JP2009035812A - メモリーディスクのスクラップ材の利用方法 - Google Patents
メモリーディスクのスクラップ材の利用方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】表面にNi−Pメッキが施されているアルミニウム合金製メモリーディスクのスクラップ材を回収する工程、前記メモリーディスクのスクラップ材を溶解炉内のアルミニウム合金溶湯中に投入する工程、およびフラックスを添加して脱滓を行う溶湯処理工程を含む、Al−Si系アルミニウム合金の製造に際して、初晶Si微細化材として前記メモリーディスクのスクラップ材を利用する方法。
【選択図】なし
Description
また、本発明は、表面にNi−Pメッキが施されているアルミニウム合金製メモリーディスクからなることを特徴とするAl−Si系アルミニウム合金の初晶Si微細化材を提供する。
メモリーディスクとは、ハードディスク等に搭載される磁気記録媒体である。大きさは搭載される機器によってさまざまであるが、多くの場合、表面積の大きい薄いドーナツ盤形状をしている。本発明に用いられるメモリーディスクは、例えば、アルミニウム合金製のブランク材に、Ni−Pメッキが施されることでメモリーディスク基板(サブストレート)が製造され、更にこのメモリーディスク基板の表面上に細かい凹凸をつけるテクスチャ工程、洗浄工程、地層や各種膜を蒸着させるスパッタ工程、表面の突起を除去し研磨するバーニッシュ工程、潤滑膜を形成させるルーバ工程等を経て製造される。その後テスト工程(グライドハイトテスト工程、サーティファイテスト工程など)で検査され、最終的な製品として完成することとなる。
以下、本発明の実施の形態について説明するが、これらは本発明を限定するものではなく、例示することを意図して開示されているものである。本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲の記載により定められるものであり、当業者は、特許請求の範囲に記載された発明の技術的範囲において種々の設計的変更が可能である。
1)Al−Si系アルミニウム合金のインゴットを作る工程に於いて、アルミニウム合金の溶湯を調整する。または、予めこれにP成分を含有させておく事を目的に、表面にNi−Pメッキが施されているアルミニウム合金製メモリーディスクを投入する。
2)Al−Si系アルミニウム合金のインゴット、または予めインゴット中にP成分を溶解させてあるAl−Si系アルミニウム合金の溶湯を調整する。
3)Al−Si系アルミニウム合金の溶湯中に、またはP成分が予め含まれた溶湯に於いても、これが鋳造に適する管理濃度値に満たない場合では補足用に初晶Si微細化材として、表面にNi−Pメッキが施されているアルミニウム合金製メモリーディスクを投入する。
4)メッキ中のPが合金溶湯に溶解するまで保持する。
5)保持後のAl−Si系アルミニウム合金の溶湯を、金型などに流し込み、鋳造を行う。
メモリーディスクを初晶Si微細化材として投入する際の合金溶湯の温度は、例えば、680〜850℃などが用いられるが、これはAl−Si系アルミニウム合金の組成などに応じて適宜調節される。また、その後の保持温度及び保持時間も、Al−Si系アルミニウム合金の組成や、添加するPの量により適宜調節されるが、例えば、680〜850℃で10〜180分間程度、保持される。初晶Si微細化材として添加するメモリーディスクの量については、当該技術分野で微細化のために通常用いられているP量(例えば、0.001〜0.03%)を達成するように、Ni−Pメッキの組成、厚み、表面積及びPの歩留を考慮して、適宜調整の上、用いられる。
740〜880℃が好ましい。添加温度が740℃未満の場合、フラックスの成分にもよるが、フラックスと溶湯とが十分に反応しないため、脱滓効果が十分に発揮されない。添加温度が880℃を超える場合、炉内耐火材の劣化を促進して溶解炉の寿命を短縮するおそれがある。さらに好ましい添加温度は、760〜840℃である。
本実施例は以下の手順で行った。
1)80%Al、15%Si、3%Cuからなる760℃の合金溶湯20kgを、黒鉛坩堝を用いた外部加熱により調製した。
2)この合金溶湯に対し、各メモリーディスク・スクラップ(ドーナツ盤形状品(コーティング層有り)、破砕品(コーティング層有り)、ドーナツ盤形状品(コーティング層無し))を240g(0.007%Pを目標に)添加し、発光分析により合金中に溶解したP量を調べることで、その溶解特性を検討した。(図1中に実線で示したグラフ)
3)次に、各メモリーディスク添加前/後の合金溶湯を、鋳型としてφ18×L15金型を使用し、金型温度150℃で自然凝固させ、長さ方向中央部で切断・研磨後、初晶Si平均粒径を画像解析法で解析した。(図1中に破線で示したグラフ)画像解析においては、顕微鏡などを用いて初晶Siの面積を求め、それと同じ面積を有する円の直径を計算し、初晶Si平均粒径として解析した。
Claims (4)
- 表面にNi−Pメッキが施されているアルミニウム合金製メモリーディスクのスクラップ材の利用方法において、Al−Si系アルミニウム合金の製造に際して、初晶Si微細化材として利用する方法。
- 表面にNi−Pメッキが施されているアルミニウム合金製メモリーディスクからなることを特徴とするAl−Si系アルミニウム合金の初晶Si微細化材。
- Al−Si系アルミニウム合金の初晶Si微細化材の製造方法において、表面にNi−Pメッキが施されているアルミニウム合金製メモリーディスクのスクラップ材を回収する工程を含む製造方法。
- 請求項1に記載の方法において、メモリーディスクのスクラップ材を溶解炉内のアルミニウム合金溶湯中に投入する工程と、フラックスを添加して脱滓を行う溶湯処理工程とを含む方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103725908A (zh) * | 2014-01-13 | 2014-04-16 | 南部县德美金属有限公司 | 一种铝合金的铸造工艺 |
CN105274340A (zh) * | 2015-10-31 | 2016-01-27 | 林州市林丰铝电有限责任公司 | 一种废铝料回收制造铝铸件的方法 |
JP2018528322A (ja) * | 2015-06-29 | 2018-09-27 | アーバンゴールド ゲーエムベーハー | 電気及び/又は電子スクラップ又は部品の冶金処理のための装置及び構成及びそれらの使用及び電気及び/又は電子スクラップ又は部品の冶金処理のための方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04276031A (ja) * | 1991-03-05 | 1992-10-01 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム中のリンの除去方法 |
JP2002249840A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-09-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | ピストン用アルミニウム鋳造合金およびピストンの製造方法 |
JP2004269937A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 切削性に優れた耐摩耗Al−Si系合金及びその鋳造方法 |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04276031A (ja) * | 1991-03-05 | 1992-10-01 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム中のリンの除去方法 |
JP2002249840A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-09-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | ピストン用アルミニウム鋳造合金およびピストンの製造方法 |
JP2004269937A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 切削性に優れた耐摩耗Al−Si系合金及びその鋳造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103725908A (zh) * | 2014-01-13 | 2014-04-16 | 南部县德美金属有限公司 | 一种铝合金的铸造工艺 |
JP2018528322A (ja) * | 2015-06-29 | 2018-09-27 | アーバンゴールド ゲーエムベーハー | 電気及び/又は電子スクラップ又は部品の冶金処理のための装置及び構成及びそれらの使用及び電気及び/又は電子スクラップ又は部品の冶金処理のための方法 |
US11060164B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-07-13 | Urbangold Gmbh | Apparatus and arrangement for the metallurgical treatment of electrical and/or electronic scrap or components and uses thereof and methods for the metallurgical treatment of electrical and/or electronic scrap or components |
CN105274340A (zh) * | 2015-10-31 | 2016-01-27 | 林州市林丰铝电有限责任公司 | 一种废铝料回收制造铝铸件的方法 |
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