の光情報記録媒体の大容量化に伴い、光学系も赤色レーザから青色レーザへと変わり、デジタル放送のＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）クラスの画質で録画を行うために、Ｂｌｕ−ｒａｙ Ｄｉｓｃ（ＢＤ）が製品化された。
これは１．１ｍｍの基板に情報信号面を転写し、その情報信号面に０．１ｍｍのカバー層を設けて製造される。ＢＤの２層構造の光情報記録媒体の記録容量は５０ＧＢに達する。

また、ＢＤとは異なる規格として現在ＤＶＤ Ｆｏｒｕｍで審議されている、青色レーザを光源とし、記録・再生光入射側の単板厚さをＤＶＤと同様の０．６ｍｍとした光情報記録媒体、すなわちＨＤ ＤＶＤの開発が行われている。

ＤＶＤが光源波長（λ）が６５０ｎｍ、レンズの開口数（ＮＡ）が０．６であるのに対し、ＨＤ ＤＶＤは、光源波長（λ）が４０５ｎｍ、レンズの開口数（ＮＡ）が０．６５となっている。光源波長をより短波長化し、レンズの開口数（ＮＡ）を高めることでＤＶＤよりも大容量の光情報記録媒体を実現している。

ＨＤ ＤＶＤでは、２層の記録層を有する光情報記録媒体を作製するのに、２Ｐ法と逆積層法の２種類の方法が提案されている。
２Ｐ法とは、紫外線を当てることにより硬化する２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌｙｍｅｒ）樹脂を用いて、第１記録層の上に第２記録層を作製する方法である。
２Ｐ法で光情報記録媒体を作製する概略的な手順としては、まず第１記録層が成膜された成形基板上に、紫外線硬化接着層をスピン塗布し、紫外線を照射して硬化させる。
次に、この成形基板とＣＯＰ（シクロオレフィンポリマ材）などで成形されたソフトスタンパを、２Ｐ樹脂をスピンコートして貼り合わせ、２Ｐ樹脂を、紫外線を照射して硬化させる。そしてソフトスタンパを剥がし、第２記録層用のパターンが形成された上に、第２記録層を成膜し、ダミー基板を貼り合わせて２層の記録層を有する光情報記録媒体が作製される。

一方、逆積層法で光情報記録媒体を作製する場合であるが、図１０を用いて具体的に説明する。
図１０は、逆積層法により２層の記録層を有する光情報記録媒体を作製する手順を説明した図である。
まず、第１記録層用に用いるＬ０基板１０１を射出成形により作製する（ステップ（ａ））。
なお、図１０のステップ（ａ）において示した図は、Ｌ０基板１０１の断面図であり、中央の空隙部は基板中心部にある孔を意味する。また、以下の他のステップにおける図においても同様である。

このＬ０基板１０１に記録層や熱拡散層等からなる第１記録層１０２をスパッタリングにより成膜し、第１記録層用基板が作製される（ステップ（ｂ））。

同様に、第２記録層用に用いるＬ１基板１０３を射出成形により作製する（ステップ（ｃ））。
このＬ１基板１０３に記録層や熱拡散層等からなる第２記録層１０４をスパッタリングにより成膜し、第２記録層用基板が作製される（ステップ（ｄ））。

これら両記録層用基板を、中間層となる紫外線硬化樹脂をスピン塗布し、第１記録層１０２と第２記録層１０４が対向するように貼り合わせ、紫外線を照射して硬化させることで、２層の記録層を有し、中間層１０６を有する光情報記録媒体１０５が作製できる（ステップ（ｅ））。

そして、通常２層の記録面を有する光情報記録媒体を作製する場合、２Ｐ法で作製する場合も、また逆積層法で作製する場合も中間層の膜厚は均一である事が好ましいとされている（例えば、特許文献１参照。）。

特開２００３−２８１７９１号公報

しかしながら、逆積層法で上記手順により光情報記録媒体を作製すると、光情報記録媒体の中間層の膜厚は最外周部で薄くなる傾向にある。上述した図１０においては、ステップ（ｅ）の最外周部１０７の部分である。
そのため、層間クロストークの影響を受けやすくなり、ドライブでの記録再生が不安定になってしまうおそれがあるという問題があった。また例え中間層の膜厚を均一に作製できたとしても、最外周部は線速度が速く、また面ぶれなどの影響を受けやすいため、やはり層間クロストークの影響を受けやすいという問題があるという点では同様である。

本発明は、上記のような従来の技術が有する種々の問題点に鑑みてなされたものである。その目的とするところは、２層以上の記録層を有する光情報記録媒体において、層間クロストークの影響を受けにくい光情報記録媒体を提供することにある。

本発明者らは、鋭意検討した結果、２層以上の記録層を有する光情報記録媒体を作製する際に、光情報記録媒体の外周部において、中間層の膜厚を厚くなるように変化させ、かつ記録領域の最外周部で中間層の膜厚が最大となるようにすれば、層間クロストークの影響が受けにくいことを見出し、かかる知見に基づき本発明を完成した。即ち、本発明は以下を要旨とするものである。

即ち、本発明によれば、片側から照射される波長（λ）４０５ｎｍの光を開口数（ＮＡ）０．６５のレンズを通して作られる光スポットにより少なくとも再生可能な青色レーザ用の光情報記録媒体であって、光スポットにより情報が記録又は再生される第１記録層を設けた第１記録層用基板と、第１記録層用基板の光スポットの入射側から見て奥側に設けられ、第１記録層用基板の透過光により情報が記録又は再生される第２記録層を設けた第２記録層用基板と、第１記録層と第２記録層との間に直接又は他の層を介して設けられる中間層とを有し、中間層は、半径（ｒ）が５０ｍｍの部分からディスク最外周部に向かって膜厚変化量勾配（ｄｒｇ）が、０［μｍ／ｍｍ］〜０．５［μｍ／ｍｍ］で膜厚（Ｔｍ）が増大し、かつ、ディスクの記録領域の最外周部での中間層の膜厚（Ｔｍ）が、２５μｍ〜３０μｍの範囲で最大となることを特徴とする光情報記録媒体が提供される。
ここで、半径（ｒ）が５０ｍｍ未満の部分において、膜厚変化量勾配（ｄｒｇ）が、０［μｍ／ｍｍ］〜０．５［μｍ／ｍｍ］の範囲でディスク最外周部に向かって膜厚が増大していてもよい。

また、本発明の光情報記録媒体は、第１記録層用基板と第２記録層用基板とを、第１記録層と第２記録層とが対向するように中間層を介して貼り合わせることにより作製されるものであることが好ましく、また、貼り合わせ前の第１記録層用基板および貼り合わせ前の第２記録層用基板のラジアルチルト（Ｔｒ）の最小値が−１．０°より小さく、かつラジアルチルト（Ｔｒ）の半径方向変化量勾配（ｄｒｔ）が０[°／ｍｍ]より小さいことがさらに好ましい。
またさらに、第１記録層および第２記録層は、トラックピッチ（Ｔｐ）が１８０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲で、溝深さ（Ｄｐ）が２５ｎｍ〜３５ｎｍの範囲である記録溝を有することが好ましい。

本発明によれば、２層以上の記録層を有する光情報記録媒体において、層間クロストークの影響が受けにくい光情報記録媒体を得ることができる。

以下、本発明を実施するための最良の形態（実施の形態）について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。

図１は、本実施の形態が適用される光情報記録媒体の概略断面図である。
本実施の形態の最も基本的な構成を図示したものである。
なお、図１に示す光情報記録媒体は、本発明の特徴を誇張するように描かれており、光情報記録媒体中心部にある光情報記録媒体を保持し回転させるための孔は省略されている。また第１記録層、第２記録層にはランドグルーブが形成されているが、簡潔に説明する為に省略した。
図１に示すように、本実施の形態が適用される光情報記録媒体１０は、第１記録層用に用いるＬ０基板１１、第１記録層１２、第２記録層用に用いるＬ１基板１３、第２記録層１４、および中間層１５よりなる。なお、情報を記録又は再生するためのレーザはＬの方向から照射される。
以下、Ｌ０基板１１、第１記録層１２、Ｌ１基板１３、第２記録層１４、および中間層１５について書換型媒体（Ｒｅｗｒｉｔａｂｌｅ型）を例に挙げ、層構成を詳述する。

（Ｌ０基板１１、第１記録層１２）
図２は、本実施の形態が適用されるＬ０基板１１と第１記録層１２の層構造を説明する図である。
図２に示す通り、第１記録層１２は、Ｌ０基板１１上にＬ０第１保護層２１、Ｌ０第１界面層２２、Ｌ０記録層２３、Ｌ０第２界面層２４、Ｌ０第２保護層２５、Ｌ０熱拡散層２６が順次積層した構造となっている。

Ｌ０基板１１は、例えば、ポリカーボネート樹脂（帝人化成社製 パンライト ＡＤ−５５０３等）を用い、射出圧縮成形機により中心孔径（内径）１５ｍｍ、外径１２０ｍｍで、厚さは中間層１５の膜厚を含めて最大で０．６２２ｍｍのディスク状に成形する。Ｌ０基板１１については詳しくは後述する。
また、射出圧縮成形機により成形する際に、記録溝が形成されたスタンパと呼ばれる金型によって、ランドグルーブがスパイラル状に形成される。このランドグルーブは、トラックピッチ（Ｔｐ）が１８０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲で、溝深さ（Ｄｐ）が２５ｎｍ〜３５ｎｍである。
Ｌ０第１保護層２１は、Ｌ０記録層２３を保護するための層であり、例えば、（ＺｎＳ）_８０（ＳｉＯ_２）_２０（ｍｏｌ％）を、６０ｎｍの膜厚でスパッタリングにより形成する。
Ｌ０第１界面層２２は、Ｌ０第１保護層２１とＬ０記録層２３との間で両層の構成元素が互いに侵入、拡散、および化学反応することを防止するための層であり、例えば、Ｇｅ_８０Ｃｒ_２０−Ｎ（ｍｏｌ％）をスパッタリングにより７ｎｍの膜厚で形成する。
Ｌ０記録層２３は、Ｂｉ−Ｇｅ−Ｔｅ等の相変化材料よりなり、スパッタリングにより、例えば、膜厚１２ｎｍでＢｉ_１．５Ｇｅ_４８．０Ｔｅ_５０．５（ｍｏｌ％）の組成により形成する。
Ｌ０第２界面層２４は、Ｌ０第１界面層２２と同様の目的で、同様の組成によりスパッタリングにより形成されるが、本実施の形態では、膜厚を２ｎｍとした。
そして、Ｌ０第２保護層２５は、Ｌ０第１保護層２１と同様の目的で、同様の組成によりスパッタリングにより形成されるが、膜厚は１０ｎｍとした。
Ｌ０熱拡散層２６は、反射層とも呼ばれ、照射されたレーザの一部を反射する。そして光情報記録媒体１０の各部分からの反射光量の違いを検出して記録層内に記録された情報「０」および「１」を検出する。Ｌ０熱拡散層２６としては、Ａｌ合金やＡｇ合金が使用されるが、本実施の形態では、Ａｇ−Ｃａ−Ｃｕをスパッタリングにより１５０ｎｍの膜厚で形成した。

（Ｌ１基板１３、第２記録層１４）
図３は、本実施の形態が適用されるＬ１基板１３と第２記録層１４の層構造を説明する図である。
図３に示す通り、第２記録層１４は、Ｌ１基板１３上にＬ１第１保護層３１、Ｌ１第１界面層３２、Ｌ１記録層３３、Ｌ１第２界面層３４、Ｌ１第２保護層３５、Ｌ１熱拡散層３６が第１記録層１２とは逆の順序で順次積層した構造となっている。
Ｌ１基板１３は、Ｌ０基板１１のように光透過性である必要はなく、例えば、適度な加工性と剛性を有するプラスチック、金属、ガラス等を用いることができる。
そして、Ｌ０基板１１と同様に中心孔径（内径）１５ｍｍ、外径１２０ｍｍのディスク状に成形され、記録溝が形成されたスタンパと呼ばれる金型によって、ランドグルーブがスパイラル状に形成されるが、このパターンは通常Ｌ０基板１１のパターンの反転パターンである。Ｌ１基板１３の厚さは、Ｌ０基板１１の厚さによるが、２層の記録層を有する光情報記録媒体にしたときに１．２０＋０．３０／−０．０６ｍｍとなるように調整される。なおＬＩ基板１３については詳しくは後述する。
また、Ｌ１基板１３上に積層されるＬ１第１保護層３１、Ｌ１第１界面層３２、Ｌ１記録層３３、Ｌ１第２界面層３４、Ｌ１第２保護層３５、Ｌ１熱拡散層３６の目的、組成、および膜厚は、それぞれＬ０第１保護層２１、Ｌ０第１界面層２２、Ｌ０記録層２３、Ｌ０第２界面層２４、Ｌ０第２保護層２５、Ｌ０熱拡散層２６の場合と同様である。

（中間層１５）
中間層１５としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等が使用できるが、本実施の形態では、紫外線硬化性樹脂を使用するのが好ましい。
通常、この中間層１５の厚さは、収差等を考慮して２５±５μｍである。
ここで、中間層１５は、光情報記録媒体１０の半径（ｒ）が５０ｍｍの部分から最外周部に向かって厚くする。そして、膜厚変化量勾配（ｄｒｇ）は、０［μｍ／ｍｍ］〜０．５［μｍ／ｍｍ］にし、光情報記録媒体１０の記録領域の最外周部での中間層１５の膜厚（Ｔｍ）は２５μｍ〜３０μｍの範囲で最大となるようにする。

但し、中間層１５の膜厚は、必ずしも光情報記録媒体１０の半径（ｒ）が５０ｍｍの部分から厚くする必要はなく、光情報記録媒体１０の半径（ｒ）が５０ｍｍまでの部分においても膜厚変化量勾配（ｄｒｇ）が０［μｍ／ｍｍ］〜０．５［μｍ／ｍｍ］の範囲で最外周部に向かって厚くなっていてもよい。

また、本実施の形態において、Ｌ０基板１１とＬ１基板１３は、成形する際にそのラジアルチルト（Ｔｒ）の最小値が、−１．０°より小さくすることが好ましい。また、−１．２°より小さければより好ましい。このような基板を使用することにより、上述のような中間層１５を有する光情報記録媒体１０が製造できる。
そして、ラジアルチルト（Ｔｒ）の半径方向変化量勾配（ｄｒｔ）が、０[°／ｍｍ]より小さいことが好ましい。これにより膜厚周変動が小さい光情報記録媒体１０が作製できる。

次に、本実施の形態による光情報記録媒体を製造する手順について説明する。
図４は、本実施の形態が適用される２層の記録層を有する光情報記録媒体を作製する手順を説明した図である。

まず、第１記録層用に用いるＬ０基板４１を射出成形により作製する（ステップ（ｆ））。ここで、射出圧縮成形機の型締力の多段制御機能を用いて、Ｌ０基板４１のラジアルチルト（Ｔｒ１）の最小値を、−１．０°より小さくする。
また、そのラジアルチルト（Ｔｒ１）の半径方向変化量勾配（ｄｒｔ１）が、０[°／ｍｍ]より小さいことが好ましい。

この基板に記録層や熱拡散層等からなる第１記録層４２をスパッタリングにより成膜し、第１記録層用基板を作製する（ステップ（ｇ））。

同様に、第２記録層用に用いるＬ１基板４３を射出成形により作製する（ステップ（ｈ））。射出圧縮成形機の型締力の多段制御機能を用いて、Ｌ０基板４１と同等の条件で成形することで、Ｌ１基板４３のラジアルチルト（Ｔｒ２）の最小値を、−１．０°より小さくする。
また、そのラジアルチルト（Ｔｒ２）の半径方向変化量勾配（ｄｒｔ２）が、０[°／ｍｍ]より小さいことが好ましい。

このＬ１基板４３に記録層や熱拡散層等からなる第２記録層４４をスパッタリングにより成膜し、第２記録層用基板を作製する（ステップ（ｉ））。

そして、これら両記録層用基板を、第１記録層４２と第２記録層４４を対向させて、中間層となる紫外線硬化樹脂をスピン塗布して貼り合わせ、紫外線を照射して硬化させることで、２層の記録層を有し、上述したような中間層４６を有する光情報記録媒体４５を作製できる（ステップ（ｊ））。
ここで、中間層４６の膜厚は、光情報記録媒体４５の中心から所定の距離離れた部分から最外周部４７に向かって、徐々に増大している。
この構造を採ることにより面ぶれなどの影響を受けにくくなり、層間クロストークの少ない光情報記録媒体が実現できる。

以下、実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、その要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
また、以下の実施例および比較例において、Ｌ０基板およびＬ１基板に形成された溝深さは３０ｎｍとし、溝幅（グルーブ幅）は２４０ｎｍとした。また、射出圧縮成形機の初期型開き量を０．６ｍｍとし、射出充填速度の最大値を１５０ｍｍ／ｓとした。そして、シリンダの樹脂温度は３８０℃とし、金型温度は固定金型１１５℃、可動金型１１０℃とした。さらに、型締力は多段制御であるが、その初期型締力を３５０ＭＰａとして成形した。

（実施例１）
まず、射出圧縮成形機によりＬ０基板およびＬ１基板を作製した。
ここで、射出圧縮成形機の型締力の多段制御機能を用いて、ラジアルチルト（Ｔｒ）の最小値が、−１．０°より小さい基板とした。
図５は、実際に作製したＬ０基板とＬ１基板の半径（ｒ）とラジアルチルト（Ｔｒ）との関係を示した図である。
ここで、横軸は基板の中心からの距離（半径（ｒ））であり、縦軸はラジアルチルト（Ｔｒ）の量を表す。そして、光情報記録媒体上の異なる点において測定した結果の最大値（ｍａｘ）、最小値（ｍｉｎ）、および平均値（Ａｖｅｒａｇｅ）を示した。
ラジアルチルト（Ｔｒ）の最小値が、−１．０°より小さくなっているのがわかる。

このように作製したＬ０基板とＬ１基板を用いて、第１記録層と第２記録層をそれぞれＬ０基板上とＬ１基板上にスパッタリングにより作製した。
次に、中間層となる紫外線硬化樹脂をスピン塗布し、第１記録層と第２記録層を対向するように貼り合わせ、紫外線を照射して硬化させることで、２層の記録層を有する光情報記録媒体を作製した。
図６は、以上の手順により作製した光情報記録媒体の半径（ｒ）と中間層の膜厚との関係を示した図である。
横軸は光情報記録媒体の中心からの距離（半径（ｒ））であり、縦軸は中間層の膜厚を表す。そして、光情報記録媒体上の異なる点において測定した結果の最大値（ｍａｘ）、最小値（ｍｉｎ）、および平均値（Ａｖｅｒａｇｅ）を示した。
この光情報記録媒体では、中間層の膜厚は、中心から５０ｍｍまでの部分まではほぼ均一であり、中心から５０ｍｍの部分から最外周部に向かって厚くなっている。そして、中間層の膜厚変化量勾配（ｄｒｇ）は０［μｍ／ｍｍ］〜０．５［μｍ／ｍｍ］となっており、光情報記録媒体の記録領域の最外周部での中間層の膜厚（Ｔｍ）は、２５μｍ〜３０μｍの範囲で最大になる。
また、最外周部において中間層の膜厚の最大値と最小値の差が小さくなっている。即ち、膜厚周変動が小さい光情報記録媒体が作製されているのがわかる。
貼り合わせ前の第１記録層用基板および貼り合わせ前の第２記録層用基板のラジアルチルト（Ｔｒ）の半径方向変化量勾配（ｄｒｔ）を、０[°／ｍｍ]より小さくすることにより、最外周部での中間層の膜厚周変動を±２μｍ以下に抑えることができる。

(実施例２)
図６は、光情報記録媒体の中心から５０ｍｍの部分から中間層の膜厚が最外周部に向かって厚くなっている場合の例であったが、図７は、光情報記録媒体の中心からの距離（半径（ｒ））が５０ｍｍまでの部分においても最外周部に向かって中間層の膜厚が厚くなる場合の例であり、その光情報記録媒体の半径（ｒ）と中間層の膜厚との関係を示した図である。
横軸は光情報記録媒体の中心からの距離（半径（ｒ））であり、縦軸は中間層の膜厚を表す。そして、光情報記録媒体上の異なる点において測定した結果の最大値（ｍａｘ）、最小値（ｍｉｎ）、および平均値（Ａｖｅｒａｇｅ）を示した。
この光情報記録媒体においては、中間層の膜厚が、記録領域の全ての領域で最外周部に向かって厚くなっている。そして、中間層の膜厚変化量勾配（ｄｒｇ）は０［μｍ／ｍｍ］〜０．５［μｍ／ｍｍ］となっており、光情報記録媒体の記録領域の最外周部での中間層の膜厚（Ｔｍ）は、２５μｍ〜３０μｍの範囲で最大になる。
また、最外周部において中間層の膜厚の最大値と最小値の差が小さくなっている。即ち、膜厚周変動が小さい光情報記録媒体が作製されているのがわかる。

（比較例）
まず、実施例１と同様に射出圧縮成形機によりＬ０基板およびＬ１基板を作製した。
但し、射出圧縮成形機の型締力の多段制御機能を用いて、ラジアルチルト（Ｔｒ）の最小値が、−１．０°より大きい基板とした。
図８は、実際に作製したＬ０基板とＬ１基板の半径（ｒ）とラジアルチルト（Ｔｒ）との関係を示した図である。
横軸は基板の中心からの距離（半径（ｒ））であり、縦軸はラジアルチルト（Ｔｒ）の量を表す。そして、光情報記録媒体上の異なる点において測定した結果の最大値（ｍａｘ）、最小値（ｍｉｎ）、および平均値（Ａｖｅｒａｇｅ）を示した。
ラジアルチルト（Ｔｒ）は記録領域となる全ての範囲において−１．０°より大きくなっている。即ち、ラジアルチルト（Ｔｒ）の最小値が、−１．０°より大きくなっているのがわかる。

このように作製したＬ０基板とＬ１基板を用いて、第１記録層と第２記録層をそれぞれＬ０基板上とＬ１基板上にスパッタリングにより作製した。
次に、中間層となる紫外線硬化樹脂をスピン塗布し、第１記録層と第２記録層を対向するように貼り合わせ、紫外線を照射して硬化させることで、２層の記録層を有する光情報記録媒体を作製した。
図９は、以上の手順によって作製された２層の記録層を有する光情報記録媒体の半径（ｒ）と中間層の膜厚との関係を示した図である。
横軸は光情報記録媒体の中心からの距離（半径（ｒ））であり、縦軸は中間層の膜厚を表す。そして、光情報記録媒体上の異なる点において測定した結果の最大値（ｍａｘ）、最小値（ｍｉｎ）、および平均値（Ａｖｅｒａｇｅ）を示した。
この光情報記録媒体では、記録領域の最外周部での中間層の膜厚は薄くなっている。
また、最外周部において図６の場合より中間層の膜厚の最大値と最小値の差が大きくなっている。即ち、膜厚周変動が大きくなっている。
このように最外周部で中間層の膜厚が薄くなるような光情報記録媒体では、層間クロストークの影響を受け易くなり、記録領域の中でも重要なミドルエリアにおいて記録再生中断といった問題を引き起こしやすくなる。

なお、上述の例は、２層の記録層を有する光情報記録媒体についての例であったが、さらに記録層が形成された記録層用基板を貼り合わせるなどの手法により３層以上の記録層を有する光情報記録媒体を作製することも可能である。

以上詳述したように、本実施の形態によれば、２層以上の記録層を有する光情報記録媒体において、ラジアルチルト（Ｔｒ）の最小値を−１．０°より小さくした２枚の基板に記録層を形成し、それらを中間層を介して貼り合わせることにより、最外周部での中間層の膜厚が厚くなり、層間クロストークの影響が受けにくい光情報記録媒体を得ることができる。また、ラジアルチルト（Ｔｒ）の半径方向変化量勾配（ｄｒｔ）を０[°／ｍｍ]より小さくすることにより最外周部の中間層の膜厚周変動も小さくすることができる。

本実施の形態が適用される光情報記録媒体の概略断面図である。 本実施の形態が適用されるＬ０基板と第１記録層の層構造を説明する図である。 本実施の形態が適用されるＬ１基板と第２記録層の層構造を説明する図である。 本実施の形態が適用される２層の記録層を有する光情報記録媒体を作製する手順を説明した図である。 Ｌ０基板とＬ１基板の半径（ｒ）とラジアルチルト（Ｔｒ）との関係を示した図である。 ２層の記録層を有する光情報記録媒体の半径（ｒ）と中間層の膜厚との関係を示した図である。 光情報記録媒体の中心からの距離（半径（ｒ））が５０ｍｍまでの部分においても最外周部に向かって中間層の膜厚が厚くなる場合の光情報記録媒体の半径（ｒ）と中間層の膜厚との関係を示した図である。 Ｌ０基板とＬ１基板の半径（ｒ）とラジアルチルト（Ｔｒ）との関係を示した図である。 ２層の記録層を有する光情報記録媒体の半径（ｒ）と中間層の膜厚との関係を示した図である。 逆積層法により２層の記録層を有する光情報記録媒体を作製する手順を説明した図である。

符号の説明

１０，４５，１０５…光情報記録媒体、１１，４１，１０１…Ｌ０基板、１２，４２，１０２…第１記録層、１３，４３，１０３…Ｌ１基板、１４，４４，１０４…第２記録層、１５，４６，１０６…中間層、２１…Ｌ０第１保護層、２２…Ｌ０第１界面層、２３…Ｌ０記録層、２４…Ｌ０第２界面層、２５…Ｌ０第２保護層、２６…Ｌ０熱拡散層、３１…Ｌ１第１保護層、３２…Ｌ１第１界面層、３３…Ｌ１記録層、３４…Ｌ１第２界面層、３５…Ｌ１第２保護層、３６…Ｌ１熱拡散層、４７，１０７…最外周部

Claims (5)

1. 片側から照射される波長（λ）４０５ｎｍの光を開口数（ＮＡ）０．６５のレンズを通して作られる光スポットにより少なくとも再生可能な青色レーザ用の光情報記録媒体であって、
   前記光スポットにより情報が記録又は再生される第１記録層を設けた第１記録層用基板と、
   前記第１記録層用基板の前記光スポットの入射側から見て奥側に設けられ、当該第１記録層用基板の透過光により情報が記録又は再生される第２記録層を設けた第２記録層用基板と、
   前記第１記録層と前記第２記録層との間に直接又は他の層を介して設けられる中間層と、を有し、
   前記中間層は、半径（ｒ）が５０ｍｍの部分からディスク最外周部に向かって膜厚変化量勾配（ｄｒｇ）が、０［μｍ／ｍｍ］〜０．５［μｍ／ｍｍ］で膜厚（Ｔｍ）が増大し、
   かつ、前記ディスクの記録領域の最外周部での前記中間層の膜厚（Ｔｍ）が、２５μｍ〜３０μｍの範囲で最大となることを特徴とする光情報記録媒体。
2. 前記半径（ｒ）が５０ｍｍ未満の部分において、前記膜厚変化量勾配（ｄｒｇ）が、０［μｍ／ｍｍ］〜０．５［μｍ／ｍｍ］の範囲で前記ディスク最外周部に向かって膜厚が増大することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
3. 前記第１記録層用基板と前記第２記録層用基板とを、前記第１記録層と前記第２記録層とが対向するように前記中間層を介して貼り合わせることにより作製されるものであることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
4. 貼り合わせ前の前記第１記録層用基板および貼り合わせ前の前記第２記録層用基板のラジアルチルト（Ｔｒ）の最小値が−１．０°より小さく、かつ当該ラジアルチルト（Ｔｒ）の半径方向変化量勾配（ｄｒｔ）が０[°／ｍｍ]より小さいことを特徴とする請求項３に記載の光情報記録媒体。
5. 前記第１記録層および前記第２記録層は、トラックピッチ（Ｔｐ）が１８０ｎｍ〜２５０ｎｍの範囲で、溝深さ（Ｄｐ）が２５ｎｍ〜３５ｎｍの範囲である記録溝を有することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。

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