JP2009048695A - インプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いたインプリント方法、並びに磁気記録媒体、及びその製造方法 - Google Patents

インプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いたインプリント方法、並びに磁気記録媒体、及びその製造方法 Download PDF

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正一 西川
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Abstract

【課題】インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに、記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体、及びその製造方法の提供。
【解決手段】円板状の基板と、該基板の一の表面上に、該表面を基準として円周方向に沿って複数の凸部が同心円状に配列されることによって形成されたデータ領域の凹凸部と、前記表面上に、該表面を基準として前記基板の略中心部から放射状に複数の凸部が配列されることによって形成されたサーボ領域の凹凸部とを有してなり、
前記データ領域の凹凸部における凹部と、前記サーボ領域の凹凸部における凸部間に形成された凹部とが連結されていることを特徴とするインプリント用モールド構造体等である。
【選択図】図2

Description

本発明は、インプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いたインプリント方法、並びに磁気記録媒体、及びその製造方法に関する。
近年、高速性やコストパフォーマンス性に優れたハードディスクドライブが、ストレージ機器の主力として、携帯電話、小型音響機器や、ビデオカメラなどのポータブル機器に搭載され始めている。
そして、ポータブル機器に搭載される記録デバイスとしてのシェアの拡大に伴い、より一層の小型大容量化という要求に応える必要があり、記録密度を向上させる技術が求められている。
前記ハードディスクドライブの記録密度を高めるためには、磁気記録媒体におけるデータトラック間隔の狭小化や、磁気ヘッドの幅を狭小化するという手法が従来より用いられてきた。
しかしながら、前記データトラック間隔を狭めることにより、隣接トラック間の磁気の影響(クロストーク)や、熱揺らぎの影響が無視できなくなり、記録密度に限界があった。一方、前記磁気ヘッドの幅を狭小化することによる面記録密度の向上にも限界があった。
そこで、前記クロストークによるノイズを解決する手段として、ディスクリートトラックメディアと呼ばれる形態の磁気記録媒体が提案されている。前記ディスクリートトラックメディアは、隣接するトラック間に非磁性のガードバンド領域を設けて個々のトラックを磁気的に分離したディスクリート構造とすることにより、隣接トラック間の磁気的干渉を低減したものである。
また、前記熱揺らぎによる減磁を解決する手段として、信号記録のための個々のビットを予め所定の形状パターンで備えたパターンドメディアと呼ばれる形態の磁気記録媒体が提案されている。
上記ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアを製造する際には、レジストパターン形成用モールド(「モールド」と称されることもある。)を用いて、磁気記録媒体の表面に形成されたレジスト層に所望のパターンを転写するインプリントリソグラフィー法(インプリントプロセス)が用いられる(特許文献1参照)。
このインプリントリソグラフィー法は、具体的には、加工対象となる基材上に、インプリントレジストとして、熱可塑性の樹脂、又は光硬化性の樹脂を塗布し、塗布された樹脂に対して、所望の形状に加工されたモールドを密着し、押圧して、前記樹脂を加熱、冷却、又は光照射により硬化させ、前記モールドを引き剥がすことで、該モールドに形成されたパターンに対応したパターンを形成し、このパターンをマスクとして用いてドライ、あるいはウェット方式のエッチングによるパターニングを行い、所望の磁気記録媒体を得る方法である。
また、前記インプリントリソグラフィー法については、ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアに超微細パターンを形成するための様々な検討がなされている(特許文献2〜3参照)。
しかしながら、上記プロセスによるディスクリートメディアや、パターンドメディアのパターン形成においては、部分的な狭い領域における均一なパターンの形成は良好であったが、メディア全面といった広範囲にわたって、均一なパターンを形成することは困難であるという問題があった。
ここで、サーボパターンの形成領域におけるバースト信号では、孤立するパターンが形成されることから、インプリント用モールド構造体による転写工程時に、レジストパターンの破損が発生しやすく、結果としてサーボ信号の精度が低下することを防ぐために、楕円形状のサーボパターンを形成する技術が提案されている(特許文献4参照)。
このようなサーボパターンの形状をなすインプリント用モールド構造体を用いることによって、メディア全面といった広範囲にわたって、均一なパターンを形成することが可能となると期待できるが、楕円形状のパターンでは、磁気記録信号が矩形状ではないため、磁気ヘッドでの信号読み出し時に信号出力低下、信号分解能が低下し、サーボ信号の精度が十分ではなかった。
したがって、磁気記録媒体の歩留まりを低下させ、磁気記録媒体の性能を著しく低下させるという結果を招かないためにも、広範囲で均一に転写が行われることによって、効率よく磁気記録媒体を製造する方法が望まれていた。
特開2004−221465号公報 特開2006−120299号公報 特開2005−71487号公報 特開2006−99932号公報
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体、及びその製造方法を提供することを目的とする。
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> 円板状の基板と、該基板の一の表面上に、該表面を基準として円周方向に沿って複数の凸部が同心円状に配列されることによって形成されたデータ領域の凹凸部と、前記表面上に、該表面を基準として前記基板の略中心部から放射状に複数の凸部が配列されることによって形成されたサーボ領域の凹凸部とを有してなり、
前記データ領域の凹凸部における凹部と、前記サーボ領域の凹凸部における凸部間に形成された凹部とが連結されていることを特徴とするインプリント用モールド構造体である。
該<1>に記載のインプリント用モールド構造体においては、磁気記録媒体の基板上に形成されたインプリントレジスト層に所望のパターンを転写する際に、押圧されたインプリントレジストを逃がす流路が、データ領域の凹凸部における凹部と、サーボ領域の凹凸部における凹部との連結によって拡大されているので、押圧する際の圧力が均一化し、凹部(パターン)の形状に伴う局所的な転写不良が生じにくい。具体的には、データ領域の凹部を流路としてインプリントレジストが、サーボ領域側に流入する際、サーボ領域におけるデータ領域に隣接する凸部が堤防のように立ちはだかっていないため、前記インプリントレジストは、サーボ領域内の凹部に流入することができ、押圧する際の圧力が均一化し、凹部(パターン)の形状に伴う局所的な転写不良が生じにくい。したがって、インプリントレジスト層の全面に亘って、スムーズかつ確実なパターンの転写を行うことができる。
<2> 基板の表面の法線方向における少なくともデータ領域に隣接するサーボ領域の一の凸部の角部の形状が曲線を含み、該曲線の曲率半径(R1)が、半径方向における前記凸部の寸法dTPの5%〜30%である前記<1>に記載のインプリント用モールド構造体である。
<3> 少なくともデータ領域に隣接するサーボ領域の一の凸部が、その円周方向における両側の凹部を連結する貫通孔を有する前記<1>に記載のインプリント用モールド構造体である。
<4> サーボ領域の凹凸部における一の凸部の半径方向における断面形状が曲線を含み、該曲線の曲率半径(R2)が、サーボ領域の凹凸部における凸部の高さdの2%〜30%である前記<3>に記載のインプリント用モールド構造体である。
<5> サーボ領域の凹凸部における一の凸部の半径方向における断面形状が、台形状である前記<3>に記載のインプリント用モールド構造体である。
<6> 前記<1>から<5>のいずれかに記載のインプリント用モールド構造体を、磁気記録媒体の基板上に形成されたインプリントレジスト組成物よりなるインプリントレ磁気記録媒体の基板上に形成されたインプリントレジスト組成物よりなるインプリントレジスト層に押圧して前記インプリント用モールド構造体上に形成された凹凸部に基づく凹凸パターンを転写する転写工程を少なくとも含むことを特徴とするインプリント方法である。
<7> インプリントレジスト組成物の粘度(P)が、0.5〜10mPa・sであり、サーボ領域において弧状をなす凸部の各角部の曲率半径をR1とし、前記サーボ領域におけるデータ領域に隣接する凸部の半径方向における断面形状が、曲線部を有し、該曲線部の曲率半径をR2としたとき、下記数式(1)を満たす前記<6>に記載のインプリント方法である。
0.5≦R1・R2/P<150・・・・・・・・・・・数式(1)
<8> 前記<1>から<5>のいずれかに記載のインプリント用モールド構造体を、磁気記録媒体基板上に形成されたインプリントレジスト層に押圧して前記インプリント用モールド構造体上に形成された凹凸部に基づく凹凸パターンを転写する転写工程と、
前記凹凸パターンが転写されたインプリントレジスト層をマスクにして、前記磁気記録媒体の基板の表面に形成された磁性層をエッチングして、インプリント用モールド構造体上に形成された前記データ領域の凹凸部のパターン形状に基づくデータ領域の磁性パターン部、及び前記サーボ領域の凹凸部のパターン形状に基づくサーボ領域の磁性パターン部を前記磁性層に形成する磁性パターン部形成工程と、
前記磁性層上に形成された凹部に非磁性材料を埋め込む非磁性パターン部形成工程と、
を少なくとも含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
<9> インプリントレジスト組成物の粘度(P)が、0.5〜10mPa・sであり、サーボ領域において弧状をなす凸部の各角部の曲率半径をR1とし、前記サーボ領域におけるデータ領域に隣接する凸部の半径方向における断面形状が、曲線部を有し、該曲線部の曲率半径をR2としたとき、上記数式(1)を満たす前記<8>に記載の磁気記録媒体の製造方法である。
<10> 前記<8>から<9>のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法によって製造されたことを特徴とする磁気記録媒体である。
本発明によると、インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体、及びその製造方法を提供することができる。
以下、本発明のインプリント用モールド構造体について図面を参照して説明する。
(インプリント用モールド構造体)
図1は、本発明のインプリント用モールド構造体の概略構成を示す平面図である。また、図2は、本発明のインプリント用モールド構造体の構成を示す平面図であり、図3A〜Dは、図2におけるA−A断面図である。
図1〜2に示すように、インプリント用モールド構造体1は、加工対象物(例えば、後述する図5におけるインプリントレジスト25)を押圧するものであり、円板状をなす基板2と、基板2の一の表面2a上に、該表面2aを基準として同心円状に、所定の間隔で複数の凸部5(図2中、ハッチングで表示)が配列されることによって形成されたデータ領域の凹凸部3と、表面2a上に、該表面2aを基準として複数の凸部8(図2中、ハッチングで表示)が半径方向に所定の間隔で配列されることによって形成されたサーボ領域の凹凸部6とを少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の部材を備える。
ここで、基板2の表面2a上において、データ領域の凹凸部3が形成された領域は、データ領域110であり、サーボ領域の凹凸部6が形成された領域は、サーボ領域120である。また、図1に示すように、サーボ領域の凹凸部形成領域120は、データ領域の凹凸部形成領域110に挟まれるように、円周方向において略等間隔で複数形成されている。
また、サーボ領域120は、プリアンブル部121、アドレス部122、及びバースト部123に分けられる。
プリアンブル部121は、再生信号のクロックを同期させるための情報が記録された領域である。
具体的には、磁気記録媒体100の回転偏心等により生ずる時間ズレに対し、サーボ信号再生用クロックを同期させるPLL処理や、信号再生振幅を適正に保つAGC処理を行うために設けられている。
このプリアンブル部121は、少なくとも基板2の半径方向に略円弧放射状に連続しているとともに基板2の円周方向に凹凸しパターンがほぼ1:1の幅比で形成されている。
アドレス部122は、サーボマークと呼ばれるサーボ信号認識コード、セクタ情報、シリンダ情報等が、プリアンブル部121の円周方向におけるピッチと同一のピッチで、マンチェスタコードにより形成された領域である。
前記シリンダ情報は、サーボトラック毎にその情報が変化するパターンとなる。そのため、ヘッドシーク動作時のアドレス判読ミスの影響が小さくなる様に、グレイコード変換をしてから、マンチェスタコード化して記録されている。
バースト部123は、シリンダアドレスのオントラック状態からのオフトラック量を検出するためのオフトラック検出用領域で、更にA、B、C、Dバーストと呼ぶ4つの径方向にパターン位相をずらしたマークが形成されている。
各バーストには、周方向に複数個のマークがプリアンブル部と同一のピッチ周期で配置され、径方向周期は、アドレスパターンの変化周期に比例、換言すれば、データ、及びサーボトラック周期に比例した周期で設けられている。本実施形態では、各バーストは、周方向に10周期分形成され、径方向に、サーボトラック周期の2倍長周期で繰返すパターンを取っている。
また、データ領域の凹凸部3の凸部5の前記同心円の半径方向に直交する面における断面形状は、特に制限はなく、目的に応じて、後述するエッチング工程を制御することにより、任意の形状を適宜選択することができるが、例えば、略矩形をなしていることが好ましい。
<連結部>
本発明のインプリント用モールド構造体1は、図2に示すように、データ領域110における凹部4と、サーボ領域120における凹部7とが連結されていることが好ましい。
具体的には、プリアンブル部121、及びアドレス部122における凸部8が、格子状に複数形成され、その中でも、最もデータ領域側の凸部8が、半径方向に断続的に形成されていることが好ましい。なお、プリアンブル部121、及びアドレス部122において、最もデータ領域側の凸部の列(以下、端列ということがある。)以外の列を構成する凸部8は、半径方向に断続的に形成されている。
また、基板2の表面2aの法線方向から見たプリアンブル部121、及びアドレス部122の凸部8の形状(以下、凸部8の平面形状ということがある。)は、略矩形をなし、4つの角部が曲線部をなしていることが好ましい。
ここで、前記曲線部は、半径方向における凸部8の幅(いわゆるトラックピッチ)をdTPとしたとき、前記dTPの5%〜30%の寸法の曲率半径(R1)を有することがより好ましい。
したがって、プリアンブル部121、及びアドレス部122におけるデータ領域側の端列に配列された凸部8aは、前記端列に隣接する列を構成し、プリアンブル部121に関しては、隣接する凸部間に、アドレス部122においては、凸部8aの対角線方向(斜め方向)に位置する凸部8bとの間で間隙が形成される。この間隙と、端列において形成された凸部8,8間の間隙とが、データ領域110における凹部4と共に連結部9を形成する。
また、前記曲線部は、半径方向における凸部8の幅(いわゆるトラックピッチ)をdTPとしたとき、該dTPの5%〜30%の寸法の曲率半径(R1)を有することがより好ましい。このようにすることで、バースト部123のレジストパターンの損傷がなく、かつ信号品位を確保可能なレジストマスクの形成が可能になる。
加えて、プリアンブル部121、及びアドレス部122においては、最もデータ領域側に形成された凸部8cの平面形状は、半径方向に連続した帯状に形成されているが、図3A〜Dに示すように、凸部8cの円周方向における両側面を貫通する孔部9aが形成されている。該孔部9aが、プリアンブル部121における凹部7と、データ領域110における凹部4とを連結する連結部9として機能する。
孔部9aは、半径方向における該孔部9aの断面形状が曲線を有するように形成されてもよいし、半径方向における凸部8cの断面形状が複数の台形状となるように形成されてもよい。この場合、連結部9の半径方向における断面形状は、三角形状となる。
孔部9aの断面形状が曲線を有する場合、基板2の一方の面2aに対する凸部8cの高さをdとしたとき、該高さdの2%〜30%の寸法の曲率半径(R2)を有することが好ましい。なお、凸部8の高さdは、基板2の一方の面2aから法線方向に、当接面までの距離として定義される。前記当接面とは、図3A〜Dに示すように、インプリントモールド構造体1を、後述のインプリントレジスト25、及び磁性層50を表面に形成した基板40に押し付けた際に、磁性層50に当接する凸部8の頂部を指す。
このように、連結部を設けることによって、転写時に押圧され、データ領域の凹部を流路としてインプリントレジストが、サーボ領域側に流入する際、サーボ領域におけるデータ領域に隣接する凸部が堤防のように立ちはだかっていないため、前記インプリントレジストは、サーボ領域内の凹部に流入することができ、押圧する際の圧力が均一化し、凹部(パターン)の形状に伴う局所的な転写不良が生じにくい。したがって、インプリントレジスト層の全面に亘って、スムーズかつ確実なパターンの転写を行うことができる。
なお、上述したように、連結部9は、プリアンブル部121においては、孔部9aの形態が採用され、バースト部123においては、半径方向に断続的な複数の凸部8,8間に形成される凹部7の形態を採用したが、このような組み合わせに限定されるものではない。即ち、本発明における連結部9は、転写時に、データ領域110において円周方向に凹部4に沿って流動するインプリントレジストを遮断するように半径方向に設けられたデータ領域110に隣接する凸部に、前記インプリントレジストの流路が形成されていれば、特に制限はなく、データ領域110に隣接する凸部8の形状に応じて、孔部9aや凹部7の形態に適宜選択される。
例えば、プリアンブル部121、及びアドレス部122の端列に属する凸部8が半径方向に連続的に並ぶように複数設けられ、1つの凸部8の半径方向における断面形状が台形状であってもよい。即ち、プリアンブル部121、及びアドレス部122の端列の凸部8が錘台形状をなして、半径方向に連続して設けられてもよい。なお、本発明の特徴である凹部間の連結が、プリアンブル部121、及びアドレス部122とバースト部123とのいずれかに設けられる場合、バースト部123に採用するよりも、プリアンブル部121、及びアドレス部122に採用するほうが、より好ましい効果を奏すると考えられる。
また、以下の本実施形態の説明において、「断面(形状)」とは、特に断りがない限り、前記半径方向における断面(形状)を指す。
−その他の部材−
前記その他の部材としては、本発明の効果を害しない限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基板2上に層状に形成され、インプリントレジスト層に対して剥離機能を備えたモールド表層等が挙げられる。
<<インプリントレジスト層>>
前記インプリントレジスト層は、例えば、熱可塑性樹脂、及び光硬化性樹脂の少なくともいずれかを含有するインプリントレジスト組成物(以下、インプリントレジスト液ということがある。)を磁気記録媒体の基板に塗布することによって形成される層である。
インプリントレジスト層25としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、熱可塑性樹脂、及び光硬化性樹脂の少なくともいずれかを含有するインプリントレジスト組成物(以下、「インプリントレジスト液」ということがある。)を磁気記録媒体の基板40に塗布することによって形成される層である。また、インプリントレジスト層13を形成するインプリントレジスト組成物としては、例えば、ノボラック系樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、有機ガラス樹脂、無機ガラス樹脂などが用いられる。
前記インプリントレジスト層の厚さとしては、モールド1の表面2a上に形成される凸部の高さに対して5%以上、200%未満であることが好ましい。5%未満ではレジスト量が不足し、所望のレジストパターンを形成することができない。
インプリントレジスト層の厚さは、例えば、レジスト塗布基板より一部レジストを剥離、剥離後の段差をAFM装置(Dimension5000、日本ビーコ(株)製)にて測定することができる。
[インプリントレジスト組成物の粘度]
前記インプリントレジスト組成物の粘度は、例えば、超音波式粘度計などを用いて測定される。
本発明のインプリント用モールド構造体は、インプリントレジスト組成物の粘度をP(mPa・s)としたとき、下記数式(1)を満たすことが好ましい。
0.5≦R1・R2/P<150・・・・・・・・・・・・・数式(1)
ただし、上記数式(1)において、R1は、サーボ領域の凹凸部6において弧状をなす凹部7の各角部の曲率半径であり、R2は、サーボ領域の凹凸部6における凸部8の上部8aと、サーボ領域の凹凸部6における凸部8の側壁部8bとがなす弧状の連結部9の曲率半径である。また、インプリントレジスト組成物の粘度Pは、0.5〜10(mPa・s)が好ましい。
<インプリント用モールド構造体の作製方法>
以下、本発明に係るインプリント用モールド構造体の作製方法の例について図面を参照して説明する。なお、本発明に係るインプリント用モールド構造体は、下記以外の作製方法により作製されたものであってもよい。
―原盤の作製―
図4A〜Bは、インプリント用モールド構造体を示す断面図である。図4Aに示すように、まず、Si基板10上に、スピンコートなどでPMMAなどのフォトレジスト液を塗布し、フォトレジスト層21を形成する。
その後、Si基板10を回転させながら、サーボ信号に対応して変調したレーザー光(又は電子ビーム)を照射し、フォトレジスト全面に所定のパターン、例えば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光する。
その後、フォトレジスト層21を現像処理し、露光部分を除去して、除去後のフォトレジスト層21のパターンをマスクにしてRIEなどにより選択エッチングを行い、凹凸形状を有する原盤11を得る。
次に、図4Bに示すように、光硬化性樹脂を含有するインプリントレジスト液を塗布してなるインプリントレジスト層24が一方の面に形成された被加工基板30に対して、原盤11を押し当て、原盤11上に形成された凹凸部のパターンがインプリントレジスト層24に転写される。
ここで、前記被加工基板30の材料としては、光透過性を有し、インプリント用モールド構造体1として機能する強度を有する材料であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、石英(SiO)等が挙げられる。
また、前記「光透過性を有する」とは、具体的には、被加工基板30にインプリントレジスト層が形成される一の面から出射するように、被加工基板30の他の面から光を入射させた場合に、インプリントレジスト液が十分に硬化することを意味しており、少なくとも、前記他の面から前記一の面への波長200nm以上の光透過率が50%以上であることを意味する。
また、前記「インプリント用モールド構造体として機能する強度を有する」とは、磁気記録媒体の基板上に形成されたインプリントレジスト層に対して、平均面圧力が4kgf/cmという条件下で押し当て、加圧しても、剥離可能に破損しない強度を意味する。
――硬化工程――
その後、インプリントレジスト層24に紫外線などの光を照射して転写されたパターンを硬化させる。
――パターン形成工程――
その後、転写されたパターンをマスクにしてRIE(反応性イオンエッチング)などの選択エッチングを行い、図2に示すようなデータ領域の凹凸部3、及びサーボ領域の凹凸部4を有するモールド構造体1を得る。
(磁気記録媒体)
以下、本発明に係るインプリント用モールド構造体を用いて作製されたディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアなどの磁気記録媒体を、図面を参照して説明する。但し、本発明に係る磁気記録媒体は、本発明に係るインプリント用モールド構造体を用いて製造されていれば、下記の製造方法以外の製造方法により作製されたものであってもよい。
図5に示すように、磁性層50と、インプリントレジスト液を塗布してなるインプリントレジスト層25とがこの順に形成された磁気記録媒体の基板40に対して、モールド構造体1を押し当て、加圧することにより、モールド構造体1上に形成されたデータ領域の凹凸部3、及びサーボ領域の凹凸部6のパターンがインプリントレジスト層25に転写される。
ここで、磁気記録媒体の作製におけるインプリントレジスト層25は、磁気記録媒体の作製における転写工程における転写精度を損なわない限り、インプリント用モールド構造体の作製におけるインプリントレジスト層24と同じインプリントレジスト組成物を採用してもよい。
以下、特に断らない限り、インプリントレジスト層、及びインプリントレジスト組成物は、磁気記録媒体の作製におけるインプリントレジスト層25、及び該インプリントレジスト層25を形成するインプリントレジスト組成物を指すものとする。
その後、データ領域の凹凸部3、及びサーボ領域の凹凸部6のパターンが転写されたインプリントレジスト層25をマスクにして、RIEなどの選択エッチングを行い、モールド構造体1上に形成された凹凸部に基づく凹凸パターンを磁性層50に形成し、凹部に非磁性材料を埋め込んで非磁性層70を形成し、表面を平坦化した後、必要に応じて、保護膜などを形成して磁気記録媒体100を得る。
図6は、本発明の磁気記録媒体の構成を示す平面図である。
上記のようにして作製された本発明の磁気記録媒体は、図6に示すように、基板40の一の表面上に、同心円状に、所定の間隔で形成された複数のデータ領域の磁性パターン部51と、基板2の半径方向に所定の間隔で形成された複数のサーボ領域の磁性パターン部52とが非磁性層70によって隔たれて形成されている。
ここで、基板40の表面上において、データ領域の磁性パターン部51が形成された領域は、データ領域の磁性パターン部形成領域130であり、サーボ領域の磁性パターン部52が形成された領域は、サーボ領域の磁性パターン部形成領域140である。
このような構成において、サーボ領域の磁性パターン部形成領域140は、データ領域の磁性パターン部形成領域130に挟まれるように、円周方向において略等間隔で複数形成されている。
また、図6において、ハッチングで示されているように、本発明の磁気記録媒体は、データ領域の磁性パターン部51と、サーボ領域の磁性パターン部52とが連結されていることが好ましい。特に、データ領域の磁性パターン部51に連結されるサーボ領域の磁性パターン部52としては、サーボ領域の磁性パターン部形成領域140の各円周方向の配列(トラック)において、最もデータ領域の磁性パターン部形成領域130側に位置する磁性パターン部52が採用される。
なお、図示はされていないが、基板40は、インプリント用モールド構造体の基板2と同様の大きさの円板形状をなし、同様の大きさの孔部が略中心に形成されている。
本発明の磁気記録媒体においても、基板40の磁性層50が形成された側の面の法線から見たサーボ領域の磁性パターン部52の形状(以下、磁性パターン部52の平面形状ということがある。)は、略矩形をなしている。
ここで、半径方向におけるサーボ領域の磁性パターン部52の寸法をdTPとしたとき、そのサーボ領域の磁性パターン部52の各角部の形状は、前記dTPの5%〜30%の寸法の曲率半径(R1)の弧状をなす曲線部であることが好ましい。
したがって、アレイ状に配列されたサーボ領域の磁性パターン部52のうち、対角線方向に対向するサーボ領域の磁性パターン部52aと、サーボ領域の磁性パターン部52bとは、それぞれの曲線部間に間隙が設けられている。
また、本発明の磁気記録媒体においても、インプリントレジスト組成物の粘度をP(mPa・s)としたとき、下記数式(1)を満たすことが好ましい。
0.5≦R1・R2/P<150・・・・・・・・・・・・・数式(1)
ただし、上記数式(1)において、R1は、サーボ領域の磁性パターン部52において弧状をなす各角部の曲率半径であり、R2は、基板40の一の表面と、サーボ領域の磁性パターン部52における側壁部53とがなす弧状の連結部9の曲率半径である。
また、インプリントレジスト組成物の粘度Pは、0.5〜10(mPa・s)が好ましい。
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
(実施例1)
<インプリント用モールド構造体の作製>
<<原盤の作製>>
直径8インチの円板状のSi基板上に電子線レジストを、スピンコート法を用いて100nmの厚さに塗布した。
その後、回転式電子線露光装置にて所望のパターンを露光、現像することで、凹凸パターンを有する前記電子線レジストをSi基板上に形成した。
凹凸パターンを有する前記電子線レジストをマスクとして、前記Si基板に対して反応性イオンエッチング処理を行い、Si基板上に凹凸形状を形成した。
残存した前記電子線レジストを、可溶溶剤にて洗浄することで除去し、乾燥した後に原盤を得た。
ここで、前記凹凸パターンは、データ領域における凹凸パターンと、サーボ領域における凹凸パターンとに大別される。
データ領域は、凸部の巾:120nm、凹部の巾:30nm(トラックピッチ=150nm)の凹凸パターンとした。
サーボ領域に関しては、基準信号長を90nmとし、総セクタ数を240とし、プリアンブル部(45bit)、SAM部(10bit)、SectorCode部(8bit)、CylinderCode部(32bit)、及びBurst部で構成されている。
前記SAM部は、“0000101011”であり、前記SectorCode部における凹凸パターンは、Binary変換を用いて形成され、CylinderCode部における凹凸パターンは、Gray変換を用いて形成される。
また、前記Burst部における凹凸パターンは、一般的な位相バースト信号(16bit)であり、マンチェスター変換を用いて形成される。
その後、石英基板上にノボラック系レジスト(マイクロレジスト社mr−I 7000E)を100nm、スピンコート法(3,600rpm)によって形成した。
そして、原盤をモールドとして使用し、ナノインプリントを行った。ナノインプリント後の凹凸レジストパターンを元にエッチャントとしてCHFを用いたRIEでインプリント用モールド構造体1を得た。
<<R1、及びR2の測定>>
AFM(Dimension5000、日本ビーコ社製)を用いて、R1、及びR2を測定した。具体的には、凹凸パターンの三次元形状を観測し、その三次元形状のデータから、凸部パターンの高さの90%で閾値を設定し、この閾値と三次元形状で形成される二次元形状を求めた。二次元形状(上面視、図2参照)での角部の曲率半径を算出し、R1とした。また、前記三次元形状より半径方向の凸部パターンの断面形状を取り出し、(断面視、図3A参照)での角部の曲率半径を算出し、R2とした。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%〜30%の範囲内ではなく、R2は、dの2%〜30%の範囲内でもなかった。
<磁気記録媒体の作製>
2.5インチガラス基板上に、以下の手順で各層を形成し、磁気記録媒体を作製した。
作製した磁気記録媒体は、軟磁性層、第1の非磁性配向層、第2の非磁性配向層、磁性層(「磁気記録層」ということがある。)、保護層、及び潤滑剤層が順次形成されている。
なお、軟磁性膜、第1の非磁性配向層、第2の非磁性配向層、磁気記録層、及び保護層はスパッタリング法で形成し、潤滑剤層はディップ法で形成した。
<軟磁性層の形成>
軟磁性層として、CoZrNbよりなる層を100nmの厚さで形成した。
具体的には、前記ガラス基板を、CoZrNbターゲットと対向させて設置し、Arガスを0.6Paの圧になるように流入させ、DC 1,500Wで成膜した。
<第1の非磁性配向層の形成>
第1の非磁性配向層として、5nmの厚さのTi層を形成した。
具体的に、第1の非磁性配向層は、Tiターゲットと対向設置し、Arガスを0.5Paの圧になるように流入させ、DC 1,000Wで放電し、5nmの厚さになるようにTiシード層を成膜した。
<第2の非磁性配向層の形成>
その後、第2の非磁性配向層として、10nmの厚さのRu層を形成した。
第1の非磁性配向層形成後に、Ruターゲットと対向させて設置し、Arガスを0.5Paの圧になるように流入させ、DC 1,000Wで放電し、10nmの厚さになるように第2の非磁性配向層としてRu層を成膜した。
<磁気記録層の形成>
その後、磁気記録層として、CoCrPtO層を15nmの厚さで形成した。
具体的には、CoPtCrターゲットと対向させて設置し、O 0.04%を含むArガスを、圧力が18Paとなるようにして流入させ、DC 290Wで放電し、磁気記録層を形成した。
<保護層の形成>
磁性層形成後に、Cターゲットと対向させて設置し、Arガスを、圧力が0.5Paになるように流入させ、DC 1,000Wで放電し、C保護層を4nmの厚さで形成した。
なお、磁気記録媒体の保磁力は、334kA/m(4.2kOe)とした。
また、本実施例における磁気記録媒体の第1の非磁性材料は、例えば、PtOである。
<インプリントレジスト層の形成>
前記保護層上に、アクリル系レジスト(PAK−01−1000、東洋合成工業(株)製)を200nmの厚さになるように、スピンコート法(3,600rpm)により、第1のインプリントレジスト層を形成した。
<転写工程>
インプリントレジスト層が形成された基板に対して、上記モールドの凹凸部が形成された側の面を対向させて配置し、インプリントレジスト層が形成された基板を3MPaの圧力にて10秒間密着させ、紫外線を10mJ/cm照射した。
以上の工程を終了した後、インプリントレジスト層が形成された基板から前記モールドを剥離した(以下、この基板を中間体とする。)。
その後、前記モールドの凹凸部に基づく凹凸パターンをインプリントレジスト層に転写することによって、該インプリントレジスト層に形成された凹凸パターンのうち、凹部に残存したインプリントレジスト層を、O反応性化学エッチングにて除去した。このO反応性化学エッチングは、前記凹部において前記磁性層が露出するように行われる。
<磁性パターン部形成工程>
前記凹部に残存したインプリントレジスト層を除去した後に、磁性層の凹凸形状の加工を実施した。
磁性層の加工としては、イオンビームエッチング法を用いた。
具体的には、Arガスを用い、イオン加速エネルギーは500eVとし、磁性層に対して垂直方向よりイオンビームを入射した。
このようにして磁性層を加工した後、O反応性化学エッチングにて、磁性層(未加工部分)上に残存したレジストを除去する。
その後、ディップ法により、PFPE潤滑剤を2nmの厚さに塗布した。
<非磁性パターン部形成工程>
上記磁性層を加工した後に、磁性材料を含む層として、厚さが50nmとなるように、スパッタリングを実施してSiO層を形成し、イオンビームエッチングにて磁性層と、非磁性層とが面一になるように、SiO層を除去した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを計算した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
サーボ領域被覆前の基体を用い、データ領域と、サーボ領域との間のレジスト形状を比較し、NILの均一性の評価を以下のように実施した。
まず、前記中間体を破断し、走査型電子顕微鏡(FE−SEM S800、日立製作所(株)製)を用いて、破断後の断面に対するデータ領域の残レジスト膜厚、サーボ領域におけるプリアンブル部のレジストパターンの高さを測長した。
なお、サーボ領域におけるプリアンブル部のレジストパターンの高さと、データ領域のレジストパターンの高さとの比が0.8〜1.0であれば“○”、0.8未満であれば“×”と評価した。
また、1ディスクに対して半径15,20,25,30mm、ほぼ等角度間隔で8カ所の上記測定を行い、これらの平均値を算出し、レジストパターンの成形性(平均)を評価した。
また、上記測定より導出したサーボ領域のレジストパターンの高さ残膜厚に対するデータ領域のレジストパターンの高さとの比の3σ値を算出し、0.1未満であれば“○”、0.1以上であれば“×”と評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
<<サーボ信号の品位の評価>>
アドレス部、サーボPES評価をあわせて実施した。評価装置はアイメス社製BitFinderを使用した。VCMモードとし、上記ヘッドを装着、サーボフォローイングの評価を実施した。
サーボフォロー状態でのPES(Position Error Signal)の測定を行う。50周分の各セクタのPES測定値から標準偏差(σ)を算出、3σ値でトラックピッチ(TP)の15%未満であれば“○”、15%以上であれば“×”と評価した。
また、上記オントラック状態にて、アドレスシリンダー部のデコードを行う。シリンダ0から10,000シリンダー毎に100シリンダー箇所において、100周分のデコードを実施した。正規の値を異なった値を返したセクタ数をカウント(NSEC)し、デコードを実施した総セクタ数に対するNSECの割合を算出する。発生頻度に基づき、以下のように判断した。
[評価基準]
○:1×10−6未満
△:1×10−6以上、1×10−5未満
×:1×10−5以上
(実施例2)
<インプリント用モールド構造体の作製>
実施例1におけるR1及びR2を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%〜30%の範囲内であり、R2は、dの2%〜30%の範囲内であった。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、インプリントレジストを、PAK01−60(東洋合成工業(株)製)に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例2の磁気記録媒体を作製した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
(実施例3)
<インプリント用モールド構造体の作製>
実施例1におけるR1及びR2を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例3のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%〜30%の範囲内ではなく、R2も、dの2%〜30%の範囲内ではなかった。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、インプリントレジストを、アセトンで2倍希釈したPAK01(東洋合成工業(株)製)に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例3の磁気記録媒体を作製した。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
(実施例4)
<インプリント用モールド構造体の作製>
実施例1におけるR1及びR2を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例4のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%〜30%の範囲内ではなく、R2も、dの2%〜30%の範囲内でなかった。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、インプリントレジストを、PAK01(東洋合成工業(株)製)に変更した以外は実施例1と同様にして、実施例4の磁気記録媒体を作製した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
(実施例5)
<インプリント用モールド構造体の作製>
実施例1におけるR1及びR2を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例5のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%であったが、R2は、dの2%〜30%の範囲内ではなかった。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、実施例1と同様にして、実施例5の磁気記録媒体を作製した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
(実施例6)
<インプリント用モールド構造体の作製>
実施例1におけるR1及びR2を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例6のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの30%であったが、R2は、dの2%〜30%の範囲内ではなかった。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、実施例1と同様にして、実施例6の磁気記録媒体を作製した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
(実施例7)
<インプリント用モールド構造体の作製>
実施例1におけるR1及びR2を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例7のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%〜30%の範囲内であり、R2は、dの2%であった。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、実施例1と同様にして、実施例7の磁気記録媒体を作製した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
(実施例8)
<インプリント用モールド構造体の作製>
実施例1におけるR1及びR2を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例8のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%〜30%の範囲内であり、R2は、dの30%であった。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、実施例1と同様にして、実施例8の磁気記録媒体を作製した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
(比較例1)
<インプリント用モールド構造体の作製>
実施例1における連結部を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして、比較例1のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%〜30%の範囲内であり、R2は、dの2%〜30%の範囲内であった。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、実施例1と同様にして、比較例1の磁気記録媒体を作製した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
(比較例2)
<インプリント用モールド構造体の作製>
実施例1における第2の凹凸パターンの凹部を特開2006−99932号公報に開示された楕円形状に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例2のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%〜30%の範囲内であり、R2は、dの2%〜30%の範囲内であった。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、実施例1と同様にして、比較例2の磁気記録媒体を作製した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
(比較例3)
<インプリント用モールド構造体の作製>
比較例1と同様にして、比較例3のインプリント用モールド構造体を作製し、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<<R1、及びR2の測定>>
実施例1と同様にして、R1、及びR2を測定した。結果を表1に示す。なお、R1は、dTPの5%〜30%の範囲内であり、R2は、dの2%〜30%の範囲内であった。
<磁気記録媒体の作製>
上記において作製したインプリント用モールド構造体を用いて、インプリントレジストを、PAK01(東洋合成工業(株)製)に変更した以外は実施例1と同様にして、比較例3の磁気記録媒体を作製した。
<R1・R2/Pの算出>
上記結果から、R1・R2/Pを算出した。結果を表1に示す。
<<レジストパターンの成形性の評価>>
磁気記録媒体の作製において、実施例1と同様にして、レジストパターンの成形性を評価した。結果を表1に示す。
<磁気記録媒体の評価>
作製した磁気記録媒体について、実施例1と同様にして、サーボ信号の品位を評価した。結果を表1に示す。
Figure 2009048695
表1に示すように、データ領域の凹凸部における凹部と、サーボ領域の凹凸部における凹部とが連結されている実施例1〜8は、データ領域の凹凸部における凹部と、サーボ領域の凹凸部における凹部とが連結されていない比較例1〜2に対して、レジストパターンの成形性が高いインプリント用モールド構造体を提供することができた。
また、データ領域の凹凸部における凹部と、サーボ領域の凹凸部における凹部とが連結されている実施例1〜8において作製されたインプリント用モールド構造体を用いることにより、データ領域の凹凸部における凹部と、サーボ領域の凹凸部における凹部とが連結されていない比較例1〜2において作製されたインプリント用モールド構造体を用いるよりも、サーボ信号の品位に優れた磁気記録媒体を提供することができた。特に、実施例4では、インプリントプロセスにおいて通常用いられないほどの高い粘度のインプリントレジストを用いた比較例3に対して、サーボ信号品位が優れた磁気記録媒体を作製することができ、上記データ領域の凹凸部、及びサーボ領域の凹凸部のパターンと、所定の高さの粘度のインプリントレジストとの適切な組み合わせが好ましい結果を奏することが認められた。
図1は、本発明のインプリント用モールド構造体の構成を示す平面図である。 図2は、本発明のインプリント用モールド構造体の構成を示す平面図である。 図3Aは、図2のA−A断面図である。 図3Bは、本発明のインプリント用モールド構造体の他の実施形態における図2のA−A断面図である。 図3Cは、本発明のインプリント用モールド構造体の他の実施形態における図2のA−A断面図である。 図3Dは、本発明のインプリント用モールド構造体の他の実施形態における図2のA−A断面図である。 図4Aは、本発明のインプリント用モールド構造体の製造方法を示す断面図である。 図4Bは、本発明のインプリント用モールド構造体の製造方法を示す断面図である。 図5は、本発明のインプリント用モールド構造体を用いて磁気記録媒体を製造する製造方法を示す断面図である。 図6は、本発明の磁気記録媒体の構成を示す平面図である。
符号の説明
1 モールド構造体
2 基板
2a 表面
3 データ領域の凹凸部
4 凹部
5 凸部
6 サーボ領域の凹凸部
7 凹部
8 凸部
8a 上部
8b 側壁部
9 連結部
10 Si基板
11 Si原盤
21 フォトレジスト層
24 インプリントレジスト層
25 インプリントレジスト層
30 被加工基板
40 磁気記録媒体の基板
50 磁性層
70 非磁性層
100 磁気記録媒体
110 データ領域
120 サーボ領域
130 データ領域
140 サーボ領域

Claims (10)

  1. 円板状の基板と、該基板の一の表面上に、該表面を基準として円周方向に沿って複数の凸部が同心円状に配列されることによって形成されたデータ領域の凹凸部と、前記表面上に、該表面を基準として前記基板の略中心部から放射状に複数の凸部が配列されることによって形成されたサーボ領域の凹凸部とを有してなり、
    前記データ領域の凹凸部における凹部と、前記サーボ領域の凹凸部における凸部間に形成された凹部とが連結されていることを特徴とするインプリント用モールド構造体。
  2. 基板の表面の法線方向における少なくともデータ領域に隣接するサーボ領域の一の凸部の角部の形状が曲線を含み、該曲線の曲率半径(R1)が、半径方向における前記凸部の寸法dTPの5%〜30%である請求項1に記載のインプリント用モールド構造体。
  3. 少なくともデータ領域に隣接するサーボ領域の一の凸部が、その円周方向における両側の凹部を連結する貫通孔を有する請求項1に記載のインプリント用モールド構造体。
  4. サーボ領域の凹凸部における一の凸部の半径方向における断面形状が曲線を含み、該曲線の曲率半径(R2)が、サーボ領域の凹凸部における凸部の高さdの2%〜30%である請求項3に記載のインプリント用モールド構造体。
  5. サーボ領域の凹凸部における一の凸部の半径方向における断面形状が、台形状である請求項3に記載のインプリント用モールド構造体。
  6. 請求項1から5のいずれかに記載のインプリント用モールド構造体を、磁気記録媒体の基板上に形成されたインプリントレジスト組成物よりなるインプリントレジスト層に押圧して前記インプリント用モールド構造体上に形成された凹凸部に基づく凹凸パターンを転写する転写工程を少なくとも含むことを特徴とするインプリント方法。
  7. インプリントレジスト組成物の粘度(P)が、0.5〜10mPa・sであり、サーボ領域において弧状をなす凸部の各角部の曲率半径をR1とし、前記サーボ領域におけるデータ領域に隣接する凸部の半径方向における断面形状が、曲線部を有し、該曲線部の曲率半径をR2としたとき、下記数式(1)を満たす請求項6に記載のインプリント方法。
    0.5≦R1・R2/P<150・・・・・・・・・・・数式(1)
  8. 請求項1から5のいずれかに記載のインプリント用モールド構造体を、磁気記録媒体基板上に形成されたインプリントレジスト層に押圧して前記インプリント用モールド構造体上に形成された凹凸部に基づく凹凸パターンを転写する転写工程と、
    前記凹凸パターンが転写されたインプリントレジスト層をマスクにして、前記磁気記録媒体の基板の表面に形成された磁性層をエッチングして、インプリント用モールド構造体上に形成された前記データ領域の凹凸部のパターン形状に基づくデータ領域の磁性パターン部、及び前記サーボ領域の凹凸部のパターン形状に基づくサーボ領域の磁性パターン部を前記磁性層に形成する磁性パターン部形成工程と、
    前記磁性層上に形成された凹部に非磁性材料を埋め込む非磁性パターン部形成工程と、
    を少なくとも含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
  9. インプリントレジスト組成物の粘度(P)が、0.5〜10mPa・sであり、サーボ領域において弧状をなす凸部の各角部の曲率半径をR1とし、前記サーボ領域におけるデータ領域に隣接する凸部の半径方向における断面形状が、曲線部を有し、該曲線部の曲率半径をR2としたとき、下記数式(1)を満たす請求項8に記載の磁気記録媒体の製造方法。
    0.5≦R1・R2/P<150・・・・・・・・・・・数式(1)
  10. 請求項8から9のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法によって製造されたことを特徴とする磁気記録媒体。
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