JP2009043879A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009043879A5
JP2009043879A5 JP2007206531A JP2007206531A JP2009043879A5 JP 2009043879 A5 JP2009043879 A5 JP 2009043879A5 JP 2007206531 A JP2007206531 A JP 2007206531A JP 2007206531 A JP2007206531 A JP 2007206531A JP 2009043879 A5 JP2009043879 A5 JP 2009043879A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
auxiliary plate
gap
holding
exposure apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007206531A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4961299B2 (ja
JP2009043879A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2007206531A priority Critical patent/JP4961299B2/ja
Priority claimed from JP2007206531A external-priority patent/JP4961299B2/ja
Priority to TW097129417A priority patent/TW200923590A/zh
Priority to KR1020080076311A priority patent/KR20090015824A/ko
Priority to US12/188,168 priority patent/US7630056B2/en
Publication of JP2009043879A publication Critical patent/JP2009043879A/ja
Publication of JP2009043879A5 publication Critical patent/JP2009043879A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4961299B2 publication Critical patent/JP4961299B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (5)

  1. 液体を介して基板を露光する露光装置において、
    前記基板を保持する基板ステージを備え、
    前記基板ステージは、
    天板と、
    前記天板上に設けられていて前記基板を保持する基板保持部と、
    前記天板上に前記基板保持部とは別個に設けられていて前記基板保持部に保持された基板の外周を囲むように補助板を保持する補助板保持部と、
    を有し、
    前記基板保持部は、前記補助板保持部に保持された補助板の裏面と対向する表面を持つ延伸部を有し、
    前記補助板の裏面と前記延伸部の表面との間の隙間は、前記基板と前記補助板との間の隙間より狭く、
    前記補助板保持部には、前記補助板の裏面と前記延伸部の表面との間の隙間浸入した液体を回収する回収口設けられている
    ことを特徴とする露光装置。
  2. 前記延伸部には、前記基板と前記補助板との間の隙間に浸入した液体を回収する回収口が設けられ、
    前記延伸部に設けられた回収口を介して液体を吸引する吸引手段を更に備え、
    前記基板に対する非露光時には、前記基板と前記補助板との間の隙間浸入した液体前記延伸部に設けられた回収口か前記吸引手段により回収し、
    前記基板に対する露光時には、前記基板と前記補助板との間の隙間浸入した液体前記延伸部に設けられた回収口か重力作用によ回収する
    ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  3. 前記補助板の裏面と対向する前記延伸部の表面は、前記基板保持部の前記基板を保持する表面よりも低い
    ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の露光装置。
  4. 記延伸部と対向する前記補助板の部分、前記基板よりも厚い
    ことを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光し、
    その露光された基板を現像する
    ことを特徴とするデバイス製造方法。
JP2007206531A 2007-08-08 2007-08-08 露光装置およびデバイス製造方法 Expired - Fee Related JP4961299B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007206531A JP4961299B2 (ja) 2007-08-08 2007-08-08 露光装置およびデバイス製造方法
TW097129417A TW200923590A (en) 2007-08-08 2008-08-01 Exposure apparatus and device manufacturing method
KR1020080076311A KR20090015824A (ko) 2007-08-08 2008-08-05 노광장치 및 디바이스 제조 방법
US12/188,168 US7630056B2 (en) 2007-08-08 2008-08-07 Exposure apparatus and device manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007206531A JP4961299B2 (ja) 2007-08-08 2007-08-08 露光装置およびデバイス製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009043879A JP2009043879A (ja) 2009-02-26
JP2009043879A5 true JP2009043879A5 (ja) 2010-09-16
JP4961299B2 JP4961299B2 (ja) 2012-06-27

Family

ID=40346177

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007206531A Expired - Fee Related JP4961299B2 (ja) 2007-08-08 2007-08-08 露光装置およびデバイス製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7630056B2 (ja)
JP (1) JP4961299B2 (ja)
KR (1) KR20090015824A (ja)
TW (1) TW200923590A (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5001343B2 (ja) * 2008-12-11 2012-08-15 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 流体抽出システム、液浸リソグラフィ装置、及び液浸リソグラフィ装置で使用される液浸液の圧力変動を低減する方法
NL2004305A (en) * 2009-03-13 2010-09-14 Asml Netherlands Bv Substrate table, immersion lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2006127A (en) * 2010-02-17 2011-08-18 Asml Netherlands Bv A substrate table, a lithographic apparatus and a method for manufacturing a device using a lithographic apparatus.
KR101671787B1 (ko) 2012-05-29 2016-11-02 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 지지 장치, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
KR102054322B1 (ko) 2012-05-29 2019-12-10 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 대상물 홀더 및 리소그래피 장치
JP6466597B2 (ja) 2015-04-29 2019-02-06 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. サポート装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP6702753B2 (ja) 2016-02-17 2020-06-03 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、及び物品の製造方法
US10705426B2 (en) * 2016-05-12 2020-07-07 Asml Netherlands B.V. Extraction body for lithographic apparatus
WO2018137816A1 (en) * 2017-01-26 2018-08-02 Asml Netherlands B.V. A lithography apparatus and a method of manufacturing a device

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3953460B2 (ja) * 2002-11-12 2007-08-08 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ投影装置
US7213963B2 (en) * 2003-06-09 2007-05-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
TW201818451A (zh) * 2003-06-13 2018-05-16 日商尼康股份有限公司 曝光裝置、元件製造方法
JP3862678B2 (ja) * 2003-06-27 2006-12-27 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2005175016A (ja) * 2003-12-08 2005-06-30 Canon Inc 基板保持装置およびそれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
CN100487860C (zh) * 2003-12-15 2009-05-13 株式会社尼康 台装置、曝光装置和曝光方法
JP4600286B2 (ja) * 2003-12-16 2010-12-15 株式会社ニコン ステージ装置、露光装置、及び露光方法
JP4826146B2 (ja) * 2004-06-09 2011-11-30 株式会社ニコン 露光装置、デバイス製造方法
US7701550B2 (en) * 2004-08-19 2010-04-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101106496B1 (ko) * 2004-09-17 2012-01-20 가부시키가이샤 니콘 기판 유지 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
CN100533662C (zh) * 2004-11-01 2009-08-26 株式会社尼康 曝光装置及器件制造方法
US9224632B2 (en) * 2004-12-15 2015-12-29 Nikon Corporation Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method
JP2006173527A (ja) * 2004-12-20 2006-06-29 Sony Corp 露光装置
TWI424260B (zh) * 2005-03-18 2014-01-21 尼康股份有限公司 A board member, a substrate holding device, an exposure apparatus and an exposure method, and a device manufacturing method
JP4752320B2 (ja) * 2005-04-28 2011-08-17 株式会社ニコン 基板保持装置及び露光装置、基板保持方法、露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2007019392A (ja) * 2005-07-11 2007-01-25 Canon Inc 露光装置
JP3997244B2 (ja) 2005-10-04 2007-10-24 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
US7420194B2 (en) * 2005-12-27 2008-09-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and substrate edge seal
US7839483B2 (en) * 2005-12-28 2010-11-23 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and a control system
US8027019B2 (en) * 2006-03-28 2011-09-27 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US9013672B2 (en) * 2007-05-04 2015-04-21 Asml Netherlands B.V. Cleaning device, a lithographic apparatus and a lithographic apparatus cleaning method
US8514365B2 (en) * 2007-06-01 2013-08-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009043879A5 (ja)
JP2012164995A5 (ja) 露光装置、露光方法、デバイス製造方法
JP2011160001A5 (ja) 露光装置、及び液体検出方法
JP2012137348A5 (ja)
JP2015528132A5 (ja)
WO2011065589A3 (en) Substrate carrier device, substrate carrying method, substrate supporting member, substrate holding device, exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
EP1837896A4 (en) SUBSTRATE MAINTAINING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE DEVICE
JP2010109391A5 (ja)
JP2010128727A5 (ja)
TW200629355A (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP2014525112A (ja) 両面パターン化透明導電膜及びその製造方法
JP2011504145A5 (ja)
DE602005005547D1 (de) Vorrichtung zum Montieren einer Nabenbremse an einen Fahrradrahmen
FR2903490B1 (fr) Procede de prelevement automatique du tritium dans la vapeur d'eau de l'air
ATE530340T1 (de) Plattenschneidung
JP2011223036A5 (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
JP2012506641A5 (ja)
JP2011023595A5 (ja)
TW200705110A (en) Exposure apparatus, exposure method, and device production method
JP2008040403A5 (ja)
JP2011009655A5 (ja)
JP2013222772A5 (ja)
EP2037324A3 (en) Lithographic apparatus and method
JP2010240027A5 (ja)
CN211375535U (zh) 一种大数据分析平台装置散热装置