JP2009033167A5 - - Google Patents
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- エピ層に配置されているフォトダイオードと、
前記フォトダイオードから分離され、前記フォトダイオードの下部に配置され、前記エピ層の内部に配置されている第1ドープ領域と、
前記フォトダイオードの内部に配置された第2ドープ領域と
を備えるイメージセンサであって、前記エピ層が第1導電型を有し、前記第1ドープ領域及び前記第2ドープ領域の両方が第2導電型を有し、前記第1ドープ領域のドーピング濃度が前記第2ドープ領域のドーピング濃度より低い、イメージセンサ。 - 前記フォトダイオードが前記第2ドープ領域上に配置された第3ドープ領域を備え、前記第3ドープ領域が前記第1導電型を含む請求項1に記載のイメージセンサ。
- 前記フォトダイオードに接触するように配列されたゲート電極をさらに備える請求項2に記載のイメージセンサ。
- 前記第1ドープ領域が前記ゲート電極に整列されている請求項3に記載のイメージセンサ。
- 前記第1ドープ領域が前記エピ層の内部に島状部を備える請求項1に記載のイメージセンサ。
- 前記第1導電型がp型であり、前記第2導電型がn型である請求項1に記載のイメージセンサ。
- エピ層と、
前記エピ層に配置されているフォトダイオードと、
前記フォトダイオードから分離され、前記フォトダイオードの下に配列され、前記エピ層の内部に配置された第1ドープ領域と
を備え、前記第1ドープ領域が前記フォトダイオードの空乏領域を広げるように構成されている、イメージセンサ。 - 前記フォトダイオード内部に配置された第2ドープ領域をさらに備え、
前記エピ層が第1導電型を有し、前記第1ドープ領域及び前記第2ドープ領域の両方が、第2導電型を有し、前記第1ドープ領域のドーピング濃度が、前記第2ドープ領域のドーピング濃度より低い請求項7に記載のイメージセンサ。 - 前記第1導電型がp型であり、前記第2導電型がn型である請求項8に記載のイメージセンサ。
- フローティング拡散領域をさらに備え、
前記フローティング拡散領域が前記第2導電型を含み、前記フローティング拡散領域のドーピング濃度が前記第2ドープ領域のドーピング濃度より高い、請求項8に記載のイメージセンサ。 - 前記フォトダイオードに整列されているゲート電極をさらに備える請求項7に記載のイメージセンサ。
- 前記第1ドープ領域が前記フォトダイオードの下だけに配置され、前記ゲート電極の下に配置されていない請求項7に記載のイメージセンサ。
- 前記第1ドープ領域が前記エピ層の内部に島状部を備える請求項7に記載のイメージセンサ。
- エピ層内部に配置された第1ドープ領域と、
フォトダイオード内部に配置され、前記第1ドープ領域から分離された第2ドープ領域と、
フローティング拡散領域と、
前記第1ドープ領域から分離され、前記フォトダイオードと前記フローティング拡散領域との間に配列されたゲート電極と
を備え、前記第1ドープ領域が前記フォトダイオードの空乏領域を広げるように構成されている、イメージセンサ。 - 前記ゲート電極及び前記第1ドープ領域が、前記ゲート電極の電荷転送特性が実質的に影響されないように構成されている請求項14に記載のイメージセンサ。
- 前記エピ層が第1導電型を備え、前記第1ドープ領域及び前記第2ドープ領域の両方が第2導電型を備える請求項14に記載のイメージセンサ。
- 前記第1ドープ領域のドーピング濃度が、前記第2ドープ領域のドーピング濃度より低い請求項16に記載のイメージセンサ。
- 前記第1導電型がp型であり、前記第2導電型がn型である請求項16に記載のイメージセンサ。
- 前記フローティング拡散領域が前記第2導電型を含み、前記フローティング拡散領域のドーピング濃度が、前記第2ドープ領域のドーピング濃度より高い請求項14に記載のイメージセンサ。
- 前記第1ドープ領域が、前記エピ層内部に島状部を有する請求項14に記載のイメージセンサ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2007-0074105 | 2007-07-24 | ||
KR1020070074105A KR101019279B1 (ko) | 2007-07-24 | 2007-07-24 | 이미지 센서 및 그 제조방법 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012251178A Division JP2013042178A (ja) | 2007-07-24 | 2012-11-15 | イメージセンサ及びその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009033167A JP2009033167A (ja) | 2009-02-12 |
JP2009033167A5 true JP2009033167A5 (ja) | 2010-12-16 |
JP5329142B2 JP5329142B2 (ja) | 2013-10-30 |
Family
ID=40294480
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008190041A Active JP5329142B2 (ja) | 2007-07-24 | 2008-07-23 | イメージセンサ |
JP2012251178A Pending JP2013042178A (ja) | 2007-07-24 | 2012-11-15 | イメージセンサ及びその製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012251178A Pending JP2013042178A (ja) | 2007-07-24 | 2012-11-15 | イメージセンサ及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7999252B2 (ja) |
JP (2) | JP5329142B2 (ja) |
KR (1) | KR101019279B1 (ja) |
TW (2) | TWI397172B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101543664B1 (ko) * | 2008-12-08 | 2015-08-12 | 삼성전자주식회사 | 픽셀 어레이 및 이를 포함하는 입체 영상 센서 |
KR102009931B1 (ko) * | 2012-07-06 | 2019-08-13 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 씨모스 이미지센서 및 그 제조 방법 |
US9665604B2 (en) * | 2012-07-31 | 2017-05-30 | Schlumberger Technology Corporation | Modeling and manipulation of seismic reference datum (SRD) in a collaborative petro-technical application environment |
TWI538175B (zh) * | 2013-12-24 | 2016-06-11 | 光引研創股份有限公司 | 以慢光增強吸收之鍺光偵測器 |
US10918650B2 (en) | 2016-06-02 | 2021-02-16 | University Of South Florida | Method of treating melanoma using an inhibitor of an atypical protein kinase C |
US11348955B2 (en) * | 2018-06-05 | 2022-05-31 | Brillnics Singapore Pte. Ltd. | Pixel structure for image sensors |
CN109979955B (zh) * | 2019-04-03 | 2021-06-18 | 上海华力微电子有限公司 | 一种半导体结构及其制造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6489643B1 (en) | 1998-06-27 | 2002-12-03 | Hynix Semiconductor Inc. | Photodiode having a plurality of PN junctions and image sensor having the same |
JP4419238B2 (ja) * | 1999-12-27 | 2010-02-24 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子及びその製造方法 |
KR20020020086A (ko) * | 2000-09-07 | 2002-03-14 | 박용 | 씨모스 이미지 센서 |
KR20020022931A (ko) * | 2000-09-21 | 2002-03-28 | 박종섭 | 씨모스 이미지 센서의 포토다이오드 및 그의 제조방법 |
KR100677044B1 (ko) * | 2001-06-26 | 2007-01-31 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 이미지센서 제조 방법 |
JP4972838B2 (ja) * | 2001-09-12 | 2012-07-11 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子及びその製造方法 |
JP4882207B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2012-02-22 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子 |
KR101069103B1 (ko) | 2004-07-29 | 2011-09-30 | 크로스텍 캐피탈, 엘엘씨 | 전하운송효율을 향상시키기 위한 이미지센서 및 제조 방법 |
KR100660275B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2006-12-20 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 씨모스 이미지 센서 화소의 전달 트랜지스터 및 그 제조방법 |
US7728330B2 (en) * | 2005-08-24 | 2010-06-01 | Aptina Imaging Corporation | CMOS imager with nitrided gate oxide and method of fabrication |
JP4951898B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2012-06-13 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子、固体撮像素子の製造方法および固体撮像素子を用いた画像撮影装置 |
KR100723137B1 (ko) * | 2005-11-24 | 2007-05-30 | 삼성전기주식회사 | 포토다이오드 소자 및 이를 이용한 광센서용 포토다이오드어레이 |
-
2007
- 2007-07-24 KR KR1020070074105A patent/KR101019279B1/ko active IP Right Grant
-
2008
- 2008-07-23 JP JP2008190041A patent/JP5329142B2/ja active Active
- 2008-07-23 US US12/219,499 patent/US7999252B2/en active Active
- 2008-07-23 TW TW097128012A patent/TWI397172B/zh active
- 2008-07-23 TW TW101146681A patent/TWI470779B/zh active
-
2011
- 2011-07-29 US US13/194,142 patent/US8828775B2/en active Active
-
2012
- 2012-11-15 JP JP2012251178A patent/JP2013042178A/ja active Pending
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