JP2009022994A - 被加工物における加工位置特定方法、加工位置特定装置、および加工装置 - Google Patents

被加工物における加工位置特定方法、加工位置特定装置、および加工装置 Download PDF

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Abstract

【課題】単位要素の繰り返しパターンが表面に2次元的に形成されてなる被加工物が不定形の場合でも、高い精度で加工位置を特定することができる方法を提供する。
【解決手段】ある着目単位要素の姿勢に基づいて繰り返しパターンの傾きを概ね打ち消す粗調整処理と、粗調整処理の後、離間した2つの位置についての撮像画像から2つの基準位置を特定し、両者の位置関係に基づいて繰り返しパターンの傾き厳密に打ち消す微調整処理と、微調整処理の後、あらかじめ規定されている単位要素との相対的位置関係に基づいて加工位置候補を特定する加工位置候補特定処理と、被加工物の外形形状に基づいて、加工位置候補のうち被加工物が存在する範囲を被加工物についての加工位置として特定する加工位置特定処理とを順次に行う。
【選択図】図4

Description

本発明は、レーザー加工装置などの加工装置における加工位置の特定技術に関する。
例えば、表面にデバイスパターン(チップパターン)が形成された半導体ウェハを多数のデバイスチップに分割する場合のように、それぞれが同一形状を有する単位要素の繰り返しパターンが形成されてなる被加工物を等サイズに分割するような加工を行う場合、その分割位置(加工位置)が正確に特定されたうえで、分割が実行される必要がある。なお、この場合の加工位置は通常、相異なる2方向(多くの場合は縦横2方向)のそれぞれについて等ピッチの複数の線分にて定められ、ストリートと称される。
定形の半導体ウェハを対象とする技術として、該半導体ウェハ形成されたデバイスパターンを構成する単位要素をキーパターンとして設定し、該キーパターンと同一の単位要素を検出することによって加工位置を特定する技術がすでに公知である(例えば特許文献2参照)。
また、不定形の複数のウェハについて一括してアライメント情報を取得し、該アライメント情報に基づいて順次に加工(ダイシング)を行う技術もすでに公知である(例えば、特許文献2参照)。
また、レーザー加工装置によるレーザー加工に際して、不定形の被加工物において加工位置を特定することにより、被加工物外へのレーザー光の照射を防止することができる技術もすでに公知である(例えば特許文献2参照)。
特開昭61−143820号公報 特許3173052号公報 特開2006−320940号公報
割れや欠けのない正常な半導体ウェハなどの定形の被加工物が加工対象である場合、換言すれば、加工処理に供される個々の被加工物の形状が同じである場合、同一の繰り返しパターンが形成されていることなどに由来して、それぞれの被加工物に対する加工処理の内容も同一となることがある。具体的には、加工位置および加工範囲も同一となることがある。例えば、ストリートに沿って切断する加工を行う場合であれば、ある特定の位置におけるストリートの位置やピッチ、および各ストリートについての加工ストロークは、どの被加工物においても同じとなる。このような場合は通常、被加工物の形状と加工位置および加工範囲とは1対1に対応するので、そのような定形の被加工物が加工に供された際には、被加工物の(少なくとも外形の)配置位置さえ特定すれば(どの位置にどのような向きに配置されているかが特定できれば)、加工位置を比較的容易に特定することが可能である。
これに対して、不定形の被加工物が加工対象となる場合は、個々の被加工物によってその全体形状は異なっているので、被加工物の形状と加工位置および加工範囲との対応関係は、個々の被加工物によって様々である。例えばストリートに沿って切断する加工を行う場合についてみれば、ストリートのピッチはそれぞれの被加工物で同じとされていたとしても、被加工物の形状とストリートの位置との対応関係や、加工ストロークは個々の被加工物によってまちまちとなる。
特許文献1には、こうした不定形の被加工物に係る取り扱いについて、何らの具体的開示も示唆もなされてはいない。
特許文献2は、不定形の被加工物を加工対象とする技術を開示してはいるが、係る技術においては、初めに第1の検出手段によって被加工物全体を撮像することにより切削ストロークを特定した上で、第1の検出手段によって精密なアライメントを実施し、その後にダイシングを行うようになっている。この態様においては、第1の検出手段は1または複数の被加工物が視野に入るように設けられる必要がある一方で、被加工物上に形成されている繰り返しパターンにおける個々のストリートが識別できる程度(つまりは各チップが識別できる程度)の解像度(分解能)を有することが必要となる。また、切削ストロークを決定した後に被加工物を回転させることになるので、平行シフト誤差や座標変換誤差が生じ、決定された加工ストローク位置と実際の切削位置との間にずれが生じ得るという問題がある。
特許文献3では、加工位置の設定に先立ち、ステージに載置された被加工物の角度アライメントを行うことが望ましいとされているが、その具体的手法として開示されているのは、被加工物にできるだけ離間した2つのアライメントマーカーを設けておき、それらを通る直線の傾きを被加工物の傾きとして求めて、これを打ち消すように被加工物を回転させる、という態様のみである。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、被加工物について、特に被加工物が不定形の場合であっても、高い精度で加工位置を特定することができる方法およびこれを実現する装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、請求項1の発明は、それぞれが同一形状を有する複数の単位要素からなる繰り返しパターンが表面に形成されてなる被加工物における加工位置を特定する方法であって、前記被加工物を所定の保持中心位置に保持する保持工程と、前記保持中心位置に保持された前記被加工物の前記繰り返しパターンの一部範囲についての撮像画像である第1撮像画像を取得する第1撮像工程と、前記第1撮像画像から特定される、前記複数の前記単位要素のうちの一つである着目単位要素の姿勢に基づいて、所定の基準方向に対する前記繰り返しパターンの第1の傾き角度を特定し、前記第1の傾き角度が打ち消されるように前記被加工物を回転させる粗調整工程と、前記粗調整工程の後、前記保持中心位置と、前記保持中心位置から前記基準方向について所定距離だけ離間した位置とにおいて、前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が1個以上2個未満含まれる範囲についての撮像画像である2つの第2撮像画像を取得する第2撮像工程と、前記2つの第2撮像画像のそれぞれから特定される2つの第1傾き調整基準位置の位置関係に基づいて、前記基準方向に対する前記繰り返しパターンの第2の傾き角度を特定し、前記第2の傾き角度が打ち消されるように前記保持中心位置を中心として前記被加工物を回転させる第1微調整工程と、前記第1微調整工程の後、前記保持中心位置を含み前記基準方向に平行な直線上において最も離間して存在する2つの単位要素についての撮像画像である2つの第3撮像画像を取得する第3撮像工程と、前記2つの第3撮像画像のそれぞれから特定される2つの第2傾き調整基準位置の位置関係に基づいて、前記基準方向に対する前記繰り返しパターンの第3の傾き角度を特定し、前記第3の傾き角度が打ち消されるように前記保持中心位置を中心として前記被加工物を回転させる第2微調整工程と、前記保持中心位置にある単位要素についての撮像画像である第4撮像画像を取得する第4撮像工程と、前記被加工物における加工位置の候補である加工位置候補を、あらかじめ規定されている単位要素と前記加工位置候補との相対的位置関係を示す相対位置情報と、前記第4撮像画像に基づいて特定される当該単位要素の存在位置とに基づいて特定する加工位置候補特定工程と、前記加工位置候補特定工程の後、前記被加工物の前記繰り返しパターンの全体についての撮像画像である第5撮像画像を取得する第5撮像工程と、前記第5撮像画像によって特定される前記被加工物の外形形状に基づいて、前記加工位置候補のうち前記被加工物が存在する範囲を前記被加工物についての加工位置として特定する加工位置特定工程と、を備えることを特徴とする。
請求項2の発明は、請求項1に記載の被加工物における加工位置特定方法であって、前記第1撮像画像が、前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が2個以上含まれる範囲であって前記繰り返しパターンの一部範囲に相当する撮像視野を有する第1の局所撮像手段によって取得され、前記2つの第2撮像画像と前記2つの第3撮像画像と前記第4撮像画像とが、前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が1個以上2個未満含まれる範囲の撮像視野を有する第2の局所撮像手段によって取得され、前記第5撮像画像が、前記繰り返しパターンの全体を含み得るサイズの撮像視野を有する全体撮像手段によって取得される、ことを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1または請求項2に記載の被加工物における加工位置特定方法であって、前記加工候補位置決定工程においては、前記基準方向に平行な複数の直線を前記加工候補位置として決定し、前記加工位置特定工程においては、前記複数の直線のそれぞれにおける前記被加工物の外形位置との2つの交点の間を前記加工位置として決定する、ことを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の被加工物における加工位置特定方法であって、前記粗調整工程においては、前記第1撮像画像における前記着目単位要素の像と、あらかじめ取得されている前記単位要素の傾きのない状態における像である第1基準画像との間でパターンマッチングを行うことにより、前記第1の傾き角度が特定される、ことを特徴とする。
請求項5の発明は、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の被加工物における加工位置特定方法であって、前記第1微調整工程においては、前記2つの第2撮像画像のそれぞれに含まれる前記単位要素の像と、あらかじめ取得されている前記単位要素の一部分についての傾きのない状態における像である第2基準画像との間でそれぞれパターンマッチングを行うことにより、前記2つの第1傾き基準位置が特定され、前記2つの第1傾き基準位置を通る直線の傾きに基づいて前記第2の傾き角度が特定される、ことを特徴とする。
請求項6の発明は、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の被加工物における加工位置特定方法であって、前記第2微調整工程においては、前記2つの第3撮像画像のそれぞれに含まれる前記単位要素の像と、前記第2基準画像との間でそれぞれパターンマッチングを行うことにより、前記2つの第2傾き基準位置が特定され、前記2つの第2傾き基準位置を通る直線の傾きに基づいて前記第3の傾き角度が特定される、ことを特徴とする。
請求項7の発明は、それぞれが同一形状を有する複数の単位要素からなる繰り返しパターンが表面に形成されてなる被加工物における加工位置を特定する加工位置特定装置であって、前記被加工物を所定の保持中心位置に保持するとともに、並進移動と水平面内における回転移動が可能な保持手段と、前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が2個以上含まれる範囲であって前記繰り返しパターンの一部範囲に相当する撮像視野を有する第1の局所撮像手段と、前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が1個以上2個未満含まれる範囲の撮像視野を有する第2の局所撮像手段と、前記繰り返しパターンの全体を含み得るサイズの撮像視野を有する全体撮像手段と、前記加工位置特定装置の全体を制御する制御手段と、前記加工位置特定装置の動作に必要な情報を記憶する記憶手段と、を備え、前記制御手段が、前記保持手段に保持された前記被加工物の前記繰り返しパターンの一部範囲を前記第1の局所撮像手段に撮像させることによって第1撮像画像を取得させたうえで、前記第1撮像画像から特定される、前記複数の単位要素のうちの一つである着目単位要素の姿勢に基づいて、所定の基準方向に対する前記繰り返しパターンの第1の傾き角度を特定し、前記保持手段に前記第1の傾き角度が打ち消されるように前記被加工物を回転させる粗調整処理を行う粗調整処理手段と、前記保持中心位置と前記保持中心位置から前記基準方向について所定距離だけ離間した位置とにおいて前記第2の局所撮像手段に撮像させることによって2つの第2撮像画像を取得させたうえで、前記2つの第2撮像画像のそれぞれから特定される2つの第1傾き調整基準位置の位置関係に基づいて、前記基準方向に対する前記繰り返しパターンの第2の傾き角度を特定し、前記保持手段に前記第2の傾き角度が打ち消されるように前記保持中心位置を中心として前記被加工物を回転させることによって第1微調整処理を行う第1微調整処理手段と、前記保持中心位置を含み前記基準方向に平行な直線上において最も離間して存在する2つの単位要素を前記第2の局所撮像手段に撮像させることによって2つの第3撮像画像を取得させたうえで、前記2つの第3撮像画像のそれぞれから特定される2つの第2傾き調整基準位置の位置関係に基づいて、前記基準方向に対する前記繰り返しパターンの第3の傾き角度を特定し、前記保持手段に前記第3の傾き角度が打ち消されるように前記保持中心位置を中心として前記被加工物を回転させる第2微調整処理を行う第2微調整処理手段と、前記保持中心位置にある単位要素を前記第2の局所撮像手段に撮像させることによって第4撮像画像を取得させたうえで、前記被加工物における加工位置の候補である加工位置候補を、前記記憶部にあらかじめ規定されている単位要素と前記加工位置候補との相対的位置関係を示す相対位置情報と、前記第4撮像画像に基づいて特定される当該単位要素の存在位置とに基づいて特定する加工位置候補特定処理を行う加工位置候補特定手段と、前記被加工物の前記繰り返しパターンの全体を前記全体撮像手段に撮像させることによって第5撮像画像を取得させたうえで、前記第5撮像画像によって特定される前記被加工物の外形形状に基づいて、前記加工位置候補のうち前記被加工物が存在する範囲を前記被加工物についての加工位置として特定する加工位置特定処理を行う加工位置特定手段と、を備え、前記粗調整処理、前記第1微調整処理、前記第2微調整処理、前記加工位置候補特定処理、および前記加工位置特定処理をこの順に実行する、ことを特徴とする。
請求項8の発明は、請求項7に記載の加工位置特定装置であって、前記加工候補位置決定手段は、前記基準方向に平行な複数の直線を前記加工候補位置として決定し、前記加工位置特定手段は、前記複数の直線のそれぞれにおける前記被加工物の外形位置との2つの交点の間を前記加工位置として決定する、ことを特徴とする。
請求項9の発明は、請求項7または請求項8に記載の加工位置特定装置であって、前記粗調整処理手段は、前記第1撮像画像における前記着目単位要素の像と、あらかじめ取得されている前記単位要素の傾きのない状態における像である第1基準画像との間でパターンマッチングを行うことにより、前記第1の傾き角度を特定する、ことを特徴とする。
請求項10の発明は、請求項7ないし請求項9のいずれかに記載の加工位置特定装置であって、前記第1微調整処理手段は、前記2つの第2撮像画像のそれぞれに含まれる前記単位要素の像と、あらかじめ取得されている前記単位要素の一部分についての傾きのない状態における像である第2基準画像との間でそれぞれパターンマッチングを行うことにより、前記2つの第1傾き基準位置を特定し、前記2つの第1傾き基準位置を通る直線の傾きに基づいて前記第2の傾き角度を特定する、ことを特徴とする。
請求項11の発明は、請求項7ないし請求項10のいずれかに記載の加工位置特定装置であって、前記第2微調整処理手段は、前記2つの第3撮像画像のそれぞれに含まれる前記単位要素の像と、前記第2基準画像との間でそれぞれパターンマッチングを行うことにより、前記2つの第2傾き基準位置を特定し、前記2つの第2傾き基準位置を通る直線の傾きに基づいて前記第3の傾き角度を特定する、ことを特徴とする。
請求項12の発明は、加工装置が、請求項7ないし請求項11のいずれかに記載の加工位置特定装置と、前記被加工物の前記加工位置特定手段によって特定された加工位置に対して所定の加工を行う加工手段と、を備えることを特徴とする。
請求項1ないし請求項12の発明によれば、まず被加工物の姿勢を厳密に調整し、その後の回転が不要な状態とした上で、加工位置の特定を行うので、加工位置候補を決定した後に被加工物を回転させた場合に生じる平行シフト誤差や座標変換誤差が生じることがない。よって、加工位置と特定された箇所から実際の加工位置がずれることが解消される。また、被加工物の外形位置の特定のための被加工物の全体形状の撮像が、その後の回転が不要な被加工物を対象に行われるので、外形位置の特定や加工位置の特定に際して撮像画像を座標変換等する必要がない。よって、被加工物の外形位置が係る座標変換に伴う誤差を含むことがない。すなわち、高い精度での加工位置の特定が実現される。
請求項2および請求項7ないし請求項11の発明によれば、加工位置特定に際して必要となる種々の撮像画像の取得に際して、それぞれの撮像目的に最も適した撮像視野を有する撮像手段を用いるようにされてなる。これにより、加工位置特定のための種々の処理が良好に行われることになるので、結果として高い精度での加工位置の特定が実現される。
請求項3および請求項8の発明によれば、加工位置候補として特定される直線と、被加工物の外形位置との交点を特定するという、外形位置の座標さえ特定されれば被加工物の全体形状自体には直接には関係しない処理によって加工位置を特定することができるので、被加工物が不定形であるような場合でも高い精度で加工位置を特定することができる。
<装置の構成概要>
図1は、本実施の形態に係る加工装置1の構成を模式的に示す図である。図2は、加工装置1において被加工物Sの固定に用いられるリングRについて説明する図である。
加工装置1は、被加工物Sのあらかじめ特定された加工位置に対して、所定の加工処理を施す装置である。後述するように、本実施の形態に係る加工装置1は、被加工物Sに対しレーザー光LBを照射することによって加工を行うレーザー加工装置であるとする。ただし、本発明の対象となる加工装置1はレーザー加工装置に限られるものではなく、例えば、ダイアモンドカッターなどで被加工物を機械的に切削する切削加工を行う装置であってもよいし、あるいは被加工物の所定位置に選択的に電子線などの粒子線を照射するような装置であってもよい。
加工装置1は、水平面内においてXY2軸方向に移動自在なXYステージ2と、XYステージ2の上に設けられ、水平面内の任意の位置において回転自在なθステージ3と、θステージ3の上に設けられ、被加工物Sを固定する吸着チャック4とから構成されるステージ5を備える。なお、本実施の形態においては、原則として、XYステージ2の一方の動作方向をX軸方向(図1において図面視右方向を正方向とする)とし、これに直交する方向をY軸方向(図1において図面視上方向を正方向とする)とし、鉛直方向をZ軸方向とする右手形のXYZ座標系を考え、このXYZ座標系に基づく説明を行うものとする。このXYZ座標系を機械座標系と称することがある。また、XY平面内でのX軸方向を基準とする角度を考えるときは全て、反時計回りが正の向きであるとして説明を行うものとする。
吸着チャック4への被加工物Sの固定は、周囲をリングRで保持した粘着性の固定シートFS(図2)の上に被加工物Sを貼り付け、リングRの端縁で位置決めしつつ固定シートFSを吸着チャック4によって吸引固定することによって行われる。図2に示すように、リングRは、互いに平行な辺sd1および辺sd2と、これらに垂直でかつ互いに平行な辺sd3および辺sd4という4つの辺を、その端縁部に有している。そして、リングRは、θステージ3が基準位置(原点位置)にある場合に辺sd1と辺sd2とがX軸方向に一致し、辺sd3と辺sd4とがY軸方向に一致するように、吸着チャック4に保持されるようになっている。
また、辺sd1と辺sd2の両方から等距離で両者に平行な線L1と、辺sd3と辺sd4の両方から等距離で両者に平行な線L2とは直交している。その直交点をリング中心Oと称する。実用上は、被加工物Sを加工する際に、このリング中心Oと被加工物Sの中心とが概ね一致するように被加工物Sを貼り付けるのが好ましい。
加工装置1においては、被加工物Sを吸着チャック4にて吸着固定した状態で、XYステージ2を動作させることで、水平面内における被加工物Sの並行移動が実現され、θステージ3を動作させることで、水平面内における被加工物Sの回転移動が実現される。すなわち、XYステージ2の移動とθステージ3の移動とを適宜に組み合わせることで、被加工物Sを水平面内にて任意の位置および姿勢にて保持することができる。
また、加工装置1は、XYステージ2をX軸方向に動作させることによって、第1撮像位置P1と、第2撮像位置P2と、第3撮像位置P3と、加工位置P4との間でステージ2を自在に移動できるようになっている。第1撮像位置P1には第1撮像手段6が、第2撮像位置P2には第2撮像手段7が、第3撮像位置P3には第3撮像手段8がそれぞれ備わっている。なお、図1においては、第1ないし第3撮像位置P1〜P3および加工位置P4がX軸方向に配列させられてなるが、これは、図示の都合上のものであって、加工装置1におけるこれらの配置関係はこれに限られるものではない。第1ないし第3撮像手段6〜8の詳細については後述する。
なお、ステージ5の水平面内の並進動作はXYステージ2のみで行われるので、加工装置1においては、所定位置に一の原点を定めた上で上述の機械座標系を用いることでステージ5の位置を一義的に特定することが可能である。しかし、後述する種々の処理においては、ステージ5が第1ないし第3加工位置P1〜P3および加工位置P4のいずれにあるときも、ステージ5の同一位置が同一座標で表される方が便利である。従って、加工装置1においては、係る関係がそれぞれの位置で成り立つように、第1ないし第3加工位置P1〜P3および加工位置P4のそれぞれに対応する原点位置が定められて、機械座標系からの座標変換がなされるものとする。これは、例えば、ステージ5にリングRが保持されるときのリング中心Oを、第1ないし第3加工位置P1〜P3および加工位置P4における原点位置とすることで実現される。このように定めることで、ステージ5が第1撮像位置P1にあるときに(a,b、0)なる座標で表される位置は、ステージ5が第2撮像位置P2、第3撮像位置P3、加工位置P4のいずれにあるときでも、(a,b、0)なる座標で表される位置として認識されることになる。ただし、いずれの座標系をとるときでも座標軸の方向は変わらないため、本実施の形態においては、説明の簡単のため、それぞれの座標系を区別することなくX軸、Y軸などと呼ぶものとする。
さらに、加工装置1は、露光手段9を備える。露光手段9は、レーザー光源9aと対物レンズ9bとを備え、ステージ2が加工位置P4にあるときに、レーザー光源9aからレーザー光LBを出射し、これを対物レンズ9bで集光することによって、ステージ2上の被加工物Sの所定位置にレーザー光を照射することができるようになっている。加工装置1においては、ステージ5を移動させつつ露光手段9からレーザー光LBを被加工物Sに照射することによって、被加工物Sの分割(切断)や、表面への溝(スクライブライン)形成や、後工程における分割(ブレイク)の際の分割起点なり得る融解改質領域の形成などといった被加工物Sへのレーザー加工が、行えるようになっている。なお、露光手段9は、公知のレーザー加工装置に備わる露光手段によって構成可能である。
加えて、加工装置1は、上述の各部の動作の制御を担うほか、後述する被加工物Sの傾き調整や加工位置の特定に係る処理を担う制御部10と、加工装置1の動作を制御するプログラム20pや制御部10において行われる処理の際に必要となる種々のデータを記憶する記憶部20とをさらに備える。
制御部10は、例えばパーソナルコンピュータやマイクロコンピュータなどの汎用のコンピュータによって実現されるものであり、記憶部20に記憶されているプログラム20pが該コンピュータに読み込まれ実行されることにより、種々の構成要素が制御部10の機能的構成要素として実現される。
具体的には、制御部10は、XYステージ2とθステージ3の駆動を制御する駆動制御部11と、第1ないし第3撮像手段6〜8による撮像を制御する撮像制御部12と、露光手段9の露光処理を制御する露光制御部13と、吸着チャック4による吸着動作を制御する吸着制御部14と、加工位置の特定に先立って被加工物Sの傾きを大まかに調整する粗調整処理を担う粗調整処理部15と、被加工物Sの傾きを精密に調整する微調整処理を担う微調整処理部16と、被加工物における加工位置(加工ストローク)を特定する加工位置特定処理を担う加工位置特定処理部17とを、主として備える。
記憶部20は、ROMやRAMおよびハードディスクなどの記憶媒体によって実現される。なお、記憶部20は、制御部10を実現するコンピュータの構成要素によって実現される態様であってもよいし、ハードディスクの場合など、該コンピュータとは別体に設けられる態様であってもよい。
なお、粗調整処理部15によって行われる粗調整処理とは、被加工物Sについて規定されるある特定方向(例えば被加工物Sの表面に形成されているあるストリートの方向)をX軸方向と概ね一致させることによって、被加工物Sの傾きを解消する処理である。また、微調整処理部16によって行われる微調整処理とは、粗調整された被加工物Sについて、その傾きをより厳密に解消する処理である。
また、加工位置特定処理部17によって行われる加工位置特定処理は、粗調整処理および微調整処理を経ることで傾きが解消された被加工物Sを対象として、加工ストロークとも称される被加工物Sの加工範囲(本実施の形態に係る加工装置1においてはレーザー光の照射範囲に相当)を特定する処理である。特に、被加工物Sの加工が、あらかじめ被加工物Sの表面に形成された繰り返しパターン上のストリートを対象とする場合であれば、加工位置特定処理部17においては、該ストリートにおける加工ストロークの始点位置と終点位置とが特定されることになる。
本実施の形態においては、粗調整処理部と微調整処理部とを行った上で、加工位置特定処理処理を行うようにすることで、被加工物Sの形状によらず、加工位置を正確に特定することができるようになっている。
<撮像手段>
次に、第1ないし第3撮像手段6〜8について、より詳細に説明する。第1ないし第3撮像手段は、いずれもCCDカメラもしくはCMOSカメラなどによって実現される点では共通するが、それぞれ以下のような特徴を有している。
第1撮像手段6は、ステージ2が第1撮像位置P1にあるときに、ステージ2上の(実際には吸着チャック4上の、以下同様)被加工物Sを撮像対象とするように設けられてなる。第1撮像手段6は、粗調整処理に用いる画像を撮像するためのものである。
第2撮像手段7は、ステージ2が第2撮像位置P2にあるときに、ステージ2上の被加工物Sを撮像対象とするように設けられてなる。第2撮像手段7は、粗調整処理に用いる画像を撮像するためのものである。
第3撮像手段8は、ステージ2が第3撮像位置P3にあるときに、ステージ2上の被加工物Sを撮像対象とするように設けられてなる。第3撮像手段8は、加工位置特定処理に用いる画像を撮像するためのものである。
図3は、第1撮像手段6の撮像視野F1と、第2撮像手段7の撮像視野F2と、第3撮像手段8の撮像視野F3との関係を例示する図である。なお、図3においては、被加工物Sの一例としてのウェハWも併せて示している。なお、上述のように、それぞれの撮像手段は相異なる撮像位置で被加工物Sを撮像するように設けられてなるので、実際の加工装置1において、それぞれの撮像手段についての撮像視野F1〜F3が図3に示すような位置関係をとることはない。
加工装置1においては、第1ないし第3撮像手段6〜8の撮像視野F1〜F3が、少なくとも、次の(式1)の関係をみたすように定められてなる。図3に例示する各撮像手段の撮像視野のサイズも、これを満たしている。
撮像視野F2<撮像視野F1<被加工物Sのサイズ<撮像視野F3・・・(式1)
第1撮像手段6の撮像視野F1と第2撮像手段7の撮像視野とを被加工物Sのサイズよりも小さく設定するのは、被加工物Sの全体からすると比較的微小な範囲である、上述の粗調整や微調整に必要な範囲を、十分な解像度で撮像するためである。また、第1撮像手段6の撮像視野F1よりも第2撮像手段7の撮像視野F2の方が小さいのは、微調整処理の方が、より微小な箇所の画像を用いてパターンマッチングを行うためである。
これに対して、第3撮像手段8の撮像視野を被加工物Sのサイズよりも大きく設定するのは、被加工物Sの形状を特定するうえで好適な解像度で被加工物Sを撮像するためである。
すなわち、本実施の形態においては、加工位置特定に際して必要となる種々の撮像画像の取得に際して、それぞれの撮像目的に最も適した撮像視野を有する撮像手段を用いるようにされてなる。これにより、後述する種々の処理が良好に行われることになるので、結果として高い精度での加工位置の特定が実現される。
なお、第1ないし第3撮像手段6〜8を共通する撮像手段で実現することも原理的には可能である。しかしながら、数十mm〜数百mm角程度の大きさを有する被加工物Sに対して、最大でも数mm程度の微細な間隔で加工を施すような場合、第3撮像手段8の撮像視野F3は被加工物S全体を捉えるために数十mm〜数百mm角程度の大きさが必要である一方、第1撮像手段6の撮像視野F1および第2撮像手段7の撮像視野F2はせいぜい数mm角程度であることが必要となる。それぞれの撮像手段に対して要求される解像度を一の撮像手段で全て好適に実現することは必ずしも容易ではなく、また、コスト面からも実際的ではない。
<繰り返しパターンを有する被加工物を加工対象とする場合>
以下においては、図2に例示するような、それぞれが同一形状を有する単位要素の繰り返しパターンが表面に2次元的に形成されてなる被加工物Sが、加工対象とされる場合、より厳密に言えば、繰り返しパターンに現れている複数のストリートSTが、加工対象位置として特定される場合について説明する。なお、以下の説明においては、このような被加工物Sを特に、パターン形成被加工物Sとも称する。
上述したように、被加工物Sは、リング中心Oと被加工物Sの中心とが概ね一致するように貼り付けられるが、一般には、単位要素の一配列方向(つまりはストリートSTの方向)とX軸方向とはある角度θ0をなしている。パターン形成被加工物Sを加工対象とする場合、加工装置1においてはまず、この角度θ0を打ち消すように、つまりは、ストリートSTの方向とX軸方向と合致するように、粗調整処理および微調整処理が行われたうえで、ストリートSTの位置とパターン形成被加工物Sの外形とが正確に特定される。そして、各ストリートSTの加工ストロークの始点位置と終点位置の決定、つまりは加工位置の決定がなされたうえで、決定された加工位置に対して、露光手段9によるレーザー光の照射が行われる。
この場合、第1および第2撮像手段6〜7の撮像視野F1〜F2が、上述の(式1)の要件に加えて、次の(式2)および(式3)の関係をみたすことが望ましい。
単位要素1個分のサイズ<撮像視野F1≦単位要素複数個分のサイズ・・・(式2)
単位要素1個分のサイズ<撮像視野F2<単位要素2個分のサイズ・・・(式3)
上述したように、第1撮像手段6は、粗調整処理に用いる画像を撮像するためのものであるので、(式2)は、粗調整処理用の画像が、複数個の単位要素の像を含む画像であることを求める要件であるといえる。また、第2撮像手段7は、微調整処理に用いる画像を撮像するためのものであるので、(式3)は、微調整処理用の画像が、単位要素の像を1つのみ含む画像であることを求める要件であるといえる。
別の見方をすれば、(式1)〜(式3)の関係は、後述する手法による加工位置の特定が好適に行えるように、加工装置1において加工対象とされるパターン形成被加工物Sが少なくともみたすべき要件を定めるものである。すなわち、本実施の形態に係る加工位置特定方法の適用対象となりうるパターン形成被加工物Sの要件を規定しているともいえる。
例えば、被加工物Sが2インチ径のウエハと同程度のサイズを有する場合であって、単位要素が0.3mm角程度の大きさを有する場合であれば、第1撮像手段6の撮像視野を4.8mm×3.6mm、第2撮像手段7の撮像視野を0.4mm×0.3mm、第3撮像手段8の撮像視野を120mm×120mmとするのが、(式1)〜(式3)の関係をみたす好適な一例である。
また、パターン形成被加工物Sが加工対象とされる場合、記憶部20には、粗調整処理に用いる第1基準画像データDR1や、微調整処理などに用いる第2基準画像データDR2や、加工位置の特定に際し参照される相対位置情報D3などのデータが記憶される。
第1基準画像データDR1は、横方向がX軸方向と一致し、縦方向がY軸方向と一致する姿勢を有する場合のパターン形成被加工物Sの単位要素の像を表す第1基準画像R1についての画像データである。
第2基準画像データDR2は、横方向がX軸方向と一致し、縦方向がY軸方向と一致する姿勢を有する場合のパターン形成被加工物Sの単位要素のある一部分である矩形領域についての像である第2基準画像R2についての画像データである。
相対位置情報D3は、ストリートSTが通る交点の1つである基準交点(後述)と、パターンマッチングで特定される単位要素上の点との座標差や、ストリートのピッチなどの加工位置特定に際し必要な情報をあらかじめ記述したものである。
<パターン形成被加工物の加工位置特定処理>
図4は、パターン形成被加工物Sにおける加工位置の特定に係る処理の流れを示す図である。
まず、パターン形成被加工物Sをステージ2にセットする(ステップS1)。具体的には、周囲をリングRで保持した固定シートFSの上に、パターン形成面が上面となるようにパターン形成被加工物Sを貼り付けたうえで、該固定シートFSごと吸着チャック4の上に載置し、吸着固定する。パターン形成被加工物Sを貼り付ける際には、図2に示すように、パターン形成被加工物Sの中心位置がリング中心Oと概ね一致するようにパターン形成被加工物Sが保持されるのが望ましい。ただし、その際の位置決めは厳密である必要はなく、作業者が目視によって概ね一致していると確認できる程度の精度でよい。
次に、パターン形成被加工物Sがセットされると、粗調整処理部15の作用によって、粗調整処理が行われる(ステップS2)。図5は、粗調整処理の詳細な流れを示す図である。粗調整処理は、繰り返しパターンを形成するある単位要素の傾きを特定し、その傾きに基づいてパターン形成被加工物Sの傾きの解消を図る処理である。また、図6は、あるパターン形成被加工物Sに対する粗調整処理の前後における、リング中心Oを含む領域の様子を例示する図である。
まず、粗調整処理部15からの実行指示に基づき、繰り返しパターンのうちリング中心Oを含む領域が第1撮像手段6によって撮像され、粗調整用撮像データDP1が生成される(ステップS21)。図6(a)は、係る撮像により得られた撮像画像IM1である。すなわち、撮像画像IM1は、粗調整用撮像データDP1によって表現される撮像画像である。撮像画像IM1は、リング中心Oが撮像視野の中央に位置するように、かつ、単位要素がX軸方向に13個強、Y軸方向に10個強が含まれるように撮像されることによって得られている。また、この粗調整処理前の状態では、図6(a)に示すように、パターン形成被加工物Sは、ストリートSTがX軸方向と角度θ0だけずれた向きを向いた状態で保持されている。
粗調整用撮像データDP1が得られると、粗調整処理部15は、粗調整用撮像データDP1と第1基準画像データDR1とを用いたパターンマッチングにより、粗調整角度θcを決定する(ステップS22)。図7は、第1基準画像データDR1によって表現される第1基準画像R1を例示する図である。第1基準画像R1は、横方向がX軸方向と一致し、縦方向がY軸方向と一致する姿勢を有する場合のパターン形成被加工物Sの単位要素の像である。パターンマッチングにおいては、この第1基準画像R1をXY平面内で所定の角度ピッチで仮想的に回転させ、その姿勢が、図6(a)に示す撮像画像IM1においてリング中心Oを含むあるいは最近接の単位要素の姿勢と最も一致する時の(最もマッチング度が高い時の)回転角度αを、粗調整角度θcとして取得する。
粗調整角度θcが得られると、粗調整処理部15からの実行指示に基づき、駆動制御部11が、リング中心Oを回転中心として、θステージ3を角度θcだけストリートSTの傾きが打ち消される方向に(つまりは時計回りに)回転させる(ステップS23)。これにより、ストリートSTの傾きが概ね打ち消される。この回転を行うことで、パターン形成被加工物Sの粗調整処理が完了したことになる。図6(b)は、係る粗調整処理後のリング中心Oを含む領域を撮像画像IM1と同じ撮像視野サイズで撮像した場合に得られることになる撮像画像IM2である。図6(a)に示す撮像画像IM1とは異なり、撮像画像IM2においては、ストリートが概ねX軸方向もしくはY軸方向に一致していることが確認される。なお、係る撮像画像IM2は、第1撮像手段6にてリング中心Oが撮像視野の中央に位置するように撮像することで得られるが、この撮像画像IM2は、説明の便宜上図示しているもので、係る撮像画像IM2の取得は、粗調整処理において必須ではない。ただし、粗調整処理の良否の判断のために、確認的に行われる態様であってもよい。
図4に戻り、粗調整処理が完了すると、引き続いて第1微調整処理が行われる(ステップS3)。図8は、第1微調整処理の詳細な流れを示す図である。第1微調整処理は、繰り返しパターンの中央部分とそこから離間した位置のそれぞれに傾き調整基準位置を取り、両位置を結ぶ直線の傾きを特定し、その傾きに基づいてパターン形成被加工物Sの傾きの解消を図る処理である。図9は、第1微調整処理の際に得られる像を例示する図である。図10は、第2基準画像データDR2によって表現される第2基準画像R2を例示する図である。
第1微調整処理においては、まず、微調整処理部16からの実行指示に基づき、リング中心Oを含む領域が第2撮像手段7によって撮像され、中心部撮像データDP2aが生成される(ステップS31)。図9(a)は、係る撮像により得られた撮像画像IM3である。すなわち、撮像画像IM3は、中心部撮像データDP2aによって表現される撮像画像である。続いて、微調整処理部16からの実行指示に基づき、リング中心OからX軸方向に距離dだけ離れた位置が第2撮像手段7によって撮像され、離間位置撮像データDP2bが生成される(ステップS32)。図9(b)は、係る撮像により得られた撮像画像IM4である。すなわち、撮像画像IM4は、離間位置撮像データDP2bによって表現される撮像画像である。図9(a)および(b)に示すように、第2撮像手段7によって得られる撮像画像IM3およびIM4は単位要素1個分強の範囲についてものである。
なお、距離dは適宜の値が設定されるが、第1微調整処理の段階では加工装置1によってパターン形成被加工物Sの全体形状およびサイズは把握されていない(形状およびサイズを特定する情報は加工装置1に与えられていない)ので、距離dの位置においてパターン形成被加工物Sの像が得られない場合がある。その場合には、適宜に小さい値が距離dとして与えられる。
次に、微調整処理部16は、中心部撮像データDP2aと第2基準画像データDR2とを用いたパターンマッチングにより、リング中心Oの近傍における傾き調整基準位置を決定する(ステップS33)。さらに、微調整処理部16は、離間位置撮像データDP2bと第2基準画像データDR2とを用いたパターンマッチングにより、離間位置における傾き調整基準位置を決定する(ステップS34)。
第2基準画像R2は、横方向がX軸方向と一致し、縦方向がY軸方向と一致する姿勢を有する場合のパターン形成被加工物Sの単位要素のある一部分である矩形領域についての像(図10の場合は、単位要素の中央部から左上部にかけての像)である。第1微調整処理における上述の2つのパターンマッチングにおいては、この第2基準画像R2と合致する単位要素の部分(矩形領域)が特定され、当該部分の中心点(矩形の対角線の交点)がそれぞれの基準位置として特定される。いま、中心部撮像データDP2aと第2基準画像データR2との間のパターンマッチングによって、図9(a)に示す傾き調整基準位置C3が特定され、離間位置撮像データDP2bと第2基準画像データDR2との間のパターンマッチングによって、図9(b)に示す傾き調整基準位置C4が特定されたものとする。
2つの基準位置が特定されると、微調整処理部16は、両位置を通る直線の傾きから、第1微調整角度θf1を決定する(ステップS35)。具体的には、傾き調整基準位置C3と傾き調整基準位置C4のX軸方向の座標差をX1、Y軸方向の座標差をY1とするとき、第1微調整角度θf1は、次の式によって求められる。
θf1=tan-1(Y1/X1)・・・(式4)
第1微調整角度θf1が得られると、微調整処理部16からの実行指示に基づき、駆動制御部11が、リング中心Oを回転中心として、θステージ3を第1微調整角度θf1だけストリートSTの傾きが打ち消される方向に(つまりは時計回りに)回転させる(ステップS36)。これにより、パターン形成被加工物Sの第1微調整処理が完了したことになる。
第1微調整処理においては、離間した2点を結ぶ直線の傾きを求めて調整を行うので、ある単位要素の傾きのみに着目した処理である粗調整処理よりも、より厳密な調整が実現される。すなわち、ストリートSTの傾きが粗調整処理後の段階よりもさらに厳密に打ち消された状態が実現される。
図4に戻り、第1微調整処理が完了すると、引き続いて第2微調整処理が行われる(ステップS4)。図11は、第2微調整処理の詳細な流れを示す図である。第2微調整処理は、繰り返しパターンの左右端部分のそれぞれに新たに傾き調整基準位置を取り、両位置を結ぶ直線の傾きを特定し、その傾きに基づいてパターン形成被加工物Sの傾きの解消を図る処理である。図12は、第2微調整処理の際に得られる像を例示する図である。
第2微調整処理においては、まず、微調整処理部16からの実行指示に基づき、リング中心Oを通りX軸に平行な直線上の単位要素であって最左端にあるもの(X軸方向左端の単位要素)が第2撮像手段7によって撮像され、左端撮像データDP3aが生成される(ステップS41)。図12(a)は、係る撮像撮像により得られた撮像画像IM5である。すなわち、撮像画像IM5は、左端撮像データDP3aによって表現される撮像画像である。続いて、微調整処理部16からの実行指示に基づき、同じくリング中心Oを通りX軸に平行な直線上の単位要素であって最右端にあるもの(X軸方向右端の単位要素)が第2撮像手段7によって撮像され、右端撮像データDP3bが生成される(ステップS42)。図12(b)は、係る撮像により得られた撮像画像IM6である。すなわち、撮像画像IM6は、右端撮像データDP3bによって表現される撮像画像である。図12(a)および(b)に示すように、撮像画像IM5およびIM6も第2撮像手段7によって得られるものであるので、撮像画像IM3およびIM4と同様に、単位要素1個分強の範囲についてものである。
なお、第2微調整処理の段階でも加工装置1によってパターン形成被加工物Sの全体形状およびサイズは把握されていないので、X軸方向左端およびX軸方向右端の単位要素は、第2微調整処理の開始時点では不明である。そこで、左端撮像データDP3aおよび右端撮像データDP3bの取得は、撮像対象となる単位要素の特定とセットで行われることになる。これには、種々の手法が適用可能である。たとえば、所定の開始位置からX軸方向に沿って撮像位置を移動させつつ、単位要素についての撮像を順次にあるいは漸次に繰り返し、単位要素と解される像が得られなくなった直前の撮像画像が、X軸方向左端およびX軸方向右端の単位要素についてものものであると判断して左端撮像データDP3aおよび右端撮像データDP3bを取得する態様であっても良いし、公知の最適探索法の技術を用いてX軸方向左端およびX軸方向右端の単位要素を特定する態様であってもよい。
次に、微調整処理部16は、左端撮像データDP3aと第2基準画像データDR2とを用いたパターンマッチングにより、X軸方向左端における傾き調整基準位置を決定する(ステップS43)。さらに、微調整処理部16は、右端撮像データDP3bと第2基準画像データDR2とを用いたパターンマッチングにより、X軸方向右端における傾き調整基準位置を決定する(ステップS44)。
第2微調整処理における上述の2つのパターンマッチングにおいても、第1微調整処理の場合と同様に、撮像画像IM5と撮像画像IM6とにおける第2基準画像R2と合致する単位要素の部分(矩形領域)が特定され、当該部分の中心点(矩形の対角線の交点)がそれぞれの傾き調整基準位置として特定される。いま、左端撮像データDP3aと第2基準画像データDR2との間のパターンマッチングによって、図12(a)に示す傾き調整基準位置C5が特定され、右端撮像データDP3bと第2基準画像データDR2との間のパターンマッチングによって、図12(b)に示す傾き調整基準位置C6が特定されたものとする。
2つの傾き調整基準位置が特定されると、微調整処理部16は、両位置を通る直線の傾きから、第2微調整角度θf2を決定する(ステップS45)。具体的には、傾き調整基準位置C5と傾き調整基準位置C6のX軸方向の座標差をX2、Y軸方向の座標差をY2とするとき、第2微調整角度θf2は、次の式によって求められる。
θf2=tan-1(Y2/X2)・・・(式5)
第2微調整角度θf2が得られると、微調整処理部16からの実行指示に基づき、駆動制御部11が、リング中心Oを回転中心として、θステージ3を第2微調整角度θf2だけストリートSTの傾きが打ち消される方向に(つまりは時計回りに)回転させる(ステップS46)。この回転を行うことで、パターン形成被加工物Sの第2微調整処理が完了したことになる。
第2微調整処理においては、第1微調整処理の場合よりもさらに離間した2点を結ぶ直線の傾きを求めて調整を行うので、第1微調整処理以上に厳密な調整が実現される。すなわち、ストリートSTの方向がX軸方向にほぼ完全に合致した状態が実現される。
図4に戻り、第2微調整処理が完了すると、引き続いて加工位置候補を特定する処理が行われる(ステップS6)。図13は、加工位置候補特定処理の詳細な流れを示す図である。加工位置候補特定処理は、ストリートSTのピッチに等しい間隔で互いに離間した平行線を特定する処理である。後述するように、パターン形成被加工物Sに形成されてなるストリートSTは、これらの平行線の一部(つまりは線分)として特定されることになるので、係る平行線を特定する処理は、加工位置の候補を特定する処理に相当するものといえる。
加工位置候補特定処理においては、まず、加工位置特定処理部17からの実行指示に基づき、リング中心Oを含む領域が第2撮像手段7によって撮像され、基準交点決定用撮像データDP4が生成される(ステップS51)。図14は、係る撮像により得られた撮像画像IM7を例示する図である。すなわち、撮像画像IM7は、基準交点決定用撮像データDP4によって表現される撮像画像である。
次に、加工位置特定処理部17は、基準交点決定用撮像データDP4と第2基準画像データDR2とを用いたパターンマッチングを行うことにより、基準交点を決定する(ステップS52)。基準交点は、パターン形成被加工物Sに形成されている繰り返しパターンにおけるストリートSTの交点のうちの1つであって、ストリートSTに対応する上述の平行線の位置を特定する際の基準となるものである。
具体的には、まず、パターンマッチングにおいて、第2基準画像R2と合致する単位要素の部分(矩形領域)が特定され、当該部分の中心点(矩形の対角線の交点)の座標が特定される。そして、あらかじめ記憶部20に記憶されてなる相対位置情報D3に記述された、中心点とストリートSTの交点の1つである基準交点との相対位置関係に基づいて、中心点に対応する基準交点が特定される。いま、相対位置情報D3には中心点と基準交点との相対位置関係が(X3,Y3)という座標差として与えられているとする。パターンマッチングにおいて、図14に示す中心点C7が特定されたものとすると、図14に示すように、(X3,Y3)だけ離れた位置にある基準交点Iが特定されることになる。
基準交点Iが得られると、加工位置特定処理部17は、相対位置情報D3に記述されているストリートSTのピッチ情報に基づいて、ストリートを表す直線、つまりは加工位置候補を特定する(ステップS53)。例えば、基準交点IのY座標がY=p(pは実数)であって、相対位置情報D3に記述されているY軸方向についてのピッチがq(qは正の数)の場合、X軸に平行な直線群である加工位置候補は、次のような式で特定される。
Y=p+kq(kは整数)・・・(式6)
なお、本実施の形態においては、X軸に平行なストリートSTを表す直線のみを特定するものとする。その理由と、この時点で他の方向(例えばY軸方向)に平行になっている直線群の取り扱いについては後述する。
図4に戻り、加工位置候補特定処理が完了すると、引き続いて、加工位置を特定する処理が行われる(ステップS7)。図15は、加工位置特定処理の詳細な流れを示す図である。
加工位置特定処理においては、まず、加工位置特定処理部17からの実行指示に基づき、パターン形成被加工物Sの全体が第3撮像手段8によって撮像され、全体撮像データDP5を生成する(ステップS61)。図16は、全体撮像データDP5によって表現される撮像画像IM8を例示する図である。
全体撮像データDP5が得られると、加工位置特定処理部17は、全体撮像データDP5に基づいて、パターン形成被加工物Sの外形位置が特定される(ステップS62)。外形位置は、パターン形成被加工物Sの外形つまりはエッジ部分に対応する位置の座標値の集合として規定される。係る処理は、エッジ抽出等、公知の画像処理技術を用いて実現可能である。本実施の形態においては、この時点で初めて、パターン形成被加工物Sの全体形状が特定されることになる。
パターン形成被加工物Sの外形位置が特定されると、加工位置特定処理部17は、この外形位置と、先に求めた加工位置候補である直線との位置関係に基づいて、実際にストリートSTが存在する範囲、つまりは加工位置を特定する(ステップS63)。
より具体的には、パターン形成被加工物Sのエッジ部分と加工位置候補である直線との2つの交点に挟まれた範囲が、加工位置として特定されることになる。図16に模式的に示す場合であれば、加工位置候補である直線V1、V2、V3についてそれぞれ、T1T2間、T3T4間、T5T6間が加工位置として特定されることになる。これにより、この時点でX軸に平行なストリートの存在範囲(加工位置)が特定されたことになる。
係る加工位置決定処理においては、パターン形成被加工物Sの外形位置が特定されていさえすればよく、パターン形成被加工物Sがどのような形状をしているのかは無関係である。従って、不定形のパターン形成被加工物Sについても、好適に加工位置を決定することができる。
加工位置であるストリートが特定されると、その情報は記憶部20に記憶され、後段の加工工程で参照されることになる。すなわち、ステージ5を加工位置P4に位置させた状態で、ステージ5を移動させつつ、特定された加工位置に対して露光手段9からレーザー光LBを被加工物Sに照射することによって、該ストリートへのレーザー加工が施されることになる。レーザー光LBの照射は、特定されたストリートがレーザー光LBの照射位置にあるときのみ行われるので、ストリートを外れて、あるいはさらに被加工物をはずれてレーザー光が照射されることはない。図16に示す場合であれば、T1T2間、T3T4間、T5T6間のみにレーザー光が照射されることになる。
<加工位置特定の手順と加工精度との関係>
以上のような手順で加工位置の特定と加工とを行う場合、粗調整処理と微調整処理とによってあらかじめストリートSTの向きをX軸方向に厳密に合致させた後(被加工物の姿勢を厳密に調整した後)のステージ5の移動は、撮像位置の移動やレーザー照射位置の移動のためのXYステージ2の移動のみであり、当該ストリートSTについての加工が終了するまで、θステージ3を動作させることによって被加工物Sを回転させることがない。よって、加工位置候補を決定した後に被加工物Sを回転させた場合には、平行シフト誤差や座標変換誤差に起因して、計算上の加工位置と実際のストリートの位置のずれが生じうるが、本実施形態に係る手順においては加工位置と特定された箇所から実際のストリートがずれることはない。
また、被加工物の外形位置の特定のための被加工物の全体形状の撮像は、ストリートSTの向きをX軸方向に厳密に合致させた後の被加工物を対象に、つまりは、その後の回転が不要な被加工物を対象に行われるので、外形位置の特定や加工位置の特定に際して撮像画像を座標変換等する必要がない。すなわち、被加工物の外形位置が座標変換に伴う誤差を含むことがない。
以上の点から、本実施の形態においては、加工位置を高い精度で決定することができる。また、回転中心のズレの補正の実施あるいは回転中心のズレが生じない装置構成のいずれも必要でないので、加工装置の製造コストを抑制しつつ、高い精度での加工位置の決定が実現される。
さらにいえば、ストリートをX軸方向に合致させるための粗調整処理と微調整処理、および、加工位置候補特定処理は、局所的な撮像画像の取得のみによって実現されることから、被加工物の形状に依存することなく行われ、加工位置候補として特定される直線群は、実際の被加工物の形状に無関係に決定される。被加工物の全体形状についての情報を与える撮像画像は、加工位置を特定する処理に用いられるのみであり、しかも係る処理は、加工位置候補とされたそれぞれの直線について被加工物の外形位置との交点を特定するという、外形位置の座標さえ特定されれば被加工物の全体形状自体には直接には関係しない処理であって、被加工物が不定形であるような場合でも良好に実施することができる処理である。よって、被加工物が不定形であるような場合であっても、高い精度で加工位置を特定することができる。
また、上述の手順においては特に、X軸方向に平行なストリートのみを加工位置として特定しているので、レーザー光LBの照射に際してはXYステージ2のみを動作させて被加工物を水平移動させればよく、θステージ3を動作させることによる被加工物の回転移動は不要である。特定された加工位置に忠実に、レーザー光を照射することができる。
この時点で他の方向(例えばY軸方向)に平行になっているストリートを対象とする加工位置の特定およびその後の加工については、上述のX軸に平行な方向についての加工が終了した後に、引き続いて行うことになる。なお、その際は、ステップS1におけるステージへのセットの代わりに、当該方向がX軸方向と概ね一致するようにθステージ3を回転させるようにする他は、上述の手順と同様の手順を実行することで可能である。なお、この場合において、パターン形成被加工物Sの全体形状を特定する際には、上述の処理によってすでに得られている撮像画像IM8を傾き調整後のパターン形成被加工物Sの向きに応じて回転させて利用する(外形位置の座標をリング中心Oを回転中心として角度変換する)ことも可能であるが、変換誤差が生じる可能性を考慮すると、新たに撮像をやり直す態様が望ましい。
以上、説明したように、本実施の形態によれば、それぞれが同一形状を有する単位要素の繰り返しパターンが表面に2次元的に形成されてなる被加工物の繰り返しパターンに現れている複数のストリートを加工位置として特定しようとする場合に、まず被加工物の姿勢を厳密に調整し、その後の回転が不要な状態とした上で、加工位置の特定を行うので、高い精度で加工位置を特定することができる。また、姿勢が厳密に調整された後の被加工物の局所位置の撮像画像に基づいて加工候補位置を複数の直線群として決定した後に、被加工物全体を撮像してその撮像画像から被加工物の外形位置を特定し、加工位置候補であるそれぞれの直線と外形位置との交点を求めることによって加工位置を特定するので、被加工物の全体形状自体に関係なく、加工位置を特定することができる。すなわち、不定形の被加工物であっても、好適に加工位置を特定することができる。
<変形例>
上述の実施の形態においては、X軸方向に平行な直線群のみを加工位置候補としているが、繰り返しパターンが格子状に配置され、ストリートが互いに直交するようなパターン形成被加工物の場合であれば、X軸方向に平行なストリートに直交して存在するストリートを表す、Y軸方向に平行な直線群についても加工位置候補として同時に特定される態様であってもよい。その場合には、加工装置1においてXY2軸方向に沿ってレーザー光を照射できるようになっていることが好ましい。係る場合、加工の際にθステージ3を回転させなくとも加工が行えるので、被加工物を回転させることに伴う位置ずれが生じることがないので、上述の実施の形態と同様の加工精度が実現できる。
上述の実施の形態において実現される手法は、被加工物Sにおける加工位置を正確に特定することを目的としているが、係る手法は、その後に加工が行われる場合以外でも適用可能である。例えば、正確に特定された所定位置のみを対象とする観察や撮像など、加工という概念には必ずしも含まれないような処理を行いたいような場合にも、同様に応用可能である。
本実施の形態に係る加工装置1の構成を模式的に示す図である。 加工装置1において被加工物Sの固定に用いられるリングRについて説明する図である。 第1撮像手段6の撮像視野F1と、第2撮像手段7の撮像視野F2と、第3撮像手段8の撮像視野F3との関係を例示する図である。 パターン形成被加工物Sにおける加工位置特定に係る処理の流れを示す図である。 粗調整処理の詳細な流れを示す図である。 あるパターン形成被加工物Sに対する粗調整処理の前後における、リング中心Oを含む領域の様子を例示する図である。 第1基準画像データDR1によって表現される第1基準画像R1を例示する図である。 第1微調整処理の詳細な流れを示す図である。 第1微調整処理の際に得られる撮像画像を例示する図である。 第2基準画像データDR2によって表現される第2基準画像R2を例示する図である。 第2微調整処理の詳細な流れを示す図である。 第2微調整処理の際に得られる撮像画像を例示する図である。 加工位置候補特定処理の詳細な流れを示す図である。 加工位置候補特定処理の際に得られる撮像画像を例示する図である。 加工位置特定処理の詳細な流れを示す図である。 全体撮像データDP5によって表現される撮像画像を例示する図である。
符号の説明
1 加工装置
2 XYステージ
3 θステージ
4 吸着チャック
5 ステージ
6 第1撮像手段
7 第2撮像手段
8 第3撮像手段
9 露光手段
9a レーザー光源
9b 対物レンズ
θc 粗調整角度
θf1 第1微調整角度
θf2 第2微調整角度
C3〜C6 傾き調整基準位置
DP1 粗調整用撮像データ
DP2a 中心部撮像データ
DP2b 離間位置撮像データ
DP3a 左端撮像データ
DP3b 右端撮像データ
DP4 基準交点決定用撮像データ
DP5 全体撮像データ
F1 (第1撮像手段6の)撮像視野
F2 (第2撮像手段7の)撮像視野
F3 (第3撮像手段8の)撮像視野
FS 固定シート
I 基準交点
IM1〜IM8 撮像画像
LB レーザー光
O リング中心
P1 第1撮像位置
P2 第2撮像位置
P3 第3撮像位置
P4 加工位置
R リング
R1 第1基準画像
R2 第2基準画像
S (パターン形成)被加工物
ST ストリート

Claims (12)

  1. それぞれが同一形状を有する複数の単位要素からなる繰り返しパターンが表面に形成されてなる被加工物における加工位置を特定する方法であって、
    前記被加工物を所定の保持中心位置に保持する保持工程と、
    前記保持中心位置に保持された前記被加工物の前記繰り返しパターンの一部範囲についての撮像画像である第1撮像画像を取得する第1撮像工程と、
    前記第1撮像画像から特定される、前記複数の前記単位要素のうちの一つである着目単位要素の姿勢に基づいて、所定の基準方向に対する前記繰り返しパターンの第1の傾き角度を特定し、前記第1の傾き角度が打ち消されるように前記被加工物を回転させる粗調整工程と、
    前記粗調整工程の後、前記保持中心位置と、前記保持中心位置から前記基準方向について所定距離だけ離間した位置とにおいて、前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が1個以上2個未満含まれる範囲についての撮像画像である2つの第2撮像画像を取得する第2撮像工程と、
    前記2つの第2撮像画像のそれぞれから特定される2つの第1傾き調整基準位置の位置関係に基づいて、前記基準方向に対する前記繰り返しパターンの第2の傾き角度を特定し、前記第2の傾き角度が打ち消されるように前記保持中心位置を中心として前記被加工物を回転させる第1微調整工程と、
    前記第1微調整工程の後、前記保持中心位置を含み前記基準方向に平行な直線上において最も離間して存在する2つの単位要素についての撮像画像である2つの第3撮像画像を取得する第3撮像工程と、
    前記2つの第3撮像画像のそれぞれから特定される2つの第2傾き調整基準位置の位置関係に基づいて、前記基準方向に対する前記繰り返しパターンの第3の傾き角度を特定し、前記第3の傾き角度が打ち消されるように前記保持中心位置を中心として前記被加工物を回転させる第2微調整工程と、
    前記保持中心位置にある単位要素についての撮像画像である第4撮像画像を取得する第4撮像工程と、
    前記被加工物における加工位置の候補である加工位置候補を、あらかじめ規定されている単位要素と前記加工位置候補との相対的位置関係を示す相対位置情報と、前記第4撮像画像に基づいて特定される当該単位要素の存在位置とに基づいて特定する加工位置候補特定工程と、
    前記加工位置候補特定工程の後、前記被加工物の前記繰り返しパターンの全体についての撮像画像である第5撮像画像を取得する第5撮像工程と、
    前記第5撮像画像によって特定される前記被加工物の外形形状に基づいて、前記加工位置候補のうち前記被加工物が存在する範囲を前記被加工物についての加工位置として特定する加工位置特定工程と、
    を備えることを特徴とする被加工物における加工位置特定方法。
  2. 請求項1に記載の被加工物における加工位置特定方法であって、
    前記第1撮像画像が、前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が2個以上含まれる範囲であって前記繰り返しパターンの一部範囲に相当する撮像視野を有する第1の局所撮像手段によって取得され、
    前記2つの第2撮像画像と前記2つの第3撮像画像と前記第4撮像画像とが、前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が1個以上2個未満含まれる範囲の撮像視野を有する第2の局所撮像手段によって取得され、
    前記第5撮像画像が、前記繰り返しパターンの全体を含み得るサイズの撮像視野を有する全体撮像手段によって取得される、
    ことを特徴とする被加工物における加工位置特定方法。
  3. 請求項1または請求項2に記載の被加工物における加工位置特定方法であって、
    前記加工候補位置決定工程においては、前記基準方向に平行な複数の直線を前記加工候補位置として決定し、
    前記加工位置特定工程においては、前記複数の直線のそれぞれにおける前記被加工物の外形位置との2つの交点の間を前記加工位置として決定する、
    ことを特徴とする被加工物における加工位置特定方法。
  4. 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の被加工物における加工位置特定方法であって、
    前記粗調整工程においては、前記第1撮像画像における前記着目単位要素の像と、あらかじめ取得されている前記単位要素の傾きのない状態における像である第1基準画像との間でパターンマッチングを行うことにより、前記第1の傾き角度が特定される、
    ことを特徴とする被加工物における加工位置特定方法。
  5. 請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の被加工物における加工位置特定方法であって、
    前記第1微調整工程においては、前記2つの第2撮像画像のそれぞれに含まれる前記単位要素の像と、あらかじめ取得されている前記単位要素の一部分についての傾きのない状態における像である第2基準画像との間でそれぞれパターンマッチングを行うことにより、前記2つの第1傾き基準位置が特定され、前記2つの第1傾き基準位置を通る直線の傾きに基づいて前記第2の傾き角度が特定される、
    ことを特徴とする被加工物における加工位置特定方法。
  6. 請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の被加工物における加工位置特定方法であって、
    前記第2微調整工程においては、前記2つの第3撮像画像のそれぞれに含まれる前記単位要素の像と、前記第2基準画像との間でそれぞれパターンマッチングを行うことにより、前記2つの第2傾き基準位置が特定され、前記2つの第2傾き基準位置を通る直線の傾きに基づいて前記第3の傾き角度が特定される、
    ことを特徴とする被加工物における加工位置特定方法。
  7. それぞれが同一形状を有する複数の単位要素からなる繰り返しパターンが表面に形成されてなる被加工物における加工位置を特定する加工位置特定装置であって、
    前記被加工物を所定の保持中心位置に保持するとともに、並進移動と水平面内における回転移動が可能な保持手段と、
    前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が2個以上含まれる範囲であって前記繰り返しパターンの一部範囲に相当する撮像視野を有する第1の局所撮像手段と、
    前記繰り返しパターンを形成する前記単位要素が1個以上2個未満含まれる範囲の撮像視野を有する第2の局所撮像手段と、
    前記繰り返しパターンの全体を含み得るサイズの撮像視野を有する全体撮像手段と、
    前記加工位置特定装置の全体を制御する制御手段と、
    前記加工位置特定装置の動作に必要な情報を記憶する記憶手段と、
    を備え、
    前記制御手段が、
    前記保持手段に保持された前記被加工物の前記繰り返しパターンの一部範囲を前記第1の局所撮像手段に撮像させることによって第1撮像画像を取得させたうえで、前記第1撮像画像から特定される、前記複数の単位要素のうちの一つである着目単位要素の姿勢に基づいて、所定の基準方向に対する前記繰り返しパターンの第1の傾き角度を特定し、前記保持手段に前記第1の傾き角度が打ち消されるように前記被加工物を回転させる粗調整処理を行う粗調整処理手段と、
    前記保持中心位置と前記保持中心位置から前記基準方向について所定距離だけ離間した位置とにおいて前記第2の局所撮像手段に撮像させることによって2つの第2撮像画像を取得させたうえで、前記2つの第2撮像画像のそれぞれから特定される2つの第1傾き調整基準位置の位置関係に基づいて、前記基準方向に対する前記繰り返しパターンの第2の傾き角度を特定し、前記保持手段に前記第2の傾き角度が打ち消されるように前記保持中心位置を中心として前記被加工物を回転させることによって第1微調整処理を行う第1微調整処理手段と、
    前記保持中心位置を含み前記基準方向に平行な直線上において最も離間して存在する2つの単位要素を前記第2の局所撮像手段に撮像させることによって2つの第3撮像画像を取得させたうえで、前記2つの第3撮像画像のそれぞれから特定される2つの第2傾き調整基準位置の位置関係に基づいて、前記基準方向に対する前記繰り返しパターンの第3の傾き角度を特定し、前記保持手段に前記第3の傾き角度が打ち消されるように前記保持中心位置を中心として前記被加工物を回転させる第2微調整処理を行う第2微調整処理手段と、
    前記保持中心位置にある単位要素を前記第2の局所撮像手段に撮像させることによって第4撮像画像を取得させたうえで、前記被加工物における加工位置の候補である加工位置候補を、前記記憶部にあらかじめ規定されている単位要素と前記加工位置候補との相対的位置関係を示す相対位置情報と、前記第4撮像画像に基づいて特定される当該単位要素の存在位置とに基づいて特定する加工位置候補特定処理を行う加工位置候補特定手段と、
    前記被加工物の前記繰り返しパターンの全体を前記全体撮像手段に撮像させることによって第5撮像画像を取得させたうえで、前記第5撮像画像によって特定される前記被加工物の外形形状に基づいて、前記加工位置候補のうち前記被加工物が存在する範囲を前記被加工物についての加工位置として特定する加工位置特定処理を行う加工位置特定手段と、
    を備え、
    前記粗調整処理、前記第1微調整処理、前記第2微調整処理、前記加工位置候補特定処理、および前記加工位置特定処理をこの順に実行する、
    ことを特徴とする加工位置特定装置。
  8. 請求項7に記載の加工位置特定装置であって、
    前記加工候補位置決定手段は、前記基準方向に平行な複数の直線を前記加工候補位置として決定し、
    前記加工位置特定手段は、前記複数の直線のそれぞれにおける前記被加工物の外形位置との2つの交点の間を前記加工位置として決定する、
    ことを特徴とする加工位置特定装置。
  9. 請求項7または請求項8に記載の加工位置特定装置であって、
    前記粗調整処理手段は、前記第1撮像画像における前記着目単位要素の像と、あらかじめ取得されている前記単位要素の傾きのない状態における像である第1基準画像との間でパターンマッチングを行うことにより、前記第1の傾き角度を特定する、
    ことを特徴とする加工位置特定装置。
  10. 請求項7ないし請求項9のいずれかに記載の加工位置特定装置であって、
    前記第1微調整処理手段は、前記2つの第2撮像画像のそれぞれに含まれる前記単位要素の像と、あらかじめ取得されている前記単位要素の一部分についての傾きのない状態における像である第2基準画像との間でそれぞれパターンマッチングを行うことにより、前記2つの第1傾き基準位置を特定し、前記2つの第1傾き基準位置を通る直線の傾きに基づいて前記第2の傾き角度を特定する、
    ことを特徴とする加工位置特定装置。
  11. 請求項7ないし請求項10のいずれかに記載の加工位置特定装置であって、
    前記第2微調整処理手段は、前記2つの第3撮像画像のそれぞれに含まれる前記単位要素の像と、前記第2基準画像との間でそれぞれパターンマッチングを行うことにより、前記2つの第2傾き基準位置を特定し、前記2つの第2傾き基準位置を通る直線の傾きに基づいて前記第3の傾き角度を特定する、
    ことを特徴とする加工位置特定装置。
  12. 請求項7ないし請求項11のいずれかに記載の加工位置特定装置と、
    前記被加工物の前記加工位置特定手段によって特定された加工位置に対して所定の加工を行う加工手段と、
    を備えることを特徴とする加工装置。
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