JP2009048923A - ディスプレイパネルの製造方法、および、サンドブラスト装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】切削材の有効利用を容易に図れるとともに、高精細に加工できるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】背面基板上に形成された構造物形成用材料層を切削して、隔壁を形成する材料層切削工程において、第1の切削材K1により構造物形成用材料層を切削する第1の切削工程と、この第1の切削材K1と異なる粒度分布を有する第2の切削材K2により構造物形成用材料層を切削する第2の切削工程と、を実施する。このため、従来一般的に利用されていた粒径を有する第1の切削材K1に加えて、この第1の切削材K1よりも粒径が小さく従来廃棄されていた第2の切削材K2も切削に利用するので、切削材Kの有効利用を図ることができる。
【選択図】図2
【解決手段】背面基板上に形成された構造物形成用材料層を切削して、隔壁を形成する材料層切削工程において、第1の切削材K1により構造物形成用材料層を切削する第1の切削工程と、この第1の切削材K1と異なる粒度分布を有する第2の切削材K2により構造物形成用材料層を切削する第2の切削工程と、を実施する。このため、従来一般的に利用されていた粒径を有する第1の切削材K1に加えて、この第1の切削材K1よりも粒径が小さく従来廃棄されていた第2の切削材K2も切削に利用するので、切削材Kの有効利用を図ることができる。
【選択図】図2
Description
本発明は、ディスプレイパネルの製造方法、および、サンドブラスト装置に関する。
プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel:PDP)を含むフラットパネルディスプレイ業界において、フルHD(Full High Definition)を含む高精細化の流れは非常に大きい。
一般的に、PDPの隔壁は、高精細に形成するために、いわゆるサンドブラストを利用して形成されている(例えば、特許文献1参照)。
一般的に、PDPの隔壁は、高精細に形成するために、いわゆるサンドブラストを利用して形成されている(例えば、特許文献1参照)。
この特許文献1に記載のものは、第一分級装置により、基板の加工に利用された研削物および被研削物の混合粉体に含まれる微粉を分離する。また、第二分級装置により、この微粉が除去された混合粉体に含まれる粗大物や被切削物の凝集体を分級する。さらに、第三分級装置により、第一および第二分級装置で除去しきれなかった研削材以外の残存粉体を除去する。そして、この残存粉体が除去された混合粉体、すなわち研削材を基板加工室へ供給して、基板に噴射する構成が採られている。
しかしながら、特許文献1に記載のような構成では、粗大物、被切削物の凝集体、残存粉体、微粉を廃棄しているため、切削材が有効利用されていないおそれがあるという問題点が一例として挙げられる。
本発明は、上記のような問題に鑑みて、切削材の有効利用を容易に図れるとともに、高精細加工が可能なディスプレイパネルの製造方法、および、サンドブラスト装置を提供することを1つの目的とする。
請求項1に記載の発明は、基板上に構造物形成用材料層を形成する材料層形成工程と、開口部分を備えたサンドブラスト用のマスクパターンを前記構造物形成用材料層の上に形成するマスクパターン形成工程と、切削材を分散させた噴流を前記マスクパターンの前記開口部分を介して前記構造物形成用材料層に噴射して切削する材料層切削工程と、を含むディスプレイパネルの製造方法であって、前記材料層切削工程は、前記構造物形成用材料層を、第1の粒度分布を有する第1の前記切削材により切削する第1の切削工程と、第1の粒度分布とは異なる第2の粒度分布を有する第2の前記切削材により切削する第2の切削工程とを含むことを特徴とするディスプレイパネルの製造方法である。
請求項6に記載の発明は、基板上に形成された構造物形成用材料層に対し、開口部分を備えたサンドブラスト用のマスクパターンを介して、切削材を分散させた噴流を噴射して、前記構造物形成用材料層を切削するサンドブラスト装置であって、前記切削材を供給する材料供給手段と、この材料供給手段から供給される前記切削材を遠心分離して、第1の粒度分布を有する第1の切削材を分級する第1の遠心分離機と、この第1の遠心分離機で分級された前記第1の切削材の前記噴流を噴射して、前記構造物形成用材料層を切削する第1の切削材噴射手段と、前記第1の遠心分離機において前記第1の切削材が分級されて除かれた前記切削材を遠心分離して、前記第1の切削材に比して小さい粒径の切削材を多く含む第2の粒度分布を有する第2の切削材を分級する第2の遠心分離機と、この第2の遠心分離機で分級された前記第2の切削材の前記噴流を噴射して、前記構造物形成用材料層を切削する第2の切削材噴射手段と、を具備したことを特徴とするサンドブラスト装置である。
以下に、本発明に係る一実施形態を図面に基づいて説明する。本実施形態では、サンドブラスト加工にてプラズマディスプレイパネル(PDP)の背面板となる基板に隔壁を形成するサンドブラスト装置を例示して説明するがこれに限られない。
[PDPの構成]
まず、PDPの構成について説明する。
図1は、PDPの内部構造を示す分解斜視図である。
まず、PDPの構成について説明する。
図1は、PDPの内部構造を示す分解斜視図である。
図1において、800はストライプ状の隔壁を備えたPDPである。このPDP800は、放電空間801を介して、前面基板810と背面基板820とが対向配置された構成を有している。
前面基板810の内面側には、複数の透明電極811、複数のバス電極812、複数のブラックストライプ813、誘電体層814、および、保護膜815がそれぞれ設けられている。
背面基板820の内面側には、複数のアドレス電極821がそれぞれ平行に設けられている。また、これらアドレス電極821を覆うように、アドレス保護層822が設けられている。さらに、このアドレス保護層822の上には、ストライプ形状の隔壁823が設けられている。そして、この隔壁823により形成された複数個の放電セル824の内部には、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の蛍光体層(825R,825G,825B)が順に形成されている。
放電空間801の内部、すなわちそれぞれの放電セル824の内部は、ネオンガスなどの放電ガスが充填され、外気との間で密閉されている。
前面基板810の内面側には、複数の透明電極811、複数のバス電極812、複数のブラックストライプ813、誘電体層814、および、保護膜815がそれぞれ設けられている。
背面基板820の内面側には、複数のアドレス電極821がそれぞれ平行に設けられている。また、これらアドレス電極821を覆うように、アドレス保護層822が設けられている。さらに、このアドレス保護層822の上には、ストライプ形状の隔壁823が設けられている。そして、この隔壁823により形成された複数個の放電セル824の内部には、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の蛍光体層(825R,825G,825B)が順に形成されている。
放電空間801の内部、すなわちそれぞれの放電セル824の内部は、ネオンガスなどの放電ガスが充填され、外気との間で密閉されている。
[サンドブラスト装置の構成]
次に、サンドブラスト装置の構成について、図面に基づいて説明する。
図2は、サンドブラスト装置の概略構成を示す模式図である。図3は、切削材の粒度分布を示すグラフである。
次に、サンドブラスト装置の構成について、図面に基づいて説明する。
図2は、サンドブラスト装置の概略構成を示す模式図である。図3は、切削材の粒度分布を示すグラフである。
図2において、100はサンドブラスト装置である。このサンドブラスト装置100は、PDP800の背面基板820に設けられた図示しない構造物形成用材料層をサンドブラスト加工で切削することにより隔壁823を形成する。具体的には、例えば図3に示すような粒度分布を有する切削材Kを、中心粒径よりも大きい粒径の切削材Kを多く含む第1の粒度分布を有する第1の切削材K1と、この第1の切削材K1よりも小さい粒径の切削材Kを多く含む第2の粒度分布を有する第2の切削材K2と、この第2の切削材K2よりも小さい粒径の切削材Kを含む廃材と、に分級する。
なお、切削材Kとしては、比重の大きなガラスビーズ、SiC、SiO2、Al2O3、ZrO2などを用いることができる。
また、第1の切削材K1は、従来一般的に利用されていた切削材と同様の粒径を有し、第2の切削材K2は、従来廃棄された切削材と同様の粒径を有している。例えば、第1の切削材K1は、20μm程度の粒径のものを主に含み、第2の切削材K2は、10μm程度の粒径のものを主に含んでいる。
そして、サンドブラスト装置100は、第1の切削材K1を用いて構造物形成用材料層を粗く切削した後に、第2の切削材K2を用いて仕上げ切削することにより隔壁823を形成する。
このサンドブラスト装置100は、サンドブラスト加工を実施するサンドブラスト加工部200と、このサンドブラスト加工部200に第1,第2の切削材K1,K2を供給する切削材供給部300と、などを備えている。
なお、切削材Kとしては、比重の大きなガラスビーズ、SiC、SiO2、Al2O3、ZrO2などを用いることができる。
また、第1の切削材K1は、従来一般的に利用されていた切削材と同様の粒径を有し、第2の切削材K2は、従来廃棄された切削材と同様の粒径を有している。例えば、第1の切削材K1は、20μm程度の粒径のものを主に含み、第2の切削材K2は、10μm程度の粒径のものを主に含んでいる。
そして、サンドブラスト装置100は、第1の切削材K1を用いて構造物形成用材料層を粗く切削した後に、第2の切削材K2を用いて仕上げ切削することにより隔壁823を形成する。
このサンドブラスト装置100は、サンドブラスト加工を実施するサンドブラスト加工部200と、このサンドブラスト加工部200に第1,第2の切削材K1,K2を供給する切削材供給部300と、などを備えている。
サンドブラスト加工部200は、加工室210と、基板搬送手段としての複数の搬送ローラ220と、ブラストキャビネット230と、第1の切削材噴射手段としての第1のブラストガン240と、第2の切削材噴射手段としての第2のブラストガン250と、を備えている。
加工室210は、その内部で実際にサンドブラスト加工が行われる筐体である。この加工室210は、背面基板820が搬入される搬入窓211、背面基板820が搬出される搬出窓212が形成されている。この加工室210の底部には排出部213が設けられており、加工屑は、排出部213を介して排出される。この排出部213は、後述する連絡管312に連通された連結管311に接続されている。
搬送ローラ220は、水平面において背面基板820の搬送方向に対して垂直に設けられている。これにより、背面基板820の搬送方向と平行な搬送ラインが形成される。
ブラストキャビネット230は、加工室210および加工室210に対して背面基板820の搬送方向下流側に設けられたバッファ室231の全体を囲う筐体であり、加工室210およびバッファ室231に飛散した加工屑を回収する。このブラストキャビネット230には、背面基板820を搬出する搬出窓232が形成されている。
搬送ローラ220による搬送ラインは、搬入窓211、搬出窓212,232を貫通するように形成される。
搬送ローラ220による搬送ラインは、搬入窓211、搬出窓212,232を貫通するように形成される。
第1のブラストガン240は、加工室210内における搬入窓211近傍に設けられている。また、第2のブラストガン250は、第1のブラストガン240に対して搬出窓212側、つまり背面基板820の搬送方向下流側に設けられている。そして、第1,第2のブラストガン240,250は、背面基板820の搬送方向と略直交する方向に移動しながら第1,第2の切削材K1,K2をそれぞれ噴射する。
切削材供給部300は、材料供給手段としての材料供給タンク310と、分離フィルタ320と、第1の切削材分級部330と、第2の切削材分級部340と、集塵部350と、を備えている。
材料供給タンク310は、連絡管312により分離フィルタ320に連結され、この分離フィルタ320を介して第1の切削材分級部330へ新しい切削材Kを供給する。
分離フィルタ320は、加工室210の排出部213より排出された加工屑に混入した他の異物を除去するためのフィルタである。この分離フィルタ320によって異物を除去・回収された加工屑は、連絡管321を介して第1の切削材分級部330へと移送される。
第1の切削材分級部330は、第1の遠心分離機331と、第1の切削材タンク332と、第1の定量供給装置333と、を備えている。
また、第2の切削材分級部340は、第2の遠心分離機341と、第2の切削材タンク342と、第2の定量供給装置343と、を備えている。
また、第2の切削材分級部340は、第2の遠心分離機341と、第2の切削材タンク342と、第2の定量供給装置343と、を備えている。
第1,第2の遠心分離機331,341は、いわゆるサイクロン方式の遠心分離機である。
第1の遠心分離機331は、分離フィルタ320を介して移送される切削材Kおよび加工屑を、第1の切削材K1と、第2の切削材K2および廃材と、に分級する。この第1の切削材K1は、連絡管334を介して第1の切削材タンク332へ移送される。また、第2の切削材K2および廃材は、連絡管335を介して第2の遠心分離機341へ移送される。
第2の遠心分離機341は、第1の遠心分離機331からの移送物を、第2の切削材K2と、廃材と、に分級する。この第2の切削材K2は、連絡管344を介して第2の切削材タンク342へ移送される。また、廃材は、連絡管345を介して集塵部350へ移送される。
第1の遠心分離機331は、分離フィルタ320を介して移送される切削材Kおよび加工屑を、第1の切削材K1と、第2の切削材K2および廃材と、に分級する。この第1の切削材K1は、連絡管334を介して第1の切削材タンク332へ移送される。また、第2の切削材K2および廃材は、連絡管335を介して第2の遠心分離機341へ移送される。
第2の遠心分離機341は、第1の遠心分離機331からの移送物を、第2の切削材K2と、廃材と、に分級する。この第2の切削材K2は、連絡管344を介して第2の切削材タンク342へ移送される。また、廃材は、連絡管345を介して集塵部350へ移送される。
第1,第2の切削材タンク332,342は、第1,第2の遠心分離機331,341でそれぞれ分級された第1,第2の切削材K1,K2を回収し、連絡管336,346を介して第1,第2の定量供給装置333,343へそれぞれ移送する。なお、第1、第2の切削材タンク332,342の内部に図示しないヒータを設け、タンク内部をドライ化してもよい。
第1,第2の定量供給装置333,343は、第1,第2の切削材タンク332,342からそれぞれ移送された第1,第2の切削材K1,K2を定量調整してから、連絡管337,347を介して、第1,第2のブラストガン240,250にそれぞれ加圧供給する。
集塵部350は、ファン351と、集塵機352と、を備えている。
ファン351は、連絡管345に設けられている。このファン351は、廃材を吸引し、集塵機352へと移送する。
集塵機352は、ファン351を介して移送される廃材を回収する。この集塵機352で回収された廃材を、省資源化の観点から再使用してもよい。
ファン351は、連絡管345に設けられている。このファン351は、廃材を吸引し、集塵機352へと移送する。
集塵機352は、ファン351を介して移送される廃材を回収する。この集塵機352で回収された廃材を、省資源化の観点から再使用してもよい。
[PDPの製造方法]
次に、サンドブラスト装置100を用いたPDP800の製造方法として、背面基板820の製造方法について説明する。
次に、サンドブラスト装置100を用いたPDP800の製造方法として、背面基板820の製造方法について説明する。
まず、サンドブラスト装置100を用いたサンドブラスト加工を行う前工程において、背面基板820上に複数のアドレス電極821を形成する。そして、これらアドレス電極821を覆うように構造物形成用材料層を形成する(材料層形成工程)。なお、構造物形成用材料層の形成には、比重の小さな低融点ガラスを用いることができる。
さらに、この構造物形成用材料層上に、隔壁823の形状に対応する開口部分が形成されたマスクパターンを形成する(マスクパターン形成工程)。
この後、サンドブラスト装置100により、第1,第2の切削材K1,K2を分散させた噴流を、マスクパターンの開口部分を介して、構造物形成用材料層に噴射して切削し、隔壁823を形成する(材料層切削工程)。
さらに、この構造物形成用材料層上に、隔壁823の形状に対応する開口部分が形成されたマスクパターンを形成する(マスクパターン形成工程)。
この後、サンドブラスト装置100により、第1,第2の切削材K1,K2を分散させた噴流を、マスクパターンの開口部分を介して、構造物形成用材料層に噴射して切削し、隔壁823を形成する(材料層切削工程)。
この材料層切削工程において、サンドブラスト装置100は、搬送ローラ220上に載置された背面基板820を、加工室210の搬入窓211を経由させて、加工室210の内部へと搬送する。
また、サンドブラスト装置100は、第1の遠心分離機331により、材料供給タンク310および排出部213からの切削材Kおよび加工屑を第1の切削材K1と、第2の切削材K2および廃材と、に分級する。そして、背面基板820の被処理面に向けて、第1のブラストガン240から第1の切削材K1を噴射させる。第1のブラストガン240は、背面基板820の移動に連動して背面基板820の幅方向に往復して揺動し、背面基板820の被処理面の一端から他端へかけて漏れなく第1の切削材K1を噴射し、背面基板820のマスクパターンにより被覆されていない構造物形成用材料層を粗く切削する(第1の切削工程)。
また、サンドブラスト装置100は、第1の遠心分離機331により、材料供給タンク310および排出部213からの切削材Kおよび加工屑を第1の切削材K1と、第2の切削材K2および廃材と、に分級する。そして、背面基板820の被処理面に向けて、第1のブラストガン240から第1の切削材K1を噴射させる。第1のブラストガン240は、背面基板820の移動に連動して背面基板820の幅方向に往復して揺動し、背面基板820の被処理面の一端から他端へかけて漏れなく第1の切削材K1を噴射し、背面基板820のマスクパターンにより被覆されていない構造物形成用材料層を粗く切削する(第1の切削工程)。
さらに、サンドブラスト装置100は、第2の遠心分離機341により、第1の遠心分離機331からの移送物を、第2の切削材K2と、廃材と、に分級する。そして、第1のブラストガン240により粗く切削された背面基板820の被処理面に向けて、第2のブラストガン250から第2の切削材K2を噴射させる。第2のブラストガン250は、第1のブラストガン240と同様に揺動し、背面基板820の被処理面の一端から他端へかけて漏れなく第2の切削材K2を噴射し、背面基板820のマスクパターンにより被覆されていない構造物形成用材料層を仕上げ切削する(第2の切削工程)。
そして、背面基板820が矢印Y1の方向に搬送され、搬出窓212に到達するまでに、背面基板820の被処理面の全面に対して、第1の切削材K1による粗切削をした後に、第2の切削材K2による仕上げ切削をするサンドブラスト加工が行われ、隔壁823が形成される。この後、背面基板820は、搬出窓212からバッファ室231に搬送され、このバッファ室231において付着した加工屑が除去される。そして、背面基板820は、搬出窓232からブラストキャビネット230の外側に搬出され、一連のサンドブラスト加工が完了する。
この後、背面基板820からマスクパターンを剥離する工程へと進む。
この後、背面基板820からマスクパターンを剥離する工程へと進む。
[実施形態の作用効果]
以上の構成の一実施形態によれば、以下の作用効果が期待できる。
以上の構成の一実施形態によれば、以下の作用効果が期待できる。
(1)背面基板820上に形成された構造物形成用材料層を切削して、隔壁823を形成する材料層切削工程において、第1の切削材K1により構造物形成用材料層を切削する第1の切削工程と、この第1の切削材K1と異なる粒度分布を有する第2の切削材K2により構造物形成用材料層を切削する第2の切削工程と、を実施する。
このため、従来一般的に利用されていた粒径を有する第1の切削材K1に加えて、この第1の切削材K1よりも粒径が小さく従来廃棄されていた第2の切削材K2も切削に利用するので、切削材Kの有効利用を容易に図れるとともに、高精細に加工できる。
このため、従来一般的に利用されていた粒径を有する第1の切削材K1に加えて、この第1の切削材K1よりも粒径が小さく従来廃棄されていた第2の切削材K2も切削に利用するので、切削材Kの有効利用を容易に図れるとともに、高精細に加工できる。
(2)第1の切削材K1を利用する第1の切削工程を行った後に、第2の切削材K2を利用する第2の切削工程を実行する。具体的には、第1のブラストガン240に対して背面基板820の搬送方向下流側に第2のブラストガン250を設け、第1,第2のブラストガン240,250から第1,第2の切削材K1,K2をそれぞれ噴射する構成としている。
ここで、粒径が大きい第1の切削材K1を利用する場合、マスクパターンの開口部分に噴射される単位面積あたりの量は、第2の切削材K2と比べて少なくなる。このため、第1の切削材K1を用いて形成された隔壁823の幅寸法は、第2の切削材K2を用いて形成されたものと比べて、大きくなってしまう。よって、第2の切削材K2により細かく切削をした後に、第1の切削材K1により粗く切削すると、高精細に形成された隔壁823を得ることができないおそれがある。
これに対して、本実施形態では、第1の切削材K1による粗切削の後に、第2の切削材K2による仕上げ切削を実行するので、形成された隔壁823を得ることができる。
ここで、粒径が大きい第1の切削材K1を利用する場合、マスクパターンの開口部分に噴射される単位面積あたりの量は、第2の切削材K2と比べて少なくなる。このため、第1の切削材K1を用いて形成された隔壁823の幅寸法は、第2の切削材K2を用いて形成されたものと比べて、大きくなってしまう。よって、第2の切削材K2により細かく切削をした後に、第1の切削材K1により粗く切削すると、高精細に形成された隔壁823を得ることができないおそれがある。
これに対して、本実施形態では、第1の切削材K1による粗切削の後に、第2の切削材K2による仕上げ切削を実行するので、形成された隔壁823を得ることができる。
(3)図3に示すような粒度分布を有する切削材Kを分級して、第1,第2の切削材K1,K2として用いている。
ここで、一般的に、粒径が小さい切削材は、単価が高い。さらに、回収効率が悪いため、使用量が多くなり、コストアップしてしまうおそれがある。
これに対して、本実施形態では、切削材Kを準備するだけで、第1,第2の切削材K1,K2を得ることができ、材料納入コストの上昇を抑制できる。
ここで、一般的に、粒径が小さい切削材は、単価が高い。さらに、回収効率が悪いため、使用量が多くなり、コストアップしてしまうおそれがある。
これに対して、本実施形態では、切削材Kを準備するだけで、第1,第2の切削材K1,K2を得ることができ、材料納入コストの上昇を抑制できる。
(4)切削材K1を、第1,第2の遠心分離機331,341により分級して、第1,第2の切削材K1,K2を得ている。
このため、例えば篩を利用する構成と比べて、より容易に第1,第2の切削材K1,K2を得ることができる。
このため、例えば篩を利用する構成と比べて、より容易に第1,第2の切削材K1,K2を得ることができる。
(5)切削材K1を遠心分離する構成として、サイクロン方式の第1,第2の遠心分離機331,341を用いている。
このため、より高い精度で第1,第2の切削材K1,K2を分級できる。
このため、より高い精度で第1,第2の切削材K1,K2を分級できる。
[他の実施形態]
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、図4に示すような構成としてもよい。
この図4に示す構成は、図2に示すサンドブラスト装置100に、分級手段としての分級フィルタ500を設けた構成を有している。
この分級フィルタ500は、第1,第2の切削材回収移送手段としての第1,第2の切削材タンク332,342の間に配設された連絡管501に設けられている。また、分級フィルタ500は、第2の切削材K2の径寸法と略等しいメッシュを有し、第1の切削材タンク332で回収された第1の切削材K1から第2の切削材K2を分級して、第2の切削材タンク342へ供給する。
このような構成にすれば、第2の遠心分離機341および第1の切削材タンク332から、第2の切削材タンク342へ第2の切削材K2を供給できる。したがって、第2の切削材タンク342が空になって、仕上げ切削できない不具合を抑制できる。
この図4に示す構成は、図2に示すサンドブラスト装置100に、分級手段としての分級フィルタ500を設けた構成を有している。
この分級フィルタ500は、第1,第2の切削材回収移送手段としての第1,第2の切削材タンク332,342の間に配設された連絡管501に設けられている。また、分級フィルタ500は、第2の切削材K2の径寸法と略等しいメッシュを有し、第1の切削材タンク332で回収された第1の切削材K1から第2の切削材K2を分級して、第2の切削材タンク342へ供給する。
このような構成にすれば、第2の遠心分離機341および第1の切削材タンク332から、第2の切削材タンク342へ第2の切削材K2を供給できる。したがって、第2の切削材タンク342が空になって、仕上げ切削できない不具合を抑制できる。
また、第2の切削材K2で切削した後に、第1の切削材K1で切削する構成としてもよい。
さらに、第1,第2の遠心分離機331,341のうちの少なくともいずれか一方に、篩を適用してもよい。
そして、さらにブラストガンを増やしてもよい。このブラストガンを増やす構成において、ブラストガンの数に対応する遠心分離機を設け、ブラストガンごとに異なる粒径の切削材を噴射する構成としてもよい。
さらに、第1,第2の遠心分離機331,341のうちの少なくともいずれか一方に、篩を適用してもよい。
そして、さらにブラストガンを増やしてもよい。このブラストガンを増やす構成において、ブラストガンの数に対応する遠心分離機を設け、ブラストガンごとに異なる粒径の切削材を噴射する構成としてもよい。
また、連絡管321に大型材料除去用の遠心分離機を設け、この遠心分離機で大型材料が除去された切削材K1などを第1の遠心分離機331に供給してもよい。
そして、第2の切削材K2を安定的に入手できる場合、第2の切削材タンク342へ直接的に第2の切削材K2を供給する構成を設けることにより、安定的にかつ第2の切削材K2の使用量を多くすることなく、理想の加工形態を得ることができる。
そして、第2の切削材K2を安定的に入手できる場合、第2の切削材タンク342へ直接的に第2の切削材K2を供給する構成を設けることにより、安定的にかつ第2の切削材K2の使用量を多くすることなく、理想の加工形態を得ることができる。
その他、本発明の実施の際の具体的な構造及び手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造などに適宜変更できる。
[実施形態の作用効果]
上記したように、背面基板820上に形成された構造物形成用材料層を切削して、隔壁823を形成する材料層切削工程において、第1の切削材K1により構造物形成用材料層を切削する第1の切削工程と、この第1の切削材K1と異なる粒度分布を有する第2の切削材K2により構造物形成用材料層を切削する第2の切削工程と、を実施する。
このため、従来一般的に利用されていた粒径を有する第1の切削材K1に加えて、この第1の切削材K1よりも粒径が小さく従来廃棄されていた第2の切削材K2も切削に利用するので、切削材Kの有効利用を容易に図れるとともに、高精細に加工できる。
上記したように、背面基板820上に形成された構造物形成用材料層を切削して、隔壁823を形成する材料層切削工程において、第1の切削材K1により構造物形成用材料層を切削する第1の切削工程と、この第1の切削材K1と異なる粒度分布を有する第2の切削材K2により構造物形成用材料層を切削する第2の切削工程と、を実施する。
このため、従来一般的に利用されていた粒径を有する第1の切削材K1に加えて、この第1の切削材K1よりも粒径が小さく従来廃棄されていた第2の切削材K2も切削に利用するので、切削材Kの有効利用を容易に図れるとともに、高精細に加工できる。
100…サンドブラスト装置
220…基板搬送手段としての搬送ローラ
240…第1の切削材噴射手段としての第1のブラストガン
250…第2の切削材噴射手段としての第2のブラストガン
310…材料供給手段としての材料供給タンク
331,341…第1,第2の遠心分離機
500…分級手段としての分級フィルタ
K…切削材
K1,K2…第1,第2の切削材
220…基板搬送手段としての搬送ローラ
240…第1の切削材噴射手段としての第1のブラストガン
250…第2の切削材噴射手段としての第2のブラストガン
310…材料供給手段としての材料供給タンク
331,341…第1,第2の遠心分離機
500…分級手段としての分級フィルタ
K…切削材
K1,K2…第1,第2の切削材
Claims (8)
- 基板上に構造物形成用材料層を形成する材料層形成工程と、開口部分を備えたサンドブラスト用のマスクパターンを前記構造物形成用材料層の上に形成するマスクパターン形成工程と、切削材を分散させた噴流を前記マスクパターンの前記開口部分を介して前記構造物形成用材料層に噴射して切削する材料層切削工程と、を含むディスプレイパネルの製造方法であって、
前記材料層切削工程は、前記構造物形成用材料層を、第1の粒度分布を有する第1の前記切削材により切削する第1の切削工程と、第1の粒度分布とは異なる第2の粒度分布を有する第2の前記切削材により切削する第2の切削工程とを含む
ことを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。 - 請求項1に記載のディスプレイパネルの製造方法において、
前記第2の切削材は、前記第1の切削材に比して小さい粒径の切削材を多く含み、
前記構造物形成用材料層に対して前記第1の切削工程を行った後、前記第2の切削工程を実行する
ことを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。 - 請求項1または請求項2に記載のディスプレイパネルの製造方法において、
所定の粒度分布を有する切削材を分級して、前記第1の切削材および前記第2の切削材として用いる
ことを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。 - 請求項3に記載のディスプレイパネルの製造方法において、
前記第1の切削材および前記第2の切削材は、遠心分離機により分級される
ことを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。 - 請求項4に記載のディスプレイパネルの製造方法において、
前記遠心分離機は、サイクロン方式の遠心分離機である
ことを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。 - 基板上に形成された構造物形成用材料層に対し、開口部分を備えたサンドブラスト用のマスクパターンを介して、切削材を分散させた噴流を噴射して、前記構造物形成用材料層を切削するサンドブラスト装置であって、
前記切削材を供給する材料供給手段と、
この材料供給手段から供給される前記切削材を遠心分離して、第1の粒度分布を有する第1の切削材を分級する第1の遠心分離機と、
この第1の遠心分離機で分級された前記第1の切削材の前記噴流を噴射して、前記構造物形成用材料層を切削する第1の切削材噴射手段と、
前記第1の遠心分離機において前記第1の切削材が分級されて除かれた前記切削材を遠心分離して、前記第1の切削材に比して小さい粒径の切削材を多く含む第2の粒度分布を有する第2の切削材を分級する第2の遠心分離機と、
この第2の遠心分離機で分級された前記第2の切削材の前記噴流を噴射して、前記構造物形成用材料層を切削する第2の切削材噴射手段と、
を具備したことを特徴とするサンドブラスト装置。 - 請求項6に記載のサンドブラスト装置において、
前記基板を搬送する基板搬送手段を具備し、
前記第2の切削材噴射手段は、前記第1の切削材噴射手段よりも前記基板の搬送方向下流側に配設され、前記第1の切削材の噴流で切削された前記構造物形成用材料層に対して前記第2の切削材の噴流を噴射する
ことを特徴とするサンドブラスト装置。 - 請求項6または請求項7に記載のサンドブラスト装置において、
前記第1の遠心分離機および前記第1の切削材噴射手段の間に設けられ、前記第1の遠心分離機からの前記第1の切削材を回収するとともに、この回収した第1の切削材を前記第1の切削材噴射手段へ移送する第1の切削材回収移送手段と、
前記第2の遠心分離機および前記第2の切削材噴射手段の間に設けられ、前記第2の遠心分離機からの前記第2の切削材を回収するとともに、この回収した第2の切削材を前記第2の切削材噴射手段へ移送する第2の切削材回収移送手段と、
前記第1の切削材回収移送手段および前記第2の切削材回収移送手段の間に設けられ、前記第1の切削材回収移送手段で回収された前記第1の切削材から前記第2の切削材を分級して前記第2の切削材回収移送手段へ供給する分級手段と、
を具備したことを特徴とするサンドブラスト装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007215788A JP2009048923A (ja) | 2007-08-22 | 2007-08-22 | ディスプレイパネルの製造方法、および、サンドブラスト装置 |
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ID=40500949
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JP2007215788A Pending JP2009048923A (ja) | 2007-08-22 | 2007-08-22 | ディスプレイパネルの製造方法、および、サンドブラスト装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2009048923A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013224844A (ja) * | 2012-04-20 | 2013-10-31 | Taisei Corp | 除染装置 |
US11712781B2 (en) * | 2017-09-18 | 2023-08-01 | Grip Tread, Llc | Surfacing system for steel plate |
-
2007
- 2007-08-22 JP JP2007215788A patent/JP2009048923A/ja active Pending
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